JP5860628B2 - Transfer apparatus and transfer method - Google Patents

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Description

本発明は、転写装置および転写方法に関する。   The present invention relates to a transfer apparatus and a transfer method.

従来、半導体製造工程において、半導体ウェハ(以下、単にウェハという場合がある)を所定の形状、所定のサイズに切断して半導体チップ(以下、単にチップという場合がある)に個片化し(ダイシング工程)、このチップに接着剤層を形成したのち、個片化したチップ同士の間隔を拡大してから(エキスパンド工程)、各チップをピックアップして、基板にボンディングする(ボンディング工程)ことが行われている。   2. Description of the Related Art Conventionally, in a semiconductor manufacturing process, a semiconductor wafer (hereinafter simply referred to as a wafer) is cut into a predetermined shape and a predetermined size and separated into semiconductor chips (hereinafter sometimes simply referred to as chips) (dicing process). ) After forming the adhesive layer on this chip, the distance between the separated chips is expanded (expanding process), and then each chip is picked up and bonded to the substrate (bonding process). ing.

接着剤層の形成方法としては、ダイシングを行ったチップをウェハ形状のまま伸長可能な接着シートに貼付し、エキスパンドしてチップ間の間隔を拡大すると同時に、接着シートの接着剤層も破断して、接着剤層付きチップに個片化する方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。   The adhesive layer is formed by sticking the diced chip to a stretchable adhesive sheet in the shape of a wafer and expanding it to expand the space between the chips. At the same time, the adhesive layer of the adhesive sheet is also broken. There is known a method of dividing into chips with an adhesive layer (for example, see Patent Document 1).

特開2005−260204号公報JP 2005-260204 A

しかしながら、特許文献1に記載の装置では、エキスパンドにより接着剤層を破断するため、破断された接着剤層は様々な形状となる。これにより、例えば、接着剤層がチップよりも大きな形状に破断されると、当該接着剤層がボンディング先で被着体の余計な部分に接着してしまうといった不都合を生じ、さらに、接着剤層がチップよりも小さな形状に破断されると、ボンディング先で被着体とチップとの接着力が不足するといった不都合を生じる。   However, in the apparatus described in Patent Document 1, since the adhesive layer is broken by expanding, the broken adhesive layer has various shapes. Thereby, for example, when the adhesive layer is broken into a shape larger than the chip, the adhesive layer is bonded to an extra portion of the adherend at the bonding destination, and further the adhesive layer If it is broken into a shape smaller than the chip, there arises a disadvantage that the bonding force between the adherend and the chip is insufficient at the bonding destination.

本発明の目的は、接着剤層を片状体の形状に沿って正確に分割することのできる転写装置および転写方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a transfer apparatus and a transfer method capable of accurately dividing an adhesive layer along the shape of a piece-like body.

前記目的を達成するために、本発明の転写装置は、基材シートの一方の面に接着剤層が積層された転写シートに複数の片状体を転写する転写装置であって、前記複数の片状体を支持する第1支持手段と、前記転写シートを前記第1支持手段で支持された前記複数の片状体に対向させて支持する第2支持手段と、前記第1支持手段で支持された前記複数の片状体と前記第2支持手段で支持された転写シートとを相対移動させることで、前記転写シートと前記複数の片状体とを当接させる当接手段と、前記複数の片状体の間隙に向かって前記転写シートを変形させることで、前記間隙に位置する前記接着剤層を割断する割断手段と、を備える、という構成を採用している。   In order to achieve the above object, the transfer device of the present invention is a transfer device for transferring a plurality of pieces to a transfer sheet in which an adhesive layer is laminated on one surface of a base sheet, A first support means for supporting a piece, a second support means for supporting the transfer sheet opposite to the plurality of pieces supported by the first support means, and a support by the first support means; A contact means for bringing the transfer sheet and the plurality of pieces into contact with each other by relatively moving the plurality of pieces and the transfer sheet supported by the second support means; And a cleaving means for cleaving the adhesive layer located in the gap by deforming the transfer sheet toward the gap between the flakes.

この際、前記接着剤層を流動化させる流動化手段を有する、ことが好ましい。
また、前記割断手段は、前記転写シートの両面に圧力差を生じさせることで前記転写シートを変形させる、ことが好ましい。
さらに、前記当接手段は、前記転写シートの基材シート側から前記複数の片状体に向かって流体を噴出する流体噴出手段を有して構成される、ことが好ましい。
At this time, it is preferable to have fluidizing means for fluidizing the adhesive layer.
Further, it is preferable that the cleaving means deforms the transfer sheet by generating a pressure difference on both surfaces of the transfer sheet.
Furthermore, it is preferable that the contact means includes a fluid ejecting means for ejecting a fluid from the base sheet side of the transfer sheet toward the plurality of pieces.

また、前記複数の片状体は、接着シートの一方の面に貼付され、前記接着シートを介して前記第1支持手段に支持され、前記接着シートを引き伸ばすことにより、前記間隙を拡げるエキスパンド手段を有する、ことが好ましい。   The plurality of pieces are attached to one surface of an adhesive sheet, supported by the first support means via the adhesive sheet, and expand means that expands the gap by stretching the adhesive sheet. It is preferable to have.

