JP5872092B1 - 放射性物質除去方法及び放射性物質除去システム - Google Patents

Abstract

【課題】放射性物質を含む処理対象物を加熱室で燃焼ガスに接触させて加熱する加熱処理を実行して、当該処理対象物から放射性物質を揮発除去するにあたり、合理的な構成で省エネルギ性の向上を図りながら加熱処理後の処理対象物に含まれる重金属類を無害化することができる放射性物質除去技術を提供する。【解決手段】放射性物質を含む処理対象物Ｘ０を加熱室Ｒ１で燃焼ガスＣに接触させて加熱する加熱処理を実行する放射性物質除去方法において、加熱処理後の処理対象物Ｘ１を還元雰囲気に維持された還元室Ｒ２に所定の還元時間に亘って保持する還元処理を実行すると共に、還元処理において、加熱処理の排熱を利用して還元室Ｒ２で処理対象物Ｘ１を還元させる。【選択図】図１

Description

本発明は、放射性物質を含む処理対象物を加熱室で燃焼ガスに接触させて加熱する加熱処理を実行する放射性物質除去方法、及び、同加熱処理を実行する加熱処理部を備えた放射性物質除去システムに関する。

従来、放射性物質を含む災害廃棄物の焼却に伴って発生する焼却灰や汚染土壌などの処理対象物から放射性セシウムなどの放射性物質を除去する放射性物質除去技術として、焼却灰を塩化化合物などの揮発促進剤を添加した上で加熱する加熱処理を実行することで、処理対象物から放射性物質を揮発除去するものが知られている（例えば、特許文献１を参照。）。

このような放射性物質除去技術では、処理対象物を比較的高温に加熱する必要があるため、一般的には、ロータリーキルンなどの直接燃焼式の加熱炉を利用して、処理対象物を加熱炉の内部に形成された加熱室で燃焼ガスに直接接触させて加熱する。

特開２０１４−１７４０５１号公報

上記のような処理対象物には、放射性セシウムなどの放射性物質以外に、鉛、カドミウム、クロム、ヒ素、セレンなどの重金属類などが含まれる場合がある。このような重金属を含む処理対象物を直接燃焼式の加熱炉で燃焼ガスに直接接触させる形態で加熱処理を施すと、鉛、カドミウム、ヒ素などの低沸点重金属類については揮発除去することも可能であるが、クロムやセレンなどの重金属類については、加熱室で燃焼ガスに接触し酸化することで、６価クロムや亜セレン酸などの有害物質に変化し、加熱処理後の処理対象物に溶出可能な状態で残存するという問題があった。

このような重金属類の酸化による有害物質の生成を抑制するために、直接燃焼式の加熱炉における空気比を１未満に低下させることがあるが、重金属類の燃焼ガスとの接触酸化を完全に阻止することができないため、有害物質の生成抑制効果を十分に発揮することができない場合があった。

また、加熱処理後の処理対象物に固化剤などを添加することで、有害物質を封じ込めて不溶化する方法が知られているが、この方法では土壌としての再利用が困難になるという別の問題が生じる。

この実情に鑑み、本発明の主たる課題は、放射性物質を含む処理対象物を加熱室で燃焼ガスに接触させて加熱する加熱処理を実行して、当該処理対象物から放射性物質を揮発除去するにあたり、合理的な構成で省エネルギ性の向上を図りながら加熱処理後の処理対象物に含まれる重金属類を無害化することができる放射性物質除去技術を提供する点にある。

