JP5854383B2 - 2次元フォトニック結晶 - Google Patents
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Description
上記課題を解決するために成された本発明に係る2次元フォトニック結晶の第1の態様のものは、
板状の本体内に該本体とは屈折率が異なる異屈折率領域が、該本体に平行な2次元格子の各格子点に配置されて成る2次元フォトニック結晶であって、
各異屈折率領域が、前記2次元格子の各格子点から前記2次元格子面に平行に、最大ずれ量Δpmax(≠0)以下のずれ量Δpだけランダムにずれて配置されている
ことを特徴とする。
なお、ガウス分布において最大ずれ量がΔpmaxを超えないようにしたものよりも、最大ずれ量Δpmax以下の範囲内、すなわち0から最大ずれ量Δpmaxの間において、格子点からのずれの距離及び方向が一様に分布しているものの方が、積分吸収効率を高めることができる。
前記2次元格子の連接する複数個の格子点から成る超格子を単位格子とする超格子構造を備え、
各超格子において、
a) 予め定められた1個又は複数個の格子点において、各格子点から該2次元格子の格子面に平行に、第1最大ずれ量Δp1max(≠0)以下のずれ量Δpだけランダムにずれて配置された第1異屈折率領域と、
b) 前記第1異屈折率領域が配置された格子点以外の格子点において、各格子点から該2次元格子の格子面に平行に、第2最大ずれ量Δp2max以下のずれ量Δpだけランダムにずれて配置された第2異屈折率領域と
が存在することを特徴とする。
また、第2最大ずれ量Δp2maxは、第1最大ずれ量Δp1maxよりも、大きくてもよいし、小さくてもよい。さらには、第1最大ずれ量Δp1maxと第2最大ずれ量Δp2maxは同じであってもよいが、この場合は実質的には超格子構造の無い第1の態様の2次元フォトニック結晶と同じ構成になる。
前記2次元格子の連接する複数個の格子点から成る超格子を単位格子とする超格子構造を備え、
各超格子において格子点がn個の部分集合に分割され、各部分集合において前記異屈折率領域が各格子点から前記2次元格子の格子面に平行に、最大ずれ量Δpkmax(kは1〜nのいずれかの整数。少なくとも1つの部分集合においてΔpkmax≠0。)以下のずれ量Δpだけランダムにずれて配置されていることを特徴とする。
本発明に係る2次元フォトニック結晶の第2の態様のものは、
板状の本体内に該本体とは屈折率が異なる異屈折率領域が、該本体に平行な2次元格子の各格子点に配置されて成る2次元フォトニック結晶であって、
各異屈折率領域の平面形状が、最小値と該最小値よりも大きい最大値の間でランダムな大きさを有する
ことを特徴とする。
前記2次元格子の連接する複数個の格子点から成る超格子を単位格子とする超格子構造を備え、
各超格子において、
a) 予め定められた1個又は複数個の格子点に配置された第1の異屈折率領域であって、平面形状が第1の最小値と該第1の最小値よりも大きい第1の最大値の間でランダムな大きさを有する第1異屈折率領域と、
b) 前記第1異屈折率領域が配置された格子点以外の格子点に配置された第2の異屈折率領域であって、平面形状が第2の最小値と第2の最大値の間でランダムな大きさを有する第2異屈折率領域と
が存在することを特徴とする。
前記2次元格子の連接する複数個の格子点から成る超格子を単位格子とする超格子構造を備え、
各超格子において格子点がn個の部分集合に分割され、各部分集合において前記異屈折率領域の平面形状の大きさが最小値と最大値(少なくとも1つの部分集合において最小値と最大値が異なる値を有する)の間でランダムな大きさを有することを特徴とする。
本発明の第1実施例である太陽電池10について説明する。この太陽電池10は、図1(a)に示すように、p型半導体から成るp層111、真性半導体から成るi層112及びn型半導体から成るn層113の3層により構成される、いわゆる「pin構造」の光電変換層11を有する。光電変換層11内には、後述のように2次元フォトニック結晶構造が形成されている。光電変換層11の外側には、光電変換層11を挟むように第1電極131及び第2電極132が設けられている。また、第1電極131の外側(光電変換層11の反対側)には反射層14が、第2電極132の外側には受光面となるガラス基板15が、それぞれ設けられている。本実施例では、p層111、i層112及びn層113の材料にはSi半導体(電気的特性は上述のように各層で異なる)の微結晶を、第1電極131及び第2電極132の材料には前述のIZOを、反射層14の材料にはAgを、それぞれ用いた。