一方、本発明の転写方法は、基材シートの一方の面に接着剤層が積層された転写シートに複数の片状体を転写する転写方法であって、前記複数の片状体を支持し、前記転写シートを前記複数の片状体に対向させて支持し、前記複数の片状体と前記転写シートとを相対移動させることで、前記転写シートと前記複数の片状体とを当接させ、前記複数の片状体の間隙に向かって前記転写シートを変形させることで、前記間隙に位置する前記接着剤層を割断する、という構成を採用している。   On the other hand, the transfer method of the present invention is a transfer method in which a plurality of pieces are transferred to a transfer sheet having an adhesive layer laminated on one surface of a base sheet, and the plurality of pieces are supported. The transfer sheet is supported so as to face the plurality of pieces, and the plurality of pieces and the transfer sheet are moved relative to each other so that the transfer sheet and the plurality of pieces are brought into contact with each other. And adopting a configuration in which the adhesive sheet positioned in the gap is cleaved by deforming the transfer sheet toward the gap between the plurality of pieces.

以上のような本発明によれば、割断手段は、複数の片状体の間隙に向かって転写シートを変形させることで、当該間隙に位置する接着剤層を割断するので、接着剤層を片状体の形状に沿って正確に分割することができる。これにより、様々な形状で破断されたときに生じるボンディング先での上記不都合を解消することができる。   According to the present invention as described above, the cleaving means cleaves the adhesive layer located in the gap by deforming the transfer sheet toward the gap between the plurality of pieces, so that the adhesive layer is cut into pieces. It can be accurately divided along the shape of the body. Thereby, the said inconvenience in the bonding destination which arises when it fractures | ruptures with various shapes can be eliminated.

この際、流動化手段によって接着剤層を流動化させることで、接着剤層が割断されやすくなり、接着剤層を片状体の形状に確実に分割することができる。また、割断手段が、圧力差を生じさせることで転写シートを変形させれば、例えば加圧装置や減圧装置といった装置を用いて圧力差を生じさせるだけで、間隙の距離や片状体の数によらず、確実に必要な箇所の接着剤層を割断することができる。したがって、間隙の形状に合わせた型を準備して転写シートを変形させるような場合に比べ、装置構造を簡単にできるとともに、装置の大型化や、制御の複雑化を抑制することができる。また、転写シートの基材シート側から複数の片状体に向かって流体を噴出する流体噴出手段を有して構成すれば、押圧部材などを直接接触させて転写シートや片状体を押圧変形させる場合に比べ、転写シートや片状体の破損を防止することができる。さらに、エキスパンド手段を採用すると、間隙を所望の距離に拡げた状態で片状体を転写シートに転写することができる上、予め間隙を拡げておく必要がなく、製造効率を上げることができる。   At this time, by fluidizing the adhesive layer by the fluidizing means, the adhesive layer is easily cleaved, and the adhesive layer can be surely divided into the shape of a piece. Further, if the cleaving means deforms the transfer sheet by generating a pressure difference, the gap distance and the number of pieces can be obtained only by generating a pressure difference using a device such as a pressurizing device or a decompressing device. Regardless of this, it is possible to reliably cut the adhesive layer where necessary. Therefore, compared to a case where a mold matching the shape of the gap is prepared and the transfer sheet is deformed, the apparatus structure can be simplified, and the enlargement of the apparatus and the complicated control can be suppressed. In addition, if the transfer sheet is configured to have fluid ejecting means for ejecting fluid from the base sheet side toward the plurality of pieces, the transfer member and the pieces are pressed and deformed by directly contacting a pressing member. Compared with the case of making it, damage to a transfer sheet or a piece can be prevented. Further, when the expanding means is employed, the piece-like body can be transferred to the transfer sheet in a state where the gap is widened to a desired distance, and it is not necessary to widen the gap in advance, so that the production efficiency can be increased.

本発明の一実施形態に係る転写装置の全体図。1 is an overall view of a transfer apparatus according to an embodiment of the present invention. 図1の転写装置の動作説明図。FIG. 2 is an operation explanatory diagram of the transfer device of FIG. 1. 図2に続く転写装置の動作説明図。FIG. 3 is an operation explanatory diagram of the transfer device following FIG. 2. 図3に続く転写装置の動作説明図。FIG. 4 is an operation explanatory diagram of the transfer device following FIG. 3. 本発明の変形例に係る転写装置の全体図。FIG. 9 is an overall view of a transfer device according to a modification of the present invention.

以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。
本実施形態では、特に明示しない限り、「上」、「下」、「左」、「右」といった方位を示す用語は、図1を基準として用いる。
本実施形態において、転写装置1は、接着シートS1に貼付されるとともに、複数のチップWAに個片化されたウェハWを複数の片状体とし、これらチップWAを接着剤層AD2が積層された転写シートS2に転写するものであり、このウェハWは、接着シートS1の一方の面(下面)に積層された接着剤層AD1を介して貼付され、接着シートS1を介してリングフレームRF1に保持されている。なお、チップWAは、ウェハWが格子状にダイシングされて6面体に形成されている。
転写シートS2は、基材シートBS2と、この基材シートBS2の一方の面(上面)に積層された感熱接着性の接着剤層AD2とを備え、基材シートBS2が第2リングフレームRF2に貼付されて保持されている。なお、基材シートBS2の厚みは30μm、接着剤層AD2の厚みは10μmに設定されている。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
In the present embodiment, unless otherwise specified, terms indicating directions such as “up”, “down”, “left”, and “right” are used with reference to FIG.
In the present embodiment, the transfer device 1 is attached to the adhesive sheet S1, and the wafer W separated into a plurality of chips WA is formed into a plurality of pieces, and these chips WA are laminated with an adhesive layer AD2. The wafer W is affixed via an adhesive layer AD1 laminated on one surface (lower surface) of the adhesive sheet S1, and is attached to the ring frame RF1 via the adhesive sheet S1. Is retained. The chip WA is formed in a hexahedron by dicing the wafer W into a lattice shape.
The transfer sheet S2 includes a base sheet BS2 and a heat-sensitive adhesive layer AD2 laminated on one surface (upper surface) of the base sheet BS2. The base sheet BS2 is attached to the second ring frame RF2. Affixed and held. The base sheet BS2 has a thickness of 30 μm, and the adhesive layer AD2 has a thickness of 10 μm.