本発明の第１特徴構成は、放射性物質を含む処理対象物を加熱室で燃焼ガスに接触させて加熱する加熱処理を実行する放射性物質除去方法であって、
前記加熱処理後の処理対象物を還元雰囲気に維持された還元室に所定の還元時間に亘って保持する還元処理を実行すると共に、
前記還元処理において、前記加熱処理の排熱を利用して前記還元室で前記処理対象物を還元させると共に、前記加熱処理の排熱を利用するにあたり、前記還元室を前記加熱室から高温状態の処理対象物が払い出される払出口の直下に配置して、前記加熱室から払い出された高温状態の処理対象物を当該高温状態のまま前記還元室に投入し、
前記還元室に不活性ガスを充填して、当該還元室を前記還元雰囲気に維持すると共に、前記還元室に対する不活性ガスの充填を、前記処理対象物の出口側から供給して前記処理対象物の入口側から排出させる形態で行なう点にある。

本構成によれば、加熱処理後の処理対象物に対して上記還元処理を実行するので、加熱処理後の処理対象物に含まれる６価クロムや亜セレン酸などの有害物質を還元させて無害化することができる。更に、上記還元処理では、還元室で処理対象物を還元させるために、上記加熱処理の排熱を利用するので、還元室に当該排熱以外の別の熱を与える構成を省略又は簡略化して、合理的な構成で省エネルギ性の向上を図ることができる。
従って、本発明により、放射性物質を含む処理対象物を加熱室で燃焼ガスに接触させて加熱する加熱処理を実行して、当該処理対象物から放射性物質を揮発除去するにあたり、
合理的な構成で省エネルギ性の向上を図りながら加熱処理後の処理対象物に含まれる重金属類を無害化することができる放射性物質除去方法を実現することができる。
更に、本構成によれば、加熱室から払い出された高温状態の処理対象物は加熱室での加熱処理の排熱を保有しているものと言える。そして、その処理対象物を高温状態のまま還元室に投入することで、当該処理対象物の保有熱により還元室で処理対象物を還元させることができる。

本発明の第２特徴構成は、前記還元室として、前記加熱処理後の処理対象物を収容し当該収容した処理対象物を前記還元時間経過後に払い出すバッチ式還元室を複数設け、
前記複数のバッチ式還元室に対して前記加熱処理後の処理対象物を順次払い出す点にある。

本構成によれば、比較的構成が簡素な上記バッチ式還元室を、加熱処理後の処理対象物を還元処理するための還元室として採用することで、更なる構成の合理化を図ることができる。更に、そのバッチ式還元室を複数配置し、当該複数のバッチ式還元室に対して加熱処理後の処理対象物を順次払い出すことで、加熱室から略連続的に払い出される高温状態の処理対象物を、加熱室から払い出されてからバッチ式還元室に投入されるまでの滞留時間を極力無くした状態で略連続的に、上記バッチ式還元室に投入することができる。よって、加熱処理の排熱である加熱室から払い出された処理対象物の保有熱を、滞留時間による放熱を抑制した状態で有効に還元室に伝達することができる。

本発明の第３特徴構成は、前記還元室として、前記加熱処理後の処理対象物が前記還元時間に亘って搬送される連続式還元室を設けた点にある。

本構成によれば、処理対象物を略連続的に投入可能な上記連続式還元室を、加熱処理後の処理対象物を還元処理するための還元室として採用することで、加熱室から略連続的に払い出される高温状態の処理対象物を、加熱室から払い出されてから連続式還元室に投入されるまでの滞留時間を極力無くした状態で略連続的に、上記連続式還元室に投入することができる。よって、加熱処理の排熱である加熱室から払い出された処理対象物の保有熱を、滞留時間による放熱を抑制した状態で還元室での還元に利用することができる。

本発明の第４特徴構成は、前記還元処理において、前記加熱処理の排熱を利用するにあたり、前記還元室に供給される不活性ガスを前記加熱処理の排熱で予熱する点にある。

本構成によれば、還元室に窒素ガスなどの不活性ガスを充填することで、還元室を低酸素状態の還元雰囲気に維持することができる。更に、還元室に供給される不活性ガスを加熱処理の排熱で予熱することで、不活性ガスの保有熱により還元室で処理対象物を還元させることができる。即ち、この場合には、還元室に供給される不活性ガスが加熱処理の排熱を還元室に伝達する熱伝達媒体として機能するため、別の熱伝達媒体を利用する構成を省略又は簡略化して、更なる構成の合理化を図ることができる。

