JP5843075B2 - ３−ヒドロキシプロパン−１−オン化合物、２−プロペン−１−オン化合物およびイソキサゾリン化合物の製造方法 - Google Patents

３−ヒドロキシプロパン−１−オン化合物、２−プロペン−１−オン化合物およびイソキサゾリン化合物の製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、医農薬あるいは電子材料等の機能性材料として、もしくはその製造中間体として有用な３−ヒドロキシプロパン−１−オン化合物、２−プロペン−１−オン化合物およびイソキサゾリン化合物の製造方法に関するものである。
従来、１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−２−プロペン−１−オン化合物とヒドロキシルアミンを原料としてイソキサゾリン化合物を製造する方法としては、例えば非特許文献１〜６などが知られている。
芳香族ケトン化合物と置換アセトフェノン化合物を出発原料として１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−３−ヒドロキシプロパン−１−オン化合物を製造する方法は、いくつか知られている（例えば、特許文献１および非特許文献７〜１５）。
また、１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−３−ヒドロキシプロパン−１−オン化合物を原料として１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−２−プロペン−１−オン化合物を製造する方法として、例えば非特許文献１０及び１１などが知られている。
更に、芳香族ケトン化合物と置換アセトフェノン化合物を出発原料として１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−２−プロペン−１−オン化合物を１工程で製造する方法として、例えば非特許文献１８〜２０などが知られている。
国際特許出願公開第２００７／０７４７８９号パンフレット
Ｆａｒｍａｃｏ， Ｅｄｉｚｉｏｎｅ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃａ （１９７１）， ５９１−５９６ Ｚｅｉｔｓｃｈｒｉｆｔ ｆｕｅｒ Ｎａｔｕｒｆｏｒｓｃｈｕｎｇ，Ｔｅｉｌ Ｂ： Ａｎｏｒｇａｎｉｓｃｈｅ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅ Ｃｈｅｍｉｅ （１９７７），４４３−４４６ Ｂｕｌｌｅｔｉｎ ｄｅｓ Ｓｏｃｉｅｔｅｓ Ｃｈｉｍｉｑｕｅｓ Ｂｅｉｇｅｓ （１９８７）， ２９３−３０２ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ （１９９８）， ９８９−９９０ Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎ （１９９９）， ３２３７−３２５０ Ａｒｃｈｉｂｅｓ ｏｆ Ｐｈａｒｍａｃａｌ Ｒｅｓｅａｒｃｈ （２００４）， ８８５−８９２ Ｚｈｕｒｎａｌ Ｏｒｇａｎｉｃｈｅｓｋｏｉ Ｋｈｉｍｉｉ， ｖｏｌ． ２６， Ｎｏ． １０， ２２０５−２２０８ （１９９０） Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ， ｖｏｌ． １１３， １０５−１０９ （２００２） Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｅｔｔｅｒｓ ｖｏｌ． ７， Ｎｏ． ２２， ５１０３−５１０５ （２００５） Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ， ｖｏｌ． ７１， ３８２２−３８２８ （２００６） Ｃｈｉｎｅｓｅ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ， ｖｏｌ． ２３， ５８４−５８８ （２００５） Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ， Ｎｏ． １７， ２９０１−２９０５ （２００５） Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ， ｖｏｌ． ３８， ８７２７−８７３０ （１９９７） Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ， ｖｏｌ． ５８， ８２６３−８２６８ （２００２） Ｏｒｇａｎｉｃ Ｐｒｏｃｅｓｓ Ｒｅｓｅａｃｈ ａｎｄ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ， ｖｏｌ． ８， １８−２１ （２００４） Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ， Ｖｏｌ． ５８， Ｎｏ． ３９， ７７７５−７７８０ （２００２） Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ， ｖｏｌ． ４６， ８９１３−８９１５ （２００５） Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ， Ｖｏｌ． ７１， Ｎｏ． ９， ３５４５−３５５５ （２００６） Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ， Ｖｏｌ． １２５， Ｎｏ． １， ９１−９４ （２００４） Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｃａｔａｌｙｓｉｓ Ａ ： Ｃｈｅｍｉｃａｌ， Ｖｏｌ． １８１， １７９−１８７ （２００２）
非特許文献１〜４および６に記載された反応条件はエタノールなどのアルコール系溶媒を用い、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、ピリジンなどの塩基性化合物を作用させる反応であった。最近の合成例においても、１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−２−プロペン−１−オン化合物とヒドロキシルアミンを原料としてイソキサゾリン化合物を製造する方法としては、われわれの知る限り、アルコール系溶媒中に塩基性化合物を作用させる方法が一般的に用いられる方法であった。しかし、これらの反応例は多くの場合、収率は中程度であった。また、過剰に用いたヒドロキシルアミンを除去するために、分液操作を要するが、アルコール系溶媒の場合、回収が困難となり、環境への負荷が大きくなり、コストが高くなるので、工業的には満足のいくものではなかった。また非特許文献５ではピリジンを溶媒かつ塩基として用いる方法が記載されていたが、収率は５０％前後と低く、ピリジンもアルコールと同様に回収は容易ではなかった。さらにこの非特許文献５では、塩化メチレンを溶媒とする反応例の記載があるが、マイクロウェーブを照射する必要があり、工業的製造には装置などの制限があった。
このように、既存の方法には、１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−２−プロペン−１−オン化合物とヒドロキシルアミンを原料としてイソキサゾリン化合物を、トルエンに代表される回収容易な低極性溶媒中で製造するものが無く、改善の余地を残している。
非特許文献７に記載された反応条件は、塩基として高価かつ取り扱いに注意を要するｎ−ブチルリチウムを使用しており、工業的製法としては満足いくものではない。非特許文献８に記載された反応条件は、芳香族ケトン化合物を一旦イミンへと変換して反応させる必要があり、反応後にイミン部分を元に戻す必要がある。その為、製造コストや廃棄物の増大に繋がり、工業的製造法として満足いくものではない。非特許文献９〜１１に記載された反応条件は、プロリンを触媒として使用するものであり、記載の収率は比較的良いが
、回収の困難な溶媒やハロゲン系の溶媒を必要としているため、工業的製造法として満足いくものではない。非特許文献１２〜１３に記載された反応条件は、四塩化チタンを量論量使用するため製造コストや廃棄物の増大に繋がり、−７８℃という極低温を必要とするため、工業的製造には設備などの問題がある。非特許文献１４に記載された反応条件は、水中で界面活性剤を添加して反応を行うものであるが、芳香族ケトン化合物をシリルエーテルへと変換してから反応させる必要があり、製造コストや廃棄物の増大に繋がり、工業的製造法として満足いくものではない。非特許文献１５に記載された反応条件も水中で行うものであるが、水の使用量が非常に多く、容積効率の点で工業的製造には満足いくものではない。
非特許文献１６に記載された反応条件は、脱水剤および塩基を溶媒量用いており、また、非特許文献１７に記載された反応条件は溶媒を用いるものあるが、ハロゲン系有機溶媒を用いており、両文献共に環境への負荷が大きく、製造コストが高くなるので、工業的には満足のいくものではない。
非特許文献１８に記載された反応条件は、出発原料の一方をリンイリドへと変換し、それをもう一方の原料と反応させるものであるため、製造コスト等の点から満足のいくものではない。非特許文献１９に記載された反応条件は、遷移金属触媒を用いて原料同士を反応させるものであるが、原料に毒性の懸念されるスズ化合物を用いる必要があり、工業的には使用し難いものである。非特許文献２０に記載された反応条件は、回収・再利用が可能な固体触媒を用いるものであるが、転化率が低く工業的には満足のいくものではない。
このように、既存の方法には、芳香族ケトン化合物と置換アセトフェノン化合物を原料として１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−３−ヒドロキシプロパン−１−オン化合物を、環境や生物に対して無害な水を溶媒とし、高価な試剤を使用せず、容積効率良く製造する方法がない。また、トルエンに代表される回収容易な低極性溶媒中で塩基の存在下で反応を行い、スラリーを生成させることで平衡反応を目的物側へ偏らせることを特徴として製造するものが知られておらず、改善の余地を残している。
また、１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−３−ヒドロキシプロパン−１−オン化合物を原料として１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−２−プロペン−１−オン化合物をトルエンに代表される回収容易な低極性溶媒中で、脱水剤および塩基を用いて製造する方法が無く、芳香族ケトン化合物と置換アセトフェノン化合物を出発原料として１工程で、１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−２−プロペン−１−オン化合物を製造する方法も知られていないため、改善の余地を残している。
本発明者らは、このような状況に鑑み、鋭意検討した結果、芳香族ケトン化合物と置換アセトフェノン化合物を原料として１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−３−ヒドロキシプロパン−１−オン化合物を、無害な水又はトルエンに代表される回収容易な低極性溶媒等の中で塩基の存在下で反応を行い、スラリーを生成させることで平衡反応を目的物側へ偏らせて製造する方法を見出し、発明に至った。
また、１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−３−ヒドロキシプロパン−１−オン化合物を原料として１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−２−プロペン−１−オン化合物をトルエンに代表される回収容易な低極性溶媒中で、脱水剤および塩基を用いて製造する方法を見出し、さらに、芳香族ケトン化合物と置換アセトフェノン化合物を出発原料として１工程で１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−２−プロペン−１−オン化合物を製造する方法をも見出し、発明に至った。
更に、１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−２−プロペン−１−オン化合物とヒドロキシルアミンを原料としてイソキサゾリン化合物を、トルエンに代表される回収容易な低極性溶媒中で製造する方法を見いだし、発明に至った。
すなわち、本発明は、
〔１〕
Figure 0005843075
 ［式中、Ｒ1は、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル又はＣ3〜Ｃ8ハロシクロアルキルを表し、
Ａ1、Ａ2、Ａ3およびＡ4は、それぞれ独立にＮまたはＣ−Ｙを表し、
Ａ5、Ａ6およびＡ7は、それぞれ独立にＮまたはＣ−Ｘを表し、
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、−ＳＦ5、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、ヒドロキシ（Ｃ1〜Ｃ6）ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ（Ｃ1〜Ｃ6）ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルコキシ（Ｃ1〜Ｃ6）ハロアルキル、Ｃ3〜Ｃ8ハロシクロアルキル、−ＯＲ3、−ＯＳＯ2Ｒ3又は−Ｓ（Ｏ）rＲ3を表し、各々のＸは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
Ｒ3は、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル又はＣ1〜Ｃ3ハロアルコキシ（Ｃ1〜Ｃ3）ハロアルキルを表し、
Ｒ2は、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、−ＮＨ2、−Ｎ（Ｒ5）Ｒ4、−ＯＨ、−ＯＲ3、ベンジルオキシ、−ＯＳＯ2Ｒ3、フェニルスルホニルオキシ、（Ｚ）p1によって置換されたフェニルスルホニルオキシ、−Ｃ（Ｏ）ＯＨ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ3、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ1b）Ｒ1a、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ1b）Ｒ1a、−Ｌ−Ｑ、−Ｌ−Ｎ（Ｒ1c）Ｒ1d、−Ｓ（Ｏ）r−Ｌ2−Ｑ2およびＤ−１ないしＤ−５０から選ばれる置換基を表し、
Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルホニル、−ＮＨ2、−Ｎ（Ｒ5）Ｒ4を表し、各々のＹは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
隣接する２つのＹが一緒になって、Ａ8＝Ａ9−Ａ10＝Ａ11を形成していても良く、
Ａ8、Ａ9、Ａ10およびＡ11は、それぞれ独立にＮまたはＣ−Ｙ1を表し、
Ｙ1は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルホニル、−ＮＨ2、−Ｎ（Ｒ5）Ｒ4を表し、各々のＹ1は互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
Ｒ4は、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、−ＣＨＯ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシチオカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルジチオカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニル又はＣ1〜Ｃ6ハロアルキルスルホニルを表し、
Ｒ5は、水素原子又はＣ1〜Ｃ6アルキルを表し、
Ｒ1aは、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｒ8によって任意に置換されたＣ1〜Ｃ6アルキル、ベンゼン環によって縮環されていてもよいＣ3〜Ｃ6シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル、Ｃ3〜Ｃ6ハロアルケニル、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル、−Ｎ（Ｒ11）Ｒ10、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ9、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ9、−Ｃ（Ｒ7）＝ＮＯＲ6、フェニル、（Ｚ）p1によって置換されたフェニル、Ｄ−５、Ｄ−７、Ｄ−１０、Ｄ−１１、Ｄ−１２、Ｄ−１４、Ｄ−１５、Ｄ−１８、Ｄ−３１、Ｄ−３２、Ｄ−４２、Ｄ−４３、Ｄ−４５、Ｄ−４６、Ｄ−
４８、Ｅ−１、Ｅ−２、Ｅ−３、Ｅ−４又はＥ−７を表し、
Ｒ1bは、水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、シアノ（Ｃ1〜Ｃ6）アルキル、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ9又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ9を表し、
或いはＲ1bはＲ1aと一緒になってＣ2〜Ｃ6アルキレン鎖を形成することにより、結合する窒素原子と共に３〜７員環を形成してもよいことを表し、このときこのアルキレン鎖は酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を１個含んでもよく、
Ｌは、−Ｃ（Ｒ2a）（Ｒ2b）−、−Ｃ（Ｒ2a）（Ｒ2b）ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｃ（Ｒ2a）（Ｒ2b）−又は−Ｎ（Ｒ2c）−を表し、
Ｑは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ又はニトロを表し、
Ｒ1cは、水素原子、−Ｃ（Ｏ）Ｒ3a、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ3a、−Ｃ（Ｏ）ＳＲ3a、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ3b）Ｒ3a、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ3b）Ｒ3a又は−Ｓ（Ｏ）2Ｒ3aを表し、
Ｒ1dは、水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオ（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、シアノ（Ｃ1〜Ｃ6）アルキル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ3c、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ3c、−Ｃ（Ｏ）ＳＲ3c、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルチオ又はＣ1〜Ｃ6アルキルスルホニルを表すか、
或いは、Ｒ1cはＲ1dと一緒になってＣ4〜Ｃ6アルキレン鎖を形成することにより、結合する窒素原子と共に５〜７員環を形成してもよいことを表し、このときこのアルキレン鎖は酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を１個含んでもよく、且つＣ1〜Ｃ6アルキル基、−ＣＨＯ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルカルボニル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルカルボニル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルコキシカルボニル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルアミノカルボニル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルアミノカルボニル基、オキソ基又はチオキソ基によって任意に置換されていてもよく、
Ｒ2aは、水素原子、シアノ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2又は−Ｃ（Ｓ）ＮＨ2を表し、
Ｒ2bは、水素原子又はＣ1〜Ｃ6アルキルを表すか、或いは、Ｒ2aとＲ2bとが一緒になってＣ2〜Ｃ5アルキレン鎖を形成することにより、結合する炭素原子と共に３〜６員環を形成してもよいことを表し、このときこのアルキレン鎖は酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を１〜３個含んでもよく、
Ｒ2cは、水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルカルボニル又はＣ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルを表し、
Ｒ3aは、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｒ4aによって任意に置換された（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ6ハロシクロアルキル、Ｅ−１、Ｅ−２、Ｅ−４、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、Ｃ2〜Ｃ6ハロアルケニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル、フェニル、（Ｖ）p1によって置換されたフェニル、Ｄ−３、Ｄ−４、Ｄ−１２〜Ｄ−１４、Ｄ−４２又はＤ−４３を表し、
Ｒ3bは、水素原子又はＣ1〜Ｃ6アルキルを表し、
Ｒ3cは、水素原子、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル又はＣ3〜Ｃ6アルキニルを表すか、或いは、Ｒ3aとＲ3cとが一緒になってエチレン鎖又はオルト位で結合するベンゼン環を形成することにより、結合する窒素原子、炭素原子、酸素原子或いは硫黄原子と共に５〜７員環を形成してもよいことを表し、
Ｒ4aは、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニル、Ｓ（Ｏ）rＲ5a、Ｄ−４２又はＤ−４３を表し、
Ｒ5aは、Ｃ1〜Ｃ4アルキルを表し、
Ｖは、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、−ＯＨ、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニルオキ
シ、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルホニルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルホニル、−ＮＨ2、Ｃ1〜Ｃ6アルキルアミノ、ジ（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、Ｃ1〜Ｃ6アルキルアミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルアミノカルボニル、ジ（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）アミノカルボニル、−Ｃ（Ｓ）ＮＨ2、−Ｓ（Ｏ）2ＮＨ2、Ｃ1〜Ｃ6アルキルアミノスルホニル又はジ（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）アミノスルホニルを表し、ｐ１が２以上の整数を表すとき、各々のＶは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
さらに、２つのＶが隣接する場合には、隣接する２つのＶは−ＯＣＨ2Ｏ−又は−ＯＣＨ2ＣＨ2Ｏ−を形成することにより、２つのＶのそれぞれが結合する炭素原子と共に５員環又は６員環を形成してもよく、このとき、環を形成する各々の炭素原子に結合した水素原子はハロゲン原子によって任意に置換されていてもよく、
Ｒ6は、Ｃ1〜Ｃ6アルキル又はＣ1〜Ｃ6ハロアルキルを表し、
Ｒ7は、水素原子又はＣ1〜Ｃ6アルキルを表し、
Ｒ8は、ハロゲン原子、シアノ、アミノ、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ6ハロシクロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルホニル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ14、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ14、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ15）Ｒ14、−Ｃ（Ｓ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ15）Ｒ14、−Ｃ（Ｒ7）＝ＮＯＨ、−Ｃ（Ｒ7）＝ＮＯＲ6、フェニル、（Ｚ）p1によって置換されたフェニル、Ｄ−１〜Ｄ−５０又はＥ−１〜Ｅ−８を表し、
Ｄ−１〜Ｄ−５０は、それぞれ下記の構造式で表される芳香族複素環を表し、
Figure 0005843075
Figure 0005843075
 Ｚは、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｒ16によって任意に置換された（Ｃ1〜Ｃ6）アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｓ）ＮＨ2、−Ｓ（Ｏ）2ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ18）Ｒ17、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ18）Ｒ17、Ｃ1〜Ｃ6アルキルアミノスルホニル又はジ（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）アミノスルホニルを表し、ｐ１， ｐ２， ｐ３又はｐ４が２以上の整数を表すとき、各々のＺは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
Ｅ−１〜Ｅ−８は、それぞれ下記の構造式で表される飽和複素環を表し、
Figure 0005843075
 Ｒ9は、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオ（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル又はＣ3〜Ｃ6アルキニルを表し、
Ｒ10は、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ14、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ14、フェニル、（Ｚ
）p1によって置換されたフェニル、Ｄ−３、Ｄ−４、Ｄ−１８、Ｄ−４２、Ｄ−４５、Ｄ−４６、Ｄ−４８又はＤ−４９を表し、
Ｒ11は、水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル又はＣ3〜Ｃ6アルキニルを表し、
Ｒ12は、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、フェニル又は（Ｚ）p1によって置換されたフェニルを表し、
Ｒ13は、Ｃ1〜Ｃ4アルキルを表し、ｑ１， ｑ２， ｑ３又はｑ４が２以上の整数を表すとき、各々のＲ13は互いに同一であっても、または互いに相異なっていてもよく、さらに、２つのＲ13が同一の炭素原子上に置換している場合、２つのＲ13は一緒になってオキソを形成してもよいことを表し、
Ｒ14は、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル又はＣ3〜Ｃ6アルキニルを表し、
Ｒ15は、水素原子又はＣ1〜Ｃ6アルキルを表し、
Ｒ16は、−ＯＨ、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ又はＣ1〜Ｃ4アルキルチオを表し、
Ｒ17は、水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル、Ｃ3〜Ｃ6ハロアルケニル、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル、−Ｃ（Ｒ5）＝ＮＯＲ19、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ19、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ5）Ｒ19、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣ（Ｏ）Ｒ19、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ5）Ｃ（Ｏ）ＯＲ19、−Ｎ（Ｒ21）Ｒ20、（Ｚ）p1によって置換されたフェニル、Ｄ９〜Ｄ１１、Ｄ１８〜Ｄ２０、Ｄ４２〜Ｄ４７又はＤ４８を表し、
Ｒ18は、水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ19a、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ19a又はＣ1〜Ｃ6ハロアルキルチオを表し、
Ｒ19は、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル又はＣ2〜Ｃ6アルケニルを表し、
Ｒ19aは、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオ（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニル（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニル、フェニル、（Ｚ）p1によって置換されたフェニル、Ｄ４２、Ｄ４３又はＤ４４を表し、
Ｒ20は、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニル、フェニル、（Ｚ）p1によって置換されたフェニル、Ｄ４２〜Ｄ４６又はＤ４７を表し、
Ｒ21は、水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル又はＣ3〜Ｃ6アルキニルを表し、
Ｌ2は、単結合又はＣ1〜Ｃ6アルキレン鎖を表し、
Ｑ2は、水素原子、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル、−Ｎ（Ｒ23）Ｒ22、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ23）Ｒ22、フェニル、（Ｚ）p1によって置換されたフェニル、Ｄ１８〜Ｄ２０、Ｄ４２〜Ｄ４６又はＤ４７を表し、
Ｒ22は、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル、フェニル又は（Ｚ）p1によって置換されたフェニルを表し、
Ｒ23は、水素原子又はＣ1〜Ｃ6アルキルを表し、
ｐ１は、１〜５の整数を表し、
ｐ２は、０〜４の整数を表し、
ｐ３は、０〜３の整数を表し、
ｐ４は、０〜２の整数を表し、
ｐ５は、０又は１の整数を表し、
ｑ２は、０〜５の整数を表し、
ｑ３は、０〜７の整数を表し、
ｑ４は、０〜９の整数を表し、
ｒは、０〜２の整数を表し、
ｔは、０又は１の整数を表す。］ で表される１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−２−プロペン−１−オン化合物とヒドロキシルアミンとを、ハロゲン原子で置換され
ていてもよい脂肪族又は芳香族炭化水素溶媒中、塩基及び水の存在下で相間移動触媒、Ｃ1〜Ｃ6アルコールおよび非プロトン性極性溶媒から選ばれる添加物を加えて反応させることによる式（１）：
Figure 0005843075
 ［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｘ、Ａ1、Ａ2、Ａ3、Ａ4、Ａ5、Ａ6およびＡ7は前記の意味を表す。］で表されるイソキサゾリン化合物の製造方法。
〔２〕 添加物が相間移動触媒である〔１〕記載の製造方法。
〔３〕 添加物がＣ1〜Ｃ6アルコールである〔１〕記載の製造方法。
〔４〕 添加物が非プロトン性極性溶媒である〔１〕記載の製造方法。
〔５〕 式（３）：
Figure 0005843075
 ［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｘ、Ａ1、Ａ2、Ａ3、Ａ4、Ａ5、Ａ6およびＡ7は前記の意味を表す。］
で表される１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−３−ヒドロキシプロパン−１−オン化合物を、脱水剤と塩基の存在下で反応させることにより製造した前記式（２）で表される１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−２−プロペン−１−オン化合物を用いる、〔１〕ないし〔４〕記載の製造方法。
〔６〕 前記式（３）で表される１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−３−ヒドロキシプロパン−１−オン化合物を、脱水剤と塩基の存在下で反応させることによる前記式（２）で表される１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−２−プロペン−１−オン化合物の製造方法。
〔７〕 式（４）：
Figure 0005843075
 ［式中、Ｒ1、Ｘ、Ａ5、Ａ6およびＡ7は前記の意味を表す。］ で表される芳香族ケトン化合物と
式（５）：
Figure 0005843075
 ［式中、Ｒ2、Ａ1、Ａ2、Ａ3およびＡ4は前記の意味を表す。］ で表される置換アセトフェノン化合物とを溶媒中、添加物の存在下又は非存在下、塩基の存在下、懸濁状態で反応させることにより製造した前記式（３）で表される１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−３−ヒドロキシプロパン−１−オン化合物を用いる、〔５〕ないし〔６〕のいず
れかに記載の製造方法。
〔８〕 前記式（４）で表される芳香族ケトン化合物と前記式（５）で表される置換アセトフェノン化合物とを、溶媒中、添加物の存在下又は非存在下、塩基の存在下、懸濁状態で反応させることを特徴とする前記式（３）で表される１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−３−ヒドロキシプロパン−１−オン化合物の製造方法。
〔９〕 溶媒が有機溶媒であり、添加物の非存在下で行うことを特徴とする〔８〕記載の製造方法。
〔１０〕 溶媒が水であり、添加物として水に可溶な有機溶媒の存在下で行うことを特徴とする〔８〕記載の製造方法。
〔１１〕 溶媒が水であり、添加物として界面活性剤の存在下で行うことを特徴とする〔８〕記載の製造方法。
〔１２〕 前記式（４）で表される芳香族ケトン化合物と、前記式（５）で表される置換アセトフェノン化合物とを有機溶媒中、塩基の存在下、８０℃を超える温度で反応させることにより、前記式（２）で表される１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−２−プロペン−１−オン化合物を１工程で製造する方法。
〔１３〕 Ｒ1、Ｘ、Ａ1、Ａ2、Ａ3、Ａ4、Ａ5、Ａ6およびＡ7が前記の意味を表し、Ｒ2が前記−Ｓ（Ｏ）r−Ｌ2−Ｑ2およびＤ−１ないしＤ−５０から選ばれる置換基を表す、前記式（２）で表される化合物。
〔１４〕 Ｒ1、Ｘ、Ａ1、Ａ2、Ａ3、Ａ4、Ａ5、Ａ6およびＡ7が前記の意味を表し、Ｒ2が前記−Ｓ（Ｏ）r−Ｌ2−Ｑ2およびＤ−１ないしＤ−５０から選ばれる置換基を表す、前記式（３）で表される化合物。
〔１５〕 Ｒ1、Ｘ、Ａ5、Ａ6およびＡ7が前記の意味を表し、Ａ1、Ａ2、Ａ3およびＡ4のうち少なくとも１つがＮであり、Ｒ2がハロゲン原子である前記式（２）で表される化合物。
〔１６〕 Ｒ1、Ｘ、Ａ5、Ａ6およびＡ7が前記の意味を表し、Ａ1、Ａ2、Ａ3およびＡ4のうち少なくとも１つがＮであり、Ｒ2がハロゲン原子である前記式（３）で表される化合物。
本発明の製造方法により、医農薬あるいは電子材料等の機能性材料の製造中間体の合成に有用な１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−３−ヒドロキシプロパン−１−オン化合物および１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−２−プロペン−１−オン化合物を、芳香族ケトン化合物と置換アセトフェノン化合物を出発原料として、界面活性剤や脱水剤、塩基を適切に選択し、水やトルエンなどの工業的に使用しやすい溶媒中で、高収率、高選択的に製造することができ、それをもって工業的生産に有益な方法を提供できる。
さらに、本発明は農薬、特に国際公開第０５／０８５２１６号パンフレット記載の農業害虫、ハダニ類、哺乳動物または鳥類の内部もしくは外部寄生虫に対して優れた殺虫・殺ダニ活性を有するイソキサゾリン化合物およびその製造中間体の製造方法を提供することができる。
本願記載の化合物は置換基によっては、Ｅ−体及びＺ−体の幾何異性体が存在するが、本発明はこれらＥ−体、Ｚ−体又はＥ−体及びＺ−体を任意の割合で含む混合物を包含するものである。また、本願記載の化合物には、１個又は２個以上の不斉炭素原子の存在に起因する光学活性体が存在するが、本願記載の化合物は全ての光学活性体又はラセミ体を包含する。
本願記載の化合物のうちで、常法に従って酸付加塩にすることができるものは、例えば、フッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸、沃化水素酸等のハロゲン化水素酸の塩、硝酸、硫酸
、燐酸、塩素酸、過塩素酸等の無機酸の塩、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等のスルホン酸の塩、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、フマール酸、酒石酸、蓚酸、マレイン酸、リンゴ酸、コハク酸、安息香酸、マンデル酸、アスコルビン酸、乳酸、グルコン酸、クエン酸等のカルボン酸の塩又はグルタミン酸、アスパラギン酸等のアミノ酸の塩とすることができる。
或いは、本願記載の化合物のうちで、常法に従って金属塩にすることができるものは、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウムといったアルカリ金属の塩、カルシウム、バリウム、マグネシウムといったアルカリ土類金属の塩又はアルミニウムの塩とすることができる。
或いは、本願記載の化合物のうちで、常法に従ってアミン塩にすることができるものは、例えば、アンモニア、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ベンジルアミン、アニリン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ジベンジルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリベンジルアミンなどの塩とすることができる。