図1において、転写装置1は、接着シートS1およびリングフレームRF1を介してウェハWを支持する第1支持手段2と、ウェハWに対向配置させて転写シートS2を支持する第2支持手段3と、ウェハWと転写シートS2とを互いに離間接近させる当接手段4と、転写シートS2の接着剤層AD2を流動化させる流動化手段5と、接着剤層AD2を割断する割断手段6と、を備えて構成されている。   In FIG. 1, a transfer apparatus 1 includes a first support unit 2 that supports a wafer W via an adhesive sheet S1 and a ring frame RF1, and a second support unit 3 that supports the transfer sheet S2 so as to face the wafer W. A contact means 4 for separating the wafer W and the transfer sheet S2 from each other, a fluidizing means 5 for fluidizing the adhesive layer AD2 of the transfer sheet S2, and a cleaving means 6 for cleaving the adhesive layer AD2. It is prepared for.

第1支持手段2は、全体が当接手段4に支持され、中央に円形の凹部211が形成された支持部材21と、支持部材21の外周に取り付けられた複数のアーム22と、支持部材21の上面に設けられた駆動機器としての直動モータ23と、この直動モータ23の出力軸23Aに取り付けられたエキスパンド手段を構成するエキスパンドテーブル24とを備えている。
支持部材21およびエキスパンドテーブル24の下面には、減圧ポンプや真空エジェクタ等の図示しない減圧手段に接続される吸引孔がそれぞれ設けられている。また、アーム22は、駆動機器である図示しない直動モータによって、上下方向に移動可能に設けられ、第1リングフレームRF1を支持部材21の支持面212との間に挟み込んで支持可能になっている。エキスパンドテーブル24は、凹部211内に配置されたときに、支持面212と同一平面を構成可能な内側支持面241が形成されるとともに、その内部に流動化手段5を構成するコイルヒータ52が設けられている。
The first support means 2 is supported by the contact means 4 as a whole, a support member 21 having a circular recess 211 formed in the center, a plurality of arms 22 attached to the outer periphery of the support member 21, and the support member 21. A linear motion motor 23 as a drive device provided on the upper surface of the linear motor 23 and an expansion table 24 constituting an expanding means attached to an output shaft 23A of the linear motion motor 23 are provided.
Suction holes connected to decompression means (not shown) such as a decompression pump and a vacuum ejector are provided on the lower surfaces of the support member 21 and the expand table 24, respectively. The arm 22 is provided so as to be movable in the vertical direction by a linear motion motor (not shown) that is a driving device, and can be supported by sandwiching the first ring frame RF1 with the support surface 212 of the support member 21. Yes. When the expand table 24 is disposed in the recess 211, an inner support surface 241 that can form the same plane as the support surface 212 is formed, and a coil heater 52 that constitutes the fluidizing means 5 is provided therein. It has been.

第2支持手段3は、全体が図示しないフレームに支持され、第1支持手段2の下方に配置可能になっている。この第2支持手段3は、支持面32を有するテーブル31を備え、テーブル31の内部に流動化手段5を構成するコイルヒータ51が設けられている。
テーブル31は、第1支持手段2に対向する支持面32上に、第2リングフレームRF2に貼付された転写シートS2を接着剤層AD2が上側となる状態で支持可能に構成されている。なお、支持面32には、割断手段6に連通する図示しない吸排気孔が設けられている。
The entire second support means 3 is supported by a frame (not shown) and can be arranged below the first support means 2. The second support means 3 includes a table 31 having a support surface 32, and a coil heater 51 constituting the fluidizing means 5 is provided inside the table 31.
The table 31 is configured to be able to support the transfer sheet S2 attached to the second ring frame RF2 on the support surface 32 facing the first support means 2 with the adhesive layer AD2 on the upper side. The support surface 32 is provided with intake / exhaust holes (not shown) communicating with the cleaving means 6.

当接手段4は、駆動機器としての直動モータ41を備え、支持部材21が直動モータ41の図示しないスライダに取り付けられている。   The abutting means 4 includes a linear motion motor 41 as a drive device, and a support member 21 is attached to a slider (not shown) of the linear motion motor 41.

割断手段6は、テーブル31に接続される加圧ポンプやタービン等の加圧手段61を備え、支持面32に形成された図示しない吸排気孔を介して転写シートS2を加圧することで、転写シートS2の両面に気圧差(圧力差)を生じさせ、当該転写シートS2を上方に向かって変形させるように構成されている。また、割断手段6は、テーブル31に接続される減圧ポンプや真空エジェクタ等の減圧手段62を備え、支持面32に形成された図示しない吸排気孔を介して転写シートS2を吸引することで、転写シートS2の両面に気圧差(圧力差)を生じさせ、当該転写シートS2における基材シートBS2を下方に向かって変形させるように構成されている。   The cleaving means 6 includes a pressure means 61 such as a pressure pump or a turbine connected to the table 31, and pressurizes the transfer sheet S2 through a suction / exhaust hole (not shown) formed in the support surface 32, thereby transferring the transfer sheet. An atmospheric pressure difference (pressure difference) is generated on both surfaces of S2, and the transfer sheet S2 is deformed upward. Further, the cleaving means 6 includes a pressure reducing means 62 such as a pressure reducing pump or a vacuum ejector connected to the table 31, and the transfer sheet S2 is sucked through an intake / exhaust hole (not shown) formed in the support surface 32, thereby transferring the transfer sheet S2. An atmospheric pressure difference (pressure difference) is generated on both surfaces of the sheet S2, and the base sheet BS2 in the transfer sheet S2 is deformed downward.