本発明の太陽電池10の動作を説明する。太陽光が受光面(ガラス基板15)から入射すると、太陽光のエネルギーの一部が光電変換層11に吸収され、そのエネルギーによって光電変換層11の半導体内の電子が価電子帯から伝導帯に励起されることにより、電流に変換される。
その際、光電変換層11内に形成されている2次元フォトニック結晶において、太陽光のうち正方格子16の周期長に対応した、複数の特定の波長を有する光が定在波を形成する。これにより、それらの波長の光は光電変換層11内に留まり易くなり、2次元フォトニック結晶が無い場合よりも入射光の吸収効率が向上する。また、本発明の太陽電池10では、異屈折率領域12の位置が正方格子16の格子点からランダムなずれ量Δp及びランダムな方向にずれていることにより、上記定在波を形成する波長においては、このずれが無い場合よりも吸収効率が低下するものの、それらの波長からある程度離れた波長における吸収効率は上昇する。
これら波長毎の吸収効率の低下及び上昇の兼ね合いにより、Δpmaxがある程度の値以下の場合には、吸収効率を高めようとする波長帯(本実施例では500〜1100nm)全体での積分吸収効率が向上する。これにより、光電変換層11に入射した光が光電変換に寄与する確率が高くなるため、光電変換効率が向上する。
また、Δpmaxの大きさに関わらず、光電変換層11への太陽光の入射角の変化による積分吸収効率の変化が小さくなり、それにより光電変換効率の変化も小さくなる。従って、太陽電池10を固定架台に固定した状態で時間や季節により太陽光の入射角度が変化しても、光電変換効率の変化を小さくすることができる。
本発明の太陽電池10と同じ構成(図1参照)を有する光センサの動作を説明する。光電変換層11において光電変換が生じる波長の光が受光面(ガラス基板15)から入射すると、その光のエネルギーが光電変換層11に吸収され、そのエネルギーによって光電変換層11の半導体内の電子が価電子帯から伝導帯に励起されることにより、電流に変換される。この電流を検出することにより、光の入射を検出することができる。その際、太陽電池の場合と同様に、光電変換層11内に形成されている2次元フォトニック結晶にランダムネスが導入されていることにより、ランダムネスが無い場合よりも、上記定在波を形成する波長においては吸収効率が低下する一方、それらの波長からある程度離れた波長における吸収効率は上昇する。これにより、光を検出可能な波長帯内における検出感度の波長依存性が少なくなる。また、光電変換層11への太陽光の入射角の変化による(波長毎の)吸収効率の変化が小さくなり、それにより、入射角の変化による検出感度の変化を小さくすることができる。
以下、太陽電池10における上述の作用・効果を確認するために、最大ずれ量Δpmaxのみが異なる複数の例において、波長毎の吸収効率A(λ)及び積分吸収効率Aiを計算した結果を説明する。
まず、図2を用いて、正方格子16の周期長aが500nm、異屈折率領域12における平面形状の円の半径rが300nm、異屈折率領域12の高さが200nm、光電変換層11の厚みが500nm、光電変換層11への入射角θ(光電変換層11の法線と入射光の成す角度)が0°の場合について計算を行った結果を説明する。この計算は、最大ずれ量Δpmaxが(a)0(比較例)、(b)0.05a(25nm)、(c)0.1a(50nm)、(d)0.3a(150nm)、(e)0.5a(250nm)及び(f)0.7a(350nm)の6種類の場合について行った。積分吸収効率Aiの計算においては、上述の式(1)を用いた。
第1実施例の太陽電池の構成は、例えば以下に示すように、種々の変形が可能である。
光電変換層11のp層111、i層112及びn層113の材料は上記のSi半導体の多結晶には限られず、Si半導体の薄膜単結晶やアモルファスを用いることができ、また、Cu(In,Ga)Se2等のその他の半導体を用いることもできる。これらのうちSi半導体の薄膜単結晶を用いた光電変換層は、それ自体により太陽電池や光センサの特性を高めることができる。また、Si半導体やCu(In,Ga)Se2の多結晶から成る光電変換層11の作製には、CVD法を用いることができるため、以下の理由により、第1実施例の太陽電池(光センサ)を容易に作製することができる。