次に、本明細書において示した各置換基の具体例を以下に示す。ここで、ｎ−はノルマル、ｉ−はイソ、ｓ−はセカンダリー及びｔ−はターシャリーを各々意味し、Ｐｈはフェニルを意味する。
本願記載の化合物におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。尚、本明細書中「ハロ」の表記もこれらのハロゲン原子を表す。
本明細書におけるＣa〜Ｃbアルキルの表記は、炭素原子数がａ〜ｂ個よりなる直鎖状又は分岐鎖状の炭化水素基を表し、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、１，２−ジメチルプロピル基、２，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本明細書における芳香族複素環基の表記は、２−チエニル基、３−チエニル基、２−フリル基、３−フリル基、２−ピラニル基、３−ピラニル基、４−ピラニル基、２−ベンゾフラニル基、３−ベンゾフラニル基、４−ベンゾフラニル基、５−ベンゾフラニル基、６−ベンゾフラニル基、７−ベンゾフラニル基、１−イソベンゾフラニル基、４−イソベンゾフラニル基、５−イソベンゾフラニル基、２−ベンゾチエニル基、３−ベンゾチエニル基、４−ベンゾチエニル基、５−ベンゾチエニル基、６−ベンゾチエニル基、７−ベンゾチエニル基、１−イソベンゾチエニル基、４−イソベンゾチエニル基、５−イソベンゾチエニル基、２−クロメニル基、３−クロメニル基、４−クロメニル基、５−クロメニル基、６−クロメニル基、７−クロメニル基、８−クロメニル基、１−ピロリル基、２−ピロリル基、３−ピロリル基、１−イミダゾリル基、２−イミダゾリル基、４−イミダゾリル基、１−ピラゾリル基、３−ピラゾリル基、４−ピラゾリル基、２−チアゾリル基、４−チアゾリル基、５−チアゾリル基、３−イソチアゾリル基、４−イソチアゾリル基、５−
イソチアゾリル基、２−オキサゾリル基、４−オキサゾリル基、５−オキサゾリル基、３−イソオキサゾリル基、４−イソオキサゾリル基、５−イソオキサゾリル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピラジニル基、２−ピリミジニル基、４−ピリミジニル基、５−ピリミジニル基、３−ピリダジニル基、４−ピリダジニル基、１−インドリジニル基、２−インドリジニル基、３−インドリジニル基、５−インドリジニル基、６−インドリジニル基、７−インドリジニル基、８−インドリジニル基、１−イソインドリル基、４−イソインドリル基、５−イソインドリル基、１−インドリル基、２−インドリル基、３−インドリル基、４−インドリル基、５−インドリル基、６−インドリル基、７−インドリル基、１−インダゾリル基、２−インダゾリル基、３−インダゾリル基、４−インダゾリル基、５−インダゾリル基、６−インダゾリル基、７−インダゾリル基、１−プリニル基、２−プリニル基、３−プリニル基、６−プリニル基、７−プリニル基、８−プリニル基、２−キノリル基、３−キノリル基、４−キノリル基、５−キノリル基、６−キノリル基、７−キノリル基、８−キノリル基、１−イソキノリル基、３−イソキノリル基、４−イソキノリル基、５−イソキノリル基、６−イソキノリル基、７−イソキノリル基、８−イソキノリル基、１−フタラジニル基、５−フタラジニル基、６−フタラジニル基、２−ナフチリジニル基、３−ナフチリジニル基、４−ナフチリジニル基、２−キノキサリニル基、５−キノキサリニル基、６−キノキサリニル基、２−キナゾリニル基、４−キナゾリニル基、５−キナゾリニル基、６−キナゾリニル基、７−キナゾリニル基、８−キナゾリニル基、３−シンノリニル基、４−シンノリニル基、５−シンノリニル基、６−シンノリニル基、７−シンノリニル基、８−シンノリニル基、２−プテニジニル基、４−プテニジニル基、６−プテニジニル基、７−プテニジニル基及び３−フラザニル基等が具体例として挙げられる。
本明細書におけるアリール基の表記としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル、上記芳香族複素環基等が具体例として挙げられる。
本明細書における複素環基としては、上記芳香族複素環基以外に、例えば、２−テトラヒドロフラニル基、３−テトラヒドロフラニル基、２−テトラヒドロピラニル基、３−テトラヒドロピラニル基、４−テトラヒドロピラニル基、１−ピロリジニル基、２−ピロリジニル基、３−ピロリジニル基、１−ピロリニル基、２−ピロリニル基、３−ピロリニル基、４−ピロリニル基、５−ピロリニル基、１−イミダゾリジニル基、２−イミダゾリジニル基、４−イミダゾリジニル基、１−イミダゾリニル基、２−イミダゾリニル基、４−イミダゾリニル基、１−ピラゾリジニル基、３−ピラゾリジニル基、４−ピラゾリジニル基、１−ピラゾリニル基、２−ピラゾリニル基、３−ピラゾリニル基、４−ピラゾリニル基、５−ピラゾリニル基、１−ピペリジル基、２−ピペリジル基、３−ピペリジル基、４−ピペリジル基、１−ピペラジニル基、２−ピペラジニル基、３−ピペラジニル基、１−インドリニル基、２−インドリニル基、３−インドリニル基、４−インドリニル基、５−インドリニル基、６−インドリニル基、７−インドリニル基、１−イソインドリニル基、２−イソインドリニル基、４−イソインドリニル基、５−イソインドリニル基、２−キヌクリジニル基、３−キヌクリジニル基、４−キヌクリジニル基、２−モルフォリニル基、３−モルフォリニル基、４−モルフォリニル基、１−アゼチジニル基、２−アゼチジニル基、３−アゼチジニル基、１−アゼチジノニル基、３−アゼチジノニル基及び４−アゼチジノニル基等が挙げられる。
本明細書におけるＣa〜Ｃbハロアルキルの表記は、炭素原子に結合した水素原子が、ハロゲン原子によって任意に置換された、炭素原子数がａ〜ｂ個よりなる直鎖状又は分岐鎖状の炭化水素基を表し、このとき、２個以上のハロゲン原子によって置換されている場合、それらのハロゲン原子は互いに同一でも、または互いに相異なっていてもよい。例えばフルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基、ジフルオロメチル基、クロロフルオロメチル基、ジクロロメチル基、ブロモフルオロメチル基、トリフル
オロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ジクロロフルオロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、ブロモクロロフルオロメチル基、ジブロモフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２−クロロ−２−フルオロエチル基、２，２−ジクロロエチル基、２−ブロモ−２−フルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２−クロロ−２，２−ジフルオロエチル基、２，２−ジクロロ−２−フルオロエチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、２−ブロモ−２，２−ジフルオロエチル基、２−ブロモ−２−クロロ−２−フルオロエチル基、２−ブロモ−２，２−ジクロロエチル基、１，１，２，２−テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、１−クロロ−１，２，２，２−テトラフルオロエチル基、２−クロロ−１，１，２，２−テトラフルオロエチル基、１，２−ジクロロ−１，２，２−トリフルオロエチル基、２−ブロモ−１，１，２，２−テトラフルオロエチル基、２−フルオロプロピル基、２−クロロプロピル基、２−ブロモプロピル基、２−クロロ−２−フルオロプロピル基、２，３−ジクロロプロピル基、２−ブロモ−３−フルオロプロピル基、３−ブロモ−２−クロロプロピル基、２，３−ジブロモプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、３−ブロモ−３，３−ジフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロプロピル基、ヘプタフルオロプロピル基、２，３−ジクロロ−１，１，２，３，３−ペンタフルオロプロピル基、２−フルオロ−１−メチルエチル基、２−クロロ−１−メチルエチル基、２−ブロモ−１−メチルエチル基、２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル基、１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル基、２−フルオロブチル基、２−クロロブチル基、２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロブチル基、２，２，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチル基、２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロブチル基、２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３，４，４−オクタフルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、４−クロロ−１，１，２，２，３，３，４，４−オクタフルオロブチル基、２−フルオロ−２−メチルプロピル基、１，２，２，３，３，３−ヘキサフルオロ−１−（トリフルオロメチル）プロピル基、２−クロロ−１，１−ジメチルエチル基、２−ブロモ−１，１−ジメチルエチル基、５−クロロ−２，２，３，４，４，５，５−ヘプタフルオロペンチル基、トリデカフルオロヘキシル基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本明細書におけるシアノ（Ｃa〜Ｃb）アルキルの表記は、炭素原子に結合した水素原子が、シアノ基によって任意に置換された、炭素原子数がａ〜ｂ個よりなる直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を表し、例えばシアノメチル基、１−シアノエチル基、２−シアノエチル基、２−シアノプロピル基、３−シアノプロピル基、２−シアノブチル基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本明細書におけるＣa〜Ｃbシクロアルキルの表記は、炭素原子数がａ〜ｂ個よりなる環状の炭化水素基を表し、３員環から６員環までの単環又は複合環構造を形成することが出来る。また、各々の環は指定の炭素原子数の範囲でアルキル基によって任意に置換されていてもよい。例えばシクロプロピル基、１−メチルシクロプロピル基、２−メチルシクロプロピル基、２，２−ジメチルシクロプロピル基、２，２，３，３−テトラメチルシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、２−メチルシクロペンチル基、３−メチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、２−メチルシクロヘキシル基、３−メチルシクロヘキシル基、４−メチルシクロヘキシル基、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本明細書におけるＣa〜Ｃbハロシクロアルキルの表記は、炭素原子に結合した水素原子が、ハロゲン原子によって任意に置換された、炭素原子数がａ〜ｂ個よりなる環状の炭化
水素基を表し、３員環から６員環までの単環又は複合環構造を形成することが出来る。また、各々の環は指定の炭素原子数の範囲でアルキル基によって任意に置換されていてもよく、ハロゲン原子による置換は環構造部分であっても、側鎖部分であっても、或いはそれらの両方であってもよく、さらに、２個以上のハロゲン原子によって置換されている場合、それらのハロゲン原子は互いに同一でも、または互いに相異なっていてもよい。例えば２，２−ジフルオロシクロプロピル基、２，２−ジクロロシクロプロピル基、２，２−ジブロモシクロプロピル基、２，２−ジフルオロ−１−メチルシクロプロピル基、２，２−ジクロロ−１−メチルシクロプロピル基、２，２−ジブロモ−１−メチルシクロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロシクロブチル基、２−（トリフルオロメチル）シクロヘキシル基、３−（トリフルオロメチル）シクロヘキシル基、４−（トリフルオロメチル）シクロヘキシル基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本明細書におけるＣa〜Ｃbアルケニルの表記は、炭素原子数がａ〜ｂ個よりなる直鎖状又は分岐鎖状で、且つ分子内に１個又は２個以上の二重結合を有する不飽和炭化水素基を表し、例えばビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−メチルエテニル基、２−ブテニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、２−ペンテニル基、２−メチル−２−ブテニル基、３−メチル−２−ブテニル基、２−エチル−２−プロペニル基、１，１−ジメチル−２−プロペニル基、２−ヘキセニル基、２−メチル−２−ペンテニル基、２，４−ジメチル−２，６−ヘプタジエニル基、３，７−ジメチル−２，６−オクタジエニル基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本明細書におけるＣa〜Ｃbハロアルケニルの表記は、炭素原子に結合した水素原子が、ハロゲン原子によって任意に置換された、炭素原子数がａ〜ｂ個よりなる直鎖状又は分岐鎖状で、且つ分子内に１個又は２個以上の二重結合を有する不飽和炭化水素基を表す。このとき、２個以上のハロゲン原子によって置換されている場合、それらのハロゲン原子は互いに同一でも、または互いに相異なっていてもよい。例えば２，２−ジクロロビニル基、２−フルオロ−２−プロペニル基、２−クロロ−２−プロペニル基、３−クロロ−２−プロペニル基、２−ブロモ−２−プロペニル基、３−ブロモ−２−プロペニル基、３，３−ジフルオロ−２−プロペニル基、２，３−ジクロロ−２−プロペニル基、３，３−ジクロロ−２−プロペニル基、２，３−ジブロモ−２−プロペニル基、２，３，３−トリフルオロ−２−プロペニル基、２，３，３−トリクロロ−２−プロペニル基、１−（トリフルオロメチル）エテニル基、３−クロロ−２−ブテニル基、３−ブロモ−２−ブテニル基、４，４−ジフルオロ−３−ブテニル基、３，４，４−トリフルオロ−３−ブテニル基、３−クロロ−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテニル基、３−ブロモ−２−メチル−２−プロペニル基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本明細書におけるＣa〜Ｃbアルキニルの表記は、炭素原子数がａ〜ｂ個よりなる直鎖状又は分岐鎖状で、且つ分子内に１個又は２個以上の三重結合を有する不飽和炭化水素基を表し、例えばエチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ペンチニル基、１−メチル−２−ブチニル基、１，１−ジメチル−２−プロピニル基、２−ヘキシニル基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本明細書におけるＣa〜Ｃbアルコキシの表記は、炭素原子数がａ〜ｂ個よりなる前記の意味であるアルキル−Ｏ−基を表し、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、ｉ−プロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、ｉ−ブチルオキシ基、ｓ−ブチルオキシ基、ｔ−ブチルオキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本明細書におけるＣa〜Ｃbハロアルコキシの表記は、炭素原子数がａ〜ｂ個よりなる前記の意味であるハロアルキル−Ｏ−基を表し、例えばジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、クロロジフルオロメトキシ基、ブロモジフルオロメトキシ基、２−フルオロエトキシ基、２−クロロエトキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、１，１，２，２，−テトラフルオロエトキシ基、２−クロロ−１，１，２−トリフルオロエトキシ基、２−ブロモ−１，１，２−トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、２，２−ジクロロ−１，１，２−トリフルオロエトキシ基、２，２，２−トリクロロ−１，１−ジフルオロエトキシ基、２−ブロモ−１，１，２，２−テトラフルオロエトキシ基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルオキシ基、１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロプロピルオキシ基、２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エトキシ基、ヘプタフルオロプロピルオキシ基、２−ブロモ−１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロプロピルオキシ基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本明細書におけるＣa〜Ｃbアルキルチオの表記は、炭素原子数がａ〜ｂ個よりなる前記の意味であるアルキル−Ｓ−基を表し、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｉ−ブチルチオ基、ｓ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基、ｎ−ペンチルチオ基、ｎ−ヘキシルチオ基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本明細書におけるＣa〜Ｃbハロアルキルチオの表記は、炭素原子数がａ〜ｂ個よりなる前記の意味であるハロアルキル−Ｓ−基を表し、例えばジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、クロロジフルオロメチルチオ基、ブロモジフルオロメチルチオ基、２，２，２−トリフルオロエチルチオ基、１，１，２，２−テトラフルオロエチルチオ基、２−クロロ−１，１，２−トリフルオロエチルチオ基、ペンタフルオロエチルチオ基、２−ブロモ−１，１，２，２−テトラフルオロエチルチオ基、１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロプロピルチオ基、ヘプタフルオロプロピルチオ基、１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチルチオ基、ノナフルオロブチルチオ基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本明細書におけるＣa〜Ｃbアルキルスルフィニルの表記は、炭素原子数がａ〜ｂ個よりなる前記の意味であるアルキル−Ｓ（Ｏ）−基を表し、例えばメチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ｎ−プロピルスルフィニル基、ｉ−プロピルスルフィニル基、ｎ−ブチルスルフィニル基、ｉ−ブチルスルフィニル基、ｓ−ブチルスルフィニル基、ｔ−ブチルスルフィニル基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本明細書におけるＣa〜Ｃbハロアルキルスルフィニルの表記は、炭素原子数がａ〜ｂ個よりなる前記の意味であるハロアルキル−Ｓ（Ｏ）−基を表し、例えばジフルオロメチルスルフィニル基、トリフルオロメチルスルフィニル基、クロロジフルオロメチルスルフィニル基、ブロモジフルオロメチルスルフィニル基、２，２，２−トリフルオロエチルスルフィニル基、２−ブロモ−１，１，２，２−テトラフルオロエチルスルフィニル基、１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチルスルフィニル基、ノナフルオロブチルスルフィニル基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本明細書におけるＣa〜Ｃbアルキルスルホニルの表記は、炭素原子数がａ〜ｂ個よりなる前記の意味であるアルキル−ＳＯ2−基を表し、例えばメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、ｉ−プロピルスルホニル基、ｎ−ブチルスルホニル基、ｉ−ブチルスルホニル基、ｓ−ブチルスルホニル基、ｔ−ブチルスルホニル基、
ｎ−ペンチルスルホニル基、ｎ−ヘキシルスルホニル基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本明細書におけるＣa〜Ｃbハロアルキルスルホニルの表記は、炭素原子数がａ〜ｂ個よりなる前記の意味であるハロアルキル−ＳＯ2−基を表し、例えばジフルオロメチルスルホニル基、トリフルオロメチルスルホニル基、クロロジフルオロメチルスルホニル基、ブロモジフルオロメチルスルホニル基、２，２，２−トリフルオロエチルスルホニル基、１，１，２，２−テトラフルオロエチルスルホニル基、２−クロロ−１，１，２−トリフルオロエチルスルホニル基、２−ブロモ−１，１，２，２−テトラフルオロエチルスルホニル基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本明細書におけるＣa〜Ｃbアルキルカルボニルの表記は、炭素原子数がａ〜ｂ個よりなる前記の意味であるアルキル−Ｃ（Ｏ）−基を表し、例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、２−メチルブタノイル基、ピバロイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本明細書におけるＣa〜Ｃbハロアルキルカルボニルの表記は、炭素原子数がａ〜ｂ個よりなる前記の意味であるハロアルキル−Ｃ（Ｏ）−基を表し、例えばフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ジフルオロアセチル基、ジクロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロジフルオロアセチル基、ブロモジフルオロアセチル基、トリクロロアセチル基、ペンタフルオロプロピオニル基、ヘプタフルオロブタノイル基、３−クロロ−２，２−ジメチルプロパノイル基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本明細書におけるＣa〜Ｃbアルコキシカルボニルの表記は、炭素原子数がａ〜ｂ個よりなる前記の意味であるアルキル−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−基を表し、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロピルオキシカルボニル基、ｉ−プロピルオキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｉ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本明細書におけるＣa〜Ｃbアルキルチオカルボニルの表記は、炭素原子数がａ〜ｂ個よりなる前記の意味であるアルキル−Ｓ−Ｃ（Ｏ）−基を表し、例えばメチルチオ−Ｃ（Ｏ）−基、エチルチオ−Ｃ（Ｏ）−基、ｎ−プロピルチオ−Ｃ（Ｏ）−基、ｉ−プロピルチオ−Ｃ（Ｏ）−基、ｎ−ブチルチオ−Ｃ（Ｏ）−基、ｉ−ブチルチオ−Ｃ（Ｏ）−基、ｔ−ブチルチオ−Ｃ（Ｏ）−基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本明細書におけるＣa〜Ｃbアルコキシチオカルボニルの表記は、炭素原子数がａ〜ｂ個よりなる前記の意味であるアルキル−Ｏ−Ｃ（Ｓ）−基を表し、例えばメトキシ−Ｃ（Ｓ）−基、エトキシ−Ｃ（Ｓ）−基、ｎ−プロピルオキシ−Ｃ（Ｓ）−基、ｉ−プロピルオキシ−Ｃ（Ｓ）−基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本明細書におけるＣa〜Ｃbアルキルジチオカルボニルの表記は、炭素原子数がａ〜ｂ個よりなる前記の意味であるアルキル−Ｓ−Ｃ（Ｓ）−基を表し、例えばメチルチオ−Ｃ（Ｓ）−基、エチルチオ−Ｃ（Ｓ）−基、ｎ−プロピルチオ−Ｃ（Ｓ）−基、ｉ−プロピルチオ−Ｃ（Ｓ）−基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本明細書におけるＣa〜Ｃbアルキルアミノカルボニルの表記は、水素原子の一方が炭素原子数がａ〜ｂ個よりなる前記の意味であるアルキル基によって置換されたカルバモイル基を表し、例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ｎ−プロピルカルバモイル基、ｉ−プロピルカルバモイル基、ｎ−ブチルカルバモイル基、ｉ−ブチルカルバモイル基、ｓ−ブチルカルバモイル基、ｔ−ブチルカルバモイル基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本明細書におけるジ（Ｃa〜Ｃbアルキル）アミノカルボニルの表記は、水素原子が両方とも、それぞれ同一でも又は互いに相異なっていてもよい炭素原子数がａ〜ｂ個よりなる前記の意味であるアルキル基によって置換されたカルバモイル基を表し、例えばＮ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−プロピルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−ブチルカルバモイル基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本明細書におけるＣa〜Ｃbアルキルアミノスルホニルの表記は、水素原子の一方が炭素原子数がａ〜ｂ個よりなる前記の意味であるアルキル基によって置換されたスルファモイル基を表し、例えばメチルスルファモイル基、エチルスルファモイル基、ｎ−プロピルスルファモイル基、ｉ−プロピルスルファモイル基、ｎ−ブチルスルファモイル基、ｉ−ブチルスルファモイル基、ｓ−ブチルスルファモイル基、ｔ−ブチルスルファモイル基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本明細書におけるジ（Ｃa〜Ｃbアルキル）アミノスルホニルの表記は、水素原子が両方とも、それぞれ同一でも又は互いに相異なっていてもよい炭素原子数がａ〜ｂ個よりなる前記の意味であるアルキル基によって置換されたスルファモイル基を表し、例えばＮ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−プロピルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−ブチルスルファモイル基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本明細書におけるＣa〜Ｃbシクロアルキル（Ｃd〜Ｃe）アルキル、Ｃa〜Ｃbアルコキシ（Ｃd〜Ｃe）アルキル又はＣa〜Ｃbアルキルチオ（Ｃd〜Ｃe）アルキル等の表記は、それぞれ前記の意味である任意のＣa〜Ｃbシクロアルキル基、Ｃa〜Ｃbアルコキシ基又はＣa〜Ｃbアルキルチオ基によって、炭素原子に結合した水素原子が任意に置換された炭素原子数がｄ〜ｅ個よりなる直鎖状又は分岐鎖状の炭化水素基を表し、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本明細書におけるＲ8によって任意に置換された（Ｃa〜Ｃb）アルキルの表記は、任意のＲ8によって、炭素原子に結合した水素原子が任意に置換された炭素原子数がａ〜ｂ個よりなる直鎖状又は分岐鎖状の炭化水素基を表し、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。このとき、それぞれの（Ｃa〜Ｃb）アルキル基上の置換基Ｒ8が２個以上存在するとき、それぞれのＲ8は互いに同一でも、または互いに相異なっていてもよい。
本明細書におけるヒドロキシ（Ｃd〜Ｃe）ハロアルキル、Ｃa〜Ｃbアルコキシ（Ｃd〜Ｃe）ハロアルキル又はＣa〜Ｃbハロアルコキシ（Ｃd〜Ｃe）ハロアルキルの表記は、それぞれ前記の意味である任意のＣa〜Ｃbアルコキシ基、Ｃa〜Ｃbハロアルコキシ基又は水酸基によって炭素原子に結合した水素原子又はハロゲン原子が任意に置換された炭素原子数がｄ〜ｅ個よりなる前記の意味であるハロアルキル基を表し、例えば２，２，２−トリフルオロ−１−ヒドロキシ−１−（トリフルオロメチル）エチル基、ジフルオロ（メトキシ）メチル基、２，２，２−トリフルオロ−１−メトキシ−１−（トリフルオロメチル）エチル基、ジフルオロ（２，２，２−トリフルオロエトキシ）メチル基、２，２，２−ト
リフルオロ−１−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）−１−（トリフルオロメチル）エチル基、３−（１，２−ジクロロ−１，２，２−トリフルオロエトキシ）−１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロプロピル基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素原子数の範囲で選択される。
本願記載の化合物において、Ｘで表される置換基としては、好ましくはハロゲン原子及びＣ1〜Ｃ4ハロアルキルが挙げられ、より好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子及びトリフルオロメチルが挙げられる。このときＸで表される置換基の数を表すｍが２以上の整数を表すとき、各々のＸは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよい。
本願記載の化合物において、Ｘで表される置換基の数を表すｍとしては、好ましくは１、２及び３が挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｘで表される置換基の位置としては、より好ましくはＲ1が結合する炭素との結合位置に対して、メタ位及びパラ位が挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｙで表される置換基としては、好ましくはハロゲン原子、ニトロ、Ｃ1〜Ｃ4アルキル及びＣ1〜Ｃ4ハロアルキルが挙げられ、より好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ニトロ、メチル、エチル及びトリフルオロメチルが挙げられる。このとき、ｎが２の整数を表すとき、各々のＹは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよい。
本願記載の化合物において、Ｙで表される置換基の数を表すｎとしては、より好ましくは０及び１が挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｙで表される置換基の位置としては、より好ましくはＲ2との結合位置に対して、オルト位が挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｒ1で表される置換基としては、好ましくはＣ1〜Ｃ4ハロアルキルが挙げられ、より好ましくはジフルオロメチル、クロロジフルオロメチル、ブロモジフルオロメチル及びトリフルオロメチルが挙げられ、極めて好ましくはクロロジフルオロメチル及びトリフルオロメチルが挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｒ2で表される置換基としては、好ましくはメチル、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、−ＮＨ2、−ＮＨＲ4、−ＯＨ、−ＯＲ3、ベンジルオキシ、−ＯＳＯ2Ｒ3、フェニルスルホニルオキシ、パラトルエンスルホニルオキシ、−Ｃ（Ｏ）ＯＨ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ3、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ1b）Ｒ1a、−Ｌ−Ｑ、−Ｌ−Ｎ（Ｒ1c）Ｒ1d、Ｄ−１ないしＤ−５０又は−Ｓ（Ｏ）r−Ｌ2−Ｑ2が挙げられ、より好ましくはメチル、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアノ、ニトロ、アミノ、−ＮＨＲ4、ヒドロキシ、メトキシ、メトキシメチルオキシ、アセチルオキシ、ベンジルオキシ、メタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ、パラトルエンスルホニルオキシ、−Ｃ（Ｏ）ＯＨ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ1b） Ｒ1a、−Ｌ−Ｑ、−Ｌ−Ｎ（Ｒ1c）Ｒ1d、Ｇ又は−Ｓ（Ｏ）r−Ｌ2−Ｑ2が挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｒ3で表される置換基としては、好ましくはＣ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル及びＣ1〜Ｃ4ハロアルキルが挙げられ、より好ましくは、メチル、エチル、メトキシメチル、メトキシエチル、エトキシメチル及びトリフルオロメチルが挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｒ4で表される置換基としては、好ましくは−ＣＨＯ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルカルボニル及びＣ1〜Ｃ4アルコキシカルボニルが挙げられ、より好ましくは、ホルミル、アセチル、プロピオニル、メトキシカルボニル及びエトキシカルボニルが挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｒ5で表される置換基としては、好ましくは水素原子が挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｒ1aで表される置換基としては、好ましくはＲ8によって任意に置換されたＣ1〜Ｃ4アルキル、−Ｎ（Ｒ11）Ｒ10、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ9、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ9、−Ｃ（Ｒ7）＝ＮＯＲ6、フェニル、（Ｚ）p1によって置換されたフェニル、Ｄ−５、Ｄ−７、Ｄ−１０、Ｄ−１１、Ｄ−１２、Ｄ−１４、Ｄ−１５、Ｄ−１８、Ｄ−３１、Ｄ−３２、Ｄ−４２、Ｄ−４３、Ｄ−４５、Ｄ−４６、Ｄ−４８、Ｅ−１又はＥ−７が挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｒ1bで表される置換基としては、好ましくは水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、シアノ（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ9及び−Ｃ（Ｏ）ＯＲ9が挙げられ、より好ましくは水素原子、メチル、エチル、メトキシメチル、シアノメチル、プロパルギル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、ピバロイル、メトキシカルボニル及びエトキシカルボニルが挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｒ8で表される置換基としては、好ましくはハロゲン原子、シアノ、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ15）Ｒ14、−Ｃ（Ｒ7）＝ＮＯＲ6、フェニル、（Ｚ）p1によって置換されたフェニル、Ｄ−１１〜Ｄ−１４、Ｄ−１８、Ｄ−１９、Ｄ−２５、Ｄ−２６、Ｄ−３１、Ｄ−３２、Ｄ−３６、Ｄ−４２、Ｄ−４５、Ｄ−４８、Ｄ−４９、Ｅ−１、Ｅ−２又はＥ−５が挙げられ、より好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、シアノ、シクロプロピル、メトキシ、エトキシ、２，２，２−トリフルオロエトキシ、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ15）Ｒ14、−ＣＨ＝ＮＯＣＨ3、フェニル、（Ｚ）p1によって置換されたフェニル、Ｄ−１４、Ｄ−１９、Ｄ−３１、Ｄ−３２、Ｄ−３６、Ｄ−４２及びＥ−５が挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｚで表される置換基としては、好ましくはハロゲン原子、シアノ、ニトロ、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル及びＣ1〜Ｃ4ハロアルコキシが挙げられ、より好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、シアノ、ニトロ、メチル、トリフルオロメチル及びトリフルオロメトキシが挙げられる。このときＺで表される置換基の数を表すｐ１， ｐ２， ｐ３又はｐ４が２以上の整数を表すとき、各々のＺは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよい。
本願記載の化合物において、Ｚで表される置換基の数を表すｐ１としては、好ましくは１及び２が挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｚで表される置換基の数を表すｐ２としては、好ましくは０及び１が挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｚで表される置換基の数を表すｐ３としては、好ましくは０及び１が挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｚで表される置換基の数を表すｐ４としては、好ましくは０及び１が挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｚで表される置換基の数を表すｐ５としては、０及び１が挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｒ6で表される置換基としては、好ましくはＣ1〜Ｃ4アルキルが挙げられ、より好ましくはメチルおよびエチルが挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｒ7で表される置換基としては、好ましくは水素原子及びＣ1〜Ｃ4アルキルが挙げられ、より好ましくは水素原子およびメチルが挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｒ9で表される置換基としては、好ましくはＣ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオ（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル及びＣ3〜Ｃ6アルキニルが挙げられ、より好ましくはメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、トリフルオロメチル、クロロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、メトキシメチル、エトキシメチル、メトキシエチル、メチルチオメチル、シクロプロピル、アリル及びプロパルギルが挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｒ10で表される置換基としては、好ましくはＣ1〜Ｃ4ハロアルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ14、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ14、フェニル、（Ｚ）p1によって置換されたフェニル、Ｄ−３、Ｄ−４、Ｄ−１８、Ｄ−４２、Ｄ−４５、Ｄ−４６、Ｄ−４８又はＤ−４９が挙げられ、より好ましくは２，２，２−トリフルオロエチル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ14、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ14、フェニル、（Ｚ）p1によって置換されたフェニル、Ｄ−１８、Ｄ−４２及びＤ−４５が挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｒ11で表される置換基としては、好ましくは水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル及びＣ3〜Ｃ6アルキニルが挙げられ、より好ましくは水素原子、メチル、エチル及びプロパルギルが挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｒ12で表される置換基としては、好ましくはＣ1〜Ｃ4アルキルが挙げられ、より好ましくはメチル及びエチルが挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｒ13で表される置換基としては、好ましくはＣ1〜Ｃ4アルキルが挙げられ、より好ましくはメチルが挙げられる。このときＲ13で表される置換基の数を表すｑ２、ｑ３又はｑ４が２以上の整数を表すとき、各々のＲ13は互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、さらに、２つのＲ13が同一の炭素原子上に置換している場合、２つのＲ13は一緒になってオキソを形成してもよい。