なお、接着シートS1の接着剤層AD1の接着力は、転写シートS2の接着剤層AD2に貼付されたウェハWから確実に剥離できるように、転写シートS2の接着剤層AD2の接着力よりも弱く設定されていることが好ましい。さらに、転写装置1は、接着シートS1に紫外線を照射し、接着剤層AD1の接着力を弱める図示しないUVランプを備えた構成としてもよい。   It should be noted that the adhesive force of the adhesive layer AD1 of the adhesive sheet S1 is greater than the adhesive force of the adhesive layer AD2 of the transfer sheet S2 so that the adhesive layer AD1 of the transfer sheet S2 can be reliably peeled off from the wafer W attached thereto. It is preferable that the setting is weak. Furthermore, the transfer device 1 may be configured to include a UV lamp (not shown) that irradiates the adhesive sheet S1 with ultraviolet rays and weakens the adhesive force of the adhesive layer AD1.

以上の転写装置1において、ウェハWを転写シートS2の接着剤層AD2に転写する手順を説明する。
まず、図1に示すように、転写装置1は、接着シートS1を介してウェハWが一体化された第1リングフレームRF1をアーム22によって支持面212とで挟み込んで支持する。一方、第2支持手段3は、転写シートS2を基材シートBS2側からテーブル31上に支持し、接着剤層AD2をウェハWに対向配置させる。そして、転写装置1は、減圧手段62を駆動して、支持面32で転写シートS2を吸引保持する。
In the transfer device 1 described above, a procedure for transferring the wafer W to the adhesive layer AD2 of the transfer sheet S2 will be described.
First, as illustrated in FIG. 1, the transfer device 1 supports the first ring frame RF1 integrated with the wafer W via the adhesive sheet S1 by sandwiching the first ring frame RF1 with the support surface 212 by the arm 22. On the other hand, the second support means 3 supports the transfer sheet S2 on the table 31 from the base sheet BS2 side, and disposes the adhesive layer AD2 to the wafer W. Then, the transfer device 1 drives the decompression unit 62 to suck and hold the transfer sheet S <b> 2 by the support surface 32.

次に、図2に示すように、転写装置1は、直動モータ23の駆動により、エキスパンドテーブル24を下方に移動させることで、接着シートS1を引き伸ばし、各チップWAの間隙を拡げ(ウェハWをエキスパンドし)、隣り合うチップWAのチップ間Cを拡げる。チップ間Cが所定の距離、本実施形態の場合150μmになったことが図示しないセンサ等の検知手段に検知されると、直動モータ23の駆動を停止させ、図示しない減圧手段を駆動して接着シートS1を内側支持面241で吸引支持する。この状態で、直動モータ41の駆動により、支持部材21を下方に移動させることで、各チップWAが転写シートS2の接着剤層AD2に当接される。そして、コイルヒータ51,52を駆動して加熱を開始し、転写シートS2の接着剤層AD2を流動化させる。本実施形態の場合、接着剤層AD2は、170℃前後で流動化(軟化)が起こるので、コイルヒータ51,52は、パーソナルコンピュータやシーケンサ等の図示しない制御手段によって、180℃で維持されるように制御される。なお、コイルヒータ51,52の温度は、接着剤層AD2が流動化する温度やその特性に応じて適宜変更することができる。   Next, as shown in FIG. 2, the transfer device 1 moves the expansion table 24 downward by driving the linear motion motor 23 to stretch the adhesive sheet S <b> 1 and widen the gaps between the chips WA (wafer W To expand the gap C between adjacent chips WA. When the detecting means such as a sensor (not shown) detects that the distance C between the chips has reached a predetermined distance, 150 μm in this embodiment, the driving of the linear motor 23 is stopped and the decompressing means (not shown) is driven. The adhesive sheet S1 is sucked and supported by the inner support surface 241. In this state, the chip WA is brought into contact with the adhesive layer AD2 of the transfer sheet S2 by moving the support member 21 downward by driving the linear motion motor 41. Then, the coil heaters 51 and 52 are driven to start heating, and the adhesive layer AD2 of the transfer sheet S2 is fluidized. In the case of the present embodiment, the adhesive layer AD2 is fluidized (softened) around 170 ° C., so that the coil heaters 51 and 52 are maintained at 180 ° C. by control means (not shown) such as a personal computer or a sequencer. To be controlled. In addition, the temperature of the coil heaters 51 and 52 can be appropriately changed according to the temperature at which the adhesive layer AD2 is fluidized and the characteristics thereof.