本発明の第５特徴構成は、放射性物質を含む処理対象物を加熱室で燃焼ガスに接触させて加熱する加熱処理を実行する加熱処理部を備えた放射性物質除去システムであって、
前記加熱処理部から払い出された処理対象物を還元雰囲気に維持された還元室に保持する還元処理部を備えると共に、
前記還元処理部が、前記加熱処理の排熱を利用して前記還元室で前記処理対象物を還元させると共に、前記加熱処理の排熱を利用するにあたり、前記還元室を前記加熱室から高温状態の処理対象物が払い出される払出口の直下に配置して、前記加熱室から払い出された高温状態の処理対象物を当該高温状態のまま前記還元室に投入するように構成され、
前記還元室に不活性ガスを充填して、当該還元室を前記還元雰囲気に維持すると共に、前記還元室に対する不活性ガスの充填を、前記処理対象物の出口側から供給して前記処理対象物の入口側から排出させる形態で行なうように構成されている点にある。

本構成によれば、前述の第１特徴構成を有する放射性物質除去方法が有する各処理を実行するための各処理部を備えているので、当該放射性物質除去方法と同様の作用効果を奏し、放射性物質を含む処理対象物を加熱室で燃焼ガスに接触させて加熱する加熱処理を実行して、当該処理対象物から放射性物質を揮発除去するにあたり、合理的な構成で省エネルギ性の向上を図りながら加熱処理後の処理対象物に含まれる重金属類を無害化することができる放射性物質除去システムを実現することができる。

第１実施形態の処理システムの概略構成図 第２実施形態の処理システムの概略構成図

〔第１実施形態〕
本発明の第１実施形態について図１に基づいて説明する。
図１に示す放射性物質除去システム１００（以下、「本システム１００」と呼ぶ。）は、放射性セシウム（放射性物質の一例）を含む汚染土壌などの処理対象物Ｘ０から放射性セシウムを揮発除去するための放射性物質除去方法を実施するためのシステムとして構成されている。よって、本システム１００には、当該処理対象物Ｘ０を加熱室Ｒ１で燃焼ガスＣに接触させて加熱する加熱処理を実行する加熱処理部１が設けられている。

尚、加熱処理が施される処理対象物Ｘ０には、セシウム揮発促進剤が予め添加されている。このようなセシウム揮発促進剤の種類や加熱条件等については、公知技術を採用でき、例えば、無機カルシウム化合物又は有機カルシウム化合物と塩化化合物をセシウム揮発促進剤として添加すれば、加熱処理において比較的低温の９００℃以上１２００℃以下、好ましくは９５０℃以上１１００℃以下、且つ比較的短時間の１２０分以下、好ましくは３０分以上６０分以下の加熱により、主灰中の放射性セシウムを良好に揮発させることができる。

上記加熱処理部１は、直接燃焼式のロータリーキルンで構成されており、基端部を覆う供給側ケーシング１１と先端側を覆う排出側ケーシング１３との間で回転駆動可能に横架され、内部に加熱室Ｒ１を形成する円筒状のキルン本体１２を備える。そして、供給側ケーシング１１に設けられた投入ホッパ１４から加熱室Ｒ１の基端側に投入された処理対象物Ｘ０が、キルン本体１２の回転駆動により、当該キルン本体１２の内部に形成された加熱室Ｒ１を基端側から先端側に向けて搬送される。同時に、この加熱室Ｒ１では、排出側ケーシング１３に設けられたバーナ１６から吹き込まれた燃料Ｆが燃焼用空気供給口１８から供給された燃焼用空気Ａを利用して燃焼し、高温状態の燃焼ガスＣが生成される。
これにより、加熱室Ｒ１では、処理対象物Ｘ０を燃焼ガスＣに直接接触させて加熱する加熱処理が実行されることになる。