本願記載の化合物において、Ｒ13で表される置換基の数を表すｑ２としては、好ましくは０、１及び２が挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｒ13で表される置換基の数を表すｑ３としては、好ましくは０、１及び２が挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｒ13で表される置換基の数を表すｑ４としては、好ましくは０、１及び２が挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｒ14で表される置換基としては、好ましくはＣ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル及びＣ3〜Ｃ6アルキニルが挙げられ、より好ましくはメチル、エチル、２−フルオロエチル、２−クロロエチル、２−ブロモエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、シクロプロピルメチル、シクロプロピル、アリル及びプロパルギルが挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｒ15で表される置換基としては、好ましくは水素原子及びＣ1〜Ｃ4アルキルが挙げられ、より好ましくは水素、メチル及びエチルが挙げられる。
本願記載の化合物において、硫黄原子上の酸素の数を表すｒとしては、０、１及び２が挙げられる。
本願記載の化合物において、ピリジン環の窒素原子上の酸素の数を表すｔとしては、０及び１が挙げられる。
本願記載の化合物において、Ｌとしては−ＣＨ2−、−ＣＨ（ＣＨ3）−、−ＣＨ（ＣＮ）−、−ＣＨ（Ｒ2a）ＣＨ2−［ここで、Ｒ2aは水素原子、シアノ又はＣ1〜Ｃ6アルキルを表す。］、−Ｎ（Ｒ2c）−及び−ＣＨ（Ｒ2a）Ｎ（Ｒ2c）−［ここで、Ｒ2aは水素原子
、シアノ又はＣ1〜Ｃ6アルキルを表し、Ｒ2cは水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルカルボニル又はＣ3〜Ｃ6シクロアルキルカルボニルを表す。］等が好ましく、−ＣＨ2−、−ＣＨ（ＣＨ3）−および−ＣＨ（ＣＮ）−が特に好ましい。
本願記載の化合物において、Ｒ1cとしては水素原子、−Ｃ（Ｏ）Ｒ3a、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ3a、−Ｃ（Ｏ）ＳＲ3a、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ3b）Ｒ3a、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ3b）Ｒ3a又は−Ｓ（Ｏ）2Ｒ3aが挙げられ、−Ｃ（Ｏ）Ｒ3a、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ3a及び−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ3b）Ｒ3aが特に好ましい。
本願記載の化合物において、Ｒ1dとしては、水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオ（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、シアノ（Ｃ1〜Ｃ6）アルキル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ3c、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ3c、−Ｃ（Ｏ）ＳＲ3c、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルチオ又はＣ1〜Ｃ6アルキルスルホニルが挙げられ、水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ3c等が特に好ましい。
Ｒ3aとしては、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｒ4aによって任意に置換された（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ6ハロシクロアルキル、Ｅ−１、Ｅ−２、Ｅ−４、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、Ｃ2〜Ｃ6ハロアルケニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル、フェニル、（Ｖ）p1によって置換されたフェニル、Ｄ−３、Ｄ−４、Ｄ−１２〜Ｄ−１４、Ｄ−４２又はＤ−４３が挙げられ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｒ4aによって任意に置換された（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ6ハロシクロアルキル、フェニル、（Ｖ）p1によって置換されたフェニル等が特に好ましい。
Ｒ3bとしては、水素原子又はＣ1〜Ｃ6アルキルが挙げられる。
Ｒ3cとしては、水素原子、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル（Ｃ1〜Ｃ4）アルキル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル又はＣ3〜Ｃ6アルキニルを表すか、或いは、Ｒ3aとＲ3cとが一緒になってエチレン鎖又はオルト位で結合するベンゼン環を形成することにより、結合する窒素原子、炭素原子、酸素原子或いは硫黄原子と共に５〜７員環を形成する場合が挙げられる。
Ｒ4aとしては、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニル、Ｓ（Ｏ）rＲ5a、Ｄ−４２又はＤ−４３が挙げられる。
Ｒ5aとしては、Ｃ1〜Ｃ4アルキルが挙げられる。
Ｖとしては、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、−ＯＨ、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルホニルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルホニル、−ＮＨ2、Ｃ1〜Ｃ6アルキルアミノ、ジ（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、Ｃ1〜Ｃ6アルキルアミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルアミノカルボニル、ジ（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）アミノカルボニル、−Ｃ（Ｓ）ＮＨ2、−Ｓ（Ｏ）2ＮＨ2、
Ｃ1〜Ｃ6アルキルアミノスルホニル又はジ（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）アミノスルホニルが挙げられ、ｐ１が２以上の整数を表すとき、各々のＶは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、さらに、２つのＶが隣接する場合には、隣接する２つのＶは−ＯＣＨ2Ｏ−又は−ＯＣＨ2ＣＨ2Ｏ−を形成することにより、２つのＶのそれぞれが結合する炭素原子と共に５員環又は６員環を形成してもよく、このとき、環を形成する各々の炭素原子に結合した水素原子はハロゲン原子によって任意に置換されていてもよい。
Ｚとしては、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｒ16によって任意に置換された（Ｃ1〜Ｃ6）アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｓ）ＮＨ2、−Ｓ（Ｏ）2ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ18）Ｒ17、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ18）Ｒ17、Ｃ1〜Ｃ6アルキルアミノスルホニル又はジ（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）アミノスルホニルが挙げられ、ハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニル、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ18）Ｒ17が好ましい。
Ｌ2としては、単結合、メチレン、エチリデン、プロピリデン、１−メチルエチリデン、ブチリデン、１−メチルプロピリデン、２−メチルプロピリデン、ペンチリデン、１−メチルブチリデン、２−メチルブチリデン、３−メチルブチリデン、ヘキシリデン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン等が好ましい。
Ｑ2としては、水素原子、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル、−Ｎ（Ｒ23）Ｒ22、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ23）Ｒ22、フェニル、（Ｚ）p1によって置換されたフェニル、Ｄ１８〜Ｄ２０、Ｄ４２〜Ｄ４７等が挙げられ、水素原子、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル、−Ｎ（Ｒ23）Ｒ22、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ23）Ｒ22、Ｄ４２〜Ｄ４７等が好ましい。
本明細書における
［Ｒ1bはＲ1aと一緒になってＣ2〜Ｃ6アルキレン鎖を形成することにより、結合する窒素原子と共に３〜７員環を形成してもよいことを表し、このときこのアルキレン鎖は酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を１個含んでもよく、］、
の表記の具体例として、例えばアジリジン、アゼチジン、ピロリジン、オキサゾリジン、チアゾリジン、イミダゾリジン、ピペリジン、モルホリン、チオモルホリン、ピペラジン、ホモピペリジン、ヘプタメチレンイミン等が挙げられ、各々の指定の原子数の範囲で選択される。
本明細書における
［Ｒ1cはＲ1dと一緒になってＣ4〜Ｃ6アルキレン鎖を形成することにより、結合する窒素原子と共に５〜７員環を形成してもよいことを表し、このときこのアルキレン鎖は酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を１個含んでもよく、且つオキソ基又はチオキソ基によって任意に置換されていてもよく、］、
等の表記の具体例として、例えばアジリジン、アゼチジン、アゼチジン−２−オン、ピロリジン、ピロリジン−２−オン、オキサゾリジン、オキサゾリジン−２−オン、オキサゾリジン−２−チオン、チアゾリジン、チアゾリジン−２−オン、チアゾリジン−２−チオン、イミダゾリジン、イミダゾリジン−２−オン、イミダゾリジン−２−チオン、ピペリジン、ピペリジン−２−オン、ピペリジン−２−チオン、２Ｈ−３，４，５，６−テトラヒドロ−１，３−オキサジン−２−オン、２Ｈ−３，４，５，６−テトラヒドロ−１，３−オキサジン−２−チオン、モルホリン、２Ｈ−３，４，５，６−テトラヒドロ−１，３
−チアジン−２−オン、２Ｈ−３，４，５，６−テトラヒドロ−１，３−チアジン−２−チオン、チオモルホリン、ペルヒドロピリミジン−２−オン、ピペラジン、ホモピペリジン、ホモピペリジン−２−オンおよびヘプタメチレンイミン等が挙げられ、各々の指定の原子数の範囲で選択される。
本明細書における
［Ｒ2aとＲ2bとが一緒になってＣ2〜Ｃ5アルキレン鎖を形成することにより、結合する炭素原子と共に３〜６員環を形成してもよいことを表し、このときこのアルキレン鎖は酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を１個含んでもよく、］、
の表記の具体例として、例えばシクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、テトラヒドロフラン環、テトラヒドロチオフェン環、ピロリジン環、シクロヘキサン環、テトラヒドロピラン環、テトラヒドロチオピラン環、ピペリジン環、シクロヘプタン環、オキセパン環、チエパン環、アゼパン環等が挙げられ、各々の指定の原子数の範囲で選択される。
本発明の（３）からの（２）の製造、（４）と（５）とからの（３）の製造および（４）と（５）とから１工程で（２）を製造する際の反応に使用できる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン又はメシチレン等のハロゲン原子で置換されてもよい芳香族炭化水素類、若しくはｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、塩化メチレン又は１，２−ジクロロエタン等のハロゲン原子で置換されてもよい脂肪族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン等のアミン類、ニトロメタン、ニトロエタン、水、超臨界流体等が挙げられ、好ましくはトルエン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、アセトニトリル、プロピオニトリル、酢酸エチル、酢酸ブチル、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、ニトロメタン、水又は超臨界二酸化炭素であり、特に好ましくは（３）からの（２）の製造についてはトルエンであり、（４）と（５）とからの（３）の製造については水、クロロベンゼン、トルエン、ｎ−ヘプタン、トリブチルアミン又は酢酸エチルであり、（４）と（５）とから１工程で（２）を製造する場合についてはトルエンである。これらは単独で使用しても良いし、２種以上を混合して使用しても良い。
斯かる溶媒の使用量は特に限定されないが、芳香族ケトン化合物又は置換アセトフェノン化合物又は１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−３−ヒドロキシプロパン−１−オン化合物１重量部に対して、通常０．０１〜１００重量部、好ましくは０．０５〜５０重量部、特に好ましくは０．１〜１５重量部である。
本発明の反応に使用できる塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化カルシウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、ナトリウムメトキシド、カリウム‐ｔ‐ブトキシド、アンモニア、メチルアミン、エチルアミン、ｎ‐プロピルアミン、ｉ‐プロピルアミン、ｎ‐ブチルアミン、ｉ‐ブチルアミン、ｔ‐ブチルアミン、ｎ‐ペンチルアミン、ｉ‐ペンチルアミン、ベンジルアミン、アニリン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ‐ｎ‐プロピルアミン、ジ‐ｉ‐プロピルアミン、ジ‐ｎ‐ブチルアミン、ジ‐ｉ‐ブチルアミン、ジ‐ｎ‐ペンチルアミン、ジ‐ｉ‐ペンチルアミン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ジベンジルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ‐ｎ‐プロピルアミン、トリ‐ｎ‐ブチルアミン、トリペンチルアミン、トリベンジルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、２‐メチル‐５‐エチルピリジン、４‐ジメチルアミノピリジン、１，８‐ジアザビシクロ［５，４，０］‐７‐ウンデセン、トリエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’‐テトラメチルエチレンジアミン又は１，１，３，３‐テトラメチルグアニジン等が挙げられ、好ましくは（３）からの（２）の製造についてはピリジン、２‐メチル‐５‐エチルピリジン、トリブチルアミン、４‐ジメチルアミノピリジンであり、（４）と（５）とからの（３）の製造を有機溶媒中で行う場合についてはジエチルアミン、ジ‐ｉ‐プロピルアミン、ジ‐ｎ‐プロピルアミン、ジ‐ｎ‐ブチルアミン、ピロリジン、トリエチルアミン、トリ‐ｎ‐ブチルアミンであり、（４）と（５）とからの（３）の製造を水溶媒中で行う場合については炭酸カリウム、炭酸ナトリウムであり、（４）と（５）とから１工程で（２）を製造する場合については炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、トリ‐ｎ‐ブチルアミン、４‐ジメチルアミノピリジン、１，８‐ジアザビシクロ［５，４，０］‐７‐ウンデセン、１，１，３，３‐テトラメチルグアニジンである。これらは単独で使用しても良いし、２種以上を混合して使用しても良い。
斯かる塩基の使用量は特に限定されないが、（３）からの（２）の製造については１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−３−ヒドロキシプロパン−１−オン化合物１モルに対して、通常０．０１〜１００倍モル、好ましくは０．０５〜５０倍モル、特に好ましくは０．０５〜１０倍モルであり、（４）と（５）とからの（３）の製造および（４）と（５）とから１工程で（２）を製造する場合については芳香族ケトン化合物又は置換アセトフェノン化合物１モルに対して、通常０．０１〜５０倍モル、好ましくは０．０５〜２５倍モル、特に好ましくは０．０５〜５倍モルである。
本発明の反応に添加物として使用できる界面活性剤等としては、例えば、以下のものが挙げられる。
（Ａ）ノニオン性界面活性剤：
（Ａ−１）ポリエチレングリコール型界面活性剤：例えば、ポリオキシエチレンアルキル（Ｃ12〜18）エーテル、アルキルナフトールのエチレンオキサイド付加物、ポリオキシエチレン（モノまたはジ）アルキル（Ｃ8〜12）フェニルエーテル、ポリオキシエチレン（モノまたはジ）アルキル（Ｃ8〜12）フェニルエーテルのホルマリン縮合物、ポリオキシエチレン（モノ、ジまたはトリ）フェニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン（モノ、ジまたはトリ）ベンジルフェニルエーテル、ポリオキシプロピレン（モノ、ジまたはトリ）ベンジルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン（モノ、ジまたはトリ）スチリルフェニルエーテル、ポリオキシプロピレン（モノ、ジまたはトリ）スチリルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン（モノ、ジまたはトリ）スチリルフェニルエーテルのポリマー、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマー、アルキル（Ｃ12〜18）ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマーエーテル、アルキル（Ｃ8〜12）フェニルポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマーエーテル、ポリオキシエチレンビスフェニルエーテル、ポリオキシエチレン樹脂酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸（Ｃ12〜18）モノエステル、ポリオキシエチレン脂肪酸（Ｃ12〜18）ジエステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸（Ｃ12〜18）エステル、グリセロール脂肪酸エステルエチレンオキサイド付加物、ヒマシ油エチレンオキサイド付加物、硬化ヒマシ油エチレンオキサイド付加物、アルキル（Ｃ12〜18）アミンエチレンオキサイド付加物および脂肪酸（Ｃ12〜18）アミドエチレンオキサイド付加物等が挙げられる。
（Ａ−２）多価アルコール型界面活性剤：例えば、グリセロール脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ペンタエリスリトール脂肪酸エステル、ソルビトール脂肪酸（Ｃ12〜18）エステル、ソルビタン脂肪酸（Ｃ12〜18）エステル、ショ糖脂肪酸エステル、多価アルコールアルキルエーテルおよび脂肪酸アルカノールアミド等が挙げられる。
（Ａ−３）アセチレン系界面活性剤：例えば、アセチレングリコール、アセチレンアルコール、アセチレングリコールのエチレンオキサイド付加物およびアセチレンアルコールのエチレンオキサイド付加物等が挙げられる。
（Ａ−４）その他の界面活性剤：例えば、アルキルグリコシド等が挙げられる。
（Ｂ）アニオン性界面活性剤：
（Ｂ−１）カルボン酸型界面活性剤：例えば、ポリアクリル酸、ポリメタアクリル酸、ポリマレイン酸、マレイン酸とオレフィン（例えばイソブチレンおよびジイソブチレン等）との共重合物、アクリル酸とイタコン酸の共重合物、メタアクリル酸とイタコン酸の共重合物、マレイン酸とスチレンの共重合物、アクリル酸とメタアクリル酸の共重合物、アクリル酸とアクリル酸メチルエステルとの共重合物、アクリル酸と酢酸ビニルとの共重合物、アクリル酸とマレイン酸の共重合物、Ｎ−メチル−脂肪酸（Ｃ12〜18）サルコシネート、樹脂酸および脂肪酸（Ｃ6〜20）等のカルボン酸、並びにそれらカルボン酸の塩が挙げられる。
（Ｂ−２）硫酸エステル型界面活性剤：例えば、アルキル（Ｃ12〜18）硫酸エステル、ポリオキシエチレンアルキル（Ｃ12〜18）エーテル硫酸エステル、ポリオキシエチレン（モノまたはジ）アルキル（Ｃ8〜12）フェニルエーテル硫酸エステル、ポリオキシエチレン（モノまたはジ）アルキル（Ｃ12〜18）フェニルエーテルのポリマーの硫酸エステル、ポリオキシエチレン（モノ、ジまたはトリ）フェニルフェニルエーテル硫酸エステル、ポリオキシエチレン（モノ、ジまたはトリ）ベンジルフェニルエーテル硫酸エステル、ポリオキシエチレン（モノ、ジまたはトリ）スチリルフェニルエーテル硫酸エステル、ポリオキシエチレン（モノ、ジまたはトリ）スチリルフェニルエーテルのポリマーの硫酸エステル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマーの硫酸エステル、硫酸化油、硫酸化脂肪酸エステル、硫酸化脂肪酸および硫酸化オレフィン等の硫酸エステル、並びにそれら硫酸エステルの塩が挙げられる。
（Ｂ−３）スルホン酸型界面活性剤：例えば、パラフィン（Ｃ12〜22）スルホン酸、アルキル（Ｃ8〜12）ベンゼンスルホン酸、アルキル（Ｃ8〜12）ベンゼンスルホン酸のホルマリン縮合物、クレゾールスルホン酸のホルマリン縮合物、α−オレフィン（Ｃ14〜16）スルホン酸、ジアルキル（Ｃ8〜12）スルホコハク酸、リグニンスルホン酸、ポリオキシエチレン（モノまたはジ）アルキル（Ｃ8〜12）フェニルエーテルスルホン酸、ポリオキシエチレンアルキル（Ｃ12〜18）エーテルスルホコハク酸ハーフエステル、ナフタレンスルホン酸、（モノまたはジ）アルキル（Ｃ1〜6）ナフタレンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物、（モノまたはジ）アルキル（Ｃ1〜6）ナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物、クレオソート油スルホン酸のホルマリン縮合物、アルキル（Ｃ8〜12）ジフェニルエーテルジスルホン酸、イゲポンＴ（商品名）、ポリスチレンスルホン酸およびスチレンスルホン酸とメタアクリル酸の共重合物等のスルホン酸、並びにそれらスルホン酸の塩が挙げられる。
（Ｂ−４）燐酸エステル型界面活性剤：例えば、アルキル（Ｃ8〜12）燐酸エステル、ポリオキシエチレンアルキル（Ｃ12〜18）エーテル燐酸エステル、ポリオキシエチレン（モノまたはジ）アルキル（Ｃ8〜12）フェニルエーテル燐酸エステル、ポリオキシエチレン（モノ、ジまたはトリ）アルキル（Ｃ8〜12）フェニルエーテルのポリマーの燐酸エステル、ポリオキシエチレン（モノ、ジまたはトリ）フェニルフェニルエーテル燐酸エステル、ポリオキシエチレン（モノ、ジまたはトリ）ベンジルフェニルエーテル燐酸エステル、ポリオキシエチレン（モノ、ジまたはトリ）スチリルフェニルエーテル燐酸エステル、ポリオキシエチレン（モノ、ジまたはトリ）スチリルフェニルエーテルのポリマーの燐酸エステル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマーの燐酸エステル、ホスファチジルコリン、ホスファチジルエタノールイミンおよび縮合燐酸（例えばトリポリリン酸等）等の燐酸エステル、並びにそれら燐酸エステルの塩が挙げられる。
上記の（Ｂ−１）〜（Ｂ−４）における塩としては、アルカリ金属（リチウム、ナトリウムおよびカリウム等）、アルカリ土類金属（カルシウムおよびマグネシウム等）、アンモニウムおよび各種アミン（例えばアルキルアミン、シクロアルキルアミンおよびアルカノールアミン等）等が挙げられる。
（Ｃ）カチオン性界面活性剤：
例えば、アルキルアミン塩およびアルキル４級アンモニウム塩等が挙げられる。
（Ｄ）両性界面活性剤：
例えば、ベタイン型界面活性剤およびアミノ酸型界面活性剤等が挙げられる。
（Ｅ）その他の界面活性剤：
例えば、シリコーン系界面活性剤およびフッ素系界面活性剤等が挙げられ、好ましくはソプロフォール（アニオン・ノニオン界面活性剤、ローディア日華商品名）、ソルポール３３５３（非イオン活性剤、東邦化学工業商品名）、エパン（ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール、第一工業製薬商品性）、テトラブチルアンモニウムブロミド、セチルピリジニウムクロリド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド、ドデシルアミン塩酸塩、ドデシル硫酸ナトリウム、ドデカンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸又はその塩、ｐ−トルエンスルホン酸又はその塩、ポリエチレングリコール、ヘキサン酸又はその塩、オクタン酸又はその塩、デカン酸又はその塩、ラウリン酸又はその塩、ミリスチン酸又はその塩、パルミチン酸又はその塩、ステアリン酸又はその塩、オレイン酸又はその塩、プロリン又はその塩、フェニルアラニン又はその塩である。
塩としては、例えば、アルカリ金属（リチウム、ナトリウムおよびカリウム）、アルカリ土類金属（カルシウムおよびマグネシウム）、アンモニウム、ピリジニウムが挙げられる。
斯かる界面活性剤は芳香族ケトン化合物（４）又は置換アセトフェノン化合物（５）１モルに対して、通常０．０００１〜１倍モル、好ましくは０．００１〜１倍モル、特に好ましくは０．０１〜０．５倍モルである。
本発明の反応に添加物として使用できる水に可溶な有機溶媒としては、例えば、ジメチルスルホキシド、スルホラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルエチレン尿素、ヘキサメチルリン酸トリアミド、アセトニトリル、プロピオニトリル、メタノール、エタノール又はニトロメタン等が挙げられ、好ましくはジメチルスルホキシド、スルホラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド、アセトニトリル、メタノール、又はニトロメタンであり、特に好ましくはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル又はメタノールである。これらは単独で使用しても良いし、２種以上を混合して使用しても良い。
斯かる水に可溶な有機溶媒の使用量としては、芳香族ケトン化合物又は置換アセトフェノン化合物１重量部又は水に対して、通常０．０１〜１０重量部、好ましくは０．０５〜５重量部、特に好ましくは０．０５〜３重量部である。
本発明の反応に脱水剤として使用できる化合物としては、例えば、塩化チオニル、塩化スルフリル、塩化メタンスルホニル、塩化ｐ−トルエンスルホニル、塩化ベンゾイル、塩化アセチル、無水酢酸、無水プロピオン酸又は無水安息香酸等が挙げられ、好ましくは塩化チオニル、塩化スルフリル、塩化メタンスルホニル、塩化ベンゾイル、塩化アセチル、無水酢酸又は無水安息香酸である。
斯かる脱水剤の使用量としては、１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−３−ヒドロキシプロパン−１−オン化合物（３）１モルに対して、通常０．１〜１００倍モル、好ましくは０．５〜５０倍モル、特に好ましくは１〜１５倍モルである。
本発明に係る（３）から（２）の製造を実施するには、例えば、反応器に式（３）で表される１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−３−ヒドロキシプロパン−１−オン化合物またはその塩と、トルエンに代表される溶媒、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチル
アミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンに代表される塩基、塩化チオニル、無水酢酸に代表される脱水剤とを仕込み、撹拌下、通常０〜１５０℃、好ましくは２０〜１２０℃で、通常１０分〜１５０時間、好ましくは１〜９６時間程度撹拌させれば良い。
本発明に係る（４）と（５）とからの（３）の製造または（４）と（５）からの一工程での（２）の製造を実施するには、例えば、反応器に式（４）で表される芳香族ケトン化合物と式（５）で表される置換アセトフェノン化合物と、トルエンに代表される溶媒、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミンに代表される塩基とを所定量仕込み、撹拌下、通常０〜１５０℃、好ましくは２０〜１００℃で、通常１０分〜１５０時間、好ましくは１〜９６時間程度撹拌させれば良い。
例えば、反応器に式（４）で表される芳香族ケトン化合物と式（５）で表される置換アセトフェノン化合物と、水、炭酸カリウムに代表される塩基、水に可溶な有機溶媒とを所定量仕込み、撹拌下、通常０〜１００℃、好ましくは２０〜１００℃で、通常１０分〜１５０時間、好ましくは１〜９６時間程度撹拌させれば良い。
例えば、反応器に式（４）で表される芳香族ケトン化合物と式（５）で表される置換アセトフェノン化合物と、水、炭酸カリウムに代表される塩基、界面活性剤等とを所定量仕込み、撹拌下、通常０〜１００℃、好ましくは２０〜１００℃で、通常１０分〜１５０時間、好ましくは１〜９６時間程度撹拌させれば良い。
例えば、反応器に式（４）で表される芳香族ケトン化合物と式（５）で表される置換アセトフェノン化合物と、トルエンに代表される溶媒、炭酸カリウムに代表される塩基とを所定量仕込み、撹拌下、通常０〜１５０℃、好ましくは２０〜１２０℃で、通常１０分〜１５０時間、好ましくは１〜１２０時間程度撹拌させれば良い。
例えば、反応器に式（４）で表される芳香族ケトン化合物と式（５）で表される置換アセトフェノン化合物と、トルエンに代表される溶媒、トリ−ｎ−ブチルアミン、４‐ジメチルアミノピリジンに代表される塩基、無水安息香酸に代表される脱水剤を所定量仕込み、撹拌下、通常０〜１５０℃、好ましくは２０〜１２０℃で、通常１０分〜１５０時間、好ましくは１〜１２０時間程度撹拌させれば良い。
なかでも、好ましい実施態様としては、例えば、溶媒が有機溶媒であり、添加物の非存在下で行う場合、溶媒が水であり、添加物として水に可溶な有機溶媒の存在下で行う場合、および、溶媒が水であり、添加物として界面活性剤の存在下で行う場合などが挙げられる。
なお、（４）と（５）から（３）を経由して（２）をワンポットで製造するには、溶媒として有機溶媒を用い、反応温度を８０℃を超える温度にすることが好ましい。または、（４）と（５）から製造した（３）を単離せずに、反応液に無水安息香酸に代表される脱水剤を添加することで、（２）を１工程で製造することもできる。
一般式（４）で表される化合物は、例えば以下の方法により製造することが出来る。
反応式１
Figure 0005843075
 すなわち、公知の一般式（６）［式中、Ｘは前記と同じ意味を表し、Ａ5、Ａ6およびＡ7はそれぞれ独立にＣ−Ｘを表す。］で表される化合物と公知の一般式（７）［式中、Ｒ1は前記と同じ意味を表し、Ｊ4はハロゲン原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、２−ピリジルオキシ基等の脱離基を表す。］で表される化合物又は公知の一般式（８）［式中、Ｒ1は前記と同じ意味を表す。］で表される化合物とを文献記載の一般的な芳香環のアシル化反応、例えばケミストリー・レターズ［Ｃｈｅｍ． Ｌｅｔｔ．］１９９０年、７８３頁、ザ・ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー［Ｊ． Ｏｒｇ． Ｃｈｅｍ．］１９９１年、５６巻、１９６３頁等に記載の方法に準じて反応させることにより、一般式（４）［式中、Ｘ，Ｒ1、Ａ5、Ａ6およびＡ7は前記と同じ意味を表す。］で表される化合物を得ることができる。
或いは、公知の一般式（９）［式中、Ｘは前記と同じ意味を表し、Ａ5、Ａ6およびＡ7はそれぞれ独立にＣ−ＸまたはＮを表し、Ｊ3は臭素原子又はヨウ素原子を表す。］で表される化合物を文献記載の一般的な方法、例えばリチオ化した後、公知の一般式（１０）［式中、Ｒ1は前記と同じ意味を表し、Ｊ5はハロゲン原子、水酸基、金属塩（例えば、−ＯＬｉ、−ＯＮａ）、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基）、ジ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）アミノ基（例えば、ジエチルアミノ基）、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）アミノ基（例えば、Ｏ，Ｎ−ジメチルヒドロキシアミノ基）又は環状アミノ基（例えば、ピペリジン−１−イル基、モルホリン−４−イル基、４−メチルピペラジン−１−イル基）を表す。］で表される化合物又は公知の一般式（８）で表される化合物と反応させるジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティー［Ｊ． Ａｍ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ．］１９５５年、７７巻、３６５７頁、テトラヘドロン・レターズ［Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．］１９８０年、２１巻、２１２９頁及び１９９１年、３２巻、２００３頁、アメリカ合衆国特許出願公報（ＵＳ ５，５１４，８１６号公報）等に記載の方法、或いはグリニャール反応剤を形成した後、一般式（１０）で表される化合物又は一般式（８）で表される化合物と反応させるヘテロサイクルズ［Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ］１９８７年、２５巻、２２１頁、シンセティック・コミュニケーションズ［Ｓｙｎｔｈ． Ｃｏｍｍｕｎ．］１９８５年、１５巻、１２９１頁及びドイツ国特許出願公報（ＤＥ １９７２７０４２号公報）等に記載の方法に準じて反応させることにより、一般式（４）で表される化合物を得ることもできる。
また、一般式（４）において、Ｒ1がトリフルオロメチル基である一般式（３‐１）は次のようにして合成することもできる。
反応式２
Figure 0005843075
 すなわち、公知の一般式（１１）［式中、Ｘ、Ａ5、Ａ6およびＡ7は前記と同じ意味を表し、Ｊ6はハロゲン原子又はＣ1〜Ｃ4アルコキシ基（例えばメトキシ基）を表す］で表される化合物と公知の一般式（１２）［Ｊ7はトリ（Ｃ1〜Ｃ4アルキルシリル基（例えばトリメチルシリル基）を表す。］で表される化合物を文献記載の公知の方法、例えば、ザ・ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー［Ｊ． Ｏｒｇ． Ｃｈｅｍ．］１９９９年、６４巻、２８７３頁、ザ・ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー［Ｊ． Ｏｒｇ． Ｃｈｅｍ．］１９９１年、５６巻、９８４頁等に記載の方法に準じて反応させることにより、一般式（４−１）［式中、Ｘ、Ａ5、Ａ6およびＡ7は前記と同じ意味を表す。］で表される化合物を得ることもできる。
これらの各反応においては、反応終了後、通常の後処理を行なうことにより原料化合物となる各々の製造中間体を得ることができる。
また、これらの方法により製造された各々の製造中間体は、単離・精製することなく、それぞれそのまま次工程の反応に用いることもできる。
本発明の（２）から（１）を製造する際の反応に使用できる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン又はメシチレン等のハロゲン原子で置換されてもよい芳香族炭化水素類、若しくはｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン又はメチルシクロヘキサン等のハロゲン原子で置換されてもよい脂肪族炭化水素類等が挙げられ、好ましくはトルエン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン、塩化メチレン又はクロロベンゼンであり、特に好ましくはトルエン、ｎ−ヘプタン又は塩化メチレンである。これらは単独で使用しても良いし、２種以上を混合して使用しても良い。
斯かる溶媒の使用量は特に限定されないが、１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−２−プロペン−１−オン化合物（２）１重量部に対して、通常０．１〜１００重量部、好ましくは１〜５０重量部、特に好ましくは２〜１５重量部である。
ヒドロキシルアミンは、例えば、塩酸塩、硫酸塩又は酢酸塩のような酸の塩の形で使用しても良いし、適当な濃度の水溶液を使用しても良い。