そして、加圧手段61を駆動し、図示しない吸排気孔を介して転写シートS2に基材シートBS2側から加圧することで、転写シートS2を変形させる。このとき、図3(A)に示すように、各チップWAの直下では、図示しない吸排気孔から気体が噴出することはなく、チップ間Cに位置する図示しない吸排気孔からのみ気体が噴出する。これにより、転写シートS2の両面に気圧差(圧力差)が生じることになり、転写シートS2は、この気圧差により、チップ間C内に入り込むように変形する。そして、転写シートS2のチップ間C内に入り込む量が大きくなると、接着剤層AD2がコイルヒータ51,52により流動化されているため、図3(B)に示すように、接着剤層AD2の表面に亀裂Pが入る。転写シートS2が更にチップ間C内に入り込むと、亀裂Pが拡がって、図3(C)に示すように、接着剤層AD2が亀裂Pを切っ掛けにして割断される。その後、図3(D)に示すように、割断された接着剤層AD2の端部は、転写シートS2の更なるチップ間C内への入り込みによって、各チップWAの4つの各側面WA1(側面WA1は、同図中手前側の面と奥側の面を含む)それぞれに押圧されて接着する。これにより、接着剤層AD2を各チップWAの形状に沿って正確に分割することができる。   Then, the pressurizing means 61 is driven, and the transfer sheet S2 is deformed by pressurizing the transfer sheet S2 from the base sheet BS2 side through an intake / exhaust hole (not shown). At this time, as shown in FIG. 3A, immediately below each chip WA, gas is not ejected from an unillustrated intake / exhaust hole, and gas is ejected only from an unillustrated intake / exhaust hole located between the chips C. As a result, a pressure difference (pressure difference) is generated on both surfaces of the transfer sheet S2, and the transfer sheet S2 is deformed so as to enter the inter-chip C due to the pressure difference. When the amount of the transfer sheet S2 entering the inter-chip C increases, the adhesive layer AD2 is fluidized by the coil heaters 51 and 52, and therefore, as shown in FIG. Cracks P enter the surface. When the transfer sheet S2 further enters the inter-chip C, the crack P spreads, and the adhesive layer AD2 is cleaved with the crack P as shown in FIG. Thereafter, as shown in FIG. 3D, the edge portion of the cut adhesive layer AD2 is moved into the four side surfaces WA1 (side surfaces) of each chip WA by further entering the inter-chip C of the transfer sheet S2. WA1 is pressed and bonded to each other (including the front side surface and the back side surface). Thus, the adhesive layer AD2 can be accurately divided along the shape of each chip WA.

次いで、転写装置1は、加圧手段61を停止するとともに減圧手段62を駆動し、支持面32の図示しない吸排気孔を介して空気を吸引することで、転写シートS2の両面に気圧差(圧力差)を生じさせる。すると、図3(E)に示すようにチップ間Cに入り込んだ転写シートS2のうち基材シートBS2が支持面32上に吸引される。ここで、接着剤層AD2の接着力は、チップWAとの接着力よりも基材シートBS2との接着力の方が弱く設定されており、基材シートBS2が折り返し部AD3から剥離され、支持面32上に引き戻されるようになっている。これにより、各チップWAの4つの各側面WA1それぞれに、図3中上下方向の長さが約75μmの折り返し部AD3が形成されるとともに、折り返し部AD3間に約130μmの間隙が形成される。   Next, the transfer device 1 stops the pressurizing unit 61 and drives the decompression unit 62 to suck air through a suction / exhaust hole (not shown) of the support surface 32, thereby causing a pressure difference (pressure) on both surfaces of the transfer sheet S <b> 2. Difference). Then, as shown in FIG. 3E, the base sheet BS2 out of the transfer sheet S2 that has entered the inter-chip C is sucked onto the support surface 32. Here, the adhesive force of the adhesive layer AD2 is set so that the adhesive force with the base sheet BS2 is weaker than the adhesive force with the chip WA, and the base sheet BS2 is peeled from the folded portion AD3 and supported. It is pulled back on the surface 32. As a result, on each of the four side surfaces WA1 of each chip WA, a folded portion AD3 having a length of about 75 μm in the vertical direction in FIG. 3 is formed, and a gap of about 130 μm is formed between the folded portions AD3.

引き続き減圧手段62を駆動したまま、内側支持面241での接着シートS1の吸引支持を解除する。この状態で、直動モータ41を駆動して第1支持手段2を上方向に移動すると、接着シートS1は、図4に示すようにウェハWの外縁位置から内側に向って徐々に剥離され、最終的に各チップWAから剥離される。   Subsequently, the suction support of the adhesive sheet S1 on the inner support surface 241 is released while the decompression means 62 is driven. In this state, when the linear motor 41 is driven to move the first support means 2 upward, the adhesive sheet S1 is gradually peeled inward from the outer edge position of the wafer W as shown in FIG. Finally, it is peeled from each chip WA.

本実施形態によれば、割断手段6は、複数のチップWA間のチップ間Cに向かって転写シートS2を変形させ、チップ間Cに位置する接着剤層AD2を割断するので、接着剤層AD2をチップWAの形状に沿って正確に分割することができる。   According to the present embodiment, the cleaving means 6 deforms the transfer sheet S2 toward the inter-chip C between the plurality of chips WA, and cleaves the adhesive layer AD2 located between the inter-chips C. Therefore, the adhesive layer AD2 Can be accurately divided along the shape of the chip WA.

以上のように、本発明を実施するための最良の構成、方法等は前記記載で開示されているが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち、本発明は、主に特定の実施形態に関して特に図示され且つ説明されているが、本発明の技術的思想および目的の範囲から逸脱することなく、以上述べた実施形態に対し、形状などの詳細な構成において、当業者が様々な変形を加えることができるものである。また、上記に開示した形状などを限定した記載は、本発明の理解を容易にするために例示的に記載したものであり、本発明を限定するものではないから、それらの形状などの限定の一部もしくは全部の限定を外した部材の名称での記載は本発明に含まれるものである。   As described above, the best configuration, method, and the like for carrying out the present invention have been disclosed in the above description, but the present invention is not limited to this. That is, the invention has been illustrated and described with particular reference to particular embodiments, but with respect to the embodiments described above, such as shape and the like, without departing from the scope and spirit of the invention. In the detailed configuration, various modifications can be made by those skilled in the art. Moreover, since the description which limited the shape etc. which were disclosed above was illustrated in order to make an understanding of this invention easy, it does not limit this invention, Therefore The description by the name of the member which remove | excluded one part or all part is included in this invention.