加熱室Ｒ１で加熱処理が施された加熱処理後の処理対象物Ｘ１は、キルン本体１２の先端部からそれを覆う排出側ケーシング１３の内部に落下し、当該排出側ケーシング１３の底部に形成された払出口１５より、当該払出口１５に設けられたシャッター３０が開放されたタイミングで払い出される。尚、この払出口１５から払い出された加熱処理後の処理対象物Ｘ１は、その直前まで燃焼ガスＣに晒され加熱処理が施されていたことから、当該加熱処理の排熱を保有して高温状態に維持されている。

一方、加熱室Ｒ１において処理対象物Ｘ０から揮発除去された放射性セシウムを含む排ガスＥは、供給側ケーシング１１の天井部に形成された排気口１９から排ガス管路３１に排出される。この排ガス管路３１に排出された放射性セシウムを含む排ガスＥは、図示は省略するが、適宜冷却された後に、バグフィルタなどの乾式集塵手段や湿式スクラバのような湿式捕集手段に供給されて、放射性セシウムやそれが付着した粉塵が分離除去される。その後、排ガスＥは、必要に応じて脱硝処理のような高度処理が行われた上で、大気中へと排気される。

以上のような直接燃焼式の加熱処理部１では、加熱室Ｒ１において処理対象物Ｘ０に含まれる３価クロムやセレンなどの重金属が燃焼ガスＣに直接接触して酸化することで、６価クロムや亜セレン酸などの有害物質が生成され、その有害物質が加熱処理後の処理対象物Ｘ１と共に払出口１５から払い出されるという問題がある。
そこで、本システム１００及びそれが実施する放射性物質除去方法では、合理的な構成で省エネルギ性の向上を図りながら加熱処理後の処理対象物Ｘ１に含まれる重金属類を無害化するための特徴を有しており、その詳細について以下に説明を加える。

本システム１００には、加熱処理部１の払出口１５から払い出された加熱処理後の処理対象物Ｘ１を還元雰囲気に維持された還元室Ｒ２に所定の還元時間に亘って保持する還元処理を実行する還元処理部２が設けられている。

尚、還元雰囲気とは、還元室Ｒ２に投入された処理対象物Ｘ１の還元が促される低酸素且つ高温（例えば３００℃以上）の雰囲気を示す。
また、上記還元雰囲気において、還元室Ｒ２の酸素濃度は、５％以下、好ましくは３％以下、より好ましくは１％以下が好適であり、この低酸素状態を維持するべく、還元室Ｒ２には、窒素ガスなどの不活性ガスＩが不活性ガス管路２５を通じて充填されている。還元室Ｒ２を通流した排ガスＥは還元室排ガス管路２６を通じて排ガス管路３１に排出される。この還元室排ガス管路２６には、還元室Ｒ２から排出された排ガスＥの酸素濃度を検出する酸素センサ２７が設けられており、この酸素センサ２７の検出結果に基づいて不活性ガス管路２５に設けられた流量調整弁２８を制御することで、還元室Ｒ２から排出される排ガスＥの酸素濃度即ち還元室Ｒ２の酸素濃度が所望の酸素濃度に維持される。
更に、上記所定の還元時間とは、上記還元雰囲気において有害物質が無害化されるまでに必要な時間を示し、例えば、３０分〜６０分程度に設定される。

そして、還元処理部２が実行する還元処理では、加熱処理部１における加熱処理の排熱を利用して、還元室Ｒ２で処理対象物Ｘ１を高温に維持して還元させることで、合理的な構成で省エネルギ性の向上を図るように構成されている。