斯かるヒドロキシルアミンの使用量は、１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−２−プロペン−１−オン化合物（２）１モルに対して、通常０．５〜１００倍モル、好ましくは１〜１０倍モル、特に好ましくは１〜２倍モルである。
本発明の反応に添加物として使用できる非プロトン性極性溶媒としては、例えば、ジメチルスルホキシド、スルホラン、エチレンカルボナート、プロピレンカルボナート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルエチレン尿素、Ｎ，Ｎ’−ジメチルプロピレン尿素、ヘキサメチルリン酸トリアミド、ニトロメタン、ピリジン、２‐メチル‐５‐エチルピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、１，８‐ジアザビシクロ［５，４，０］‐７‐ウンデセン、１，５‐ジアザビシクロ［４，３，０］‐５‐ノネン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’‐テトラメチルエチレンジアミン又はニトロベンゼン等が挙げられる。これらは単独で使用しても良いし、２種以上を混合して使用しても良い。
斯かる非プロトン性極性溶媒の使用量としては、１，３−ビス（置換フェニル）−３−
置換−２−プロペン−１−オン化合物（２）１重量部に対して、通常０．１〜１００重量部、好ましくは０．５〜５０重量部、特に好ましくは１〜１５重量部である。
本発明の反応に添加物として使用できる相間移動触媒としては、例えば、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムクロリド、水酸化テトラプロピルアンモニウム、硫酸水素テトラブチルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド（ＡＬＩＱＵＡＴＲ ３３６）、セチルピリジニウムクロリド、１８−クラウン−６、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリフェニルホスホニウムクロリド又はエチルトリフェニルホスホニウムアセテートである。
斯かる相間移動触媒は１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−２−プロペン−１−オン化合物（２）１モルに対して、通常０．０００１〜１０倍モル、好ましくは０．０００５〜１倍モルである。
本発明の反応に添加物として使用できるＣ1〜Ｃ6アルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はペンタノール等が挙げられ、好ましくはメタノール又はエタノールである。
斯かるＣ1〜Ｃ6アルコールの使用量としては、１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−２−プロペン−１−オン化合物（２）１重量部に対して、通常０．１〜１００重量部、好ましくは０．５〜５０重量部、特に好ましくは１〜１５重量部である。
本発明の反応に使用できる塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、酢酸ナトリウム、ナトリウムメトキシド、カリウム−ｔ−ブトキシド、ピリジン、２‐メチル‐５‐エチルピリジン、ピペリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、４‐ジメチルアミノピリジン、１，８‐ジアザビシクロ［５，４，０］‐７‐ウンデセン、１，５‐ジアザビシクロ［４，３，０］‐５‐ノネン、トリエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’‐テトラメチルエチレンジアミン、ピロリジン又は１，１，３，３‐テトラメチルグアニジン等が挙げられる。
本発明に係る反応を実施するには、例えば、反応器に式（２）で表される１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−２−プロペン−１−オン化合物と、非プロトン性極性溶媒、相間移動触媒およびＣ1〜Ｃ6アルコールである添加物と、トルエンに代表される溶媒とを所定量仕込み、撹拌下、通常−７０〜１００℃、好ましくは−４０〜５０℃で別途、塩基、水およびヒドロキシルアミンを混合した溶液を滴下し、通常１０分〜１２０時間、好ましくは１〜４８時間程度反応させればよい。
次に、本願発明の出発物質として用いることのできる式（４）で表される芳香族ケトン化合物の具体例を下記化合物一覧−１に示すが、本発明はこれらのみに限定されるものではない。
化合物一覧−１
Figure 0005843075
 化合物一覧−１（続き）
Figure 0005843075
次に、本願発明の出発物質として用いることのできる式（５）で表される置換アセトフェノン化合物および式（２）で表される１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−２−プロペン−１−オン化合物の具体例を下記化合物一覧−２に示すが、本発明はこれらのみに限定されるものではない。
化合物一覧−２
Figure 0005843075
化合物一覧−２（続き、１）
Figure 0005843075
化合物一覧−２（続き、２）
Figure 0005843075
化合物一覧−２（続き、３）
Figure 0005843075
化合物一覧−２（続き、４）
Figure 0005843075
尚、化合物一覧−２中、Ｅｔとの記載はエチル基を表し、以下同様にｎ−Ｐｒ及びＰｒ−ｎはノルマルプロピル基を、ｉ−Ｐｒ及びＰｒ−ｉはイソプロピル基を、ｃ−Ｐｒ及びＰｒ−ｃはシクロプロピル基を、Ｐｈはフェニル基をそれぞれ表し、
化合物一覧−２中の置換基Ｙ及びＲ2の具体例を表１に示す。表１中、Ｄ−１ａ〜Ｄ−５０ａで表される芳香族複素環は、それぞれ下記の構造を表し、
Figure 0005843075
Figure 0005843075
Figure 0005843075
Figure 0005843075
Figure 0005843075
 例えば、［ＣＨ2（Ｄ−１４ａ）ＣＨ3］の表記は、１−メチルピラゾール−５−イルメチル基を表し、［ＣＨ2（Ｄ−１９ｂ）ＣＨ3］の表記は、２−メチルチアゾール−４−イルメチル基を表す。
また、表１中、Ｅ−１ａ〜Ｅ−８ｂで表される脂肪族複素環は、それぞれ下記の構造を表し、
Figure 0005843075
 例えば、［ＣＨ2（Ｅ−５ｂ）ＣＨ3］の表記は、２−メチル−１，３−ジオキソラン−２−イルメチル基を表す。
Figure 0005843075
表１中、−の表記は、無置換を表す。
表１
Figure 0005843075
表１（続き１）
Figure 0005843075
表１（続き２）
Figure 0005843075
表１（続き３）
Figure 0005843075
表１（続き４）
Figure 0005843075
表１（続き５）
Figure 0005843075
表１（続き６）
Figure 0005843075
表１（続き７）
Figure 0005843075
表１（続き８）
Figure 0005843075
表１（続き９）
Figure 0005843075
表１（続き１０）
Figure 0005843075
表１（続き１１）
Figure 0005843075
表１（続き１２）
Figure 0005843075
表１（続き１３）
Figure 0005843075
表１（続き１４）
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表１（続き１５）
Figure 0005843075
表１（続き１６）
Figure 0005843075
表１（続き１７）
Figure 0005843075
表１（続き１８）
Figure 0005843075
表１（続き１９）
Figure 0005843075
表１（続き２０）
Figure 0005843075
表１（続き２１）
Figure 0005843075
表１（続き２２）
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表１（続き２３）
Figure 0005843075
表１（続き２４）
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表１（続き２５）
Figure 0005843075
表１（続き２６）
Figure 0005843075
表１（続き２７）
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表１（続き２８）
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表１（続き２９）
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表１（続き３０）
Figure 0005843075
表１（続き３１）
Figure 0005843075
表１（続き３２）
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表１（続き３３）
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表１（続き３４）
Figure 0005843075
表１（続き３５）
Figure 0005843075
表１（続き３６）
Figure 0005843075
表１（続き３７）
Figure 0005843075
表１（続き３８）
Figure 0005843075
表１（続き３９）
Figure 0005843075
表１（続き４０）
Figure 0005843075
表１（続き４１）
Figure 0005843075
表１（続き４２）
Figure 0005843075
表１（続き４３）
Figure 0005843075
表１（続き４４）
Figure 0005843075
表１（続き４５）
Figure 0005843075
式（２）で表されるα、β−不飽和カルボニル化合物の具体例としては、上記以外にも
３−ペンテン−２−オン、ホロン、イソホロン、ジイソプロピリデンアセトン、ベンザルアセトン、４−（２−フリル）−３−ブテン−２−オン、１，３−ジフェニル−２−プロペン−１−オン、１−フェニル−３−（３−ニトロフェニル）−２−プロペン−１−オン、１−（３−クロロフェニル）−３−（４−ニトロフェニル）−２−プロペン−１−オン、１−フェニル−３−（ｐ−ビフェニル）−２−プロペン−１−オン、１−（ナフタレン−２−イル）−３−フェニル−２−プロペン−１−オン、３−［４−（メチルスルホニル）フェニル］−１−フェニル−２−プロペン−１−オン、４−（３−オキソ−３−フェニル−１−プロペン−１−イル）ベンゾニトリル、１−（３−フルオロフェニル）−３−（フラン−２−イル） −２−プロペン−１−オン、４−（３−オキソ−３−フェニル−１−プロペン−１−イル）安息香酸メチル等が挙げられる。
以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこれらのみによって限定されるものではない。
［合成例］
原料合成例１
３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノンの合成。
工程１；３，５−ジクロロ安息香酸メチルの合成
３，５−ジクロロ安息香酸５０ｇのメタノール１２０ｇ溶液に濃硫酸１０ｇを添加し、５時間加熱還流を行った。反応液を室温まで冷却した後、溶媒を減圧下で留去した。得られた残留物を酢酸エチル２００ｇに溶解し、水洗浄（２００ｇ×２）、次いで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、さらに水洗浄を行った。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下で留去することにより、目的物４８．６ｇを白色固体として得た。
1H NMR (CDCl3, Me4Si, 300MHz) δ7.90 (s, 2H), 7.54 (s, 1H), 3.94 (s, 3H)。
工程２；３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノンの合成
３，５−ジクロロ安息香酸メチル２５ｇおよびトリフルオロメチルトリメチルシラン２２．５ｇのジメトキシエタン３００ｇ溶液に、氷冷下でフッ化セシウム０．３７ｇを添加後、室温まで昇温し、４時間撹拌した。原料消失確認後、反応液に水２００ｇを投入し、酢酸エチル２００ｇにて抽出した。有機層を飽和食塩水次いで無水硫酸マグネシウムの順で脱水・乾燥した後、減圧下で溶媒を留去することにより、１−（３，５−ジクロロフェニル）−２，２，２−トリフルオロ−１−トリメチルシリルオキシ−１−メトキシエタン３５．５ｇを黄色液体粗物として得た。得られた粗物をテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶解し、室温にてテトラブチルアンモニウムフルオライドの１Ｍテトラヒドロフラン１００ｍｌ溶液９．７５ｍｌを滴下し、同温度にて２時間撹拌した。反応完了後、減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を酢酸エチルに溶解し、有機層を水洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物を減圧蒸留精製することにより、目的物２４．２ｇを無色液体として得た。
沸点８７℃（１．７ｋＰａ）
1H NMR (CDCl3, Me4Si, 300MHz) δ7.92-7.93 (m, 2H), 7.70-7.71 (m, 1H)。
原料合成例２
４−アセチル−２−メチル安息香酸の合成
工程１：４−アセチル−２−メチルアニリンの合成
４’−アセチル−２’−メチルアセトアニリド３８．１ｇ（１９９ｍｍｏｌ）と水２６７ｇの懸濁溶液に室温にて９５％硫酸４１．２ｇ（３９８ｍｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後、８５℃に昇温し、５時間攪拌した。反応終了後、室温まで冷却した硫酸溶液をＨＰＬＣによる定量分析法で分析したところ、４−アセチル−２−メチルアニリンの含有量は
２７．０ｇであった。（収率９１％）
工程２：４’−ブロモ−３’−メチルアセトフェノンの合成
４−アセチル−２−メチルアニリン２７．０ｇ（１８１ｍｍｏｌ）の硫酸溶液にアセトニトリル２７．０ｇを加え、０℃に冷却し、亜硝酸ナトリウム１３．１ｇ（１９０ｍｍｏｌ）を水２６．２ｇに溶解させた水溶液を滴下した。０℃にて１時間反応させた後、尿素１．１ｇ（１８ｍｍｏｌ）を水２．２ｇに溶解させた水溶液を滴下し、さらに３０分間攪拌し、硫酸４−アセチル−２−メチルベンゼンジアゾニウムの水溶液を得た。もう一方の反応容器に臭化銅５．１８ｇ（３６ｍｍｏｌ）、４７％臭化水素酸６２．２ｇ（３６２ｍｍｏｌ）およびアセトニトリル８１．０ｇを加え、５０℃にて攪拌している中に、硫酸４−アセチル−２−メチルベンゼンジアゾニウムの水溶液を１時間かけて滴下した。滴下終了後、５０℃にて１時間反応させた後、トルエン８１ｇを加え３０分間攪拌し、水層を分離した。水層に５４ｇのトルエンを加え再び抽出し、合わせたトルエン溶液を１４％アンモニア水５４ｇで２回、水５４ｇで１回洗浄し、４’−ブロモ−２’−メチルアセトフェノンのトルエン溶液を得た。減圧下溶媒を留去した後、１．５ｋＰａにて減圧蒸留し、得られた流出ガス温１３０℃から１３７℃の留分３２．８ｇをＨＰＬＣで分析したところ、４’−ブロモ−３’−メチルアセトフェノンの相対面積１００分率は９９．１％であった。（収率８４％）
工程３：４−アセチル−２−メチル安息香酸の合成
耐圧性の反応容器に４’−ブロモ−３’−メチルアセトフェノン６３．９ｇ（３００ｍｍｏｌ）、トルエン２５６ｇ、水３２ｇ、炭酸カリウム４５．５ｇ（３３０ｍｍｏｌ）、テトラ（ｎ−ブチル）アンモニウムブロミド９．６６ｇ（３０ｍｍｏｌ）、活性炭担持５％パラジウム１．４５ｇ（含水率５５．９５重量％）および１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン０．３７２ｇ（０．９０ｍｍｏｌ）を加え、一酸化炭素にて０．８ＭＰａに加圧し、１２０℃にて７時間反応させた。室温まで冷却後、反応容器内を窒素置換し、大気圧まで減圧し、水２２４ｇを加え３０分間攪拌した。触媒をセライトろ過し、有機層を分離した。水層に３５％塩酸４３．８ｇ（４２０ｍｍｏｌ）を加えて得られたスラリーをろ過した後、減圧下乾燥し４−アセチル−２−メチル安息香酸４８．１ｇを白色結晶として得た。（収率９０％）
原料合成例２−２
４−アセチル−２−メチル安息香酸の合成（その２）
４−ブロモ−２−メチル安息香酸２１．５ｇ（１００ｍｍｏｌ）とｎ−ブタノール６４．５ｇの懸濁溶液に炭酸カリウム１６．６ｇ（１２０ｍｍｏｌ）、ｎ−ブチルビニルエーテル３０．１ｇ（３００ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム４４．９ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）及び１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン０．２４７ｇ（０．６ｍｍｏｌ）を加え、反応容器内を脱気、窒素置換した後、５時間還流させた。８０℃まで冷却後、減圧下、ｎ−ブタノール及びｎ−ブチルビニルエーテルを留去し、トルエン１７２ｇ及び水１０８ｇを加えた後、濃塩酸１５．６ｇ（１５０ｍｍｏｌ）を加え中和し、水層を分離して得られたトルエン溶液をＨＰＬＣを用いた定量分析法で分析したところ、４−アセチル−２−メチル安息香酸の含有量は１６．９ｇ（収率９５％）であった。
原料合成例３
４−アセチル−２−メチル安息香酸アミドの合成
工程１：４−アセチル−２−メチル安息香酸クロリドの合成
４−アセチル−２−メチル安息香酸５．０ｇにジクロロメタン２８ｍｌ、塩化オキサリル４ｍｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１滴を加え、室温で３時間撹拌した。減圧下溶媒を留去し、粗４−アセチル−２−メチル安息香酸クロリド５．６ｇを得た。
1H-NMR (CDCl3, Me4Si, 400MHz) δ8.26 (d, J = 8.2Hz, 1H), 7.82-7.91 (m, 2H), 2.65
(s, 3H), 2.63 (s, 3H)。
工程２：４−アセチル−２−メチル安息香酸アミドの合成
濃アンモニア水２ｇにジクロロメタン２１ｍｌを加え、氷冷した。これに、粗４−アセチル−２−メチル安息香酸クロリド１．３９ｇのジクロロメタン３ｍｌ溶液をゆっくりと添加し、氷冷のまま２時間撹拌した。反応液にテトラヒドロフラン２４ｍｌを加え、室温にてさらに２時間撹拌した。ついで、減圧下溶媒の大部分を留去し、スラリーとなっている反応液を濾過して、固体を水およびトルエンで洗浄した。固体を減圧下乾燥して４−アセチル−２−メチル安息香酸アミド１．０３ｇを得た。
1H-NMR (CDCl3, Me4Si, 400MHz) δ7.76-7.84 (m, 2H), 7.53 (d, J = 7.9Hz, 1H), 5.87
(br s. 1H), 5.81 (br s, 1H), 2.56 (s, 3H), 2.55 (s, 3H)。
融点 １５２−１５４℃
〔実施例１−１〕
１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オンの合成
〔実施例１−１−１〕
国際公開第９６／１９４７７号パンフレットの方法に準じて合成できる４−ブロモ−３−メチルアセトフェノン２．１３ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン２．４３ｇ、ｎ−ヘプタン４．８６ｇ、トリエチルアミン０．２０ｇを仕込み、６０℃にて１４時間撹拌した。反応液中に生じた固体を減圧下濾取し、固体をｎ−ヘプタン１ｍｌで洗浄した。減圧下乾燥し、白色固体として１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オン４．１５ｇを得た。
〔実施例１−１−２〕
４−ブロモ−３−メチルアセトフェノン６．３９ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン７．２９ｇ、ｎ−ヘプタン１９．２ｇ、トリブチルアミン５．５６ｇを仕込み、６０℃にて９時間撹拌した。反応液中に生じた固体を減圧下濾取し、固体をｎ−ヘプタン６．４ｇで洗浄した。減圧下乾燥し、白色固体として１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オン１０．９ｇを得た。
〔実施例１−１−３〕
４−ブロモ−３−メチルアセトフェノン０．２６ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン０．３０ｇ、クロロベンゼン０．７５ｇ、トリブチルアミン０．２２ｇを仕込み、室温にて９６時間撹拌した。反応液中に生じた固体を減圧下濾取した。減圧下乾燥し、白色固体として１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オン０．４３ｇを得た。
〔実施例１−１−４〕
４−ブロモ−３−メチルアセトフェノン５．３３ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン６．０８ｇ、トルエン６．０８ｇ、トリブチルアミン１．３９ｇを仕込み、６０℃にて１３時間撹拌した。反応液中に生じた固体を減圧下濾取した。減圧下乾燥し、白色固体として１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オン１０．１６ｇを得た。
〔実施例１−１−５〕
４−ブロモ−３−メチルアセトフェノン１．０７ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン１．２２ｇ、トリブチルアミン５．０ｇを仕込み、室温にて２１時間撹拌した。反応液中に生じた固体を減圧下濾取し、固体をｎ−ヘプタン１．５ｍｌで洗浄した。減圧下乾燥し、白色固体として１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オン２．０１ｇを得た。
〔実施例１−１−６〕
４−ブロモ−３−メチルアセトフェノン１．０７ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン１．２２ｇ、蒸留水３．６６ｇ、炭酸カリウム０．１４ｇ、ラウリン酸ナトリウム３３ｍｇを仕込み、７０℃にて１２時間撹拌した。反応液中に生じた固体を減圧下濾取し、固体を蒸留水２ｍｌで洗浄した。減圧下乾燥し、白色固体として１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オン２．１０ｇを得た。
〔実施例１−１−７〕
４−ブロモ−３−メチルアセトフェノン１．２８ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン１．４６ｇ、蒸留水４．３８ｇ、炭酸カリウム０．１７ｇ、デカン酸ナトリウム３５ｍｇを仕込み、８０℃にて６時間撹拌した。スラリーとなっている反応液にトルエン８．２２ｇ、濃塩酸０．４ｍｌを加えた。有機層を少量採り、アセトニトリルで希釈し、高速液体クロマトグラフィーにて分析した。１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オンの面積百分率は９６．１％であった（ＵＶ検出器にて２２０ｎｍの波長で検出した。トルエンのピークは除外して計算した。）。
〔実施例１−１−８〕
４−ブロモ−３−メチルアセトフェノン１．０７ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン１．２ｇ、蒸留水３．６６ｇ、炭酸カリウム０．１４ｇ、ラウリン酸ナトリウム３３ｍｇを仕込み、７０℃にて１４時間撹拌した。スラリーとなっている反応液を減圧下濾過し、固体を蒸留水で洗浄した。減圧下乾燥し、白色固体として１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オン２．１０ｇを得た。
〔実施例１−１−９〕
４−ブロモ−３−メチルアセトフェノン０．４４ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン０．５０ｇ、蒸留水５．０ｇ、炭酸カリウム０．１４ｇ、ドデカンスルホン酸ナトリウム２７ｍｇを仕込み、８０℃にて６時間撹拌した。スラリーとなっている反応液を少量採り、アセトニトリルで希釈し、高速液体クロマトグラフィーにて分析した。１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オンの面積百分率は９４．５％であった（ＵＶ検出器にて２２０ｎｍの波長で検出した。）。
〔実施例１−１−１０〕
４−ブロモ−３−メチルアセトフェノン０．６４ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン０．７３ｇ、蒸留水２．１９ｇ、炭酸カリウム８３ｍｇ、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム１１ｍｇを仕込み、８０℃にて５時間撹拌した。スラリーとなっている反応液にトルエン４．１１ｇ、濃塩酸０．３ｍｌを加えた。有機層を少量採り、アセトニトリルで希釈し、高速液体クロマトグラフィーにて分析した。１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オンの面積百分率は９５．７％であった
（ＵＶ検出器にて２２０ｎｍの波長で検出した。トルエンのピークは除外して計算した。）。
〔実施例１−１−１１〕
４−ブロモ−３−メチルアセトフェノン４．２６ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン４．８６ｇ、蒸留水２０．０ｇ、炭酸カリウム１．３８ｇ、ドデシル硫酸ナトリウム０．２９ｇを仕込み、８０℃にて５時間撹拌した。スラリーとなっている反応液にトルエン２０．０ｇ、濃塩酸０．４ｍｌを加えた。さらに、８０℃で２時間撹拌し、分液した。有機層を少量採り、アセトニトリルで希釈し、高速液体クロマトグラフィーにて分析した。１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オンの面積百分率は９４．２％であった（ＵＶ検出器にて２２０ｎｍの波長で検出した。トルエンのピークは除外して計算した。）。
〔実施例１−１−１２〕
４−ブロモ−３−メチルアセトフェノン１．０７ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン１．２２ｇ、蒸留水７．３２ｇ、炭酸カリウム０．３５ｇ、メタノール０．７２ｇを仕込み、７０℃にて８時間撹拌した。スラリーとなっている反応液にトルエン９．１６ｇ、濃塩酸０．５ｍｌを加えた。有機層を少量採り、アセトニトリルで希釈し、高速液体クロマトグラフィーにて分析した。１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オンの面積百分率は９１．７％であった（ＵＶ検出器にて２２０ｎｍの波長で検出した。トルエンのピークは除外して計算した。）。
〔実施例１−１−１３〕
４−ブロモ−３−メチルアセトフェノン０．６４ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン０．７３ｇ、蒸留水４．３８ｇ、炭酸カリウム０．２１ｇ、Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド０．４４ｇを仕込み、７０℃にて７時間撹拌した。スラリーとなっている反応液にトルエン４．１１ｇ、濃塩酸０．６ｍｌを加えた。有機層を少量採り、アセトニトリルで希釈し、高速液体クロマトグラフィーにて分析した。１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オンの面積百分率は９５．０％であった（ＵＶ検出器にて２２０ｎｍの波長で検出した。トルエンおよびＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミドのピークは除外して計算した。）。
〔実施例１−２〕
４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタノイル）−２−メチル安息香酸およびその塩の合成
〔実施例１−２−１〕
４−アセチル−２−メチル安息香酸０．５３ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン０．７３ｇ、蒸留水３．６５ｇ、炭酸カリウム０．４８ｇ、ラウリン酸ナトリウム３３ｍｇを仕込み、６０℃にて９時間撹拌した。スラリーとなっている反応液に濃塩酸０．８ｍｌを加え、固体を酢酸エチル１０ｍｌにて抽出した。有機層を減圧下濃縮し、黄色固形物１．２７ｇを得た。これをｎ−ヘプタン５ｍｌ、酢酸エチル０．５ｍｌの混合液で洗浄し、肌色固体として４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタノイル）−２−メチル安息香酸１．１７ｇを得た。
1H-NMR (CDCl3, Me4Si, 400MHz) δ8.17 (d, J = 8.2Hz, 1H), 7.79-7.87 (m, 2H), 7.48-7.52 (m, 2H), 7.36 (t, J = 1.8Hz, 1H), 5.61 (br s, 1H), 3.89 (d, J = 17.4Hz, 1H), 3.72 (d, J = 17.4Hz, 1H), 2.74 (s, 3H)。
融点 １７１−１７２℃
〔実施例１−２−２〕
４−アセチル−２−メチル安息香酸４．４６ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン６．０８ｇ、トルエン１８．２ｇ、トリエチルアミン３．７９ｇを仕込み、６０℃にて１３時間撹拌した。スラリーとなっている反応液にトルエン１２．２ｇを追加し、室温まで冷却した。反応液を減圧下濾過し、固体を少量のトルエンで洗浄した。減圧下乾燥し、白色固体として４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタノイル）−２−メチル安息香酸 トリエチルアミン塩１１．３ｇを得た。
1H-NMR (CDCl3, Me4Si, 400MHz) δ7.67-7.76 (m, 3H), 7.49 (d, J = 1.8Hz, 2H), 7.33
(t, J = 1.8Hz, 1H), 5.98 (br s, 1H), 3.85 (d, J = 17.4Hz, 1H), 3.63 (d, J = 17.4Hz, 1H), 3.12 (q, J = 7.1Hz, 6H), 2.58 (s, 3H), 1.34 (t, J = 7.1Hz, 9H)。
融点 １１４−１１５℃
〔実施例１−２−３〕
４−アセチル−２−メチル安息香酸０．５４ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン０．７４ｇ、トルエン１．４８ｇ、ジエチルアミン０．３４ｇを仕込み、６０℃にて１３時間撹拌した。スラリーとなっている反応液にトルエンを１．４８ｇ追加し、室温まで冷却した。反応液を減圧下濾過し、固体を少量のトルエンで洗浄した。減圧下乾燥し、白色固体として４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタノイル）−２−メチル安息香酸 ジエチルアミン塩１．４２ｇを得た。
融点 １１２−１１３℃
〔実施例１−２−４〕
４−アセチル−２−メチル安息香酸０．５４ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン０．７４ｇ、トルエン１．４８ｇ、ジ−ｎ−プロピルアミン０．４６ｇを仕込み、６０℃にて６時間撹拌した。スラリーとなっている反応液にトルエン１．４８ｇを追加し、室温まで冷却した。反応液を減圧下濾過し、固体を少量のトルエンで洗浄した。減圧下乾燥し、白色固体として４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタノイル）−２−メチル安息香酸 ジ−ｎ−プロピルアミン塩１．４８ｇを得た。
融点 １３３−１３５℃
〔実施例１−２−５〕
４−アセチル−２−メチル安息香酸０．５４ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン０．７４ｇ、トルエン１．４８ｇ、ジ−ｉ−プロピルアミン０．４６ｇを仕込み、６０℃にて６時間撹拌した。スラリーとなっている反応液にトルエン１．４８ｇを追加し、室温まで冷却した。反応液を減圧下濾過し、固体を少量のトルエンで洗浄した。減圧下乾燥し、白色固体として４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタノイル）−２−メチル安息香酸 ジ−ｉ−プロピルアミン塩１．３９ｇを得た。
融点 １３５−１３７℃
〔実施例１−２−６〕
４−アセチル−２−メチル安息香酸０．５４ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン０．７４ｇ、トルエン１．４８ｇ、ピロリジン０．４６ｇを仕込み、６０℃にて６時間撹拌した。スラリーとなっている反応液にトルエン１．４８ｇを追加し、室温まで冷却した。反応液を減圧下濾過し、固体を少量のトルエンで洗浄した
。減圧下乾燥し、白色固体として４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタノイル）−２−メチル安息香酸 ピロリジン塩１．３２ｇを得た。
融点 １５６−１５８℃
〔実施例１−２−７〕
４−アセチル−２−メチル安息香酸３．０ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン４．５ｇ、酢酸エチル１５．０ｇ、ジエチルアミン１．８５ｇを仕込み、５０℃にて４時間撹拌した。スラリーとなっている反応液にトルエンを９．０ｇ追加し、室温まで冷却し、さらに０℃まで冷却して、０℃で３０分攪拌した。反応液を減圧下濾過し、固体を少量のトルエンで洗浄した。減圧下乾燥し、白色固体として４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタノイル）−２−メチル安息香酸 ジエチルアミン塩７．６３ｇを得た。
〔実施例１−３〕
４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタノイル）−２−メチル安息香酸アミドの合成
〔実施例１−３−１〕
４−アセチル−２−メチル安息香酸アミド０．３５ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン０．４９ｇ、トルエン１．７２ｇ、トリ−ｎ−ブチルアミン０．１９ｇを仕込み、６０℃にて２５時間撹拌した。室温まで放冷し、スラリーとなっている反応液を減圧下濾過し、固体を少量のトルエンで洗浄した。減圧下乾燥し、淡黄色固体として４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタノイル）−２−メチル安息香酸アミド０．６５ｇを得た。
1H-NMR (CDCl3, Me4Si, 400MHz) δ7.74-7.81 (m, 2H), 7.56 (d, J = 8.6Hz, 1H), 7.47-7.51 (m, 2H), 7.36 (t, J = 1.8Hz, 1H), 5.93 (br s, 1H), 5.79 (br s, 1H), 5.68 (br s, 1H), 3.84 (d, J = 17.4Hz, 1H), 3.68 (d, J = 17.6Hz, 1H), 2.57 (s, 3H) 。
融点 １５２−１５４℃
〔実施例１−３−２〕
４−アセチル−２−メチル安息香酸アミド０．３５ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン０．４９ｇ、蒸留水２．９６ｇ、炭酸カリウム８３ｍｇ、ラウリン酸ナトリウム１３ｍｇを仕込み、７０℃にて５．５時間撹拌した。室温まで放冷し、スラリーとなっている反応液を減圧下濾過し、固体を少量の蒸留水で洗浄した。減圧下乾燥し、肌色固体として４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタノイル）−２−メチル安息香酸アミド０．７１ｇを得た。
〔実施例１−４〕
４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタノイル）−２−メチル−Ｎ−（ピリジン−２−イルメチル）安息香酸アミドの合成
４−アセチル−２−メチル−Ｎ−（ピリジン−２−イルメチル）安息香酸アミド１．５２ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン１．５１ｇ、トルエン１．５１ｇ、トリ−ｎ−ブチルアミン０．５２ｇを仕込み、６０℃にて１０時間撹拌した。室温まで放冷し、スラリーとなっている反応液にトルエン１ｍｌを追加し、スラリーを減圧下濾過して、固体を少量のトルエンで洗浄した。減圧下乾燥し、肌色固体として４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタノイル）−２−メチル−Ｎ−（ピリジン−２−イルメチル）安息香酸アミド２．１６ｇを得た。
〔実施例１−５〕
４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタノイル）−２−メチル安息香酸 エチルの合成
４−アセチル−２−メチル安息香酸 エチル０．６３ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン０．７３ｇ、ｎ−ヘプタン０．７３ｇ、トリエチルアミン０．３０ｇを仕込み、６０℃にて４時間撹拌した。室温まで放冷し、さらに室温にて一晩撹拌した。スラリーとなっている反応液にｎ−ヘプタン０．５３ｇを加え、減圧下濾過した。固体を少量のｎ−ヘプタンで洗浄し、減圧下乾燥した。淡黄色固体として４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタノイル）−２−メチル安息香酸 エチル０．９７ｇを得た。
1H-NMR (CDCl3, Me4Si, 400MHz) δ7.98 (d, J = 8.6Hz, 1H), 7.75-7.80 (m, 2H), 7.47-7.51 (m, 2H), 7.35 (t, J = 1.8Hz, 1H), 5.64 (br s, 1H), 4.40 (q, J = 7.1Hz. 2H), 3.86 (d, J = 17.6Hz, 1H), 3.69 (d, J = 17.6Hz, 1H), 2.64 (s, 3H), 1.42 (t, J =
7.1 Hz, 3H)。融点 ７２−７４℃
〔実施例１−６〕
３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］−１−（３−クロロ−４−メチルフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オンの合成
３’，５’−ビス（トリフルオロメチル）−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン６．６２ｇのヘプタン６ｍｌ溶液に３’−クロロ−４’−メチルアセトフェノン３．０１ｇ及びトリブチルアミン０．９９ｇを加え、６０℃で２時間攪拌した。目的物の結晶を少量、反応混合物に加え、１時間後に結晶が析出したのを確認し、反応混合物を室温まで冷却した。析出した結晶をろ集し、ヘキサン２ｍｌで洗浄し、目的物７．５５ｇ（白色結晶）を得た。
融点：８１．０〜８４．０℃
1H NMR (CDCl3, Me4Si, 400MHz) δ8.06 (s, 2H), 7.89 (s, 2H), 7.72 (dd, J=7.8, 1.5Hz, 1H), 7.38 (d, J=7.8Hz, 1H), 5.90 (s, 1H), 3.85 (d, J=17.4Hz, 1H), 3.74 (d, J=17.4Hz, 1H), 2.47 (s, 3H).
