JP5869387B2 - 内燃機関の制御装置 - Google Patents
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Description
しかし例えば、EGRクーラでは、冷却水が循環しているので、EGRクーラ壁面温度と、EGRクーラを通過しているEGRガス温度との間には温度差が生じる。すなわち、EGRクーラ壁面が低温であるにも拘わらず、EGRクーラを通過しているEGRガスが高温となり得る。
このため、上記特許文献1、2記載の技術では、EGRクーラ壁面が低温のためデポジットが発生する状況であるにも拘わらず、EGRガスが高温のためデポジットが発生しないと誤判定し、EGRガスの導入や冷却水の循環を実施してデポジットが発生する課題が生じる。
このため、例えば高濃度のHC排出時におけるEGRデバイス温度が低いときのデポジットの発生を適切に回避できる。
加えて、デポジットが発生しないときには、EGRガスの還流を許可するので、排気エミッションを低減でき、また燃焼の安定化を図れる。
またEGRガス温度に基づいてデポジットの発生状況を判断しないので、EGR通路壁面やEGRデバイス壁面が高温のためデポジットが発生しない状況であるにも拘わらず、EGRガスが低温のためデポジットが発生すると誤判定することはない。よって、デポジットが発生しない状況でEGRガスの導入を禁止して排気エミッションや燃焼安定性を悪化させることはない。
加えて、デポジットが発生しないときには、EGRガスの還流を許可するので、DPFまたはNOx触媒の再生中の排気エミッションを低減でき、また燃焼の安定化を図れる。
加えて、デポジットが発生しないときには、EGRガスの還流を許可するので、DPFの再生時のNOxを低減でき、またNOx触媒の再生時の燃焼の安定化を図れる。
また、タービン51は、図示しない複数の可変ベーンを有しており、可変ベーンの開度を変化させることにより、タービン回転速度を変更できるように構成されている。タービン51のベーン開度は、ECU10により電磁的に制御される。
また、吸気管2におけるコンプレッサ52の下流側には、コンプレッサ52により加圧された吸気を冷却するためのインタークーラ22が設けられている。
吸気管2におけるインタークーラ22の下流側には、エンジン1の吸入空気量を制御するスロットル弁23が設けられている。このスロットル弁23は、アクチュエータを介してECU10に接続されており、その開度はECU10により電磁的に制御される。
EGR通路4には、還流される排気を冷却するEGRクーラ41と、EGRガスにEGRクーラ41をバイパスさせるバイパス通路42と、EGRガスにEGRクーラ41を流通させるかバイパス通路42を流通させるかを切り替える切替弁43と、EGRガス量を制御するためのEGR弁44とが設けられている。
EGRクーラ41は、エンジン1を循環する機関冷却水と熱交換することにより、EGR通路4を流通するEGRガスの温度を冷却する。
EGR弁44は、図示しないアクチュエータを介してECU10に接続されており、その弁開度はECU10により電磁的に制御される。
NSC33は、NOxを捕捉するとき、同時にSOxも捕捉してSOx被毒が生じる。
NSC33としては、例えば白金などの貴金属と、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類の内の少なくとも1つを含むゼオライトなどのNOx吸着材とから構成されたものが用いられる。
NSC33は、NOxやSOxを過度に捕捉すると、排気浄化能力が低下するので、捕捉したNOxやSOxを浄化してNSC33を再生する再生処理が適宜実行される。ここで、捕捉したNOxを浄化してNSC33を再生する再生処理を、NOx再生処理といい、捕捉したSOxを浄化してNSC33を再生する再生処理を、SOx再生処理という。
DPF32は、捕集能力の限界、すなわち堆積限界までPMを捕集すると、圧力損失が大きくなるので、DPF32に堆積したPMを燃焼してDPF32を再生するDPF再生処理が適宜実行される。
一般に、DPF再生処理、NOx再生処理およびSOx再生処理時にEGRガスの還流制御が実施される。
DPF再生処理では、EGRガスを導入することにより、NOxの排気エミッションを低減する。NOx再生処理およびSOx再生処理では、EGRガスを導入することにより、燃焼安定性の悪化、具体的には筒内温度低下に起因する失火を防止する。