具体的には、上記還元室Ｒ２を加熱室Ｒ１から高温状態の処理対象物Ｘ１が払い出される払出口１５の直下に配置することにより、加熱室Ｒ１から払い出された高温状態の処理対象物Ｘ１を当該高温状態のまま還元室Ｒ２に投入して、当該還元室Ｒ２で処理対象物Ｘ１を還元させるように構成されている。このことで、処理対象物Ｘ１自身が熱伝達媒体として機能して、加熱室Ｒ１における加熱処理の排熱が、加熱室Ｒ１から払い出された処理対象物Ｘ１の保有熱として還元室Ｒ２に伝達され、結果、還元室Ｒ２で処理対象物Ｘ１が比較的高温に維持されることになる。

このような還元処理部２では、加熱室Ｒ１から払い出されてから還元室Ｒ２に投入されるまでの滞留時間が長くなると、その滞留時間における放熱量が増加して、還元室Ｒ２で処理対象物Ｘ１を高温に維持することができなくなる場合がある。よって、加熱室Ｒ１から略連続的に払い出される高温状態の処理対象物Ｘ１を放熱の原因となる滞留時間を極力無くした状態で略連続的に還元室Ｒ２に投入することが望まれる。
そこで、還元室Ｒ２として、加熱処理後の処理対象物Ｘ１を収容し当該収容した処理対象物Ｘ１を上記還元時間経過後に払い出すバッチ式還元室２０ａ，２０ｂが複数設けられている。

即ち、払出口１５の直下には、当該払出口１５から払い出された処理対象物Ｘ１の供給先を、夫々のバッチ式還元室２０ａ，２０ｂに通じる夫々の分岐管路２１に順次切替可能な切替ダンパー２２が設けられている。更に、バッチ式還元室２０ａ，２０ｂの底部には、開閉可能なシャッター２４が配置されている。

よって、切替ダンパー２２の切替えに伴ってバッチ式還元室２０ａ，２０ｂに投入された処理対象物Ｘ１は、当該バッチ式還元室２０ａ，２０ｂにおいて上記還元時間の間滞留して還元処理が施され、その後にシャッター２４が開放されることで、還元処理後の無害化された処理対象物Ｘ２が払い出されることになる。このことで、加熱室Ｒ１から払出口１５を介して略連続的に払い出される高温状態の処理対象物Ｘ１は、略連続的に上記バッチ式還元室２０ａ，２０ｂの何れかに投入されて還元処理が施されることになる。

更に、還元処理部２が実行する還元処理では、加熱室Ｒ１から払い出された高温状態の処理対象物Ｘ１を当該高温状態のまま還元室Ｒ２に投入する構成以外にも、加熱処理部１における加熱処理の排熱を利用して、還元室Ｒ２で処理対象物Ｘ１を還元させる構成を有している。

具体的には、不活性ガス管路２５を通じて還元室Ｒ２に供給される不活性ガスＩを、加熱室Ｒ１から排ガス管路３１に排出された高温状態の排ガスＥとの熱交換により加熱する熱交換器３２が設けられている。このことで、加熱室Ｒ１から排出された排ガスＥ及び還元室Ｒ２に供給される不活性ガスＩが熱伝達媒体として機能して、加熱室Ｒ１における加熱処理の排熱が排ガスＥ及び不活性ガスＩの保有熱として還元室Ｒ２に伝達され、結果、還元室Ｒ２で処理対象物Ｘ１が比較的高温に維持されることになる。

尚、加熱室Ｒ１から払い出された加熱処理後の処理対象物Ｘ１には、当該加熱室Ｒ１から払い出された直後に還元室Ｒ２に投入されて比較的高温で保持されるため、６価クロムや亜セレン酸などの有害物質を無害化することに加えて、ダイオキシン類等の有機ハロゲン化合物についても、還元、脱ハロゲン化して無害化することが期待できる。

〔第２実施形態〕
本発明の第２実施形態について図２に基づいて説明する。
尚、図２に示す放射性物質除去システム２００（以下、「本システム２００」と呼ぶ。）は、上述した第１実施形態に対して、還元処理に関する構成のみが異なる。よって、他の同様の構成については、図面において同じ符号を付すとともに、詳細な説明は割愛する場合がある。