〔実施例１−７〕
１−［４−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）フェニル］−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オンの合成
１−［４−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）フェニル］エタノン ２．００ｇ （１０．７ｍｍｏｌ）、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン ２．６０ｇ （１０．７ｍｍｏｌ）、トルエン ５．２０ｇ、トリブチルアミン ０．５９ｇ （３．２ｍｍｏｌ）を仕込み、８０℃にて９時間攪拌した。室温にて一晩放置した後、析出してきた固体を減圧下濾過し、白色固体として１−［４−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）フェニル］−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オン ３．７９ｇ（収率 ８２．４％）を得た。
融点１６５〜１６６℃
〔実施例１−８〕
１−［４−（１Ｈ−イミダゾール−１−イル）フェニル］−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オンの合成
１−［４−（１Ｈ−イミダゾール−１−イル）フェニル］エタノン ０．５０ｇ （２．６９ｍｍｏｌ）、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン ０．６５ｇ （２．６９ｍｍｏｌ）、トルエン １．３１ｇ、トリブチルアミン ０．１５ｇ （０．８１ｍｍｏｌ）を仕込み、６０℃にて８時間攪拌した。室温にて一晩放置し
た後、固体を減圧下濾過し、白色固体として１−［４−（１Ｈ−イミダゾール−１−イル）フェニル］−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オン ０．９４ｇ（収率 ８５．７％）を得た。
融点１６１〜１６２℃
〔実施例１−９〕
３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシ−１−［４−（メチルチオ）フェニル］ブタン−１−オンの合成
１−［４−（メチルチオ）フェニル］エタノン０．５０ｇ（３．０１ｍｍｏｌ）、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン０．７３ｇ（３．０１ｍｍｏｌ）、トルエン１．４６ｇ、トリブチルアミン０．１７ｇ（０．９０ｍｍｏｌ）を仕込み、６０℃にて１５時間攪拌した。室温にて一晩放置した後、酢酸エチル３０ｍｌ、水１０ｍｌを加えて分液操作を行い、酢酸エチル層は希塩酸水溶液で洗浄した。減圧下溶媒を留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィにより精製し、３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシ−１−［４−（メチルチオ）フェニル］ブタン−１−オン０．５６ｇ（収率 ４５．２％）を得た。
1H NMR (CDCl3, Me4Si, 300MHz) δ7.84 (d, J=8.7Hz, 2H), 7.50 (bs, 2H), 7.34 (d, J=1.8Hz, 1H), 7.29 (d, J=8.7Hz, 2H), 5.95 (s, 1H), 3.80 (d, J=17.4Hz, 1H), 3.61 (d, J=17.4Hz, 1H), 2.54 (s, 3H)
〔実施例１−１０〕
１−（６−ブロモピリジン−３−イル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オンの合成
１−（６−ブロモピリジン−３−イル）エタノン１．００ｇ （４．９９ｍｍｏｌ）、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン１．２１ｇ（４．９９ｍｍｏｌ）、トルエン２．４２ｇ、トリブチルアミン０．２８ｇ（１．５０ｍｍｏｌ）を仕込み、６０℃にて１３時間攪拌した。室温まで冷却後、固体を減圧下濾過し、白色固体として１−（６−ブロモピリジン−３−イル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オン０．８５ｇ（収率 ３８．４％）を得た。
融点１０２〜１０４℃
〔実施例１−１１〕
１−［６−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）ピリジン−３−イル］−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オンの合成
１−［６−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）ピリジン−３−イル］エタノン１．１０ｇ（５．８４ｍｍｏｌ）、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン１．４２ｇ（５．８４ｍｍｏｌ）、トルエン２．８４ｇ、トリブチルアミン０．３２ｇ（１．７５ｍｍｏｌ）を仕込み、６０℃にて７時間攪拌した。室温で一晩放置後、固体を減圧下濾過し、白色固体として１−［６−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）ピリジン−３−イル］−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オン１．８４ｇ（収率 ７３．１％）を得た。
融点１３５〜１３６℃
〔実施例１−１２〕
５−［３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタノイル］−２−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）ベンゾニトリルの合成
５−アセチル−２−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）ベンゾニトリル１．００ｇ（４．７１ｍｍｏｌ）、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン１．１５ｇ（４．７１ｍｍｏｌ）、トルエン２．３０ｇ、トリブチルアミン０．２６ｇ（１．４１ｍｍｏｌ）を仕込み、６０℃にて２４時間攪拌した。室温まで冷却し、トルエン２０ｍｌ、３５％の塩酸０．１５ｇ（１．４１ｍｍｏｌ）と水１０ｍｌで調製した水溶液を加えて分液操作を行い、トルエン層は水１０ｍｌで洗浄した。減圧下溶媒を留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィにより精製し、５−［３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタノイル］−２−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）ベンゾニトリル１．２０ｇ（収率 ５６．０％）を得た。
1H NMR (CDCl3, Me4Si, 300MHz) δ9.00 (s, 1H), 8.39 (d, J=2.1Hz, 1H), 8.29 (dd, J=9.0Hz, 2.1Hz, 1H), 8.24 (s, 1H), 8.06 (d, J=9.0Hz, 1H), 7.48 (d, J=1.5Hz, 2H), 7.38 (d, J=1.5Hz, 1H), 5.28 (s, 1H), 3.80 (dd, J=27.3Hz, 17.4Hz, 2H)
〔実施例１−１３〕
５−［３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタノイル］−２−フルオロベンゾニトリルの合成
２−アセチル−２−フルオロベンゾニトリル１．０１ｇ（６．１９ｍｍｏｌ）、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン１．５０ｇ （６．１９ｍｍｏｌ）、トルエン３．００ｇ、トリブチルアミン０．３４ｇ（１．８６ｍｍｏｌ）を仕込み、６０℃にて１６時間攪拌した。室温まで冷却後、固体を減圧下濾過し、白色固体として５−［３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタノイル］−２−フルオロベンゾニトリル２．０６ｇ（収率 ８２．０％）を得た。融点１４６〜１４７℃
〔実施例２−１〕
１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オンの合成
〔実施例２−１−１〕
１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オン１．３７ｇ、トルエン２．７４ｇ、塩化チオニル０．８９ｇを仕込み、８０℃に加熱した。ピリジン０．４８ｇをゆっくりと滴下し、８０℃にて９０分撹拌した。室温まで冷却し、氷水を加えて分液した。有機層を希水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し、減圧下溶媒を留去した。黄色固体として１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン１．３１ｇを得た。
〔実施例２−１−２〕
１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オン６．８４ｇ、トルエン１３．７ｇ、塩化チオニル４．４６ｇを仕込み、７０℃に加熱した。２−メチル−５−エチルピリジン３．６４ｇをゆっくりと滴下し、７０℃で７０分撹拌した。室温まで冷却し、水６．８４ｇを加えて分液した。有機層を希水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し、減圧下溶媒を留去した。黄色固体として１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン６．６０ｇを得た。
〔実施例２−１−３〕
１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オン０．９１ｇ、トルエン１．８２ｇ、塩化チオニル０．３６ｇを仕込み、３０℃に加温した。ｎ−トリブチルアミン０．５
６ｇをゆっくりと滴下した。７０℃へ昇温し、７時間撹拌した。室温まで冷却し、氷水を加えて分液した。有機層を水で洗浄し、減圧下溶媒を留去した。黄色固体として１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン０．８６ｇを得た。
〔実施例２−１−４〕
１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オン２．２８ｇ、トルエン４ｇ、無水酢酸１．０２ｇを仕込み、７０℃に加熱した。４−ジメチルアミノピリジン６１ｍｇのトルエン０．５６ｇ溶液、ついでピリジン０．５９ｇをゆっくりと滴下し、８０℃に昇温して１９時間撹拌した。室温まで冷却し、水を加えて分液して、減圧下溶媒を留去した。黄色固体として１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン２．２０ｇを得た。
〔実施例２−１−５〕
１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オン０．９１ｇ、トルエン１．８２ｇ、無水酢酸０．４１ｇ、４−ジメチルアミノピリジン２４ｍｇ、トリエチルアミン０．１４ｇを仕込み、室温で２０時間撹拌した。水１ｍｌ、濃塩酸０．３ｍｌを加えて分液した。有機層を飽和重曹水で洗浄し、減圧下溶媒を留去した。黄色固体として１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン０．８９ｇを得た。
〔実施例２−２〕
４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル）−２−メチル安息香酸の合成
〔実施例２−２−１〕
４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタノイル）−２−メチル安息香酸 トリエチルアミン塩１．０４ｇ、トルエン１．７ｇ、４−ジメチルアミノピリジン２４ｍｇを仕込み、６０℃に加熱した。ついで無水酢酸０．４１ｇを加え、６０℃で９時間撹拌した。反応液を室温まで放冷し、トルエン３．４ｇ、水２．５ｇ、濃塩酸０．３ｍｌを加えて分液した。有機層を水洗し、減圧下溶媒を留去した。黄色固体として４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル）−２−メチル安息香酸０．８０ｇを得た。
なお、本合成例で得た目的化合物は、1Ｈ−ＮＭＲで幾何異性体の比がおよそ８．６対１の混合物であった。以下に、主生成異性体の1Ｈ−ＮＭＲを示す。
1H-NMR (CDCl3, Me4Si, 400MHz) δ8.11 (d, J = 8.6Hz, 1H), 7.67-7.73 (m, 2H), 7.37-7.39 (m, 1H), 7.33 (t, J = 1.8Hz, 1H), 7.16 (br d, J = 1.8Hz, 2H), 2.68 (s, 3H)
。
融点 １２８−１３１℃
〔実施例２−２−２〕
４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタノイル）−２−メチル安息香酸３．０ｇ、トルエン７．５ｇ、４−ジメチルアミノピリジン８７ｍｇを仕込み、８０℃に加熱した。ついで無水酢酸１．１６ｇを滴下し、さらにトリエチルアミン０．８６ｇを滴下した。滴下終了後、８０℃で４時間撹拌した。反応液にトルエン７．５ｇを追加し、室温まで放冷した。反応液に水酸化ナトリウム０．７７ｇの水８．１ｇ溶液を滴下して分液した。有機層を高速液体クロマトグラフィー（波長２５４ｎｍ）にて分析したところ、４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル）−２−メチル安息香酸に由来する２種の幾何異性体
が生成しており、それぞれの面積値は８２．８％および１６．９％であった。
〔実施例２−３〕
４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル）−２−メチル安息香酸アミドの合成
４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタノイル）−２−メチル安息香酸アミド０．４８ｇ、トルエン１．５ｇ、無水酢酸０．２３ｇ、４−ジメチルアミノピリジン２７ｍｇ、トリエチルアミン０．２３ｇを仕込み、３０℃で２．５時間撹拌した。反応液に氷水２ｍｌ、濃塩酸２滴を加え、析出した固体を濾取した。固体を少量のトルエンおよび蒸留水で洗浄し、減圧下乾燥した。肌色固体として４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル）−２−メチル安息香酸アミド０．３２ｇを得た。
なお、本合成例で得た目的化合物は、1Ｈ−ＮＭＲで単一の幾何異性体のみであった。
1H-NMR (CDCl3, Me4Si, 400MHz) δ7.63-7.70 (m, 2H), 7.51 (d, J = 7.7Hz, 1H), 7.36-7.39 (m, 1H), 7.34 (t, J = 1.8Hz, 1H), 7.15 (br d, J = 1.8Hz, 2H), 5.84 (br s, 1H), 5.74 (br s, 1H), 2.52 (s, 3H) 。
融点 １１３−１１５℃
〔実施例２−４〕
４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル）−２−メチル安息香酸 エチルの合成
４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタノイル）−２−メチル安息香酸 エチル０．９６ｇ、トルエン２．０ｇ、無水酢酸０．４３ｇ、４−ジメチルアミノピリジン２６ｍｇ、トリエチルアミン０．４３ｇを仕込み、３０℃で３時間撹拌した。反応液に氷水２ｍｌ、濃塩酸２滴、トルエン５ｍｌを加え、分液した。有機層を水洗し、減圧下溶媒を留去して赤色固体として４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル）−２−メチル安息香酸 エチル０．９４ｇを得た。
なお、本合成例で得た目的化合物は、1Ｈ−ＮＭＲで幾何異性体が１５対１の混合物であった。以下に、主生成幾何異性体の1Ｈ−ＮＭＲデータを示す。
1H-NMR (CDCl3, Me4Si, 400MHz) δ7.93 (d, J = 8.6Hz, 1H), 7.63-7.69 (m, 2H), 7.37-7.40 (m, 1H), 7.33 (t, J = 1.8Hz, 1H), 7.13-7.16 (m, 2H), 4.38 (q, J = 7.1Hz, 2H), 2.62 (s, 3H), 1.41 (t, J = 7.1Hz, 3H) 。
融点 ３６−３８℃
〔実施例２−５〕
４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル）−２−メチル−Ｎ−（ピリジン−２−イルメチル）安息香酸アミドの合成
４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタノイル）−２−メチル−Ｎ−（ピリジン−２−イルメチル）安息香酸アミド０．７８ｇ、トルエン４．３ｇ、無水酢酸０．５８ｇ、４−ジメチルアミノピリジン２０ｍｇ、トリ−ｎ−ブチルアミン０．４０ｇを仕込み、３０℃で２．５時間撹拌した。反応液に氷水２ｍｌを加え、反応液を減圧下濃縮した。残分を少量のシリカゲルを詰めたカラムに通し、シリカゲルを少量のｎ−ヘキサン：酢酸エチルの１：１混合液で洗浄した。有機層を合わせ、減圧下溶媒を留去し、黄色固体として４−（３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル）−２−メチル−Ｎ−（ピリジン−２−イルメチル）安息香酸アミド０．６４ｇを得た。
なお、本合成例で得た目的化合物は、1Ｈ−ＮＭＲで幾何異性体が４０対１の混合物であった。
〔実施例２−６〕
３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］−１−（３−クロロ−４−メチルフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オンの合成
〔実施例２−６−１〕
３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］−１−（３−クロロ−４−メチルフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン
３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］−１−（３−クロロ−４−メチルフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オン１．１５ｇ、トルエン２．３ｇ、無水酢酸０．４９ｇ、４−ジメチルアミノピリジン２９ｍｇ、ピリジン０．３８ｇを仕込み、７０℃で９時間撹拌した。室温まで冷却し、トルエン５ｍｌ、氷水、濃塩酸０．６ｍｌを加えて分液した。有機層を水で洗浄し、減圧下溶媒を留去した。得られた残分を少量のシリカゲルを用いて大まかに精製し、黄色液体として３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］−１−（３−クロロ−４−メチルフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン１．０９ｇを得た。
なお、本合成例で得た目的化合物は、1Ｈ−ＮＭＲで幾何異性体の比がおよそ１０対１の混合物であった。以下に、主生成異性体の1Ｈ−ＮＭＲを示す。
1H-NMR (CDCl3, Me4Si, 300MHz) δ7.87 (s, 1H), 7.77 (d, J = 2.1Hz, 1H), 7.73 (s, 2H), 7.61 (dd, J = 8.1, 2.1Hz, 1H), 7.50 (q, J = 1.2Hz, 1H), 7.32 (d, J = 8.1Hz,
1H), 2.44 (s, 3H) 。
〔実施例２−６−２〕
３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］−１−（３−クロロ−４−メチルフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン
３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］−１−（３−クロロ−４−メチルフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オン０．９６ｇ、トルエン１．９２ｇ、塩化チオニル０．４８ｇ、ピリジン０．３２ｇを仕込み、７０℃にて６時間撹拌した。室温まで冷却し、トルエン１０ｍｌ、氷水を加えて分液した。有機層を水で洗浄し、減圧下溶媒を留去した。得られた残分を少量のシリカゲルを用いて大まかに精製し、黄色液体として３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］−１−（３−クロロ−４−メチルフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン０．９２ｇを得た。
〔実施例２−７〕
１−［４−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）フェニル］−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オンの合成
１−［４−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）フェニル］−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オン ２．００ｇ（４．６５ｍｍｏｌ）にトルエン６．００ｇを加えた後、８０℃にて塩化チオニル １．１１ｇ（９．３０ｍｍｏｌ）、ピリジン０．７４ｇ （９．３０ｍｍｏｌ）を加え、３時間攪拌した。反応液を室温まで冷却し、クロロホルム ５０ｍｌ、水 ２０ｍｌを加えて分液した。有機層を水酸化ナトリウム０．３７ｇを水 ２．０ｇで溶解させた水溶液で洗浄後、次いで水洗した。減圧下溶媒を留去し、１−［４−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）フェニル］−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン １．５８ｇ（収率 ８２．４％）を得た。
なお、本合成例で得た目的化合物は、1Ｈ−ＮＭＲで幾何異性体が４対１の混合物であった。以下に、主生成幾何異性体の1Ｈ−ＮＭＲデータを示す。
1H NMR (CDCl3, Me4Si, 300MHz) δ8.67 (s, 1H), 8.15 (m, 1H), 7.96 (dd, J=6.9Hz, 2.1Hz, 2H), 7.82 (dd, J=6.9Hz, 2.1Hz, 2H), 7.40 (d, J=1.5Hz, 1H), 7.30 (d, J=1.5Hz, 1H), 7.17 (d, J=1.5Hz, 2H)
〔実施例２−８〕
１−［４−（１Ｈ−イミダゾール−１−イル）フェニル］−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オンの合成
１−［４−（１Ｈ−イミダゾール−１−イル）フェニル］−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オン ０．９０ｇ （２．０９ｍｍｏｌ）にトルエン２．６９ｇを加えた後、８０℃にて塩化チオニル０．５０ｇ （４．１９ｍｍｏｌ）、ピリジン０．３３ｇ（４．１９ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌した。反応液を室温まで冷却し、クロロホルム ３５ｍｌ、水 ２０ｍｌを加えて分液した。有機層を水酸化ナトリウム０．３７ｇを水２．０ｇで溶解させた水溶液で洗浄後、３５％の塩酸０．４４ｇ（４．１９ｍｍｏｌ）と水２０ｍｌで調製した水溶液で洗浄し、次いで水洗した。減圧下溶媒を留去し、１−［４−（１Ｈ−イミダゾール−１−イル）フェニル］−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン ０．７０ｇ（収率 ８１．７％）を得た。
なお、本合成例で得た目的化合物は、1Ｈ−ＮＭＲで幾何異性体が６対１の混合物であった。以下に、主生成幾何異性体の1Ｈ−ＮＭＲデータを示す。
1H NMR (CDCl3, Me4Si, 300MHz) δ7.95 (m, 4H), 7.49 (m, 2H), 7.39 (d, J=1.5Hz, 1H), 7.34 (m, 2H), 7.17 (d, J=1.8Hz, 2H)
〔実施例２−９〕
３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−１−［４−（メチルチオ）フェニル］２−ブテン−１−オンの合成
３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシ−１−［４−（メチルチオ）フェニル］ブタン−１−オン０．４８ｇ（１．１７ｍｍｏｌ）にトルエン１．４４ｇを加えた後、８０℃にて塩化チオニル０．２８ｇ（２．３４ｍｍｏｌ）、ピリジン０．１９ｇ（２．３４ｍｍｏｌ）を加え、３時間攪拌した。高速液体クロマトグラフィで反応追跡を行ったところ、原料が消失しなかったため、塩化チオニル０．１４ｇ （１．１７ｍｍｏｌ），ピリジン０．０９ｇ（１．１７ｍｍｏｌ）を加えて１時間攪拌した。反応液を室温まで冷却し、酢酸エチル２０ｍｌ、水１０ｍｌを加えて分液した。酢酸エチル層は水酸化ナトリウム０．１４ｇを水１０ｍｌで溶解させた水溶液で洗浄後、水洗した。減圧下溶媒を留去し、３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−１−［４−（メチルチオ）フェニル］２−ブテン−１−オン０．３７ｇ（収率 ８１．８％）を得た。
なお、本合成例で得た目的化合物は、1Ｈ−ＮＭＲで幾何異性体が５対１の混合物であった。以下に、主生成幾何異性体の1Ｈ−ＮＭＲデータを示す。
1H NMR (CDCl3, Me4Si, 300MHz) δ7.73 (dd, J=6.9Hz, 1.8Hz, 2H), 7.37 (m, 1H)7.32 (m, 1H), 7.24 (dd, J=6.9Hz, 1.8Hz, 2H), 7.16 (d, J=1.8Hz, 2H), 2.52 (s, 3H)
〔実施例２−１０〕
１−（６−ブロモピリジン−３−イル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オンの合成
１−（６−ブロモピリジン−３−イル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オン０．８１ｇ（１．８２ｍｍｏｌ）にトルエン２．４２ｇを加えた後、８０℃にて塩化チオニル０．４４ｇ（３．６４ｍｍｏｌ）、ピリジン０．２９ｇ（３．６４ｍｍｏｌ）を加え、３時間攪拌した。反応液を室温まで冷却し、酢酸エチル１５ｍｌ、水１０ｍｌを加えて分液した。酢酸エチル層は水酸化ナトリウム０．１５ｇを水１０ｍｌで溶解させた水溶液で洗浄後、水洗した。減圧下溶媒を留去し、１−（６−ブロモピリジン−３−イル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン０．６３ｇ（収率 ８１．４％）を得た。
なお、本合成例で得た目的化合物は、1Ｈ−ＮＭＲで幾何異性体が４対１の混合物であ
った。以下に、主生成幾何異性体の1Ｈ−ＮＭＲデータを示す。
1H NMR (CDCl3, Me4Si, 300MHz) δ8.80 (d, J=2.4Hz, 1H), 8.04 (dd, J=8.1Hz, 2.4Hz,
1H), 7.42 (bs, 1H), 7.37 (d, J=2.4Hz, 1H), 7.32 (d, J=1.8Hz, 1H), 7.15 (d, J=1.8Hz, 2H)
〔実施例２−１１〕
１−［６−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）ピリジン−３−イル］−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オンの合成
１−［６−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）ピリジン−３−イル］−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタン−１−オン１．７８ｇ （４．１２ｍｍｏｌ）にトルエン５．３４ｇを加えた後、８０℃にて塩化チオニル０．９８ｇ（８．２５ｍｍｏｌ）、ピリジン０．６５ｇ（８．２５ｍｍｏｌ）を加え、３時間攪拌した。反応液を室温まで冷却し、酢酸エチル２０ｍｌ、水１０ｍｌを加えて分液した。酢酸エチル層は水酸化ナトリウム０．３３ｇを水１０ｍｌで溶解させた水溶液で洗浄後、水洗した。減圧下溶媒を留去し、１−［６−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）ピリジン−３−イル］−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン１．６９ｇ（収率 ９９．４％）を得た。
なお、本合成例で得た目的化合物は、1Ｈ−ＮＭＲで幾何異性体が１３対２の混合物であった。以下に、主生成幾何異性体の1Ｈ−ＮＭＲデータを示す。
1H NMR (CDCl3, Me4Si, 300MHz) δ9.22 (s, 1H), 8.88 (d, J=2.4Hz, 1H), 8.29 (dd, J=8.7Hz, 2.4Hz, 1H), 8.13 (s, 1H), 8.00 (d, J=8.7Hz, 1H), 7.36 (m, 2H), 7.18 (m, 2H)
〔実施例２−１２〕
５−［３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル］−２−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）ベンゾニトリルの合成
５−［３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタノイル］−２−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）ベンゾニトリル１．００ｇ（２．１９ｍｍｏｌ）にトルエン３．００ｇを加えた後、８０℃にて塩化チオニル０．５２ｇ（４．３９ｍｍｏｌ）、ピリジン０．３５ｇ（４．３９ｍｍｏｌ）を加え、２時間攪拌した。反応液を室温まで冷却し、酢酸エチル２０ｍｌ、水１０ｍｌを加えて分液した。酢酸エチル層は水酸化ナトリウム０．１８ｇを水１０ｍｌで溶解させた水溶液で洗浄後、水洗した。減圧下溶媒を留去し、５−［３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル］−２−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）ベンゾニトリル０．９２ｇ（収率 ９６．４％）を得た。
なお、本合成例で得た目的化合物は、1Ｈ−ＮＭＲで幾何異性体が６対１の混合物であった。以下に、主生成幾何異性体の1Ｈ−ＮＭＲデータを示す。
1H NMR (CDCl3, Me4Si, 300MHz) δ8.97 (s, 1H), 8.27 (d, J=2.1Hz, 1H), 8.23 (s, 1H), 8.18 (dd, J=8.4Hz, 2.1Hz, 1H), 8.00 (d, J=8.4Hz, 1H), 7.38 (m, 2H), 7.17 (m, 2H)
〔実施例２−１３〕
５−［３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル］−２−フルオロベンゾニトリルの合成
５−［３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−３−ヒドロキシブタノイル］−２−フルオロベンゾニトリル１．９５ｇ（４．８１ｍｍｏｌ）にトルエン５．８５ｇを加えた後、８０℃にて塩化チオニル１．１４ｇ（９．６２ｍｍｏｌ）、ピリジン０．７６ｇ（９．６２ｍｍｏｌ）を加え、２時間攪拌した。反応液を室温まで冷却
し、トルエン２０ｍｌ、水１０ｍｌを加えて分液した。トルエン層は水酸化ナトリウム０．３９ｇを水１０ｍｌで溶解させた水溶液で洗浄後、水洗した。減圧下溶媒を留去し、５−［３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル］−２−フルオロベンゾニトリル１．５９ｇ（収率 ８５．２％）を得た。
なお、本合成例で得た目的化合物は、1Ｈ−ＮＭＲで幾何異性体が５対１の混合物であった。以下に、主生成幾何異性体の1Ｈ−ＮＭＲデータを示す。
1H NMR (CDCl3, Me4Si, 300MHz) δ8.10 (m, 2H), 7.42 (m, 1H), 7.33 (m, 2H), 7.15 (m, 2H)
〔実施例３−１〕
１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オンのワンポットでの合成
〔実施例３−１−１〕
４−ブロモ−３−メチルアセトフェノン１．０７ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン１．２２ｇ、トルエン５ｍｌ、炭酸カリウム０．６９ｇを仕込み、２１時間加熱還流した。室温まで冷却し、氷水を加えて分液した。減圧下溶媒を留去し、残分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液はヘキサン：酢酸エチル＝１０：１の混合液）で精製し、赤色固体として１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン１．７２ｇを得た。
〔実施例３−１−２〕
４−クロロ−３−メチルアセトフェノン３．０ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン４．３５ｇ、１，２−ジクロロエタン３０ｍｌ、炭酸カリウム２．４６ｇ、トリエチルアミン０．１８ｇを仕込み、１６時間加熱還流した。室温まで冷却し、酢酸エチル２００ｍｌ、氷水を加えて分液した。有機層を希塩酸、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、減圧下溶媒を留去した。残分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液はヘキサン：酢酸エチル＝９：１の混合液）で精製し、茶色液体として１−（４−クロロ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン６．２ｇを得た。
〔実施例３−１−３〕
４−ブロモ−３−メチルアセトフェノン２．１３ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン２．４３ｇ、トルエン２．４３ｇ、１，８‐ジアザビシクロ［５，４，０］‐７‐ウンデセン０．１５ｇを仕込み、１０時間加熱還流した。室温まで冷却し、トルエン２０ｍｌ、氷水、濃塩酸０．３ｍｌを加えて分液した。減圧下溶媒を留去し、残分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液はヘキサン：酢酸エチル＝１０：１の混合液）で精製し、茶色固体として１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン３．９５ｇを得た。
〔実施例３−１−４〕
４−ブロモ−３−メチルアセトフェノン０．４６ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン０．４９ｇ、トルエン１．８５ｇ、ｎ−トリブチルアミン１．８５ｇ、４−ジメチルアミノピリジン２４ｍｇを仕込み、３０℃で１０時間撹拌した。ついで無水安息香酸０．６８ｇを加え、室温で３６時間撹拌した。無水安息香酸０．１１ｇを追加し、さらに１６時間撹拌した。氷水２．７ｇ、水酸化ナトリウム０．３ｇを加えて分液し、水層からトルエン３ｍｌを用いて２回抽出した。有機層を合わせて水洗し、減圧下溶媒を留去した。黄色固体として１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン０
．９１ｇを得た。
〔実施例３−２〕
１−（４−クロロ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オンのワンポットでの合成
４−クロロ−３−メチルアセトフェノン３．０ｇ、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン４．３５ｇ、１，２−ジクロロエタン３０ｍｌ、炭酸カリウム２．４６ｇ、トリエチルアミン０．１８ｇを仕込み、１６時間加熱還流した。室温まで冷却し、酢酸エチル２００ｍｌ、氷水を加えて分液した。有機層を希塩酸、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、減圧下溶媒を留去した。残分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液はヘキサン：酢酸エチル＝９：１の混合液）で精製し、茶色液体として１−（４−クロロ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン６．２ｇを得た。
原料合成例４
１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−３−ヒドロキシ−４，４，４−トリフルオロブタン−１−オン。
工程１；３，５−ジクロロ安息香酸メチルの合成
３，５−ジクロロ安息香酸５０ｇのメタノール１２０ｇ溶液に濃硫酸１０ｇを添加し、５時間加熱還流を行った。反応液を室温まで冷却した後、溶媒を減圧下で留去した。得られた残留物を酢酸エチル２００ｇに溶解し、水洗浄（２００ｇ×２）、次いで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、さらに水洗浄を行った。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下で留去することにより、目的物４８．６ｇを白色固体として得た。
1H NMR (CDCl3, Me4Si, 300MHz) δ7.90 (s, 2H), 7.54 (s, 1H), 3.94 (s, 3H)。
工程２；３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノンの合成
３，５−ジクロロ安息香酸メチル２５ｇおよびトリフルオロメチルトリメチルシラン２２．５ｇのジメトキシエタン３００ｇ溶液に、氷冷下でフッ化セシウム０．３７ｇを添加後、室温まで昇温し、４時間撹拌した。原料消失確認後、反応液に水２００ｇを投入し、酢酸エチル２００ｇにて抽出した。有機層を飽和食塩水次いで無水硫酸マグネシウムの順で脱水・乾燥した後、減圧下で溶媒を留去することにより、１−（３，５−ジクロロフェニル）−２，２，２−トリフルオロ−１−トリメチルシリルオキシ−１−メトキシエタン３５．５ｇを黄色液体粗物として得た。得られた粗物をテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶解し、室温にてテトラブチルアンモニウムフルオライドの１Ｍテトラヒドロフラン１００ｍｌ溶液９．７５ｍｌを滴下し、同温度にて２時間撹拌した。反応完了後、減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を酢酸エチルに溶解し、有機層を水洗浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物を減圧蒸留精製することにより、目的物２４．２ｇを無色液体として得た。
沸点８７℃（１．７ｋＰａ）
1H NMR (CDCl3, Me4Si, 300MHz) δ7.92-7.93 (m, 2H), 7.70-7.71 (m, 1H)。
工程３；１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−３−ヒドロキシ−４，４，４−トリフルオロブタン−１−オンの合成
国際公開第９６／１９４７７号パンフレットの方法に準じて合成できる４−ブロモ−３−メチルアセトフェノン７．０ｇのテトラヒドロフラン４０ｍｌ溶液をドライアイス−アセトンで−６０℃まで冷却し、リチウム ビス（トリメチルシリル）アミドの１Ｍテトラヒドロフラン溶液３２．８ｍｌを３０分かけて滴下した。滴下終了後、同温度にて１時間撹拌した後、３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン７．９８ｇのテトラヒドロフラン１５ｍｌ溶液を滴下後、反応液を徐々に室温まで昇温し、室温に
て３時間撹拌した。反応終了後、反応液に２Ｎ塩酸を加え、溶媒を減圧下で留去し、得られた残留物を酢酸エチルに溶解し、水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、溶媒を減圧下で留去した。得られた固体をジイソプロピルエーテルにて洗浄することにより、目的物９．１９ｇを白色固体として得た。
