JP5876798B2 - ZnSe多結晶体およびその製造方法 - Google Patents
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Description
(ZnSe多結晶体の合成工程)
本発明のZnSe多結晶体は、高純度の材料が得られるという観点から、CVD法を用いて作製することが好ましい。具体的には、搬送ガスとして純度99.999%程度のアルゴンガスを用い、純度99.999%程度のセレン化水素および純度99.999%程度の溶融亜鉛からの亜鉛蒸気を、温度600〜800℃、雰囲気圧力10kPa以下の反応炉内で反応させ、黒鉛基板上にZnSe多結晶体を成長させることによって、合成することができる。
(ZnSe多結晶体の熱処理工程)
上記のようにして合成したZnSe多結晶体を、不純物濃度が0.001vol%以下、かつ圧力が0.1気圧以上10気圧以下の非酸化性ガス雰囲気中において、920℃以上1050℃以下の温度に保持して熱処理する。非酸化性ガスとしては、窒素ガス、アルゴンガス、水素ガスまたはこれらの混合ガスを用いることができる。前記熱処理により、CVD法により合成したZnSe多結晶体中に数ppmのオーダーで含有されていた不純物酸素を、1ppm以下に減少させることができ、これに伴って、熱処理後のZnSe多結晶体の500〜560nmの波長域の光の透過率を、30%以上60%以下に増大させることが可能になる。このとき、非酸化性ガスの不純物濃度を0.001vol%以下、かつ雰囲気圧力を0.1気圧以上10気圧以下とするのは、非酸化性ガス雰囲気中に不純物として含まれる酸素ガスの分圧を抑えるためである。非酸化性ガスの不純物濃度が0.001vol%を超えるか、あるいは雰囲気圧力が10気圧を超えるような場合には、非酸化性ガス雰囲気中に不純物として含まれる酸素ガスの分圧が高くなり、ZnSe多結晶体中からの不純物酸素の離脱が十分に進行せず、熱処理後のZnSe多結晶体中の不純物酸素を1ppm以下に減少させるのが困難になることがある。一方、雰囲気圧力が0.1気圧未満の場合、920℃以上1050℃以下の温度に保持する際に、ZnSeが分解・昇華する可能性があるため、雰囲気圧力は0.1気圧以上とすることが好ましい。また、920℃未満の温度で熱処理をしても、ZnSe多結晶体中の不純物酸素を1ppm以下に減少させることは難しく、1050℃を超える温度で熱処理をするとZnSeが分解・昇華する可能性があるため、熱処理温度は920℃以上1050℃以下とすることが好ましい。より好ましい熱処理温度は970〜1050℃であり、さらに好ましくは1000〜1050℃である。
搬送ガスとして純度99.999%のアルゴンガスを用い、純度99.999%のセレン化水素および純度99.999%の溶融亜鉛からの亜鉛蒸気を、温度600℃、雰囲気圧力10kPaの反応炉内で反応させ、黒鉛基板上にCVD成長させてZnSe多結晶体のバルクを合成した。その後、前記バルクを直径20mm、厚み8mmの試料に加工した。前記試料の上面を鏡面研磨した後、前記研磨面を塩酸でエッチングし、光学顕微鏡を用いて20倍の倍率で写真撮影を行った。その写真上に60mmの直線を任意に5本引き、その各直線上に存在する結晶粒子の粒界間距離を測定し、それらの平均値を算出した結果、CVD法で合成した直後のZnSe多結晶体の平均結晶粒径は、20μmであった。次に、アルキメデス法で絶対密度を測定した。前記絶対密度をZnSeの理論密度(5.27g/cm3)で除することによって、相対密度を求めた結果、相対密度は99.9%であった。
(実施例2〜3)
熱処理の際の窒素ガス圧力が異なる他は実施例1と同様の方法により、実施例2〜3のZnSe焼結体を作製し、その性状を評価した。実施例2〜3の窒素ガス圧力と、熱処理後のZnSe多結晶体の酸素含有量、平均結晶粒径、500〜560nmの波長域の光の透過率の測定結果を表1に示す。
(比較例1)
HIP(熱間静水圧成形)装置を用いて、熱処理の際の窒素ガス圧力を1000気圧とした他は実施例1と同様の方法により、比較例1のZnSe多結晶体を作製し、その性状を評価した。比較例1の熱処理後のZnSe多結晶体の酸素含有量、平均結晶粒径、500〜560nmの波長域の光の透過率の測定結果を表1に示す。