本システム２００には、上述した第１実施形態と同様に、加熱処理部１の払出口１５から払い出された加熱処理後の処理対象物Ｘ１を還元雰囲気に維持された還元室Ｒ２に所定の還元時間に亘って保持する還元処理を実行する還元処理部４が設けられている。

更に、上記還元室Ｒ２を加熱室Ｒ１から高温状態の処理対象物Ｘ１が払い出される払出口１５の直下に配置することにより、加熱室Ｒ１から払い出された高温状態の処理対象物Ｘ１を当該高温状態のまま還元室Ｒ２に投入して、当該還元室Ｒ２で処理対象物Ｘ１を還元させるように構成されている。

このような還元室Ｒ２を設けた本システム２００では、加熱室Ｒ１から略連続的に払い出される高温状態の処理対象物Ｘ１を放熱の原因となる滞留時間を極力無くした状態で略連続的に還元室Ｒ２に投入するために、還元室Ｒ２として、加熱処理後の処理対象物Ｘ１が上記還元時間に亘って搬送される連続式還元室４０が設けられている。

具体的には、還元処理部４は、スクリュー式コンベアで構成されている。このことにより、円筒状のコンベア本体４１内に連続式還元室４０が形成され、その連続式還元室４０に投入された高温状態の処理対象物Ｘ１が、同連続式還元室４０に横架されたスクリュー４２の回転駆動により、上記還元時間に亘って基端側から先端側に向けて搬送されながら還元処理が施され、先端側の排出部４４から還元処理後の無害化された処理対象物Ｘ２が払い出されることになる。
尚、連続式還元室４０への処理対象物Ｘ１の投入部及び排出部には、ロータリーバルブ４５，４６が設けられている。これにより、不活性ガス管路２５を通じて連続式還元室４０に供給された不活性ガスＩが当該連続式還元室４０に滞留し易くなり、当該連続式還元室４０が好適に低酸素状態に維持される。

〔別実施形態〕
（１）上記実施形態では、還元室Ｒ２での還元処理において、加熱室Ｒ１での加熱処理の排熱を利用して還元室Ｒ２で処理対象物Ｘ１を還元させるための構成として、加熱室Ｒ１から払い出された高温状態の処理対象物Ｘ１を当該高温状態のまま還元室Ｒ２に投入する構成に加えて、還元室Ｒ２に供給される不活性ガスＩを加熱室Ｒ１から排出された排ガスＥとの熱交換により予熱する構成を採用したが、高温状態の処理対象物Ｘ１を当該高温状態のまま還元室Ｒ２に投入するだけで還元室Ｒ２で処理対象物Ｘ１が十分高温に維持される場合などにおいて、かかる不活性ガスＩを予熱する構成を適宜省略しても構わない。また、加熱室Ｒ１での加熱処理の排熱を利用して還元室Ｒ２で処理対象物Ｘ１を還元させるための構成としては、例えば、加熱室Ｒ１から排出された排ガスＥを熱源として還元室Ｒ２を加熱する構成など、上記以外の構成を採用することができる。

（２）上記実施形態では、加熱処理部１を燃焼ガスＣが処理対象物Ｘ０に対向して流れる対向流方式のロータリーキルンで構成したが、並行流方式に構成しても構わない。また、加熱処理部１としては、処理対象物Ｘ０が投入された加熱室Ｒ１において、当該処理対象物Ｘ０が燃焼ガスＣに直接接触して加熱される直接燃焼式のものであれば、ストーカ炉や流動床炉などの別の加熱炉で構成しても構わない。

（３）上記第１実施形態では、還元室Ｒ２としてバッチ式還元室２０ａ，２０ｂを複数設け、それら複数のバッチ式還元室２０ａ，２０ｂに対して加熱処理後の処理対象物Ｘ１を順次払い出すことで、略連続的な還元処理を実行可能としたが、別に、単一のバッチ式還元室を設けて、還元処理をバッチ式に実行しても構わない。