融点１４１〜１４２℃
1H NMR (CDCl3, Me4Si, 300MHz) δ7.77 (d, J=2.1Hz, 1H), 7.68 (d, J=8.4Hz, 1H), 7.48 (dd, J=8.4, 2.1Hz, 1H), 7.49 (brs, 2H), 7.34 (brs, 1H), 5.72 (s, 1H), 3.81 (d, J=17.4Hz, 1H), 3.63 (d, J=17.4Hz, 1H), 2.48 (s, 3H)。
工程４
１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オンの合成。
工程３で合成した１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−３−ヒドロキシ−４，４，４−トリフルオロブタン−１−オン０．３ｇのトルエン３ｇ溶液に、室温にて塩化チオニル０．３９１ｇおよびピリジン０．１０４ｇを添加し、８０℃にて１時間撹拌した。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、トルエンおよび２Ｎ塩酸を加え分液した後、有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、溶媒を減圧下で留去した。得られた残留物は幾何異性体の混合物を含んでいるが、この残留物を酢酸エチル−ヘキサン（１：１０）にて溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的物０．２４４ｇを黄色固体として得た。
原料合成例５
４−［３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル］安息香酸メチル。
４−アセチル安息香酸メチル２．０ｇのクロロホルム５０ｍｌ溶液に、室温にて臭素１．９８ｇを添加し、３０分間撹拌した後、溶媒を減圧下で留去した。得られた残留物をテトラヒドロフラン４０ｍｌに溶解し、そこにトリフェニルホスフィン２．９４ｇを添加し、５０℃で３０分間撹拌した後、溶媒を減圧下で留去した。得られた残留物をクロロホルム５０ｍｌに溶解し、そこに合成例１の工程２で合成した３’，５’−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロアセトフェノン２．７２ｇおよびトリエチルアミン１．４ｇを添加し、室温にて４時間撹拌した。その後、反応溶液を水洗（５０ｍｌ）し、有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物を酢酸エチル−ヘキサン（１：９）にて溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、次いでヘキサンから結晶化させることにより、目的物１．０ｇを淡黄色固体として得た。
なお、本合成例で単離した目的物は1Ｈ ＮＭＲ測定より、幾何異性体比が１９対１の混合物であった。
融点６５．５〜６７．５℃
1H NMR (CDCl3, Me4Si, 300MHz) 主成分のみ δ8.11 (d, J=8.4Hz, 2H), 7.87 (d, J=8.4Hz, 2H), 7.30-7.42 (m, 2H), 7.15 (d, J=1.8Hz, 2H), 3.95 (s, 3H)。
原料合成例６
４−［３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル］安息香酸。
オートクレーブ中の原料合成例５に準じて合成した１−（４−ブロモフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン１．９５ｇおよびトリエチルアミン０．５６ｇのターシャリーブチルアルコール１０ｍｌ、ジオキサン１０ｍｌおよび水５ｍｌ溶液に、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン５１ｍｇおよび酢酸パラジウム（ＩＩ）１０ｍｇを添加し、０．５ＭＰａの一酸化炭素雰囲気下１１０℃にて４時間攪拌した後、室温まで放冷し、さらに酢酸パラジウム（ＩＩ）１０ｍｇを添加し、０．５ＭＰａの一酸化炭素雰囲気下１１０℃にて４時間攪拌し
た。その後、室温まで放冷、固形物を濾別した後、希塩酸を添加し、酢酸エチルにて抽出後、有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物を酢酸エチル−ヘキサン（１：８）にて溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的物１．５６ｇを樹脂状物質として得た。
1H NMR (CDCl3, Me4Si, 300MHz) δ8.18 (d, J=8.5Hz, 2H), 7.91 (d, J=8.5Hz, 2H), 7.40 (s, 1H), 7.34 (s, 1H), 7.16 (s, 2H)。
原料合成例７
４−［３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル］−２−メチル安息香酸。
オートクレーブ中の原料合成例５工程４に準じて合成した幾何異性体混合物（異性体比；８対１）である１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン４．８５ｇおよび酢酸ナトリウム１．３６ｇの１，２−ジメトキシエタン２０ｍｌおよび水２０ｍｌ溶液に、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン０．２５ｇおよび酢酸パラジウム（ＩＩ）５０ｍｇを添加し、１．０ＭＰａの一酸化炭素雰囲気下１１０℃にて５．５時間攪拌した。その後、室温まで放冷、固形物を濾別した後、希塩酸を添加し、酢酸エチルにて抽出後、有機層を飽和食塩水次いで無水硫酸マグネシウムの順で脱水・乾燥、減圧下にて溶媒を留去した。得られた残留物を酢酸エチル−ヘキサン（１：５）にて溶出するシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製、次いでヘキサンおよび少量の酢酸エチルの混合溶媒から結晶化させ、目的物２．６ｇを白色固体として得た。
なお、本合成例で単離した目的物は1Ｈ ＮＭＲ測定より、幾何異性体比が１０対１の混合物であった。
融点：１２３．０−１２６．５℃
1H NMR (CDCl3, Me4Si, 300MHz) 主成分のみ δ8.11 (d, J=8.7Hz, 1H), 7.65-7.70 (m, 2H), 7.30-7.40 (m, 2H), 7.16 (d, J=1.8Hz, 2H), 2.69 (s, 3H)。
〔実施例４−１〕
３−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾールの合成
〔実施例４−１−１〕
１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン０．４３ｇ（１．０ｍｍｏｌ）をトルエン２．２ｇに溶解させ、ジメチルスルホキシド１．０ｇを加え、２０℃にて撹拌した。そこに、別途、水酸化ナトリウム０．１６ｇ（４．０ｍｍｏｌ）、精製水０．５ｇ、ヒドロキシルアミン硫酸塩０．１６４ｇ（１．０ｍｍｏｌ）を混合して調製した溶液を滴下した。
精製水０．５ｍＬに反応液を数滴とり、アセトニトリルで２ｍＬに希釈し、高速液体クロマトグラフィーにて分析した。１時間後の高速液体クロマトグラフィーにおける３−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾールの面積百分率は９５．６％であった（ＵＶ検出器にて２２０ｎｍの波長で検出した。トルエンのピークは除外して計算した。）。
〔実施例４−１−２〕
１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン０．４３ｇ（１．０ｍｍｏｌ）をトルエン２．２ｇに溶解させ、メタノール１．０ｇを加え、２０℃にて撹拌した。そこに、別途、水酸化ナトリウム０．１６ｇ（４．０ｍｍｏｌ）、精製水０．５ｇ、ヒドロキシルアミン硫酸塩０．１６４ｇ（１．０ｍｍｏｌ）を混合して調製した溶液を滴下した。
精製水０．５ｍＬに反応液を数滴とり、アセトニトリルで２ｍＬに希釈し、高速液体クロマトグラフィーにて分析した。６時間後の高速液体クロマトグラフィーにおける３−（
４−ブロモ−３−メチルフェニル）−５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾールの面積百分率は８７．７％であった（ＵＶ検出器にて２２０ｎｍの波長で検出した。トルエンのピークは除外して計算した。）。
〔実施例４−１−３〕
１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン０．４３ｇ（１．０ｍｍｏｌ）をトルエン２．２ｇに溶解させ、１５℃にて撹拌した。そこに、別途調製した１０％水酸化ナトリウムのメタノール溶液０．８８ｇ（ＮａＯＨは２．２ｍｍｏｌ）と５０％ヒドロキシルアミン水溶液０．１３２ｇ（２．０ｍｍｏｌ）を滴下した。
精製水０．５ｍＬに反応液を数滴とり、アセトニトリルで２ｍＬに希釈し、高速液体クロマトグラフィーにて分析した。１時間後の高速液体クロマトグラフィーにおける３−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾールの面積百分率は９０．８％であった（ＵＶ検出器にて２２０ｎｍの波長で検出した。トルエンのピークは除外して計算した。）。
〔実施例４−１−４〕
１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン０．４３ｇ（１．０ｍｍｏｌ）をトルエン２．２ｇに溶解させ、１５℃にて撹拌した。そこに、別途、２８％ナトリウムメトキシドのメタノール溶液０．３８５７ｇ（ＮａＯＭｅは２．０ｍｍｏｌ）にメタノール０．５ｇを加えて希釈した溶液と５０％ヒドロキシルアミン水溶液０．１３２ｇ（２．０ｍｍｏｌ）を滴下した。
精製水０．５ｍＬに反応液を数滴とり、アセトニトリルで２ｍＬに希釈し、高速液体クロマトグラフィーにて分析した。１時間後の高速液体クロマトグラフィーにおける３−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾールの面積百分率は９２．３％であった（ＵＶ検出器にて２２０ｎｍの波長で検出した。トルエンのピークは除外して計算した。）。
〔実施例４−１−５〕
１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン０．４３ｇ（１．０ｍｍｏｌ）をトルエン２．２ｇに溶解させ、テトラブチルアンモニウムブロミド０．０９６６ｇ（０．３ｍｍｏｌ）を加え、０℃にて撹拌した。そこに、別途、水酸化ナトリウム０．０８８ｇ（２．２ｍｍｏｌ）、精製水０．５ｇ、５０％ヒドロキシルアミン水溶液０．１３２ｇ（２．０ｍｍｏｌ）を混合して調製した溶液を滴下した。
精製水０．５ｍＬに反応液を数滴とり、アセトニトリルで２ｍＬに希釈し、高速液体クロマトグラフィーにて分析した。３時間後の高速液体クロマトグラフィーにおける３−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾールの面積百分率は９８．６％であった（ＵＶ検出器にて２２０ｎｍの波長で検出した。トルエンのピークは除外して計算した。）。また、４時間後の反応液を全量用いて、高速液体クロマトグラフィーにおける内部標準法にて分析したところ３−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾールの収率は９９．３％であった。（内部標準法：あらかじめ単離した目的物とピーク面積の基準となる標準物質の組成を変えた溶液を調製し、液体クロマトグラフィー分析による検出強度を測定し、目的物と標準物質との重量比とピーク面積比から検量線を作成しておく。続いて、反応終了後の反応液の一定量又は全量に、標準物質を一定量正確に添加して、液体クロマトグラフィー分析を行い、得られた目的物のピークと標準物質のピークとの面積比から、検量線を用いて反応液中の目的物の濃度を算出する方法をいう。なお、標準物質としてはｐ
−Ｔｅｒｐｈｅｎｙｌを用いた。）
〔実施例４−１−６〕
１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン２．１９０ｇ（５．０ｍｍｏｌ）をトルエン１０．９５ｇに溶解させ、ジメチルスルホキシド４．３８ｇを加え、１５℃にて撹拌した。そこに、別途、水酸化ナトリウム０．８０ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）、精製水２．５ｇ、ヒドロキシルアミン硫酸塩０．８２ｇ（５．０ｍｍｏｌ）を混合して調製した溶液を滴下した。
６時間後、反応液に、３５％塩酸１．５ｍＬと精製水８．７６ｇを混合した希塩酸水を加え、トルエン１１ｍＬを加えて分液した。有機層に精製水７ｇを加え、分液し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、トルエンを減圧留去した。２．２６４ｇの固体を得た。1Ｈ−ＮＭＲより３−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾールと同定され、収率は９９％であった。
〔実施例４−１−７〕
１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン２．１９４１ｇ（５．０ｍｍｏｌ）をトルエン１０．９５ｇに溶解させ、テトラブチルアンモニウムブロミド０．３２ｇ（１．０ｍｍｏｌ）を加え、氷冷下にて撹拌した。そこに、別途、水酸化ナトリウム０．４４ｇ（１１．０ｍｍｏｌ）、精製水２．２ｇ、５０％ヒドロキシルアミン水溶液０．６７２ｇ（１０．０ｍｍｏｌ）を混合して調製した溶液を滴下した。７時間後、テトラブチルアンモニウムブロミド０．１５ｇ（０．５ｍｍｏｌ）を追加し、その後、室温にて１４時間撹拌した。
合計２２時間後、反応液に、３５％塩酸２．５ｍＬと精製水７．５ｇを混合した希塩酸水を加え、トルエン４ｍＬを加えて分液した。有機層に精製水４ｇを加え、分液した。２つの水層を合わせて、トルエン５ｍＬで再抽出し、先の有機層と合わせて、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、トルエンを減圧留去した。２．２６２ｇの固体を得た。1Ｈ−ＮＭＲより３−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾールと同定され、収率は９９．８％であった。融点は１０８〜１１０℃であった。
〔実施例４−２〕
３−（４−クロロ−３−メチルフェニル）−５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾールの合成
１−（４−クロロ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン０．１１０ｇ（０．２８ｍｍｏｌ）にトルエン０．５５ｇ，テトラブチルアンモニウムブロミド０．０２７ｇ（０．０８５ｍｍｏｌ）を加え、０℃にて撹拌した。そこに、別途、水酸化ナトリウム０．０２５ｇ（０．６１ｍｍｏｌ）、精製水０．１７ｇ、５０％ヒドロキシルアミン水溶液０．０３７ｇ（０．５６ｍｍｏｌ）を混合して調製した溶液を滴下した。
反応液を少量とり、アセトニトリルで１ｍＬに希釈し、高速液体クロマトグラフィーにて分析した。７．５時間後の高速液体クロマトグラフィーにおける３−（４−クロロ−３−メチルフェニル）−５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾールの面積百分率は８８．４％であった（ＵＶ検出器にて２２５ｎｍの波長で検出した。トルエンのピークは除外して計算した。）。反応温度を室温まで戻して１５時間反応させ、上記と同様の方法により高速液体クロマトグラフィーで反応追跡を行い、原料の消失を確認した。反応溶液に８．８％の塩酸０．７０ｇ（１．６８ｍｍｏｌ）およびトルエン５ｍＬを加えて分液操作を行った。トルエン層は精製水１ｍＬ
で洗浄し、水層はトルエン５ｍＬで再抽出を行った。トルエン層は合わせて硫酸ナトリウムで乾燥後、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去させ、３−（４−クロロ−３−メチルフェニル）−５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール０．１０８ｇ（収率９５％）を得た。融点は１１０〜１１１℃であった。
〔実施例４−３〕
４−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］−２−メチル安息香酸の合成
〔実施例４−３−１〕
４−［３−（３，５−ジクロロフェニル）―４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル］−２−メチル安息香酸０．１１０ｇ（０．２７ｍｍｏｌ）にトルエン０．５５ｇ， テトラブチルアンモニウムブロミド０．０２６ｇ（０．０８２ｍｍｏｌ）を加え、０℃にて撹拌した。そこに、別途、水酸化ナトリウム０．０２４ｇ（０．６０ｍｍｏｌ）、精製水０．１７ｇ、５０％ヒドロキシルアミン水溶液０．０３６ｇ（０．５５ｍｍｏｌ）を混合して調製した溶液を滴下した。
反応液を少量とり、アセトニトリルで１ｍＬに希釈し、高速液体クロマトグラフィーにて分析した。２．５時間後の高速液体クロマトグラフィーの分析により、原料の消失を確認した。反応溶液に８．８％の塩酸０．６８ｇ（１．６４ｍｍｏｌ）および 酢酸エチル
５ ｍＬ を加えて分液操作を行った。酢酸エチル層は精製水１ｍＬで洗浄し、水層は酢酸エチル ５ ｍＬ で再抽出を行った。酢酸エチル層は合わせて硫酸ナトリウムで乾燥後、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去させ、４−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］−２−メチル安息香酸 ０．１１１ｇ（収率９７％）を得た。
〔実施例４−３−２〕
４−［３−（３，５−ジクロロフェニル）―４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル］−２−メチル安息香酸１．６１ｇがトルエン８．５１ｇに溶解している溶液にジメチルホルムアミド３．２ｇを加え、０℃に冷却した。ここに水酸化ナトリウム ０．６４ｇを水１．６ｇに溶解した溶液を加え、硫酸ヒドロキシルアミン０．４６ｇを水 １．１１ｇに溶解した溶液を発熱に注意しながらゆっくり滴下した。反応温度を０℃に保ち、３時間攪拌して反応させた後、高速液体クロマトグラフィ（波長２５４ｎｍ）で分析したところ、相対面積９０．４９％で目的とする４−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］−２−メチル安息香酸が生成していた。
〔実施例４−３−３〕
４−［３−（３，５−ジクロロフェニル）―４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル］−２−メチル安息香酸１．６１ｇがトルエン１０．５ｇに溶解している溶液にジメチルスルホキシド６．２７ｇを加え、０℃に冷却した。ここに水酸化ナトリウム ０．６４ｇを水１．６ｇに溶解した溶液を反応液の温度が５℃を超えないように注意して加えた。さらに、硫酸ヒドロキシルアミン０．４６ｇを水２．２４ｇに溶解した溶液を反応液の温度が５℃を超えないように注意して加えた。反応温度を０℃に保ち、１時間攪拌して反応させた。反応液を高速液体クロマトグラフィー（ＵＶ検出器にて２５４ｎｍ の波長で検出した。トルエンのピークは除外して計算した。）で分析したところ、相対面積８５．０％で目的とする４−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］−２−メチル安息香酸が生成していた。
〔実施例４−３−４〕
４−［３−（３，５−ジクロロフェニル）―４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイ
ル］−２−メチル安息香酸１．６１ｇがトルエン１０．５ｇに溶解している溶液にＮ−メチルピロリドン６．２７ｇを加え、−２５℃に冷却した。ここに水酸化ナトリウム０．６４ｇを水１．６ｇに溶解した溶液を反応液の温度が−２０℃を超えないように注意して加えた。さらに、硫酸ヒドロキシルアミン０．４６ｇを水２．２４ｇに溶解した溶液を反応液の温度が−２０℃を超えないように注意して加えた。反応温度を−２５℃に保ち、３時間攪拌して反応させた。反応液にトルエン１０．４ｇ、３５％塩酸水溶液１．９ｍｌを−２５〜−１０℃にて滴下し、さらに室温にて１時間攪拌した。反応液を分液し、水層からトルエン１０．４ｇを用いて抽出し、有機層を合わせて水５ｍｌで洗浄した。得られたトルエン溶液を用いて高速液体クロマトグラフィーにおける内部標準法にて分析したところ、４−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］−２−メチル安息香酸の収率は９５．８％であった。
〔実施例４−３−５〕
４−［３−（３，５−ジクロロフェニル）―４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル］−２−メチル安息香酸１．６１ｇがトルエン１０．５ｇに溶解している溶液に１，２−ジメトキシエタン６．２７ｇを加え、０℃に冷却した。ここに水酸化ナトリウム０．６４ｇを水１．６ｇに溶解した溶液を反応液の温度が５℃を超えないように注意して加えた。さらに、硫酸ヒドロキシルアミン０．４６ｇを水２．２４ｇに溶解した溶液を反応液の温度が５℃を超えないように注意して加えた。反応温度を０℃に保ち、３時間攪拌して反応させた。反応液を高速液体クロマトグラフィー（ＵＶ検出器にて２５４ｎｍ の波長で検出した。トルエンのピークは除外して計算した。）で分析したところ、相対面積８８．４％で目的とする４−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］−２−メチル安息香酸が生成していた。
〔実施例４−３−６〕
４−［３−（３，５−ジクロロフェニル）―４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル］−２−メチル安息香酸１．６１ｇがトルエン８．５１ｇに溶解している溶液にジグライム３．２ｇを加え、０℃に冷却した。ここに水酸化ナトリウム０．６４ｇを水１．６ｇに溶解した溶液を加え、硫酸ヒドロキシルアミン０．４６ｇを水１．１１ｇに溶解した溶液を発熱に注意しながらゆっくり滴下した。反応温度を０℃に保ち、１時間攪拌して反応させた後、高速液体クロマトグラフィ（波長２５４ｎｍ）で分析したところ、相対面積８８．３２％で目的とする４−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］−２−メチル安息香酸が生成していた。
〔実施例４−３−７〕
４−［３−（３，５−ジクロロフェニル）―４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル］−２−メチル安息香酸１．６１ｇがトルエン８．５１ｇに溶解している溶液にメチルアルコール３．２ｇを加え、０℃に冷却した。ここに水酸化ナトリウム０．６４ｇを水１．６ｇに溶解した溶液を加え、硫酸ヒドロキシルアミン０．４６ｇを水１．１１ｇに溶解した溶液を発熱に注意しながらゆっくり滴下した。反応温度を０℃に保ち、３時間攪拌して反応させた後、高速液体クロマトグラフィ（波長２５４ｎｍ）で分析したところ、相対面積８５．４９％で目的とする４−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］−２−メチル安息香酸が生成していた。
〔実施例４−３−８〕
４−［３−（３，５−ジクロロフェニル）―４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル］−２−メチル安息香酸１．７３ｇがトルエン１１．２ｇに溶解している溶液にＮ−メチルピロリドン６．７２ｇを加え、０℃に冷却した。ここに水酸化カリウム０．９７ｇを
水 １．７ｇに溶解した溶液を反応液の温度が５℃を超えないように注意して加えた。さらに、硫酸ヒドロキシルアミン０．４９ｇを水２．４０ｇに溶解した溶液を反応液の温度が５℃を超えないように注意して加えた。反応温度を０℃に保ち、３時間攪拌して反応させた。反応液にトルエン１１．２ｇ、３５％塩酸水溶液２．１ｍｌを０〜５℃にて滴下し、さらに室温にて３０分攪拌した。反応液を分液し、水層からトルエン１２ｇを用いて抽出し、有機層を合わせて水５ｍｌで２回洗浄した。得られたトルエン溶液を用いて高速液体クロマトグラフィーにおける内部標準法にて分析したところ、４−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］−２−メチル安息香酸の収率は ８８．２％であった。
〔実施例４−３−９〕
４−［３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル］−２−メチル安息香酸１．６１ｇ（４．０ｍｍｏｌ）を溶解させたトルエン溶液１１．８５ｇにＮ−メチル−２−ピロリドン６．２７ｇを加えて−７℃に冷却した。１０Ｍに調製した水酸化ナトリウム水溶液２．２４ｇ（１６ｍｍｏｌ）を滴下し、次いでヒドロキシルアミン塩酸塩０．３０６ｇ（４．４ｍｍｏｌ）を水０．６５ｇで溶解させた水溶液を滴下後、−７℃にて反応させた。反応液を少量とり、アセトニトリルで１ｍＬに希釈し、高速液体クロマトグラフィーにて分析した。３時間後の高速液体クロマトグラフィーにおける４−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］−２−メチル安息香酸の面積百分率は９８．０％であった（ＵＶ検出器にて２５４ｎｍの波長で検出した。トルエンのピークは除外して計算した。）。５時間後の反応液にトルエン１０．４ｇを加え、３５％塩酸水溶液１．９ｍＬを０℃にて滴下し、１時間攪拌させた。攪拌を静止後、水層を除去して得られたトルエン溶液を用いて高速液体クロマトグラフィーにおける内部標準法にて分析したところ４−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］−２−メチル安息香酸の収率は９０．２％であった。
〔実施例４−３−１０〕
４−［３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル］−２−メチル安息香酸１．６１ｇ（４．０ｍｍｏｌ）を溶解させたトルエン溶液１１．８５ｇにＮ−メチル−２−ピロリドン６．２７ｇを加えて０℃に冷却した。１，８‐ジアザビシクロ［５，４，０］‐７‐ウンデセン２．４４ｇ（１６ｍｍｏｌ）に水１．６ｇを加えて調整した溶液を滴下し、次いでヒドロキシルアミン塩酸塩０．３０６ｇ（４．４ｍｍｏｌ）を水０．６５ｇで溶解させた水溶液を滴下後、０℃にて反応させた。反応液を少量とり、アセトニトリルで１ｍＬに希釈し、高速液体クロマトグラフィーにて分析した。３時間後の高速液体クロマトグラフィーにおける４−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］−２−メチル安息香酸の面積百分率は９４．９％であった（ＵＶ検出器にて２５４ｎｍの波長で検出した。トルエンのピークは除外して計算した。）。３時間後の反応液に３５％塩酸水溶液１．９ ｍＬを ０℃にて滴下し、１時間攪拌させた。攪拌を静止後、水層を除去して得られたトルエン溶液を用いて高速液体クロマトグラフィーにおける内部標準法にて分析したところ４−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］−２−メチル安息香酸の収率は９２．２％であった。
〔実施例４−３−１１〕
４−［３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル］−２−メチル安息香酸１．６１ｇ（４．０ｍｍｏｌ）を溶解させたトルエン溶液１１．８９ｇ にエタノール６．２７ｇを加えて０℃に冷却した。１，８‐ジアザビシクロ［５，４，０］‐７‐ウンデセン２．４４ｇ（１６ｍｍｏｌ）に水１．６ｇを加えて調整し
た溶液を滴下し、次いでヒドロキシルアミン塩酸塩 ０．３０６ｇ（４．４ｍｍｏｌ）を水 ０．６５ｇで溶解させた水溶液を滴下後、０℃にて反応させた。反応液を少量とり、アセトニトリルで１ｍＬに希釈し、高速液体クロマトグラフィーにて分析した。３時間後の高速液体クロマトグラフィーにおける４−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］−２−メチル安息香酸の面積百分率は９４．５％であった（ＵＶ検出器にて２５４ｎｍ の波長で検出した。トルエンのピークは除外して計算した。）。３時間後の反応液に３５％塩酸水溶液 １．９ ｍＬを ０℃にて滴下し、１時間攪拌させた。攪拌を静止後、水層を除去して得られたトルエン溶液を用いて高速液体クロマトグラフィーにおける内部標準法にて分析したところ４−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］−２−メチル安息香酸の収率は９０．４％であった。
〔実施例４−３−１２〕
４−［３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル］−２−メチル安息香酸１．６１ｇ（４．０ｍｍｏｌ）を溶解させたトルエン溶液１１．８９ｇにテトラヒドロフラン６．２７ｇを加えて０℃に冷却した。１，８‐ジアザビシクロ［５，４，０］‐７‐ウンデセン２．４４ｇ（１６ｍｍｏｌ）に水１．６ｇを加えて調整した溶液を滴下し、次いでヒドロキシルアミン塩酸塩０．３０６ｇ（４．４ｍｍｏｌ）を水０．６５ｇで溶解させた水溶液を滴下後、０℃にて反応させた。反応液を少量とり、アセトニトリルで１ｍＬに希釈し、高速液体クロマトグラフィーにて分析した。３時間後の高速液体クロマトグラフィーにおける４−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］−２−メチル安息香酸の面積百分率は９４．０％であった（ＵＶ検出器にて２５４ｎｍの波長で検出した。トルエンのピークは除外して計算した。）。３時間後の反応液に３５％塩酸水溶液 １．９ ｍＬを ０℃にて滴下し、１時間攪拌させた。攪拌を静止後、水層を除去して得られたトルエン溶液を用いて高速液体クロマトグラフィーにおける内部標準法にて分析したところ４−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］−２−メチル安息香酸の収率は９５．２％であった。
〔実施例４−３−１３〕
４−［３−（３，５−ジクロロフェニル）―４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル］−２−メチル安息香酸 ２．０２ｇがトルエン１０．１ｇに溶解している溶液を０℃に冷却した。これに１，８‐ジアザビシクロ［５，４，０］‐７‐ウンデセン２．２８ｇを反応液の温度が５℃を超えないように注意して加えた。さらに、塩酸ヒドロキシルアミン０．３８ｇを水０．８１ｇに溶解した溶液を反応液の温度が５℃を超えないように注意して加えた。反応温度を０℃に保ち、２時間攪拌して反応させた。反応液に３５％塩酸水溶液２．０ｍｌを１０℃以下にて滴下し、さらにトルエン１０ｇを加えて室温にて攪拌した。反応液を分液し、有機層を水５ｍｌで２回洗浄した。得られたトルエン溶液を用いて高速液体クロマトグラフィーにおける内部標準法にて分析したところ、４−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］−２−メチル安息香酸の収率は９０．４％であった。
〔実施例４−３−１４〕
４−［３−（３，５−ジクロロフェニル）―４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル］−２−メチル安息香酸 ２．０２ｇがトルエン１０．１ｇに溶解している溶液を０℃に冷却した。これに１，８‐ジアザビシクロ［５，４，０］‐７‐ウンデセン１．５２ｇを反応液の温度が５℃を超えないように注意して加えた。さらに、水酸化ナトリウム０．２０ｇを水１．０ｇに溶解させた溶液を反応液の温度が５℃を超えないように注意して加えた。ついで、塩酸ヒドロキシルアミン０．３８ｇを水０．８１ｇに溶解した溶液を反応液の温度が５℃を超えないように注意して加えた。反応温度を０℃に保ち、２時間攪拌し
て反応させた。反応液に３５％塩酸水溶液２．０ｍｌを１０℃以下にて滴下し、さらにトルエン１０ｇ を加えて室温にて攪拌した。反応液を分液し、有機層を水５ｍｌで２回洗浄した。得られたトルエン溶液を用いて高速液体クロマトグラフィーにおける内部標準法にて分析したところ、４−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］−２−メチル安息香酸の収率は９２．８％であった。
〔実施例４−４〕
４−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］安息香酸メチルの合成
４−［３−（３，５−ジクロロフェニル）―４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル］安息香酸メチル０．１１０ｇ（０．２７ｍｍｏｌ）にトルエン０．５５ｇ， テトラブチルアンモニウムブロミド０．０２６ｇ（０．０８２ｍｍｏｌ）を加え、０℃にて撹拌した。そこに、別途、水酸化ナトリウム０．０２４ｇ（０．６０ｍｍｏｌ）、精製水０．１７ｇ、５０％ヒドロキシルアミン水溶液０．０３６ｇ（０．５５ｍｍｏｌ）を混合して調製した溶液を滴下した。
反応液を少量とり、アセトニトリルで１ｍＬに希釈し、高速液体クロマトグラフィーにて分析した。５．５時間後の高速液体クロマトグラフィーの分析により、原料の消失を確認した。反応溶液に８．８％の塩酸 ０．６８ｇ（１．６４ｍｍｏｌ）およびトルエン５
ｍＬを加えて分液操作を行った。トルエン層は精製水１ｍＬで洗浄し、水層はトルエン
５ ｍＬ で再抽出を行った。トルエン層は合わせて硫酸ナトリウムで乾燥後、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去させ、４−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］安息香酸メチル０．１０９ｇ（収率９６％）を得た。
〔実施例４−５〕
Ｎ−（２−ピリジルメチル）−４−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］−２−メチル安息香酸アミドの合成
Ｎ−（２−ピリジルメチル）−４−［３−（３，５−ジクロロフェニル）―４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル］−２−メチル安息香酸アミド０．１１０ｇ（０．２２ｍｍｏｌ）にトルエン０．５５ｇ，テトラブチルアンモニウムブロミド０．０２２ｇ（０．０６７ｍｍｏｌ）を加え、０℃にて撹拌した。そこに、別途、水酸化ナトリウム０．０２０ｇ（０．４９ｍｍｏｌ）、精製水０．１７ｇ、５０％ヒドロキシルアミン水溶液０．０２９ｇ（０．４５ｍｍｏｌ）を混合して調製した溶液を滴下した。
反応液を少量とり、アセトニトリルで１ｍＬに希釈し、高速液体クロマトグラフィーにて分析した。２３時間後の高速液体クロマトグラフィーにおけるＮ−（２−ピリジルメチル）−４−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］−２−メチル安息香酸アミドの面積百分率は８７．０％であった（ＵＶ検出器にて２２５ｎｍの波長で検出した。トルエンのピークは除外して計算した。）。反応温度を室温まで戻して６時間反応させ、上記と同様の方法により高速液体クロマトグラフィーで反応追跡を行い、原料の消失を確認した。反応溶液に８．８％の塩酸０．５６ｇ（１．３４ｍｍｏｌ）およびクロロホルム５ｍＬを加えて分液操作を行った。クロロホルム層は精製水１ｍＬで洗浄し、水層はクロロホルム５ｍＬで再抽出を行った。クロロホルム層は合わせて硫酸ナトリウムで乾燥後、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去させ、Ｎ−（２−ピリジルメチル）−４−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］−２−メチル安息香酸アミド０．０８３６ｇ（収率７４％）を得た。
〔実施例４−６〕
３−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−５−（３，４，５−トリクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾールの合成
１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，４，５−トリクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン０．０５７ｇ（０．１２ｍｍｏｌ）にトルエン０．２９ｇ，テトラブチルアンモニウムブロミド０．０１２ｇ（０．０３６ｍｍｏｌ）を加え、０℃にて撹拌した。そこに、別途、水酸化ナトリウム０．０１１ｇ（０．２７ｍｍｏｌ）、精製水０．０９ｇ、５０％ヒドロキシルアミン水溶液０．０１６ｇ（０．２４ｍｍｏｌ）を混合して調製した溶液を滴下した。
反応液を少量とり、アセトニトリルで１ｍＬに希釈し、高速液体クロマトグラフィーにて分析した。２３時間後の高速液体クロマトグラフィーの分析により、原料の消失を確認した。反応溶液に８．８％の塩酸０．３０ｇ（０．７３ｍｍｏｌ）およびトルエン５ｍＬを加えて分液操作を行った。トルエン層は精製水１ｍＬで洗浄し、水層はトルエン５ｍＬで再抽出を行った。トルエン層は合わせて硫酸ナトリウムで乾燥後、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去させ、３−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−５−（３，４，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール０．０６１ｇ（収率１００％）を得た。
1H NMR (CDCl3, Me4Si, 300MHz) δ 7.64 (s, 2H), 7.59 (d, J=8.1Hz, 1H), 7.53 (d, J=2.1Hz, 1H), 7.32 (dd, J=8.1, 2.1Hz, 1H), 4.07 (d, J=17.4Hz, 1H), 3.66 (d, J=17.4Hz, 1H), 2.43 (s, 3H)。
〔実施例４−７〕
４−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］安息香酸の合成
４−［３−（３，５−ジクロロフェニル）―４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル］安息香酸０．２００ｇ（０．５１ｍｍｏｌ）にトルエン１．０ｇ，テトラブチルアンモニウムブロミド０．０５０ｇ（０．１５ｍｍｏｌ）を加え、０℃にて撹拌した。そこに、別途、水酸化ナトリウム０．０４５ｇ（１．１３ｍｍｏｌ）、精製水０．３０ｇ、５０％ヒドロキシルアミン水溶液０．０６８ｇ（１．０３ｍｍｏｌ）を混合して調製した溶液を滴下した。
反応液を少量とり、アセトニトリルで１ｍＬに希釈し、高速液体クロマトグラフィーにて分析した。６．５時間後の高速液体クロマトグラフィーの分析により、原料の消失を確認した。反応溶液に８．８％の塩酸１．２９ｇ（３．０９ｍｍｏｌ）および 酢酸エチル
５ ｍＬ を加えて分液操作を行った。酢酸エチル層は精製水１ｍＬで洗浄し、水層は酢酸エチル５ｍＬで再抽出を行った。酢酸エチル層は合わせて硫酸ナトリウムで乾燥後、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去させ、４−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］安息香酸０．２１０ｇ（収率１００％）を得た。
〔実施例４−８〕
３−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−５−（３−トリフルオロメチルフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾールの合成
１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３−トリフルオロメチルフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン０．１３４ｇ（０．３１ｍｍｏｌ）にトルエン０．６７ｇ，テトラブチルアンモニウムブロミド０．０３０ｇ（０．０９２ｍｍｏｌ）を加え、０℃にて撹拌した。そこに、別途、水酸化ナトリウム０．０２７ｇ（０．６８ｍｍｏｌ）、精製水０．２０ｇ、５０％ヒドロキシルアミン水溶液０．０４１ｇ（０．６１ｍｍｏｌ）を混合して調製した溶液を滴下した。
反応液を少量とり、アセトニトリルで１ｍＬに希釈し、高速液体クロマトグラフィーにて分析した。２２時間後の高速液体クロマトグラフィーにおける３−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−５−（３−トリフルオロメチルフェニル）−５−トリフルオロメチル