第1実施例の太陽電池(光センサ)を作製する際には、(i)第2電極132及び異屈折率領域12を作製した後に、それら第2電極132及び異屈折率領域12の上に光電変換層11を作製する方法や、(ii)光電変換層11を作製した後に、光電変換層11に周期的に空孔を設け、それら空孔及び光電変換層11の表面に第2電極132及び異屈折率領域12を作製する方法を取ることができる。これらの方法のうち、(i)を例に取ると、第2電極132及び異屈折率領域12によって凹凸が形成された面の上に光電変換層11を作製することにより、光電変換層11が凹部でで途切れる(いわゆる「段切れ」が生じる)おそれがある。(ii)の場合も同様である。それに対して、(i)の方法においてCVD法を用いて(Si半導体やCu(In,Ga)Se2の多結晶から成る)光電変換層11を作製すると、光電変換層11の材料が凹部に行き渡り、段切れが生じ難くなる。
第1電極131及び第2電極132も上記の材料には限られず、第2電極132においては太陽光に関してある程度透明であれば、インジウム・錫酸化物(ITO)、SnO2、ZnO等の種々の電極材料を用いることができる。また、第1電極131は太陽光に関して透明である必要は無く、AgやAl等)の種々の電極材料を用いることができる。
異屈折率領域12の形状は円柱には限られず、例えば楕円柱、三角柱、四角柱等の種々の形状を取り得る。また、円錐、三角錐、四角錐のように光電変換層11の厚み方向に形状(大きさ)が異なる形状のものを用いることもできる。さらには、円柱の一部に凹部や凸部を有する等の一定の形状を有していてもよい。
また、異屈折率領域12が配置される格子点を形成する格子は、正方格子には限られず、三角格子やハニカム格子等の格子を用いることもできる。
異屈折率領域12毎のずれ量Δpの分布は、図3(a)に示したずれ量Δpが0からΔpmaxの間において一様なものには限られず、例えば図3(b)に示すようにずれ量Δpが0からΔpmaxの間においてガウス分布型(Δpmaxよりも大きい範囲では0)の分布を有するものであってもよい。あるいは、図3(c), (d)に示すように、ずれ量Δpの分布はずれ量Δpが0からΔpmaxの間において負の傾きを有する1次関数で減少するものであってもよい。
光電変換層11、第1電極131及び第2電極132、並びに異屈折率領域22の材料は、第1実施例の変形例と同じものを用いることができる。また、光電変換層11には、いわゆる「pn構造」を有するものを用いることもできる。
異屈折率領域22の形状も第1実施例の変形例と同様に種々の形状を取り得る。平面形状の大きさは、例えば楕円の場合には長径又は短径の長さにより、多角形の場合には特定の辺又は対角線の長さにより、定めることができる。異屈折率領域22が配置される格子点を形成する格子も、第1実施例の変形例と同様のものを用いることができる。
最大値rmaxと最小値rminの差ρの値の分布は、0と(rmax-rmin)の間で一様なものには限られず、第1実施例の変形例と同様に、ガウス分布型((rmax-rmin)よりも大きい範囲では0)や1次関数で減少するもの等を用いることができる。
さらに、第2実施例では異屈折率領域22の平面形状の大きさを円の径で定義したが、面積で定義してもよい。
また、超格子構造を有する2次元フォトニック結晶36Aを光センサの光電変換層内に形成すると、上記所定の波長では吸収効率が低下するのに対して、それらの波長からある程度離れた波長における吸収効率は上昇するため、波長による吸収効率の変化が小さくなる。そのため、波長による検出感度の変化も小さくなる。
一方、この2次元フォトニック結晶36Aにおいて、第1異屈折率領域321だけではなく、第2異屈折率領域322を格子点からランダムにずれるように、すなわち、第2最大ずれ量Δp2maxが0以外の値を取るように配置してもよい。
11、91…光電変換層
111、911…p層
112、912…i層
113、913…n層
12、22、52、92…異屈折率領域
131、931…第1電極
132、932…第2電極
14、94…反射層
15、95…ガラス基板