(比較例2)
CVD法により実施例1と同じ条件で、比較例2のZnSe多結晶体を合成した。比較例2のZnSe多結晶体は熱処理を行わずに、CVD法で合成した直後の試料を用いて、実施例1と同様の方法によりその性状を評価した。比較例2のZnSe多結晶体の酸素含有量、平均結晶粒径、500〜560nmの波長域の光の透過率の測定結果を表1に示す。あわせて、透過率の測定結果のグラフを図1に破線で示す。
(実施例4)
CVD法により実施例1と同じ条件で実施例4のZnSe多結晶体を合成し、直径20mm、厚み8mmの円板状の試料に加工した。
(実施例5〜7)
熱処理の際に型に加える最大荷重が異なる他は実施例4と同様の方法により、実施例5〜7のZnSe多結晶体を作製し、その性状を評価した。実施例5〜7の最大荷重と、加圧後試料直径、熱処理後のZnSe多結晶体の酸素含有量、平均結晶粒径、500〜560nmの波長域の光の透過率の測定結果を表2に示す。
(実施例8〜18)
熱処理温度と、熱処理の際に型に加える最大荷重が異なる他は実施例4と同様の方法により、実施例8〜18のZnSe多結晶体を作製し、その性状を評価した。実施例8〜18の熱処理温度、最大荷重と、加圧後試料直径、熱処理後のZnSe多結晶体の酸素含有量、平均結晶粒径、500〜560nmの波長域の光の透過率の測定結果を表2に示す。あわせて、実施例16の透過率の測定結果のグラフを図1に実線で示す。
(比較例3)
熱処理温度を900℃とした他は実施例4と同様の方法により、比較例3のZnSe多結晶体を作製した。比較例3では熱処理後に試料に亀裂が発生した。熱処理温度が900℃と低かったために、熱処理中に型を加圧した際に試料が変形せず、圧壊したと推察される。
(比較例4)
熱処理温度を1100℃とした他は実施例4と同様の方法により、比較例4のZnSe多結晶体を熱処理した。比較例4では熱処理中に試料が昇華し、加圧後試料直径、熱処理後のZnSe多結晶体の酸素含有量、平均結晶粒径、500〜560nmの波長域の光の透過率を測定することができなかった。熱処理温度が1100℃と高すぎたために、熱処理中にZnSe多結晶体が分解、昇華したと推察される。
(比較例5)
熱処理の際の雰囲気ガスとして高純度窒素JIS2級を使用した他は実施例4と同様の方法により、比較例5のZnSe多結晶体を作製し、その性状を評価した。高純度窒素JIS2級は、純度99.99vol%以上、酸素50volppm以下の窒素ガスである。加圧後試料直径、熱処理後のZnSe多結晶体の酸素含有量、平均結晶粒径、500〜560nmの波長域の光の透過率の測定結果を表2に示す。
Claims (7)
- 酸素の含有量が1ppm以下であり、平均結晶粒径が50μm以上1mm以下であり、厚み5mmの測定試料における500〜560nmの波長域の光の透過率が、30%以上60%以下であるZnSe多結晶体。
- 相対密度が99%以上である請求項1に記載のZnSe多結晶体。
- 500nmの波長の光の透過率が、30%以上60%以下である請求項1または2に記載のZnSe多結晶体。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載のZnSe多結晶体を用いた光学部品。
- CVD法によりZnSe多結晶体を合成する工程と、
不純物濃度が0.001vol%以下、かつ圧力が0.1気圧以上10気圧以下の非酸化性ガス雰囲気中において、前記ZnSe多結晶体を920℃以上1050℃以下の温度に保持して熱処理する工程、
とを備える請求項1〜3のいずれか1項に記載のZnSe多結晶体の製造方法。 - 前記熱処理工程において、920℃以上1050℃以下の温度に10分以上保持する請求項5に記載のZnSe多結晶体の製造方法。
- 前記熱処理工程において、920℃以上1050℃以下の温度に保持する際に、前記ZnSe多結晶体に20MPa以上60MPa以下の圧力を加える請求項5または6に記載のZnSe多結晶体の製造方法。
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