JP5890784B2 - 処理液流れの中に種々の流れを混合するための方法及び装置 - Google Patents
処理液流れの中に種々の流れを混合するための方法及び装置 Download PDFInfo
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Description
以下の各文献において、パルプ及び紙産業の外部における先行技術の混合装置及び方法の様々な例が論じられてきた。
国際公開公報WO−A1−2009117141は、静的混合と組み合わされた側流噴射を利用するモジュール化された水処理装置に関する装置、システム及び方法について論じている。この装置、システム及び方法は、排水中に存在する汚染物質の有効な消毒及び/又は汚染除去のために、オゾンを、過酸化水素を伴い又は伴わずに、利用する。この国際公開公報の教示に従えば、化学薬品、すなわちオゾンか過酸化水素のどちらかが、混合モジュール内で水と混合される。そして、この水−化学薬品混合物は水導管に噴射され、静的混合機を用いて水と混合される。
欧州公開公報EP−A1−1254700は、2つのパイプ部分のフランジ結合のための中間フランジリングについて論じている。このフランジリングは、流体の添加剤を薬注するための少なくとも1の部位を有する外側リング、同心の内側リング、並びに各リング室及び中空部分の間の数多くの開口部を有する。前記内側リングは前記外側リングと同じ幅を有し、1のリング部分、又は軸方向に配列された多くの部分を有する。前記外側リングと内側リングとは、リング室を構成し、そこに向けていくらかの又は全ての供給点が供給を行う。
米国公開公報US−A1−20050248049は、石こう製品の製造のために泡を形成する方法について論じている。この方法は、導管を通じて水を注入すること、及び該導管を通じて発泡剤を注入することで、該水及び該発泡剤を含む第一の溶液を形成することを含む。この方法は、該第一の溶液を該導管に注ぎ込み、該導管を通じて空気を注入することで、該水、該発泡剤、及び該空気を含む第二の溶液を形成することを含む。この方法は、更に該第二の溶液を該導管に注ぎ込むことで、泡を形成し、該泡を石こう製品の製造装置に伝達することを含む。
米国特許US−B1−6,764,212は、その中に洗浄のための化学薬品がその調合された濃縮物の状態で貯蔵される、化学薬品貯蔵タンク、化学薬品の供給を確実に行うために該化学薬品貯蔵タンクと結合された化学薬品供給装置、該化学薬品供給装置と結合され、該化学薬品と混合される超純水の通路である、供給流通路を形成する、配管システム、洗浄室中のウェハーセットの表面に対向するように、該配管システムの末端部に配置され、該表面上に洗浄液を供給する一対の放出ノズル、を主要要素として有する化学薬品供給システムについて論じている。
− 両方の化学物質が原料内に存在する間中、新しい粒子が生成され、古い粒子のサイズが増大するので、粒子のサイズが広範囲に変わる、
− これは形成後のフロックにも当てはまり、全く同じ理由で、フロックのサイズが変わる、
− さらに、保持化学物質(retention chemical)により原料の微細物質を繊維状物質に固着させることが目的であるので、保持化学物質は、混合時間が長くなっても原料流れのすべての箇所に確実に十分に存在するような量で導入されなければならない。
− 多くの過酷な条件においては、混合が所望されるほど効率的ではなく、また、所望されるほど迅速ではない
− 非常に多量の第2の化学物質を混合するには1つの噴射噴流では十分ではない
− 一部の事例では、2つの化学物質の導入箇所の間の距離が比較的長いことが必要であり、すなわち、全体の流れに入る第1の化学物質が十分に均等に混合されるには、2秒以上程度必要である。実際には、このことは例えば、抄紙機の短い循環流において、2つの混合機の間に5メートル以上の距離があることを意味する。
プロセスパイプ内の反対に回転する2つの渦を含む)、及び第2の流れを、該処理液の該流れ方向に対して実質的に垂直に導入する工程であって、第1の噴射流れによって形成された混合場が強化されるように、該第2の流れを、該2つの渦の間の該処理液の中に噴射する工程、を含む。
□ 化学物質が、1秒未満、場合によって0.1秒未満で、ほとんどの目的において十分なくらいに均等に混合される
□ お互いに反応する2つの化学物質の反応がやはり1秒未満で起こる