22A…異屈折率領域を構成する部材
321、421…第1異屈折率領域
322、422…第2異屈折率領域
323、423…第3異屈折率領域
36A、46A…2次元フォトニック結晶
37A、37B、37C、37D、47A、47B…単位超格子
Claims (25)
- 板状の本体内に該本体とは屈折率が異なる異屈折率領域が、該本体に平行な2次元格子の各格子点に配置されて成る2次元フォトニック結晶であって、
各異屈折率領域が、前記2次元格子の各格子点から前記2次元格子の格子面に平行に、最大ずれ量Δpmax(≠0)以下のずれ量Δpだけずれてランダムに配置されており、
前記ずれ量Δpが0から最大ずれ量Δp max の間で、一様に、またはガウス分布型で、または一次関数で分布しており、その方向については一様に分布しており、
前記異屈折率領域のうち少なくとも1つは、前記ずれ量Δpが0ではない
ことを特徴とする2次元フォトニック結晶。 - 前記最大ずれ量Δpmaxが2次元格子の周期長の1/2以下であることを特徴とする請求項1に記載の2次元フォトニック結晶。
- 板状の本体内に該本体とは屈折率が異なる異屈折率領域が、該本体に平行な2次元格子の各格子点に配置されて成る2次元フォトニック結晶であって、
前記2次元格子の連接する複数個の格子点から成る超格子を単位格子とする超格子構造を備え、
各超格子において、
a) 予め定められた1個又は複数個の格子点において、各格子点から該2次元格子の格子面に平行に、第1最大ずれ量Δp1max(≠0)以下のずれ量Δpだけずれてランダムに配置された第1異屈折率領域と、
b) 前記第1異屈折率領域が配置された格子点以外の格子点において、各格子点から該2次元格子の格子面に平行に、第2最大ずれ量Δp2max以下のずれ量Δpだけずれてランダムに配置された第2異屈折率領域と
が存在しており、
前記第1異屈折率領域のうち少なくとも1つは、前記ずれ量Δpが0ではないことを特徴とする2次元フォトニック結晶。 - 前記第2最大ずれ量Δp2maxが0であることを特徴とする請求項3に記載の2次元フォトニック結晶。
- 全ての前記第2異屈折率領域のずれ量Δpが0から前記第2最大ずれ量Δp2maxの間で一様に、またはガウス分布型で、または一次関数で分布しており、その方向については一様に分布していることを特徴とする請求項3に記載の2次元フォトニック結晶。
- 全ての前記第1異屈折率領域のずれ量Δpが0から前記第1最大ずれ量Δp1maxの間で一様に、またはガウス分布型で、または一次関数で分布しており、その方向については一様に分布していることを特徴とする請求項3〜5のいずれか1項に記載の2次元フォトニック結晶。
- 板状の本体内に該本体とは屈折率が異なる異屈折率領域が、該本体に平行な2次元格子の各格子点に配置されて成る2次元フォトニック結晶であって、
前記2次元格子の連接する複数個の格子点から成る超格子を単位格子とする超格子構造を備え、
各超格子において格子点がn個の部分集合に分割され、各部分集合において前記異屈折率領域が各格子点から前記2次元格子の格子面に平行に、最大ずれ量Δpkmax(kは1〜nのいずれかの整数。少なくとも1つの部分集合においてΔpkmax≠0。)以下のずれ量Δpだけランダムにずれて配置されており、
前記異屈折率領域の各部分集合は、それぞれ、前記ずれ量Δpが0ではない少なくとも1つの異屈折率領域を含むことを特徴とする2次元フォトニック結晶。 - 前記部分集合のうちの1つにおいて、最大ずれ量Δpnmaxが0であることを特徴とする請求項7に記載の2次元フォトニック結晶。
- 前記各部分集合のうちの1つ又は複数において、該部分集合に属する全ての異屈折率領域のずれ量Δpが0から前記最大ずれ量Δpnmaxの間で一様に、ガウス分布型で、または一次関数で分布していることを特徴とする請求項7又は8に記載の2次元フォトニック結晶。
- さらに、各異屈折率領域のうちの少なくとも一部において、前記異屈折率領域の平面形状が最小値と該最小値よりも大きい最大値の間でランダムな大きさを有することを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の2次元フォトニック結晶。
- 板状の本体内に該本体とは屈折率が異なる異屈折率領域が、該本体に平行な2次元格子の各格子点に配置されて成る2次元フォトニック結晶であって、