例えば、図5に示すように、転写装置1Aは、転写シートS2のウェハWへの当接と接着剤層AD2の割断とを同時に行うものであってもよい。この転写装置1Aは、チップWA間に予めチップ間Cを形成したウェハWを支持するとともに、加圧手段61と減圧手段62とが接続された第1支持手段2Aと、第1支持手段2Aの外周部分であって、転写シートS2を第2リングフレームRF2を介して支持面32Aで支持する第2支持手段3Aと、転写シートS2の基材シートBS2側からウェハWに向かって流体としての気体を噴出することで、転写シートS2を非接触状態でウェハWに当接させる当接手段4Aとを備えている。   For example, as shown in FIG. 5, the transfer device 1A may simultaneously perform the contact of the transfer sheet S2 with the wafer W and the cleaving of the adhesive layer AD2. The transfer apparatus 1A supports a wafer W in which an inter-chip C is formed in advance between the chips WA, and includes a first support unit 2A to which a pressurizing unit 61 and a decompression unit 62 are connected, and a first support unit 2A. A second support means 3A for supporting the transfer sheet S2 on the support surface 32A via the second ring frame RF2 and a gas as a fluid from the substrate sheet BS2 side of the transfer sheet S2 toward the wafer W, which is an outer peripheral portion; , And a contact means 4A for bringing the transfer sheet S2 into contact with the wafer W in a non-contact state.

第1支持手段2Aは、上面に支持面212Aを備えた支持部材21Aを有し、支持部材21Aの内部に流動化手段5Aを構成するコイルヒータ53が内蔵されている。当接手段4Aは、流体噴出手段としての加圧ポンプやタービン等の加圧手段42と、加圧手段42が接続された図示しない排気孔が形成された排気板43とを備え、排気板43の内部に流動化手段5Aを構成するコイルヒータ54が内蔵されている。この場合、第1支持手段2に接続された加圧手段61及び減圧手段62と、排気板43に接続された加圧手段42とで割断手段6Aが構成される。   The first support means 2A has a support member 21A having a support surface 212A on its upper surface, and a coil heater 53 constituting the fluidizing means 5A is built in the support member 21A. The abutting means 4A includes a pressurizing means 42 such as a pressurizing pump or a turbine as a fluid ejecting means, and an exhaust plate 43 formed with an exhaust hole (not shown) to which the pressurizing means 42 is connected. The coil heater 54 constituting the fluidizing means 5A is built in the inside. In this case, the cleaving means 6 </ b> A is configured by the pressurizing means 61 and the decompressing means 62 connected to the first support means 2 and the pressurizing means 42 connected to the exhaust plate 43.

この転写装置1AによるウェハWの転写手順としては、まず、チップWA間に予めチップ間Cを形成したウェハWを第1支持手段2Aに載置し、さらに転写シートS2が貼付された第2リングフレームRF2を接着剤層AD2が下方となるよう、第2支持手段3の支持面32A上に載置する。そして、減圧手段62を駆動してウェハWおよび第2リングフレームRF2を吸引保持する。次に、当接手段4Aの加圧手段42を駆動して、転写シートS2をウェハWに向かって加圧し、転写シートS2をウェハWに当接させる。その後も加圧手段42の加圧を続行することで、上記と同様にして転写シートS2をチップ間C内に向かって変形させて接着剤層AD2を割断する。割断が終了し、折り返し部AD3が各チップWAの4つの各側面WA1それぞれに接着されたら、加圧手段42および減圧手段62の駆動を停止してから、加圧手段61を駆動して転写シートS2の基材シートBS2部分をチップ間C外へ押し出す。このとき、各チップWAが支持面212Aから外れてしまわないように、排気板43や排気板43から噴出する気体等で、転写シートS2の上方から各チップWAを支持面212A側へ付勢する付勢手段を設けるとよい。これにより、接着剤層AD2がチップWAの形状に沿って正確に分割される。   As a transfer procedure of the wafer W by the transfer apparatus 1A, first, the wafer W in which the inter-chip C is formed in advance between the chips WA is placed on the first support means 2A, and the transfer sheet S2 is further attached to the second ring. The frame RF2 is placed on the support surface 32A of the second support means 3 so that the adhesive layer AD2 faces downward. Then, the decompression means 62 is driven to suck and hold the wafer W and the second ring frame RF2. Next, the pressing means 42 of the contact means 4A is driven to press the transfer sheet S2 toward the wafer W, and the transfer sheet S2 is brought into contact with the wafer W. After that, by continuing the pressurization of the pressurizing means 42, the transfer sheet S2 is deformed into the inter-chip C in the same manner as described above, and the adhesive layer AD2 is cleaved. When the cleaving is completed and the folded portion AD3 is adhered to each of the four side surfaces WA1 of each chip WA, the driving of the pressurizing unit 42 and the decompressing unit 62 is stopped, and then the pressurizing unit 61 is driven to transfer the sheet. The base material sheet BS2 portion of S2 is pushed out of C between the chips. At this time, the chips WA are urged from above the transfer sheet S2 to the support surface 212A side by the gas ejected from the exhaust plate 43 or the exhaust plate 43 so that the chips WA are not detached from the support surface 212A. An urging means may be provided. Thus, the adhesive layer AD2 is accurately divided along the shape of the chip WA.