□ これらの化学物質(沈降炭酸カルシウム(precipitated calcium carbonate(PCC))など)の反応で生成される結晶の粒度分布、より一般的には生成物の粒度分布が、非常に均等になり、実際には、例えばPCCの任意の既知の生成方法と比較して、より均等になる
□ 本発明の特別な特徴を使用することにより、沈殿の発生範囲が使用可能な洗浄手法にとって現実的な寸法まで縮小されるので、プロセスパイプの表面に対する化学物質(単数又は複数)及び/又はその反応生成物の沈殿及び固着が防止され得る
□ 本発明の効率的且つ迅速な混合装置は、より腐食性の化学物質及び添加物を使用すること又は開発することを可能にする。
なお、下記[1]から[22]は、いずれも本発明の一態様又はその好ましい実施形態である。
[1]
処理液の流れの中に種々の流れを導入するための方法であって、混合場を形成するために該処理液の流れ方向に対して実質的に垂直に、プロセスパイプ(20)内を移動する該処理液の中に、導入液体を用いて第1の流れを噴射することにより該第1の流れが導入される上記方法において、
第2の流れが、該第2の流れが導入されることにより該第1の噴射流れによって形成された混合場が強化されるような、該第1の流れの流動場の位置において、該第2の流れを該処理液の中に噴射することにより、該処理液の該流れ方向に対して実質的に垂直に導入されることを特徴とする上記方法。
[2]
前記第1の流れの前記混合場が、前記プロセスパイプ内に位置する反対に回転する2つの渦を含むこと、及び、前記第2の流れが実質的に該渦の間に導入されること、を特徴とする、[1]に記載の方法。
[3]
各流れに対して、少なくとも1つの噴射混合機(12、14)を使用して導入液体を用いて噴射が実施されることを特徴とする、[1]又は[2]に記載の方法。
[4]
1つ又は複数の噴射混合機ペアが前記第1及び第2の流れを導入するための前記噴射混合機(12、14)で形成され、該混合機ペア(12、14)の各々が前記プロセスパイプ(20)の軸に実質的に沿って延びるそれ自体の高さのところに配置されることを特徴とする、[1]、[2]又は[3]に記載の方法。
[5]
噴射混合機ペア(12、14)の後方の混合機(14)が、その角度が最大で40度である仮想区間A内で前記プロセスパイプ(20)の軸上に配置され、また、該ペアの前記第1の混合機(12)の位置の直径の高さのところにあることを特徴とする、[4]に記載の方法。
[6]
2つ以上の混合機ペア(12、14)が存在する場合、該混合機ペア(12、14)が前記プロセスパイプ(20)の円周上で実質的に均等に分布していることを特徴とする、[4]に記載の方法。
[7]
前記流れを用いて導入される、少なくとも1つの化学物質、又は、該少なくとも1つの化学物質の反応生成物が、前記プロセスパイプ(20)の表面又はその中に配置される構造物に沈殿又は固着することが、該プロセスパイプ(20)の内部に電気式洗浄装置(30)を配置することによって防止されることを特徴とする、[1]から[6]までのいずれか一項に記載の方法。
[8]
沈殿の形成にとって不利なpH値を有する層を形成する電界が、前記洗浄装置(30)により前記プロセスパイプ(20)の内部に形成されることを特徴とする、[7]に記載の方法。
[9]
前記処理液に取り込まれた又はその中に形成された材料が前記プロセスパイプの前記表面(20)又はその中に配置される構造物に付着又は固着するのを防止するための電界又は磁場を構成することを特徴とする、[7]に記載の方法。
[10]
前記流れを用いて導入される、前記少なくとも1つの化学物質、又は、該少なくとも1つの化学物質の反応生成物が、前記プロセスパイプ(20)の前記表面又はその中に配置される構造物に沈殿又は固着することが、前記材料が付着又は固着しないような材料から該構造物を製造する又は該構造物をそのような材料で被覆することにより、防止されることを特徴とする、[1]に記載の方法。
[11]
処理液体流れの中に種々の流れを導入するための装置であって、該処理液を運ぶためのプロセスパイプ(20)と、該処理液の流れ方向に対して実質的に垂直に第1の流れを該プロセスパイプ(20)内に導入して混合するための少なくとも1つの噴射混合機(12)と、を備え、該混合機が該プロセスパイプ(20)の壁に取り付けられる、上記装置において、