本発明者らは、DPF再生処理、NOx再生処理およびSOx再生処理時のEGRガスである高濃度HCガスには、フェノール類(「フェノール類」としては、主にレゾルシノール、フェノールおよびm−クレゾールである。以下単に「フェノール類」という)単体が多量に存在することを明らかにした。そこで、フェノール類単体と、EGRガスである高濃度HCガスの主成分を擬似的に作成した、フェノール類、ホルムアルデヒドおよびNOxからなる試験的高濃度HCガス成分との比較を検討した。
そして、図2に示すように、EGR通路4の壁面温度に対してフェノール類単体のみの堆積量推移と、試験的高濃度HCガス成分の堆積量推移とをプロットして比較したところ、どちらも凝縮点が150℃近傍で一致することが判明した。
図3に示すように、試験的高濃度HCガス成分の凝縮点の実測値をプロットしたところ、フェノール類単体の蒸気圧曲線上にプロットされ、フェノール類単体と試験的高濃度HCガス成分との蒸気圧曲線が一致することが判明した。
また、高濃度HCガス中にはフェノール類に類似する含酸素化合物や多環芳香族も存在する。
上記より、高濃度HCガスがデポジットを発生させないためには、高濃度HCガス中に多量に存在するフェノール類に代表される含酸素化合物や多環芳香族を凝縮させないように、EGRガスの還流を制御する必要がある。
図4に示すように、排気中のHC濃度が増加すると、含酸素化合物および多環芳香族の濃度も一次直線的に増加する傾向の相関関係が判明した。
このため、含酸素化合物および多環芳香族の濃度を推定するために、排気中のHC濃度を取得すればよいことが明らかとなった。
ここで、デポジット発生上限温度とは、排気中のHC濃度に基づいて、EGR通路4の壁面に排気が接触したときにデポジットが発生する上限温度である。
これは、実際にフェノール類が凝縮される対象がEGR通路4の壁面であるため、フェノール類が凝縮される凝縮点を検出する対象も、必然的にEGR通路4の壁面温度となるからである。
上記より、高濃度HCガスがデポジットを発生させないためには、高濃度HCガス中に多量に存在するフェノール類に代表される含酸素化合物や多環芳香族を凝縮させないように、EGR通路4の壁面温度に着目してEGRガスの還流を制御する必要がある。
上記で説明したハードウェア構成からなるECU10は、図5に示すように、再生部10a、HC濃度取得部10b、温度取得部10c、デポジット発生判定部10dおよび還流制御部10eの各モジュールを備える。
具体的には、DPF再生処理では、堆積限界までPMを捕集すると、エンジン1の燃料噴射弁に制御信号を出力してアフター噴射を実行することによりリッチ化された排気に含まれる未燃燃料をDOC31に導入する。これにより、DOC31で進行する酸化反応に伴う反応熱で排気を昇温してDPF32が昇温され、DPF32に堆積したPMを燃焼する。
NOx再生処理およびSOx再生処理では、NOxやSOxを過度に捕捉すると、エンジン1の燃料噴射弁に制御信号を出力してエンジン1で燃焼する混合気を化学量論比よりもリッチに設定し、リッチ化された排気をDOC31に導入する。これにより、DOC31で進行する酸化反応に伴う反応熱で排気を昇温してNSC33が昇温されるとともに、NSC33に流入する排気の還元性気体の濃度を比較的高い還元雰囲気にし、捕捉したNOxやSOxを還元浄化する。
なお、SOx再生処理は、捕捉したSOxがNOxよりも脱離し難い性質を有することから、NOx再生処理に比して高温・高還元雰囲気下で実行される。
具体的には、エンジン1の機関負荷Q、機関回転速度Neおよび冷却水温Twを取得し、機関負荷Q、機関回転速度Neおよび冷却水温Twを予め設定されているマップに取り込み、排気中のHC濃度を算出する。
具体的には、エンジンの機関負荷Q、機関回転速度Neおよび冷却水温Twを取得し、機関負荷Q、機関回転速度Neおよび冷却水温Twを予め設定されているマップに取り込み、EGR弁壁面温度Teを算出する。
なお、温度取得部10cは、EGR弁壁面温度Teを温度センサによって取得するものであってもよい。
デポジット発生上限温度算出部10fは、HC濃度取得部10bが取得したHC濃度と温度取得部10cが取得したEGR弁壁面温度Teとに基づいて、EGR弁44に排気が接触したときにデポジットが発生する上限温度であるデポジット発生上限温度を算出する。