また、前記実施形態において、加圧手段42、61が噴きつける流体としては、気体以外に液体、ジェル状のもの等であってもよい。さらに、加圧手段42、61から噴出する流体を加熱手段によって熱したものとすれば、コイルヒータ51〜54を省略することもでき、流体の熱によって接着剤層AD2を流動化させつつ、転写シートS2を変形させることができる。
また、減圧手段62は、加圧手段42、61が噴きつけた気体、液体、ジェル状のもの等を吸引できるものを採用してもよい。
Moreover, in the said embodiment, as a fluid which the pressurization means 42 and 61 spray, a liquid, a gel-like thing, etc. may be sufficient besides gas. Further, if the fluid ejected from the pressurizing means 42 and 61 is heated by the heating means, the coil heaters 51 to 54 can be omitted, and the adhesive layer AD2 is fluidized by the heat of the fluid and transferred. The sheet S2 can be deformed.
Further, the decompression means 62 may adopt a means capable of sucking the gas, liquid, gel-like thing sprayed by the pressurization means 42, 61.

さらには、テーブル31に接続される加圧手段61を設けず、第1リングフレームRF1と第2リングフレームRF2で形成される空間を密閉された空間とし、この空間を減圧したり加圧したりすることによって、転写シートS2をチップ間Cに向かって変形させたり、基材シートBS2を密閉された空間から押し出したりするような構成を採用してもよい。このとき、支持面32Aと転写シートS2との間に減圧や加圧が及ばないようにするシールド手段を設けるとよい。
また、前記実施形態において、当接手段4は、第1支持手段2を停止させておき、第2支持手段3を移動させたり、第2支持手段3と当接手段4との両方を移動させたりすることで、ウェハWと転写シートS2との当接や離間が行えるようにしたり、ウェハWから接着シートS1を剥離するようにしてもよい。
Furthermore, the pressurizing means 61 connected to the table 31 is not provided, and the space formed by the first ring frame RF1 and the second ring frame RF2 is a sealed space, and this space is depressurized or pressurized. Accordingly, a configuration may be employed in which the transfer sheet S2 is deformed toward the inter-chip C, or the base sheet BS2 is pushed out from a sealed space. At this time, it is preferable to provide a shielding means for preventing pressure reduction or pressurization between the support surface 32A and the transfer sheet S2.
In the embodiment, the contact means 4 stops the first support means 2 and moves the second support means 3 or moves both the second support means 3 and the contact means 4. By doing so, the wafer W and the transfer sheet S2 may be brought into contact with or separated from each other, or the adhesive sheet S1 may be peeled from the wafer W.

そして、第1支持手段2に支持されるウェハWは、予めチップ間Cが形成されたものであってもよい。この場合、エキスパンドテーブル24はなくてもよい。
また、前記実施形態では、片状体として6面体のチップWAを例示し、各チップWAの4つの各側面WA1それぞれに折り返し部AD3を形成する例示をしたが、片状体は5面体以下でもよいし、7面体以上であってもよく、各多面体の各側面それぞれに折り返し部AD3が形成されるような構成であれば足りる。
さらに、流動化手段5、5Aは、コイルヒータ51〜54以外に、接着剤層AD2の構成や性質等に応じて適宜変更が可能であり、接着剤層AD2を流動化できるもの、例えば、赤外線照射装置、紫外線照射装置、マイクロ波発生装置、振動装置等で構成することができる。
The wafer W supported by the first support means 2 may be one in which the inter-chip C is formed in advance. In this case, the expanding table 24 may not be provided.
Moreover, in the said embodiment, although the hexahedral chip | tip WA was illustrated as a piece body and the folding part AD3 was formed in each of each of the four side surfaces WA1 of each chip WA, the piece body may be a pentahedron or less. Alternatively, it may be a seven-hedron or more, and a configuration in which the folded portion AD3 is formed on each side surface of each polyhedron is sufficient.
Further, the fluidizing means 5 and 5A can be appropriately changed according to the configuration and properties of the adhesive layer AD2 in addition to the coil heaters 51 to 54, and can fluidize the adhesive layer AD2, for example, infrared An irradiation device, an ultraviolet irradiation device, a microwave generation device, a vibration device, or the like can be used.

また、本発明における接着シートS1および転写シートS2の種別や材質などは、特に限定されず、例えば、基材シートと接着剤層AD1,AD2との間に中間層を有するものや、他の層を有する等3層以上のものでもよい。また、接着シートS1および転写シートS2は、保護シート、ダイシングテープ、ダイアタッチフィルム、その他の任意のシート、フィルム、テープ等、任意の用途、形状の接着シートなどであってもよい。さらに、接着剤層AD1,AD2は、感圧接着性の接着剤や感熱接着性の接着剤等であってよい。
半導体ウェハは、シリコン半導体ウェハや化合物半導体ウェハ等が例示できる。また、複数の片状体としては、半導体ウェハをダイシングすることにより得られるチップに限らず、光ディスク、ガラス板、鋼板、樹脂板等や、その他の部材のみならず、任意の形態の部材や物品などが個片化され、平面的に配列されたものを対象とすることができる。
In addition, the types and materials of the adhesive sheet S1 and the transfer sheet S2 in the present invention are not particularly limited. For example, those having an intermediate layer between the base sheet and the adhesive layers AD1 and AD2, and other layers Three or more layers may be used. Further, the adhesive sheet S1 and the transfer sheet S2 may be protective sheets, dicing tapes, die attach films, other arbitrary sheets, films, tapes and the like, adhesive sheets having arbitrary uses and shapes. Further, the adhesive layers AD1 and AD2 may be a pressure-sensitive adhesive or a heat-sensitive adhesive.
Examples of the semiconductor wafer include a silicon semiconductor wafer and a compound semiconductor wafer. In addition, the plurality of pieces are not limited to chips obtained by dicing a semiconductor wafer, but also optical disks, glass plates, steel plates, resin plates, and other members, as well as members and articles of any form Or the like can be targeted.