該処理液の該流れ方向に対して実質的に垂直に第2の流れを導入して混合するための少なくとも1つの噴射混合機(14)が、該プロセスパイプの軸を通って横断する実質的に同一の高さで、該第1の流れを導入するための該少なくとも1つの噴射混合機(12)から下流の一定距離のところの、該プロセスパイプ(20)の壁上に配置され、該第1の流れ及び該第2の流れを導入するための該噴射混合機(12、14)が噴射混合機ペアを形成することを特徴とする上記装置。
[12]
2つ以上の混合機ペア(12、14)が存在する場合、該混合機ペア(12、14)が前記プロセスパイプ(20)の円周上で実質的に均等に分布されることを特徴とする、[11]に記載の装置。
[13]
前記第2の流れを導入するための、前記噴射混合機ペア(12、14)の前記噴射混合機(14)が、前記第1の流れを導入するための前記噴射混合機(12)を通る前記プロセスパイプの軸に平行な線から最大で20度ずれる該プロセスパイプ(20)の円周上の位置に配置されることを特徴とする、[11]又は[12]に記載の装置。
[14]
噴射混合機ペア(12、14)の後方の混合機(14)が、その角度が最大で40度である仮想区間A内で前記プロセスパイプ(20)の軸上に配置され、また、該ペアの前記第1の混合機(12)の位置の直径の高さのところにあることを特徴とする、[11]、[12]又は[13]に記載の装置。
[15]
混合機ペアの前記混合機の間の距離が0.05メートルから2メートル、好適には0.05メートルから1メートルであることを特徴とする、[11]から[14]までのいずれか一項に記載の装置。
[16]
前記距離が、前記処理液の流れ速度を用いて計算したとき1秒未満に相当する距離であることを特徴とする、[11]から[14]までのいずれか一項に記載の装置。
[17]
プロセスパイプ洗浄装置(30)が前記プロセスパイプ(20)の内部に配置されることを特徴とする、[11]から[16]までのいずれか一項に記載の装置。
[18]
前記洗浄装置(30)が、前記プロセスパイプ(20)の内部で実質的に中央に配置される電極棒(36)と、該プロセスパイプの表面上に配置される少なくとも1つの電極(42)と、電圧源とを含む制御システム(40)とを含むことを特徴とする、[17]に記載の装置。
[19]
前記洗浄装置(30)が、前記プロセスパイプ内の反応の進行を監視するための測定センサ(44)をさらに含むことを特徴とする、[17]に記載の装置。
[20]
前記洗浄装置が反応器(20)の周りに配置される永久磁石又は電磁石(50)であることを特徴とする、[17]に記載の装置。
[21]
前記プロセスパイプ(20)の周りに配置される前記電磁石(50)が、前記プロセスパイプ(20)の周りに巻かれる導体(52)と、それに接続される制御システム(54)とを含むことを特徴とする、[20]に記載の装置。
[22]
前記プロセスパイプ(20)又はその内部の構造体が、前記処理液内に取り込まれるか又は導入されるか又はその中に形成される材料が付着しないような材料で作られる又はそのような材料で被覆されることを特徴とする、[11]から[16]までのいずれか一項に記載の装置。
Claims (17)
- 製紙において処理液の流れの中に種々の流れを導入するための方法であって、
a)プロセスパイプ(20)内を移動する該処理液の中に、導入液体を用いて第1の流れを噴射することにより該第1の流れを導入する工程、
b)混合場を形成するために該処理液の流れ方向に対して実質的に垂直に、該噴射を行う工程、
c)第2の流れを、該処理液の該流れ方向に対して実質的に垂直に導入する工程、
を含む上記方法において、
d)該プロセスパイプ(20)内の反対に回転する2つの渦内に、該第1の流れの混合場を形成する工程、及び
e)該第1の噴射流れによって形成された混合場が強化されるように、該第2の流れを、該2つの渦の間の該処理液の中に噴射する工程、
を特徴とする上記方法。 - 各流れに対して、少なくとも1つの噴射混合機(12、14)を使用して導入液体を用いて噴射が実施されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記第1及び第2の流れを導入するための噴射混合機(12、14)の1つ又は複数の噴射混合機ペアが形成され、該混合機ペア(12、14)の各々が前記プロセスパイプ(20)の軸に実質的に沿って延びるそれ自体の面に配置されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記噴射混合機ペア(12、14)が、前方の混合機(12)及び後方の混合機(14)で形成され、該後方の混合機(14)が、前記プロセスパイプ(20)の軸上の仮想区間A内に配置され、該仮想区間Aの角は最大で40度であり、該角を二等分する面上に前方の混合機(12)が配置されることを特徴とする、請求項3に記載の方法。