各異屈折率領域の平面形状が、最小値と該最小値よりも大きい最大値の間でランダムな大きさを有しており、
個々の異屈折率領域における平面形状の大きさの、全ての異屈折率領域における分布が、前記最小値から前記最大値の間で一様に分布している
ことを特徴とする2次元フォトニック結晶。 - 各異屈折率領域が同一の平面形状を有することを特徴とする請求項11に記載の2次元フォトニック結晶。
- 板状の本体内に該本体とは屈折率が異なる異屈折率領域が、該本体に平行な2次元格子の各格子点に配置されて成る2次元フォトニック結晶であって、
前記2次元格子の連接する複数個の格子点から成る超格子を単位格子とする超格子構造を備え、
各超格子において、
a) 予め定められた1個又は複数個の格子点に配置された第1の異屈折率領域であって、平面形状が第1の最小値と該第1の最小値よりも大きい第1の最大値の間でランダムな大きさを有する第1異屈折率領域と、
b) 前記第1異屈折率領域が配置された格子点以外の格子点に配置された第2の異屈折率領域であって、平面形状が第2の最小値と第2の最大値の間でランダムな大きさを有する第2異屈折率領域と
が存在することを特徴とする2次元フォトニック結晶。 - 各第1異屈折率領域及び各第2異屈折率領域が同一の平面形状を有することを特徴とする請求項13に記載の2次元フォトニック結晶。
- 全ての前記第2異屈折率領域の平面形状の大きさが同じであることを特徴とする請求項13又は14に記載の2次元フォトニック結晶。
- 全ての前記第2異屈折率領域の平面形状の大きさが前記第2の最小値から前記第2の最大値の間で一様に分布していることを特徴とする請求項13又は15に記載の2次元フォトニック結晶。
- 全ての前記第1異屈折率領域の平面形状の大きさが前記第1の最小値から前記第1の最大値の間で一様に分布していることを特徴とする請求項13〜16のいずれか1項に記載の2次元フォトニック結晶。
- 板状の本体内に該本体とは屈折率が異なる異屈折率領域が、該本体に平行な2次元格子の各格子点に配置されて成る2次元フォトニック結晶であって、
前記2次元格子の連接する複数個の格子点から成る超格子を単位格子とする超格子構造を備え、
各超格子において格子点がn個の部分集合に分割され、各部分集合において前記異屈折率領域の平面形状の大きさが最小値と最大値(少なくとも1つの部分集合において最小値と最大値が異なる値を有する)の間でランダムな大きさを有することを特徴とする2次元フォトニック結晶。 - 各異屈折率領域が同一の平面形状を有することを特徴とする請求項18に記載の2次元フォトニック結晶。
- 前記部分集合のうちの1つにおいて、前記異屈折率領域の平面形状が同じ大きさを有することを特徴とする請求項18又は19に記載の2次元フォトニック結晶。
- 前記部分集合のうちの1つ又は複数において、該部分集合に属する全ての異屈折率領域の大きさが前記最小値から前記最大値の間で一様に分布していることを特徴とする請求項18〜20のいずれか1項に記載の2次元フォトニック結晶。
- さらに、各異屈折率領域のうちの少なくとも一部において、前記異屈折率領域が、前記2次元格子の各格子点から前記2次元格子の格子面に平行に、最大ずれ量Δpmax(≠0)以下のずれ量Δpだけランダムにずれて配置されており、
前記異屈折率領域のうち少なくとも1つは、前記ずれ量Δpが0ではないことを特徴とする請求項11〜21のいずれか1項に記載の2次元フォトニック結晶。 - 請求項1〜22のいずれか1項に記載の2次元フォトニック結晶の結晶構造が形成された光電変換層を備えることを特徴とする光センサ。
- 前記光電変換層が、p型半導体又はn型半導体から成り1対の電極のいずれか一方の電極に接する第1層と、該第1層とは逆極性の半導体から成る第2層を含む積層構造を有し、
前記異屈折率領域が前記光電変換層の厚さ方向に、前記第1層の前記一方の電極との界面から前記第2層よりも手前まで形成されており、
前記異屈折率領域の材料が前記一方の電極の材料から成る
ことを特徴とする請求項23に記載の光センサ。 - 前記光電変換層がSiの単結晶若しくは多結晶の薄膜、又はCu(In,Ga)Se2の多結晶の薄膜であることを特徴とする請求項23又は24に記載の光センサ。
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