図6は、本実施形態に係るデポジット発生上限温度を算出するマップを示す図である。図6の横軸にはEGR弁壁面温度Teをとり、縦軸には排気中のHC濃度をとっている。図6中の特性曲線がデポジット発生上限温度の特性曲線であり、デポジット発生上限温度の特性曲線よりも右下側の領域がデポジット非発生領域であり、特性曲線よりも左上側の領域がデポジット発生領域である。デポジット発生上限温度の特性曲線は、図3に示すフェノール類単体の蒸気圧曲線を利用して求められている。
具体的には、HC濃度およびEGR弁壁面温度Teを取得し、HC濃度およびEGR弁壁面温度Teを、予め設定されている図6に示すマップに取り込み、デポジット発生上限温度の特性曲線を利用してデポジット発生上限温度を算出する。
具体的には、DPF再生時は、NOx再生処理およびSOx再生処理時に比して、図6に示すデポジット発生上限温度の特性曲線を右下へ移行した特性曲線(図6破線の特性曲線)を用いてデポジット発生上限温度を算出する。
また、DPF再生時、NOx再生処理時、SOx再生処理時でそれぞれの特性曲線を図6に示すようにECU10に記憶させておくものであってもよい。
このため、SOx再生処理時は、NOx再生処理に比して、図6に示すデポジット発生上限温度の特性曲線を右下へ移行した特性曲線を用いてデポジット発生上限温度を算出してもよい。
一方、温度取得部10cが取得したEGR弁壁面温度Teが、デポジット発生上限温度算出部10fが算出したデポジット発生上限温度を超える場合には、デポジットが発生しないと判定する。
図7は、本実施形態に係るEGRガスの還流制御ルーチンを示すフローチャートである。
具体的には、ステップS2で取得したHC濃度およびステップS3で取得したEGR弁壁面温度Teを予め設定されている図6に示すマップに取り込み、デポジット発生上限温度を算出する。
ステップS5においてEGR弁壁面温度Teが、デポジット発生上限温度以下である場合には、デポジットが発生すると判定してステップS6へ移行する。一方、ステップS5においてEGR弁壁面温度Teが、デポジット発生上限温度を超える場合には、デポジットが発生しないと判定し本ルーチンを終了する。
図8に示すように本実施形態に係るEGRガスの還流制御では、EGR弁壁面温度Teがデポジット発生上限温度以下である場合にEGRガスの導入を禁止する。そしてEGR弁壁面温度Teが上昇していきEGR弁壁面温度Teがデポジット発生上限温度を超えた時点でEGRガスの導入を開始する。つまり、排気中のHC濃度の上昇に対してEGRガスの導入開始が遅延される。
なお、EGR弁壁面温度Teの上昇は、排気中のHC濃度の上昇、すなわち排気管3の排気温度が上昇することに伴い、その熱が排気管壁(あるいは内燃機関壁)からEGR通路壁面に熱伝導されてEGR弁まで伝わることにより、排気中のHC濃度の上昇に遅延して生じる。
このようにEGRガスの導入開始が遅延されることにより、DPF再生開始時のEGR弁壁面温度Teが低いためにデポジットが発生することが防止される。
図9に示すように比較例に係るEGRガスの還流制御では、DPF再生開始時点でEGRガスの導入を開始する。
このようにEGRガスの導入開始がDPF再生開始と一致していると、DPF再生開始時のEGR弁壁面温度Teが低いため、図9に示すHC濃度が高くEGR弁壁面温度Teが低い斜線部領域のHCが凝縮してデポジットが発生した。
このため、例えばDPF再生、NOx再生およびSOx再生時におけるEGR弁44温度が低いときのデポジットの発生を適切に回避できる。
加えて、デポジットが発生しないときには、EGRガスの還流を許可するので、排気エミッションを低減でき、また燃焼の安定化を図れる。
またEGRガス温度に基づいてデポジットの発生状況を判断しないので、EGR弁44が高温のためデポジットが発生しない状況であるにも拘わらず、EGRガスが低温のためデポジットが発生すると誤判定することはない。よって、デポジットが発生しない状況でEGRガスの導入を禁止して排気エミッションや燃焼安定性を悪化させることはない。
加えて、デポジットが発生しないときには、EGRガスの還流を許可するので、DPF再生、NOx再生およびSOx再生中の排気エミッションを低減でき、また燃焼の安定化を図れる。
加えて、デポジットが発生しないときには、EGRガスの還流を許可するので、DPF再生時のNOxを低減でき、またNOx再生およびSOx再生時の燃焼の安定化を図れる。