また、接着シートS1や転写シートS2は、リングフレームRF1,RF2に貼付されていなくてもよい。
さらに、流動化手段がなくても、転写シートS2のチップ間C内への入り込みによって接着剤層AD2の表面に亀裂Pが入り、この亀裂Pを切っ掛けにして割断されるような接着剤層AD2の場合、流動化手段5,5Aは設ける必要はない。
また、前記実施形態における駆動機器は、回動モータ、直動モータ、リニアモータ、単軸ロボット、多関節ロボット等の電動機器、エアシリンダ、油圧シリンダ、ロッドレスシリンダおよびロータリシリンダ等のアクチュエータ等を採用することができる上、それらを直接的又は間接的に組み合せたものを採用することもできる(実施形態で例示したものと重複するものもある)。
Further, the adhesive sheet S1 and the transfer sheet S2 may not be attached to the ring frames RF1 and RF2.
Further, even if there is no fluidizing means, the adhesive layer AD2 is such that a crack P is formed on the surface of the adhesive layer AD2 due to the transfer sheet S2 entering the inter-chip C, and the crack P is used as a cut. In this case, it is not necessary to provide the fluidizing means 5 and 5A.
The drive device in the embodiment includes an electric device such as a rotation motor, a linear motion motor, a linear motor, a single axis robot, an articulated robot, an actuator such as an air cylinder, a hydraulic cylinder, a rodless cylinder, and a rotary cylinder. In addition to these, a combination of them directly or indirectly may be employed (some of them overlap with those exemplified in the embodiment).

1,1A 転写装置
2,2A 第1支持手段
3,3A 第2支持手段
4,4A 当接手段
5,5A 流動化手段
6,6A 割断手段
42 加圧手段(流体噴出手段)
AD2 接着剤層
BS2 基材シート
C チップ間(間隙)
S1 接着シート
S2 転写シート
W ウェハ
WA チップ(片状体)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,1A Transfer apparatus 2,2A 1st support means 3,3A 2nd support means 4,4A Contact means 5,5A Fluidization means 6,6A Cleaving means 42 Pressurizing means (fluid ejecting means)
AD2 Adhesive layer BS2 Base material sheet C Between chips (gap)
S1 Adhesive sheet S2 Transfer sheet W Wafer WA Chip (Fragment)

Claims (6)

基材シートの一方の面に接着剤層が積層された転写シートに複数の片状体を転写する転写装置であって、
前記複数の片状体を支持する第1支持手段と、
前記転写シートを前記第1支持手段で支持された前記複数の片状体に対向させて支持する第2支持手段と、
前記第1支持手段で支持された前記複数の片状体と前記第2支持手段で支持された転写シートとを相対移動させることで、前記転写シートと前記複数の片状体とを当接させる当接手段と、
前記複数の片状体の間隙に向かって前記転写シートを変形させることで、前記間隙に位置する前記接着剤層を割断する割断手段と、を備えることを特徴とする転写装置。
A transfer device for transferring a plurality of pieces to a transfer sheet in which an adhesive layer is laminated on one surface of a base sheet,
First support means for supporting the plurality of pieces,
Second support means for supporting the transfer sheet opposite to the plurality of pieces supported by the first support means;
The transfer sheet and the plurality of pieces are brought into contact with each other by relatively moving the plurality of pieces supported by the first support means and the transfer sheet supported by the second support means. A contact means;
A transfer apparatus comprising: a cleaving unit that cleaves the adhesive layer positioned in the gap by deforming the transfer sheet toward the gap between the plurality of pieces.
前記接着剤層を流動化させる流動化手段を有することを特徴とする請求項1に記載の転写装置。   The transfer apparatus according to claim 1, further comprising fluidizing means for fluidizing the adhesive layer. 前記割断手段は、前記転写シートの両面に圧力差を生じさせることで前記転写シートを変形させることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の転写装置。   The transfer apparatus according to claim 1, wherein the cleaving unit deforms the transfer sheet by generating a pressure difference between both surfaces of the transfer sheet. 前記当接手段は、前記転写シートの基材シート側から前記複数の片状体に向かって流体を噴出する流体噴出手段を有して構成されることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の転写装置。   The contact means includes fluid ejecting means for ejecting fluid from the base sheet side of the transfer sheet toward the plurality of strips. The transfer device according to any one of the above. 前記複数の片状体は、接着シートの一方の面に貼付され、前記接着シートを介して前記第1支持手段に支持され、
前記接着シートを引き伸ばすことにより、前記間隙を拡げるエキスパンド手段を有することを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の転写装置。
The plurality of pieces are affixed to one surface of an adhesive sheet, supported by the first support means via the adhesive sheet,
The transfer device according to claim 1, further comprising an expanding unit that expands the gap by stretching the adhesive sheet.
基材シートの一方の面に接着剤層が積層された転写シートに複数の片状体を転写する転写方法であって、
前記複数の片状体を支持し、
前記転写シートを前記複数の片状体に対向させて支持し、
前記複数の片状体と前記転写シートとを相対移動させることで、前記転写シートと前記複数の片状体とを当接させ、
前記複数の片状体の間隙に向かって前記転写シートを変形させることで、前記間隙に位置する前記接着剤層を割断することを特徴とする転写方法。
A transfer method for transferring a plurality of pieces to a transfer sheet in which an adhesive layer is laminated on one surface of a base sheet,
Supporting the plurality of pieces,
Supporting the transfer sheet opposite to the plurality of pieces,
By relatively moving the plurality of pieces and the transfer sheet, the transfer sheet and the plurality of pieces are brought into contact with each other,
A transfer method comprising: cleaving the adhesive layer located in the gap by deforming the transfer sheet toward the gap between the plurality of pieces.
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