（４）上記第２実施形態では、還元処理部４を、内部に加熱処理後の処理対象物Ｘ１が還元時間に亘って搬送される連続式還元室４０を形成したスクリュー式コンベアで構成したが、連続式還元室４０を形成可能なものであれば、還元処理部４を耐熱ベルト式コンベアなど別の形態の搬送手段で構成しても構わない。

（５）上記実施形態では、還元室Ｒ２で処理対象物Ｘ１を還元させるために必要な熱源の全てを、加熱室Ｒ１における加熱処理の排熱を利用して確保したが、別に、排熱以外の熱源を利用して還元室Ｒ２を加熱可能な加熱手段を追加して、その加熱手段により必要な熱源の一部を確保しても構わない。

１ 加熱処理部
２，４ 還元処理部
２０ａ，２０ｂ バッチ式還元室
４０ 連続式還元室
１００，２００ 放射性物質除去システム
Ｃ 燃焼ガス
Ｉ 不活性ガス
Ｒ１ 加熱室
Ｒ２ 還元室
Ｘ０、Ｘ１，Ｘ２ 処理対象物

Claims (5)

1. 放射性物質を含む処理対象物を加熱室で燃焼ガスに接触させて加熱する加熱処理を実行する放射性物質除去方法であって、
   前記加熱処理後の処理対象物を還元雰囲気に維持された還元室に所定の還元時間に亘って保持する還元処理を実行すると共に、
   前記還元処理において、前記加熱処理の排熱を利用して前記還元室で前記処理対象物を還元させると共に、前記加熱処理の排熱を利用するにあたり、前記還元室を前記加熱室から高温状態の処理対象物が払い出される払出口の直下に配置して、前記加熱室から払い出された高温状態の処理対象物を当該高温状態のまま前記還元室に投入し、
   前記還元室に不活性ガスを充填して、当該還元室を前記還元雰囲気に維持すると共に、前記還元室に対する不活性ガスの充填を、前記処理対象物の出口側から供給して前記処理対象物の入口側から排出させる形態で行なう放射性物質除去方法。
2. 前記還元室として、前記加熱処理後の処理対象物を収容し当該収容した処理対象物を前記還元時間経過後に払い出すバッチ式還元室を複数設け、
   前記複数のバッチ式還元室に対して前記加熱処理後の処理対象物を順次払い出す請求項１に記載の放射性物質除去方法。
3. 前記還元室として、前記加熱処理後の処理対象物が前記還元時間に亘って搬送される連続式還元室を設けた請求項１に記載の放射性物質除去方法。
4. 前記還元処理において、前記加熱処理の排熱を利用するにあたり、前記還元室に供給される不活性ガスを前記加熱処理の排熱で予熱する請求項１〜３のいずれか１項に記載の放射性物質除去方法。
5. 放射性物質を含む処理対象物を加熱室で燃焼ガスに接触させて加熱する加熱処理を実行する加熱処理部を備えた放射性物質除去システムであって、
   前記加熱処理部から払い出された処理対象物を還元雰囲気に維持された還元室に保持する還元処理部を備えると共に、
   前記還元処理部が、前記加熱処理の排熱を利用して前記還元室で前記処理対象物を還元させると共に、前記加熱処理の排熱を利用するにあたり、前記還元室を前記加熱室から高温状態の処理対象物が払い出される払出口の直下に配置して、前記加熱室から払い出された高温状態の処理対象物を当該高温状態のまま前記還元室に投入するように構成され、
   前記還元室に不活性ガスを充填して、当該還元室を前記還元雰囲気に維持すると共に、前記還元室に対する不活性ガスの充填を、前記処理対象物の出口側から供給して前記処理対象物の入口側から排出させる形態で行なうように構成されている放射性物質除去システム。

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