上記実施形態では、温度取得部10cがEGR弁壁面温度Teを取得するものであったが、これに限られない。温度取得部は、例えば、EGR通路壁面の温度や、EGRクーラ、切替弁などの他のEGRデバイスの温度を取得するものであってもよい。
また、上記実施形態では、還流制御部10eは、デポジット発生判定部10dによってデポジットが発生すると判定された場合には、EGR弁44を閉弁してEGRガスの還流を禁止していたが、これに限られない。還流制御部は、デポジット発生判定部によってデポジットが発生すると判定された場合には、EGR弁を閉弁側に制御してEGRガスの還流量を低減するものであってもよい。還流量を低減する場合には、EGR通路にEGRガスが流通してEGR弁が高温の排気で直接暖められるので、EGR弁壁面温度Teの上昇が排気中のHC濃度の上昇に遅延する時間を短縮できる。
2…吸気管(吸気通路)
3…排気管(排気通路)
4…EGR通路
44…EGR弁
10a…再生部
10b…HC濃度取得部
10c…温度取得部
10d…デポジット発生判定部
10e…還流制御部
10f…デポジット発生上限温度算出部
32…DPF
33…NSC
Claims (5)
- 内燃機関の排気通路から吸気通路へ排気の一部をEGRガスとして還流するためのEGR通路と、
前記EGR通路に設けられ、EGRガス量を制御するためのEGR弁と、
排気中の炭化水素の濃度を取得する炭化水素濃度取得手段と、
EGR通路壁面またはEGRデバイスの温度を取得する温度取得手段と、
前記炭化水素濃度取得手段が取得した炭化水素の濃度と前記温度取得手段が取得したEGR通路壁面またはEGRデバイスの温度とに基づいて、デポジットが発生するか否かを判定するデポジット発生判定手段と、
前記デポジット発生判定手段によってデポジットが発生すると判定された場合には、前記EGR弁を閉弁してEGRガスの還流を禁止し、前記デポジット発生判定手段によってデポジットが発生しないと判定された場合には、EGRガスの還流を許可する還流制御手段と、
前記排気通路に設けられ、排気を浄化するDPFまたはNOx触媒と、
排気空燃比をストイキよりも炭化水素の濃度の高いリッチ空燃比に制御することにより排気を昇温して前記DPFまたはNOx触媒を再生する再生手段と、を備え、
前記還流制御手段は、前記再生手段による前記DPFまたはNOx触媒の再生中に、前記デポジット発生判定手段によってデポジットが発生すると判定された場合には、前記EGR弁を閉弁してEGRガスの還流を禁止し、前記デポジット発生判定手段によってデポジットが発生しないと判定された場合には、EGRガスの還流を許可することを特徴とする内燃機関の制御装置。 - 前記デポジット発生判定手段は、前記炭化水素濃度取得手段が取得した炭化水素の濃度に基づいて、EGR通路壁面またはEGRデバイスに排気が接触したときにデポジットが発生する上限温度であるデポジット発生上限温度を算出するデポジット発生上限温度算出手段を有し、
前記温度取得手段が取得したEGR通路壁面またはEGRデバイスの温度が、前記デポジット発生上限温度算出手段が算出したデポジット発生上限温度以下である場合には、デポジットが発生すると判定し、
前記温度取得手段が取得したEGR通路壁面またはEGRデバイスの温度が、前記デポジット発生上限温度算出手段が算出したデポジット発生上限温度を超える場合には、デポジットが発生しないと判定することを特徴とする請求項1記載の内燃機関の制御装置。 - 前記温度取得手段は、前記EGR通路に設けられたEGRガスの状態を制御するための複数のEGR通路壁面またはEGRデバイスの内、最下流に配置されたEGR通路壁面またはEGRデバイスの温度を取得することを特徴とする請求項1または2記載の内燃機関の制御装置。
- 前記温度取得手段は、前記EGR通路に設けられ、前記内燃機関を循環する冷却媒体と熱交換することによりEGRガスの温度を冷却するためのEGRクーラの温度を取得することを特徴とする請求項1または2記載の内燃機関の制御装置。
- 前記排気通路に設けられ、排気を浄化するDPFおよびNOx触媒を備え、
前記デポジット発生上限温度算出手段は、前記再生手段が前記DPFを再生するときに、前記NOx触媒を再生するときに比して、同じ炭化水素濃度であってもデポジット発生上限温度を高く算出することを特徴とする請求項2記載の内燃機関の制御装置。
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