- 2つ以上の混合機ペア(12、14)が存在する場合、該混合機ペア(12、14)を前記プロセスパイプ(20)の円周上で実質的に均等に分布させることを特徴とする、請求項4に記載の方法。
- 前記流れを用いて導入される、少なくとも1つの化学物質、又は、該少なくとも1つの化学物質の反応生成物が、前記プロセスパイプ(20)の表面又はその中に配置される構造物に沈殿又は固着することを、該プロセスパイプ(20)の内部に電気式洗浄装置(30)を配置することによって防止することを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 沈殿の形成にとって不利なpH値を有する層を形成する電界を、前記洗浄装置(30)により前記プロセスパイプ(20)の内部に形成することを特徴とする、請求項6に記載の方法。
- 前方の混合機(12)及び後方の混合機(14)を、相互間の距離が前記処理液の流速で計算して、一秒未満に相当する距離となるように配置することを特徴とする、請求項4に記載の方法。
- 請求項1に記載の方法のための装置であって、該処理液を運ぶためのプロセスパイプ(20)と、該処理液の流れ方向に対して実質的に垂直に第1の流れを該プロセスパイプ(20)内に導入して混合するための少なくとも1つの噴射混合機(12)と、を備え、該少なくとも1つの噴射混合機が該プロセスパイプ(20)の壁に取り付けられ、該処理液の該流れ方向に対して実質的に垂直に第2の流れを導入して混合するための少なくとも1つの他の噴射混合機(14)が該プロセスパイプ(20)の壁上に配置される、上記装置において、
該第2の流れの該処理液の流れへの噴射が、第1の噴射流れによって形成された混合場を強化するように、該第1の流れを導入し、該第1の流れ及び該第2の流れを導入するための該噴射混合機(12、14)が噴射混合機ペアを形成することを特徴とする上記装置。 - 前記少なくとも1つの他の噴射混合機が、前記プロセスパイプの軸を通って横断する実質的に同一の面で、該少なくとも1つの噴射混合機(12)から下流の一定距離のところに配置されることを特徴とする請求項9に記載の装置。
- 2つ以上の混合機ペア(12、14)が存在する場合、該混合機ペア(12、14)が前記プロセスパイプ(20)の円周上で実質的に均等に分布されることを特徴とする、請求項9に記載の装置。
- 前記第2の流れを導入するための、前記噴射混合機ペア(12、14)の前記噴射混合機(14)が、前記第1の流れを導入するための前記噴射混合機(12)を通る前記プロセスパイプの軸に平行な線から最大で20度ずれる該プロセスパイプ(20)の円周上の位置に配置されることを特徴とする、請求項9に記載の装置。
- 前記噴射混合機ペアが、前方の混合機(12)及び後方の混合機(14)で形成され、噴射混合機ペア(12、14)の後方の混合機(14)が、前記プロセスパイプ(20)の軸上の仮想区間A内に配置され、該仮想区間Aの角は最大で40度であり、該角を二等分する面上に前方の混合機(12)が配置されることを特徴とする、請求項9に記載の装置。
- 混合機ペアの前記混合機の間の距離が0.05メートルから2メートルであることを特徴とする、請求項9から13までのいずれか一項に記載の装置。
- プロセスパイプ洗浄装置(30)が前記プロセスパイプ(20)の内部に配置されることを特徴とする、請求項9に記載の装置。
- 前記洗浄装置(30)が、前記プロセスパイプ(20)の内部で実質的に中央に配置される電極棒(36)と、該プロセスパイプの表面上に配置される少なくとも1つの電極(42)と、電圧源とを含む制御システム(40)とを含むことを特徴とする、請求項15に記載の装置。
- 前記洗浄装置(30)が、前記プロセスパイプ内の反応の進行を監視するための測定センサ(44)をさらに含むことを特徴とする、請求項15に記載の装置。
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