−４，５−ジヒドロイソオキサゾールの面積百分率は８６．３％であった（ＵＶ検出器にて２２５ｎｍの波長で検出した。トルエンのピークは除外して計算した。）。反応温度を室温まで戻して５．５時間反応させ、上記と同様の方法により高速液体クロマトグラフィーで反応追跡を行い、原料の消失を確認した。反応溶液に８．８％の塩酸 ０．７７ｇ （１．８４ｍｍｏｌ） および 酢酸エチル５ｍＬを加えて分液操作を行った。酢酸エチル層は精製水１ｍＬで洗浄し、水層は酢酸エチル５ｍＬで再抽出を行った。酢酸エチル層は合わせて硫酸ナトリウムで乾燥後、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去させ、３−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−５−（３−トリフルオロメチルフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール ０．１３４ｇ （収率 ９７％） を得た。融点は８４〜８５℃であった。
〔実施例４−９〕
５−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］−３−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾールの合成
３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル−１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン０．０７５ｇ（０．１５ｍｍｏｌ）にトルエン０．３８ｇ，テトラブチルアンモニウムブロミド０．０１５ｇ（０．０４５ｍｍｏｌ）を加え、０℃にて撹拌した。そこに、別途、水酸化ナトリウム０．０１３ｇ（０．３３ｍｍｏｌ）、精製水０．１１ｇ、５０％ヒドロキシルアミン水溶液０．０２０ｇ（０．３０ｍｍｏｌ）を混合して調製した溶液を滴下した。
反応液を少量とり、アセトニトリルで１ｍＬに希釈し、高速液体クロマトグラフィーにて分析した。２２時間後の高速液体クロマトグラフィーにおける５−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］−３−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾールの面積百分率は９４．８％であった（ＵＶ検出器にて２２５ｎｍの波長で検出した。トルエンのピークは除外して計算した。）。反応温度を室温まで戻して５．５時間反応させ、上記と同様の方法により高速液体クロマトグラフィーで反応追跡を行い、原料の消失を確認した。反応溶液に８．８％の塩酸 ０．３８ｇ（０．９０ｍｍｏｌ）および 酢酸エチル５ｍＬを加えて分液操作を行った。酢酸エチル層は精製水１ｍＬで洗浄し、水層は酢酸エチル５ｍＬで再抽出を行った。酢酸エチル層は合わせて硫酸ナトリウムで乾燥後、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去させ、５−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］−３−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール０．０７４ｇ（収率９５％）を得た。融点は１０８〜１１０℃であった。
〔実施例４−１０〕
３−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−クロロジフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾールの合成
１−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４−クロロ−４，４−ジフルオロ−２−ブテン−１−オン０．１０３ｇ（０．２３ｍｍｏｌ）にトルエン０．５２ｇ，テトラブチルアンモニウムブロミド０．０２２ｇ（０．０６８ｍｍｏｌ）を加え、０℃にて撹拌した。そこに、別途、水酸化ナトリウム０．０２０ｇ（０．５０ｍｍｏｌ）、精製水０．１６ｇ、５０％ヒドロキシルアミン水溶液０．０３０ｇ（０．４５ｍｍｏｌ）を混合して調製した溶液を滴下した。
反応液を少量とり、アセトニトリルで１ｍＬに希釈し、高速液体クロマトグラフィーにて分析した。２２時間後の高速液体クロマトグラフィーにおける３−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−クロロジフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾールの面積百分率は５７．３％であった（ＵＶ検出器にて２２５ｎｍの波長で検出した。トルエンのピークは除外して計算した。）。反応温度を室温まで戻して２４時間反応させ、上記と同様の方法により高速液体クロマトグラフィーで反応追跡を行った結果、３−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−５−（３，５−ジク
ロロフェニル）−５−クロロジフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾールの面積百分率は８４．７％であった（ＵＶ検出器にて２２５ｎｍの波長で検出した。トルエンのピークは除外して計算した。）。室温のままさらに２４時間攪拌させたが、面積百分率に変化が見られなかったために反応を終了とし、反応溶液に８．８％の塩酸０．５７ｇ （１．３６ｍｍｏｌ）および トルエン５ｍＬを加えて分液操作を行った。トルエン層は精製水 １ｍＬで洗浄し、水層はトルエン５ｍＬで再抽出を行った。トルエン層は合わせて硫酸ナトリウムで乾燥後、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去させてカラムクロマトグラフィーにより精製し、３−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−クロロジフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール０．２２３ｇ（収率２１％）を得た。
1H NMR (CDCl3, Me4Si, 300MHz) δ 7.58 (d, J=8.1Hz, 1H), 7.52 (bs, 3H), 7.41 (m, 1H), 7.32 (dd, J=8.1, 2.1Hz, 1H), 4.11 (d, J=17.4Hz, 1H), 3.70 (d, J=17.4Hz, 1H), 2.44 (s, 3H)。
〔実施例４−１１〕
５−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］−３−（３−クロロ−４−メチルフェニル）−５−（トリフルオロメチル）−４，５−ジヒドロイソキサゾールの合成
３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］−１−（３−クロロ−４−メチルフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン０．１１０ｇ（０．２４ｍｍｏｌ）にトルエン０．５５０ｇおよびＮ−メチル−２−ピロリドン ０．３３０ｇを加えて溶解させ、０℃に冷却した。１０Ｍに調製した水酸化ナトリウム水溶液０．１３４ｇ（０．９６ｍｍｏｌ）を滴下し、次いでヒドロキシルアミン塩酸塩０．０１８ｇ（０．２６ｍｍｏｌ）を水０．０３９ｇ で溶解させた水溶液を滴下後、０℃にて反応させた。反応液を少量とり、アセトニトリルで１ｍＬに希釈し、高速液体クロマトグラフィーにて分析した。 ４時間後の高速液体クロマトグラフィーにおける５−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］−３−（３−クロロ−４−メチルフェニル）−５−（トリフルオロメチル）−４，５−ジヒドロイソキサゾールの面積百分率は９６．６％であった（ＵＶ検出器にて２５４ｎｍ の波長で検出した。トルエンのピークは除外して計算した。）。反応温度を室温まで戻して２時間反応させ、上記と同様の方法により高速液体クロマトグラフィーで反応追跡を行い、原料の消失を確認した。反応溶液に８．８％の塩酸０．６０ｇ（１．４３ｍｍｏｌ）およびトルエン５ｍＬを加えて分液操作を行った。トルエン層は精製水４ｍＬで３回洗浄して硫酸ナトリウムで乾燥後、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去させ、５−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］−３−（３−クロロ−４−メチルフェニル）−５−（トリフルオロメチル）−４，５−ジヒドロイソキサゾール０．１０９ｇ（収率９９％）を得た。
〔実施例４−１２〕
３−［４−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）フェニル］−５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−（トリフルオロメチル）−４，５−ジヒドロイソキサゾールの合成
１−［４−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）フェニル］−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン０．５０ｇ （１．２１ｍｍｏｌ）にトルエン２．５０ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリドン１．５０ｇを加えて０℃に冷却した。水酸化ナトリウム０．１９ｇ（４．８４ｍｍｏｌ）に水０．２０ｇを加えて調整した水溶液を滴下し、次いでヒドロキシルアミン塩酸塩 ０．０９３ｇ（１．３３ｍｍｏｌ）を水０．４８ｇで溶解させた水溶液を滴下後、０℃にて２時間反応させた。反応液に３５％の塩酸０．７６ｇ（７．２６ｍｍｏｌ）と水２．２７ｇで調製した水溶液を滴下し、１時間攪拌した。酢酸エチル １０ｍｌを加えて分液操作を行い、酢酸エチル層は水 ５ｍｌで２回洗浄した。減圧下溶媒を留去し、３−［４−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）フェニル］−５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−
（トリフルオロメチル）−４，５−ジヒドロイソキサゾール０．４９ｇ（収率９４．７％）を得た。
融点１７９〜１８１℃
〔実施例４−１３〕
３−［４−（１Ｈ−イミダゾール−１−イル）フェニル］−５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−（トリフルオロメチル）−４，５−ジヒドロイソキサゾールの合成
１−［４−（１Ｈ−イミダゾール−１−イル）フェニル］−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン０．４１ｇ（０．９９ｍｍｏｌ）にトルエン ２．００ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリドン１．２２ｇを加えて０℃に冷却した。水酸化ナトリウム０．１６ｇ（３．９４ｍｍｏｌ）に水０．３９ｇを加えて調整した水溶液を滴下し、次いでヒドロキシルアミン塩酸塩０．０７５ｇ（１．０８ｍｍｏｌ）を水０．１６ｇで溶解させた水溶液を滴下後、０℃にて３時間反応させた。反応液に３５％の塩酸０．６２ｇ（５．９１ｍｍｏｌ）と水１．８５ｇで調製した水溶液を滴下し、１時間攪拌した。酢酸エチル ３０ｍｌを加えて分液操作を行い、酢酸エチル層は水 ２０ｍｌで洗浄した。減圧下溶媒を留去し、３−［４−（１Ｈ−イミダゾール−１−イル）フェニル］−５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−（トリフルオロメチル）−４，５−ジヒドロイソキサゾール０．４１ｇ（収率９７．６％）を得た。
融点１９３〜１９５℃
〔実施例４−１４〕
５−（３，５−ジクロロフェニル）−３−［４−（メチルチオ）フェニル］−５−（トリフルオロメチル）−４，５−ジヒドロイソキサゾールの合成
３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−１−［４−（メチルチオ）フェニル］２−ブテン−１−オン０．１１ｇ（０．２８ｍｍｏｌ） にトルエン０．５５ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリドン０．３３ｇを加えて０℃に冷却した。水酸化ナトリウム０．０４５ｇ（１．１２ｍｍｏｌ）に水０．１１ｇを加えて調製した水溶液を滴下し、次いでヒドロキシルアミン塩酸塩０．０２２ｇ（０．３１ｍｍｏｌ）を水 ０．０４６ｇで溶解させた水溶液を滴下後、０℃にて２時間、室温で一晩攪拌した。高速液体クロマトグラフィで反応追跡を行ったところ、原料が消失しなかったため、ヒドロキシルアミン塩酸塩０．０１８ｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を水０．０３８ｇで溶解させた水溶液を加え、室温で１時間攪拌した。反応液に３５％の塩酸０．１８ｇ（１．６９ｍｍｏｌ）と水０．５３ｇで調製した水溶液を滴下し、１時間攪拌した。トルエン５ｍｌを加えて分液操作を行い、トルエン層は水３ｍｌで２回洗浄した。減圧下溶媒を留去し、５−（３，５−ジクロロフェニル）−３−［４−（メチルチオ）フェニル］−５−（トリフルオロメチル）−４，５−ジヒドロイソキサゾール０．０９３ｇ（収率 ８１．３％）を得た。
融点１１４〜１１６℃
〔実施例４−１５〕
３−（６−ブロモピリジン−３−イル）−５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−（トリフルオロメチル）−４，５−ジヒドロイソキサゾールの合成
１−（６−ブロモピリジン−３−イル）−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン０．２０ｇ（０．４７ｍｍｏｌ）にトルエン１．００ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリドン０．６０ｇを加えて０℃に冷却した。水酸化ナトリウム０．０７５ｇ（１．８８ｍｍｏｌ）に水０．１９ｇを加えて調製した水溶液を滴下し、次いでヒドロキシルアミン塩酸塩０．０３６ｇ（０．５２ｍｍｏｌ）を水０．０７７ｇで溶解させた水溶液を滴下後、０℃にて２時間攪拌した。反応液に３５％の塩酸０．３０ｇ （２．８３ｍｍｏｌ）と水０．８８ｇで調製した水溶液を滴下し、１時間攪拌した。トルエン５ｍｌを加えて分液操作を行い、トルエン層は水３ｍｌで２回洗浄した。減圧下溶媒を留去し、３−（６−ブロモピリジン−３−イル）−５−（３，５−ジクロロフ
ェニル）−５−（トリフルオロメチル）−４，５−ジヒドロイソキサゾール０．１８ｇ（収率 ８６．８％）を得た。
融点１４７〜１４８℃
〔実施例４−１６〕
３−［６−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）ピリジン−３−イル］−５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−（トリフルオロメチル）−４，５−ジヒドロイソキサゾールの合成
１−［６−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）ピリジン−３−イル］−３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテン−１−オン０．５０ｇ（１．２１ｍｍｏｌ）にトルエン２．５０ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリドン１．５０ｇを加えて０℃に冷却した。水酸化ナトリウム０．２０ｇ（４．９２ｍｍｏｌ）に水０．４９ｇを加えて調製した水溶液を滴下し、次いでヒドロキシルアミン塩酸塩０．０９４ｇ （１．３５ｍｍｏｌ）を水０．２０ｇで溶解させた水溶液を滴下後、０℃にて２時間攪拌した。反応液に３５％の塩酸０．７７ｇ（７．３８ｍｍｏｌ）と水２．３１ｇで調製した水溶液を滴下し、１時間攪拌した。酢酸エチル２０ｍｌを加えて分液操作を行い、酢酸エチル層は水１０ｍｌで２回洗浄した。減圧下溶媒を留去し、３−［６−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）ピリジン−３−イル］−５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−（トリフルオロメチル）−４，５−ジヒドロイソキサゾール０．４５ｇ（収率 ８７．３％）を得た。
融点１７０〜１７２℃
〔実施例４−１７〕
５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−（トリフルオロメチル）−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］−２−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）ベンゾニトリルの合成
５−［３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル］−２−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）ベンゾニトリル０．３０ｇ（０．６９ｍｍｏｌ）にトルエン１．５２ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリドン０．９１ｇを加えて０℃に冷却した。水酸化ナトリウム０．１１ｇ（２．７７ｍｍｏｌ）に水０．２８ｇを加えて調製した水溶液を滴下し、次いでヒドロキシルアミン塩酸塩０．０５３ｇ（０．７６ｍｍｏｌ）を水０．１１ｇで溶解させた水溶液を滴下後、０℃にて２時間攪拌した。反応液に３５％の塩酸０．４３ｇ（４．１６ｍｍｏｌ）と水１．３０ｇで調製した水溶液を滴下し、１時間攪拌した。トルエン５ｍｌを加えて分液操作を行い、トルエン層は水３ｍｌで２回洗浄した。減圧下溶媒を留去し、５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−（トリフルオロメチル）−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］−２−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）ベンゾニトリル０．３０ｇ（収率 ９４．５％）を得た。
1H NMR (CDCl3, Me4Si, 300MHz) δ8.89 (s, 1H), 8.22 (s, 1H), 8.10 (d, J=8.4Hz, 2H), 7.93 (d, J=8.4Hz, 1H), 7.51 (bs, 2H), 7.46 (d, J=1.7Hz, 1H), 4.12 (d, J=17.4Hz, 1H), 3.76 (d, J=17.4Hz, 1H)
〔実施例４−１８〕
５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−（トリフルオロメチル）−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］−２−フルオロベンゾニトリルの合成
５−［３−（３，５−ジクロロフェニル）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテノイル］−２−フルオロベンゾニトリル０．５０ｇ（１．２９ｍｍｏｌ） にトルエン２．５０ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリドン１．５０ｇを加えて０℃に冷却した。水酸化ナトリウム０．２１ｇ （５．１６ｍｍｏｌ）に水０．５２ｇを加えて調製した水溶液を滴下し、次いでヒドロキシルアミン塩酸塩０．０９９ｇ（１．４２ｍｍｏｌ）を水０．２１ｇで溶
解させた水溶液を滴下後、０℃にて２時間攪拌した。反応液に３５％の塩酸０．８１ｇ（７．７４ｍｍｏｌ）と水２．４２ｇで調製した水溶液を滴下し、１時間攪拌した。トルエン１０ｍｌを加えて分液操作を行い、トルエン層は水５ｍｌで２回洗浄した。減圧下溶媒を留去し、５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−（トリフルオロメチル）−４，５−ジヒドロイソキサゾール−３−イル］−２−フルオロベンゾニトリル０．４８ｇ（収率 ９２．９％）を得た。
融点１３６〜１３９℃
本発明の製造方法は、農薬、医薬、機能材料の製造中間体として有用な化合物であるイソキサゾリン化合物およびその中間体の製造方法として有用である。

Claims (8)

  1. 式（４）：
    Figure 0005843075
     ［式中、
    Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル又はＣ３〜Ｃ８ハロシクロアルキルを表し、
    Ａ５、Ａ６およびＡ７は、それぞれ独立にＣ−Ｘを表し、
    Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、−ＳＦ５、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、ヒドロキシ（Ｃ１〜Ｃ６）ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ６）ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ（Ｃ１〜Ｃ６）ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ８ハロシクロアルキル、−ＯＲ３、−ＯＳＯ２Ｒ３又は−Ｓ（Ｏ）ｒＲ３を表し、各々のＸは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
    Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル又はＣ１〜Ｃ３ハロアルコキシ（Ｃ１〜Ｃ３）ハロアルキルを表し、
    ｒは、０〜２の整数を表す。］で表される芳香族ケトン化合物と
    式（５）：
    Figure 0005843075
     ［式中、
    Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４は、それぞれ独立にＣ−Ｙを表し、
    Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、−ＮＨ２、−Ｎ（Ｒ５）Ｒ４、−ＯＨ、−ＯＲ３、ベンジルオキシ、−ＯＳＯ２Ｒ３、フェニルスルホニルオキシ、（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニルスルホニルオキシ、−Ｃ（Ｏ）ＯＨ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ３、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１ｂ）Ｒ１ａ、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ１ｂ
    ）Ｒ１ａ、−Ｌ−Ｑ、−Ｌ−Ｎ（Ｒ１ｃ）Ｒ１ｄ、−Ｓ（Ｏ）ｒ−Ｌ２−Ｑ２およびＤ−１ないしＤ−５０から選ばれる置換基を表し、
    Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル又はＣ１〜Ｃ３ハロアルコキシ（Ｃ１〜Ｃ３）ハロアルキルを表し、
    Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニル、−ＮＨ２、−Ｎ（Ｒ５）Ｒ４を表し、各々のＹは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
    隣接する２つのＹが一緒になって、Ａ８＝Ａ９−Ａ１０＝Ａ１１を形成していても良く、
    Ａ８、Ａ９、Ａ１０およびＡ１１は、それぞれ独立にＮまたはＣ−Ｙ１を表し、
    Ｙ１は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニル、−ＮＨ２、−Ｎ（Ｒ５）Ｒ４を表し、各々のＹ１は互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
    Ｒ４は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、−ＣＨＯ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシチオカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルジチオカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル又はＣ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニルを表し、
    Ｒ５は、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
    Ｒ１ａは、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｒ８によって任意に置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル、ベンゼン環によって縮環されていてもよいＣ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル、Ｃ３〜Ｃ６ハロアルケニル、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル、−Ｎ（Ｒ１１）Ｒ１０、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ９、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ９、−Ｃ（Ｒ７）＝ＮＯＲ６、フェニル、（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニル、Ｄ−５、Ｄ−７、Ｄ−１０、Ｄ−１１、Ｄ−１２、Ｄ−１４、Ｄ−１５、Ｄ−１８、Ｄ−３１、Ｄ−３２、Ｄ−４２、Ｄ−４３、Ｄ−４５、Ｄ−４６、Ｄ−４８、Ｅ−１、Ｅ−２、Ｅ−３、Ｅ−４又はＥ−７を表し、
    Ｒ１ｂは、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、シアノ（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ９又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ９を表し、
    或いはＲ１ｂはＲ１ａと一緒になってＣ２〜Ｃ６アルキレン鎖を形成することにより、結合する窒素原子と共に３〜７員環を形成してもよいことを表し、このときこのアルキレン鎖は酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を１個含んでもよく、
    Ｌは、−Ｃ（Ｒ２ａ）（Ｒ２ｂ）−、−Ｃ（Ｒ２ａ）（Ｒ２ｂ）ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｃ（Ｒ２ａ）（Ｒ２ｂ）−又は−Ｎ（Ｒ２ｃ）−を表し、
    Ｑは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ又はニトロを表し、
    Ｒ１ｃは、水素原子、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３ａ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ３ａ、−Ｃ（Ｏ）ＳＲ３ａ、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ３ｂ）Ｒ３ａ、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ３ｂ）Ｒ３ａ又は−Ｓ（Ｏ）２Ｒ３ａを表し、
    Ｒ１ｄは、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、シアノ（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３ｃ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ３ｃ、−Ｃ（Ｏ）ＳＲ３ｃ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオ又はＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニルを表すか、
    或いは、Ｒ１ｃはＲ１ｄと一緒になってＣ４〜Ｃ６アルキレン鎖を形成することにより、結合する窒素原子と共に５〜７員環を形成してもよいことを表し、このときこのアルキ
    レン鎖は酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を１個含んでもよく、且つＣ１〜Ｃ６アルキル基、−ＣＨＯ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルアミノカルボニル基、オキソ基又はチオキソ基によって任意に置換されていてもよく、
    Ｒ２ａは、水素原子、シアノ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２又は−Ｃ（Ｓ）ＮＨ２を表し、
    Ｒ２ｂは、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表すか、或いは、Ｒ２ａとＲ２ｂとが一緒になってＣ２〜Ｃ５アルキレン鎖を形成することにより、結合する炭素原子と共に３〜６員環を形成してもよいことを表し、このときこのアルキレン鎖は酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を１〜３個含んでもよく、
    Ｒ２ｃは、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルカルボニル又はＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルを表し、
    Ｒ３ａは、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｒ４ａによって任意に置換された（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６ハロシクロアルキル、Ｅ−１、Ｅ−２、Ｅ−４、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル、フェニル、（Ｖ）ｐ１によって置換されたフェニル、Ｄ−３、Ｄ−４、Ｄ−１２〜Ｄ−１４、Ｄ−４２又はＤ−４３を表し、
    Ｒ３ｂは、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
    Ｒ３ｃは、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル又はＣ３〜Ｃ６アルキニルを表すか、或いは、Ｒ３ａとＲ３ｃとが一緒になってエチレン鎖又はオルト位で結合するベンゼン環を形成することにより、結合する窒素原子、炭素原子、酸素原子或いは硫黄原子と共に５〜７員環を形成してもよいことを表し、
    Ｒ４ａは、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル、Ｓ（Ｏ）ｒＲ５ａ、Ｄ−４２又はＤ−４３を表し、
    Ｒ５ａは、Ｃ１〜Ｃ４アルキルを表し、
    Ｖは、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、−ＯＨ、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニル、−ＮＨ２、Ｃ１〜Ｃ６アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ６アルキル）アミノ、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、Ｃ１〜Ｃ６アルキルアミノカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルアミノカルボニル、ジ（Ｃ１〜Ｃ６アルキル）アミノカルボニル、−Ｃ（Ｓ）ＮＨ２、−Ｓ（Ｏ）２ＮＨ２、Ｃ１〜Ｃ６アルキルアミノスルホニル又はジ（Ｃ１〜Ｃ６アルキル）アミノスルホニルを表し、ｐ１が２以上の整数を表すとき、各々のＶは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
    さらに、２つのＶが隣接する場合には、隣接する２つのＶは−ＯＣＨ２Ｏ−又は−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−を形成することにより、２つのＶのそれぞれが結合する炭素原子と共に５員環又は６員環を形成してもよく、このとき、環を形成する各々の炭素原子に結合した水素原子はハロゲン原子によって任意に置換されていてもよく、
    Ｒ６は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル又はＣ１〜Ｃ６ハロアルキルを表し、
    Ｒ７は、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
    Ｒ８は、ハロゲン原子、シアノ、アミノ、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６ハロシクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスル
    ホニル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１４、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１４、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１５）Ｒ１４、−Ｃ（Ｓ）ＮＨ２、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ１５）Ｒ１４、−Ｃ（Ｒ７）＝ＮＯＨ、−Ｃ（Ｒ７）＝ＮＯＲ６、フェニル、（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニル、Ｄ−１〜Ｄ−５０又はＥ−１〜Ｅ−８を表し、
    Ｄ−１〜Ｄ−５０は、それぞれ下記の構造式で表される芳香族複素環を表し、
    Figure 0005843075
    Figure 0005843075
     Ｚは、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、アミノ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｒ１６によって任意に置換された（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、−Ｃ（Ｓ）ＮＨ２、−Ｓ（Ｏ）２ＮＨ２、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１８）Ｒ１７、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ１８）Ｒ１７、Ｃ１〜Ｃ６アルキルアミノスルホニル又はジ（Ｃ１〜Ｃ６アルキル）アミノスルホニルを表し、ｐ１，ｐ２，ｐ３又はｐ４が２以上の整数を表すとき、各々のＺは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
    Ｅ−１〜Ｅ−８は、それぞれ下記の構造式で表される飽和複素環を表し、
    Figure 0005843075
     Ｒ９は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ３〜Ｃ８シクロ
    アルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル又はＣ３〜Ｃ６アルキニルを表し、
    Ｒ１０は、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１４、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１４、フェニル、（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニル、Ｄ−３、Ｄ−４、Ｄ−１８、Ｄ−４２、Ｄ−４５、Ｄ−４６、Ｄ−４８又はＤ−４９を表し、
    Ｒ１１は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル又はＣ３〜Ｃ６アルキニルを表し、
    Ｒ１２は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、フェニル又は（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニルを表し、
    Ｒ１３は、Ｃ１〜Ｃ４アルキルを表し、ｑ２，ｑ３又はｑ４が２以上の整数を表すとき、各々のＲ１３は互いに同一であっても、または互いに相異なっていてもよく、さらに、２つのＲ１３が同一の炭素原子上に置換している場合、２つのＲ１３は一緒になってオキソを形成してもよいことを表し、
    Ｒ１４は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル又はＣ３〜Ｃ６アルキニルを表し、
    Ｒ１５は、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
    Ｒ１６は、−ＯＨ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ又はＣ１〜Ｃ４アルキルチオを表し、
    Ｒ１７は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル、Ｃ３〜Ｃ６ハロアルケニル、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル、−Ｃ（Ｒ５）＝ＮＯＲ１９、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１９、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ５）Ｒ１９、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣ（Ｏ）Ｒ１９、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ１９、−Ｎ（Ｒ２１）Ｒ２０、（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニル、Ｄ９〜Ｄ１１、Ｄ１８〜Ｄ２０、Ｄ４２〜Ｄ４７又はＤ４８を表し、
    Ｒ１８は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１９ａ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１９ａ又はＣ１〜Ｃ６ハロアルキルチオを表し、
    Ｒ１９は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル又はＣ２〜Ｃ６アルケニルを表し、
    Ｒ１９ａは、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル、フェニル、（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニル、Ｄ４２、Ｄ４３又はＤ４４を表し、
    Ｒ２０は、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル、フェニル、（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニル、Ｄ４２〜Ｄ４６又はＤ４７を表し、
    Ｒ２１は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル又はＣ３〜Ｃ６アルキニルを表し、
    Ｌ２は、単結合又はＣ１〜Ｃ６アルキレン鎖を表し、
    Ｑ２は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル、−Ｎ（Ｒ２３）Ｒ２２、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ２３）Ｒ２２、フェニル、（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニル、Ｄ１８〜Ｄ２０、Ｄ４２〜Ｄ４６又はＤ４７を表し、
    Ｒ２２は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル、フェニル又は（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニルを表し、
    Ｒ２３は、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
    ｐ１は、１〜５の整数を表し、
    ｐ２は、０〜４の整数を表し、
    ｐ３は、０〜３の整数を表し、
    ｐ４は、０〜２の整数を表し、
    ｐ５は、０又は１の整数を表し、
    ｑ２は、０〜５の整数を表し、
    ｑ３は、０〜７の整数を表し、
    ｑ４は、０〜９の整数を表し、
    ｒは、０〜２の整数を表し、
    ｔは、０又は１の整数を表す。］で表される置換アセトフェノン化合物とを溶媒中、溶媒が有機溶媒であるときは添加物の非存在下で、そして溶媒が水であるときは水に可溶な有機溶媒又は界面活性剤の存在下で、塩基の存在下、懸濁状態で反応させることにより製造した
    Figure 0005843075
     ［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ａ５、Ａ６およびＡ７は前記の意味を表す。］で表される１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−３−ヒドロキシプロパン−１−オン化合物を、脱水剤と塩基の存在下で反応させることによる
    Figure 0005843075
     ［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ａ５、Ａ６およびＡ７は前記の意味を表す。］で表される１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−２−プロペン−１−オン化合物の製造方法。
  2. 式（４）：
    Figure 0005843075
     ［式中、
    Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル又はＣ３〜Ｃ８ハロシクロアルキルを表し、
    Ａ５、Ａ６およびＡ７は、それぞれ独立にＣ−Ｘを表し、
    Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、−ＳＦ５、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、ヒドロキシ（Ｃ１〜Ｃ６）ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ６）ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ（Ｃ１〜Ｃ６）ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ８ハロシクロアルキル、−ＯＲ３、−ＯＳＯ２Ｒ３又は−Ｓ（Ｏ）ｒＲ３を表し、各々のＸは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
    Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル又はＣ１〜Ｃ３ハロアルコキシ（Ｃ１〜Ｃ３）ハロアルキルを表し、
    ｒは、０〜２の整数を表す。］で表される芳香族ケトン化合物と
    式（５）：
    Figure 0005843075
     ［式中、
    Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４は、それぞれ独立にＣ−Ｙを表し、
    Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、−ＮＨ２、−Ｎ（Ｒ５）Ｒ４、−ＯＨ、−ＯＲ３、ベンジルオキシ、−ＯＳＯ２Ｒ３、フェニルスルホニルオキシ、（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニルスルホニルオキシ、−Ｃ（Ｏ）ＯＨ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ３、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１ｂ）Ｒ１ａ、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ１ｂ）Ｒ１ａ、−Ｌ−Ｑ、−Ｌ−Ｎ（Ｒ１ｃ）Ｒ１ｄ、−Ｓ（Ｏ）ｒ−Ｌ２−Ｑ２およびＤ−１ないしＤ−５０から選ばれる置換基を表し、
    Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル又はＣ１〜Ｃ３ハロアルコキシ（Ｃ１〜Ｃ３）ハロアルキルを表し、
    Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニル、−ＮＨ２、−Ｎ（Ｒ５）Ｒ４を表し、各々のＹは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
    隣接する２つのＹが一緒になって、Ａ８＝Ａ９−Ａ１０＝Ａ１１を形成していても良く、
    Ａ８、Ａ９、Ａ１０およびＡ１１は、それぞれ独立にＮまたはＣ−Ｙ１を表し、
    Ｙ１は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニル、−ＮＨ２、−Ｎ（Ｒ５）Ｒ４を表し、各々のＹ１は互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
    Ｒ４は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、−ＣＨＯ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシチオカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルジチオカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル又はＣ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニルを表し、
    Ｒ５は、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
    Ｒ１ａは、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｒ８によって任意に置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル、ベンゼン環によって縮環されていてもよいＣ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル、Ｃ３〜Ｃ６ハロアルケニル、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル、−Ｎ（Ｒ１１）Ｒ１０、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ９、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ９、−Ｃ（Ｒ７）＝ＮＯＲ６、フェニル、（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニル、Ｄ−５、Ｄ−７、Ｄ−１０、Ｄ−１１、Ｄ−１２、Ｄ−１４、Ｄ−１５、Ｄ−１８、Ｄ−３１、Ｄ−３２、Ｄ−４２、Ｄ−４３、Ｄ−４５、Ｄ−４６、Ｄ−４８、Ｅ−１、Ｅ−２、Ｅ−３、Ｅ−４又はＥ−７を表し、
    Ｒ１ｂは、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、シアノ（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ９又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ９を表し、
    或いはＲ１ｂはＲ１ａと一緒になってＣ２〜Ｃ６アルキレン鎖を形成することにより、結合する窒素原子と共に３〜７員環を形成してもよいことを表し、このときこのアルキレン鎖は酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を１個含んでもよく、
    Ｌは、−Ｃ（Ｒ２ａ）（Ｒ２ｂ）−、−Ｃ（Ｒ２ａ）（Ｒ２ｂ）ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｃ（Ｒ２ａ）（Ｒ２ｂ）−又は−Ｎ（Ｒ２ｃ）−を表し、
    Ｑは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ又はニトロを表し、
    Ｒ１ｃは、水素原子、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３ａ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ３ａ、−Ｃ（Ｏ）ＳＲ３ａ、
    −Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ３ｂ）Ｒ３ａ、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ３ｂ）Ｒ３ａ又は−Ｓ（Ｏ）２Ｒ３ａを表し、
    Ｒ１ｄは、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、シアノ（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３ｃ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ３ｃ、−Ｃ（Ｏ）ＳＲ３ｃ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオ又はＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニルを表すか、
    或いは、Ｒ１ｃはＲ１ｄと一緒になってＣ４〜Ｃ６アルキレン鎖を形成することにより、結合する窒素原子と共に５〜７員環を形成してもよいことを表し、このときこのアルキレン鎖は酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を１個含んでもよく、且つＣ１〜Ｃ６アルキル基、−ＣＨＯ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルアミノカルボニル基、オキソ基又はチオキソ基によって任意に置換されていてもよく、
    Ｒ２ａは、水素原子、シアノ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２又は−Ｃ（Ｓ）ＮＨ２を表し、
    Ｒ２ｂは、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表すか、或いは、Ｒ２ａとＲ２ｂとが一緒になってＣ２〜Ｃ５アルキレン鎖を形成することにより、結合する炭素原子と共に３〜６員環を形成してもよいことを表し、このときこのアルキレン鎖は酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を１〜３個含んでもよく、
    Ｒ２ｃは、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルカルボニル又はＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルを表し、
    Ｒ３ａは、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｒ４ａによって任意に置換された（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６ハロシクロアルキル、Ｅ−１、Ｅ−２、Ｅ−４、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル、フェニル、（Ｖ）ｐ１によって置換されたフェニル、Ｄ−３、Ｄ−４、Ｄ−１２〜Ｄ−１４、Ｄ−４２又はＤ−４３を表し、
    Ｒ３ｂは、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
    Ｒ３ｃは、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル又はＣ３〜Ｃ６アルキニルを表すか、或いは、Ｒ３ａとＲ３ｃとが一緒になってエチレン鎖又はオルト位で結合するベンゼン環を形成することにより、結合する窒素原子、炭素原子、酸素原子或いは硫黄原子と共に５〜７員環を形成してもよいことを表し、
    Ｒ４ａは、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル、Ｓ（Ｏ）ｒＲ５ａ、Ｄ−４２又はＤ−４３を表し、
    Ｒ５ａは、Ｃ１〜Ｃ４アルキルを表し、
    Ｖは、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、−ＯＨ、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニル、−ＮＨ２、Ｃ１〜Ｃ６アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ６アルキル）アミノ、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、Ｃ１〜Ｃ６アルキルアミノカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルアミノカルボニル、ジ（Ｃ１〜Ｃ６アルキル）アミノカルボニル、−Ｃ（Ｓ）ＮＨ２、−Ｓ（Ｏ）２ＮＨ２、Ｃ１〜Ｃ６アルキルアミノスルホニル又はジ（Ｃ１〜Ｃ６アルキル）アミノスルホニルを表し、ｐ１が２以上の整数を表すとき、各々のＶは互
    いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
    さらに、２つのＶが隣接する場合には、隣接する２つのＶは−ＯＣＨ２Ｏ−又は−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−を形成することにより、２つのＶのそれぞれが結合する炭素原子と共に５員環又は６員環を形成してもよく、このとき、環を形成する各々の炭素原子に結合した水素原子はハロゲン原子によって任意に置換されていてもよく、
    Ｒ６は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル又はＣ１〜Ｃ６ハロアルキルを表し、
    Ｒ７は、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
    Ｒ８は、ハロゲン原子、シアノ、アミノ、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６ハロシクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１４、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１４、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１５）Ｒ１４、−Ｃ（Ｓ）ＮＨ２、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ１５）Ｒ１４、−Ｃ（Ｒ７）＝ＮＯＨ、−Ｃ（Ｒ７）＝ＮＯＲ６、フェニル、（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニル、Ｄ−１〜Ｄ−５０又はＥ−１〜Ｅ−８を表し、
    Ｄ−１〜Ｄ−５０は、それぞれ下記の構造式で表される芳香族複素環を表し、
    Figure 0005843075
    Figure 0005843075
     Ｚは、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、アミノ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｒ１６によって任意に置換された（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、−Ｃ（Ｓ）ＮＨ２、−Ｓ（Ｏ）２ＮＨ２、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１８）Ｒ１７、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ１８）Ｒ１７、Ｃ１〜Ｃ６アルキルアミノスルホニル又はジ（Ｃ１〜Ｃ６アルキル）アミノスルホニルを表し、ｐ１，ｐ２，ｐ３又はｐ４が２以上の整数を表すとき、各々のＺは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
    Ｅ−１〜Ｅ−８は、それぞれ下記の構造式で表される飽和複素環を表し、
    Figure 0005843075
     Ｒ９は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ３〜Ｃ８シクロ
    アルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル又はＣ３〜Ｃ６アルキニルを表し、
    Ｒ１０は、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１４、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１４、フェニル、（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニル、Ｄ−３、Ｄ−４、Ｄ−１８、Ｄ−４２、Ｄ−４５、Ｄ−４６、Ｄ−４８又はＤ−４９を表し、
    Ｒ１１は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル又はＣ３〜Ｃ６アルキニルを表し、
    Ｒ１２は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、フェニル又は（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニルを表し、
    Ｒ１３は、Ｃ１〜Ｃ４アルキルを表し、ｑ２，ｑ３又はｑ４が２以上の整数を表すとき、各々のＲ１３は互いに同一であっても、または互いに相異なっていてもよく、さらに、２つのＲ１３が同一の炭素原子上に置換している場合、２つのＲ１３は一緒になってオキソを形成してもよいことを表し、
    Ｒ１４は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル又はＣ３〜Ｃ６アルキニルを表し、
    Ｒ１５は、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
    Ｒ１６は、−ＯＨ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ又はＣ１〜Ｃ４アルキルチオを表し、
    Ｒ１７は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル、Ｃ３〜Ｃ６ハロアルケニル、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル、−Ｃ（Ｒ５）＝ＮＯＲ１９、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１９、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ５）Ｒ１９、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣ（Ｏ）Ｒ１９、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ１９、−Ｎ（Ｒ２１）Ｒ２０、（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニル、Ｄ９〜Ｄ１１、Ｄ１８〜Ｄ２０、Ｄ４２〜Ｄ４７又はＤ４８を表し、
    Ｒ１８は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１９ａ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１９ａ又はＣ１〜Ｃ６ハロアルキルチオを表し、
    Ｒ１９は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル又はＣ２〜Ｃ６アルケニルを表し、
    Ｒ１９ａは、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル、フェニル、（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニル、Ｄ４２、Ｄ４３又はＤ４４を表し、
    Ｒ２０は、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル、フェニル、（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニル、Ｄ４２〜Ｄ４６又はＤ４７を表し、
    Ｒ２１は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル又はＣ３〜Ｃ６アルキニルを表し、
    Ｌ２は、単結合又はＣ１〜Ｃ６アルキレン鎖を表し、
    Ｑ２は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル、−Ｎ（Ｒ２３）Ｒ２２、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ２３）Ｒ２２、フェニル、（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニル、Ｄ１８〜Ｄ２０、Ｄ４２〜Ｄ４６又はＤ４７を表し、
    Ｒ２２は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル、フェニル又は（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニルを表し、
    Ｒ２３は、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
    ｐ１は、１〜５の整数を表し、
    ｐ２は、０〜４の整数を表し、
    ｐ３は、０〜３の整数を表し、
    ｐ４は、０〜２の整数を表し、
    ｐ５は、０又は１の整数を表し、
    ｑ２は、０〜５の整数を表し、
    ｑ３は、０〜７の整数を表し、
    ｑ４は、０〜９の整数を表し、
    ｒは、０〜２の整数を表し、
    ｔは、０又は１の整数を表す。］で表される置換アセトフェノン化合物とを溶媒中、溶媒が有機溶媒であるときは添加物の非存在下で、そして溶媒が水であるときは水に可溶な有機溶媒又は界面活性剤の存在下で、塩基の存在下、懸濁状態で反応させることにより製造した
    Figure 0005843075
     ［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ａ５、Ａ６およびＡ７は前記の意味を表す。］で表される１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−３−ヒドロキシプロパン−１−オン化合物の製造方法。
  3. 前記有機溶媒がクロロベンゼン、トルエン、ｎ−へプタン、トリブチルアミン及び酢酸エチルからなる群から選ばれる１種又は２種以上の溶媒であることを特徴とする請求項２に記載の製造方法。
  4. 前記溶媒が有機溶媒であり、添加物の非存在下で行われる前記反応において、ジエチルアミン、ジ‐ｉ‐プロピルアミン、ジ‐ｎ‐プロピルアミン、ジ‐ｎ‐ブチルアミン、ピロリジン、トリエチルアミン及びトリ‐ｎ‐ブチルアミンからなる群から選ばれる塩基を用いることを特徴とする請求項２又は３に記載の製造方法。
  5. 前記溶媒が水であり、水に可溶な有機溶媒の存在下で行われる前記反応において、塩基として炭酸カリウム又は炭酸ナトリウムを用いることを特徴とする請求項２に記載の製造方法。
  6. 前記水に可溶な有機溶媒がジメチルスルホキシド、スルホラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド、アセトニトリル、メタノール及びニトロメタンからなる群から選ばれることを特徴とする請求項２又は５に記載の製造方法。
  7. 前記水に可溶な有機溶媒がＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル及びメタノールからなる群から選ばれることを特徴とする請求項６に記載の製造方法。
  8. 式（４）：
    Figure 0005843075
     ［式中、
    Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル又はＣ３〜Ｃ８ハロシクロアルキルを表し、
    Ａ５、Ａ６およびＡ７は、それぞれ独立にＣ−Ｘを表し、
    Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、−ＳＦ５、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、ヒドロキシ（Ｃ１〜Ｃ６）ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ６）ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ（Ｃ１〜Ｃ６）ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ８ハロシクロアルキル、−ＯＲ３、−ＯＳＯ２Ｒ３又は−Ｓ（Ｏ）ｒＲ３を表し、各々のＸは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
    Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル又はＣ１〜Ｃ３ハロアルコキシ（Ｃ１〜Ｃ３）ハロアルキルを表し、
    ｒは、０〜２の整数を表す。］で表される芳香族ケトン化合物と、
    式（５）：
    Figure 0005843075
     ［式中、
    Ａ１、Ａ２、Ａ３およびＡ４は、それぞれ独立にＣ−Ｙを表し、
    Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、−ＮＨ２、−Ｎ（Ｒ５）Ｒ４、−ＯＨ、−ＯＲ３、ベンジルオキシ、−ＯＳＯ２Ｒ３、フェニルスルホニルオキシ、（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニルスルホニルオキシ、−Ｃ（Ｏ）ＯＨ、−Ｃ（
    Ｏ）ＯＲ３、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１ｂ）Ｒ１ａ、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ１ｂ）Ｒ１ａ、−Ｌ−Ｑ、−Ｌ−Ｎ（Ｒ１ｃ）Ｒ１ｄ、−Ｓ（Ｏ）ｒ−Ｌ２−Ｑ２およびＤ−１ないしＤ−５０から選ばれる置換基を表し、
    Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル又はＣ１〜Ｃ３ハロアルコキシ（Ｃ１〜Ｃ３）ハロアルキルを表し、
    Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニル、−ＮＨ２、−Ｎ（Ｒ５）Ｒ４を表し、各々のＹは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
    隣接する２つのＹが一緒になって、Ａ８＝Ａ９−Ａ１０＝Ａ１１を形成していても良く、
    Ａ８、Ａ９、Ａ１０およびＡ１１は、それぞれ独立にＮまたはＣ−Ｙ１を表し、
    Ｙ１は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニル、−ＮＨ２、−Ｎ（Ｒ５）Ｒ４を表し、各々のＹ１は互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
    Ｒ４は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、−ＣＨＯ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシチオカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルジチオカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル又はＣ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニルを表し、
    Ｒ５は、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
    Ｒ１ａは、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｒ８によって任意に置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル、ベンゼン環によって縮環されていてもよいＣ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル、Ｃ３〜Ｃ６ハロアルケニル、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル、−Ｎ（Ｒ１１）Ｒ１０、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ９、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ９、−Ｃ（Ｒ７）＝ＮＯＲ６、フェニル、（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニル、Ｄ−５、Ｄ−７、Ｄ−１０、Ｄ−１１、Ｄ−１２、Ｄ−１４、Ｄ−１５、Ｄ−１８、Ｄ−３１、Ｄ−３２、Ｄ−４２、Ｄ−４３、Ｄ−４５、Ｄ−４６、Ｄ−４８、Ｅ−１、Ｅ−２、Ｅ−３、Ｅ−４又はＥ−７を表し、
    Ｒ１ｂは、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、シアノ（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ９又は−Ｃ（Ｏ）ＯＲ９を表し、
    或いはＲ１ｂはＲ１ａと一緒になってＣ２〜Ｃ６アルキレン鎖を形成することにより、結合する窒素原子と共に３〜７員環を形成してもよいことを表し、このときこのアルキレン鎖は酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を１個含んでもよく、
    Ｌは、−Ｃ（Ｒ２ａ）（Ｒ２ｂ）−、−Ｃ（Ｒ２ａ）（Ｒ２ｂ）ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｃ（Ｒ２ａ）（Ｒ２ｂ）−又は−Ｎ（Ｒ２ｃ）−を表し、
    Ｑは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ又はニトロを表し、
    Ｒ１ｃは、水素原子、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３ａ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ３ａ、−Ｃ（Ｏ）ＳＲ３ａ、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ３ｂ）Ｒ３ａ、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ３ｂ）Ｒ３ａ又は−Ｓ（Ｏ）２Ｒ３ａを表し、
    Ｒ１ｄは、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、シアノ（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３ｃ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ３ｃ、−Ｃ（Ｏ）ＳＲ３ｃ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオ又はＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニルを表すか、
    或いは、Ｒ１ｃはＲ１ｄと一緒になってＣ４〜Ｃ６アルキレン鎖を形成することにより
    、結合する窒素原子と共に５〜７員環を形成してもよいことを表し、このときこのアルキレン鎖は酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を１個含んでもよく、且つＣ１〜Ｃ６アルキル基、−ＣＨＯ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルアミノカルボニル基、オキソ基又はチオキソ基によって任意に置換されていてもよく、
    Ｒ２ａは、水素原子、シアノ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２又は−Ｃ（Ｓ）ＮＨ２を表し、
    Ｒ２ｂは、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表すか、或いは、Ｒ２ａとＲ２ｂとが一緒になってＣ２〜Ｃ５アルキレン鎖を形成することにより、結合する炭素原子と共に３〜６員環を形成してもよいことを表し、このときこのアルキレン鎖は酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を１〜３個含んでもよく、
    Ｒ２ｃは、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルカルボニル又はＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルを表し、
    Ｒ３ａは、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｒ４ａによって任意に置換された（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６ハロシクロアルキル、Ｅ−１、Ｅ−２、Ｅ−４、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル、フェニル、（Ｖ）ｐ１によって置換されたフェニル、Ｄ−３、Ｄ−４、Ｄ−１２〜Ｄ−１４、Ｄ−４２又はＤ−４３を表し、
    Ｒ３ｂは、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
    Ｒ３ｃは、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル又はＣ３〜Ｃ６アルキニルを表すか、或いは、Ｒ３ａとＲ３ｃとが一緒になってエチレン鎖又はオルト位で結合するベンゼン環を形成することにより、結合する窒素原子、炭素原子、酸素原子或いは硫黄原子と共に５〜７員環を形成してもよいことを表し、
    Ｒ４ａは、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル、Ｓ（Ｏ）ｒＲ５ａ、Ｄ−４２又はＤ−４３を表し、
    Ｒ５ａは、Ｃ１〜Ｃ４アルキルを表し、
    Ｖは、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、−ＯＨ、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニル、−ＮＨ２、Ｃ１〜Ｃ６アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ６アルキル）アミノ、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、Ｃ１〜Ｃ６アルキルアミノカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルアミノカルボニル、ジ（Ｃ１〜Ｃ６アルキル）アミノカルボニル、−Ｃ（Ｓ）ＮＨ２、−Ｓ（Ｏ）２ＮＨ２、Ｃ１〜Ｃ６アルキルアミノスルホニル又はジ（Ｃ１〜Ｃ６アルキル）アミノスルホニルを表し、ｐ１が２以上の整数を表すとき、各々のＶは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
    さらに、２つのＶが隣接する場合には、隣接する２つのＶは−ＯＣＨ２Ｏ−又は−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−を形成することにより、２つのＶのそれぞれが結合する炭素原子と共に５員環又は６員環を形成してもよく、このとき、環を形成する各々の炭素原子に結合した水素原子はハロゲン原子によって任意に置換されていてもよく、
    Ｒ６は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル又はＣ１〜Ｃ６ハロアルキルを表し、
    Ｒ７は、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
    Ｒ８は、ハロゲン原子、シアノ、アミノ、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６ハロシクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ６ハ
    ロアルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１４、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１４、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１５）Ｒ１４、−Ｃ（Ｓ）ＮＨ２、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ１５）Ｒ１４、−Ｃ（Ｒ７）＝ＮＯＨ、−Ｃ（Ｒ７）＝ＮＯＲ６、フェニル、（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニル、Ｄ−１〜Ｄ−５０又はＥ−１〜Ｅ−８を表し、
    Ｄ−１〜Ｄ−５０は、それぞれ下記の構造式で表される芳香族複素環を表し、
    Figure 0005843075
    Figure 0005843075
     Ｚは、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、アミノ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｒ１６によって任意に置換された（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、−Ｃ（Ｓ）ＮＨ２、−Ｓ（Ｏ）２ＮＨ２、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１８）Ｒ１７、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ１８）Ｒ１７、Ｃ１〜Ｃ６アルキルアミノスルホニル又はジ（Ｃ１〜Ｃ６アルキル）アミノスルホニルを表し、ｐ１，ｐ２，ｐ３又はｐ４が２以上の整数を表すとき、各々のＺは互いに同一であっても又は互いに相異なっていてもよく、
    Ｅ−１〜Ｅ−８は、それぞれ下記の構造式で表される飽和複素環を表し、
    Figure 0005843075
     Ｒ９は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ３〜Ｃ８シクロ
    アルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル又はＣ３〜Ｃ６アルキニルを表し、
    Ｒ１０は、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１４、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１４、フェニル、（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニル、Ｄ−３、Ｄ−４、Ｄ−１８、Ｄ−４２、Ｄ−４５、Ｄ−４６、Ｄ−４８又はＤ−４９を表し、
    Ｒ１１は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル又はＣ３〜Ｃ６アルキニルを表し、
    Ｒ１２は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、フェニル又は（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニルを表し、
    Ｒ１３は、Ｃ１〜Ｃ４アルキルを表し、ｑ２，ｑ３又はｑ４が２以上の整数を表すとき、各々のＲ１３は互いに同一であっても、または互いに相異なっていてもよく、さらに、２つのＲ１３が同一の炭素原子上に置換している場合、２つのＲ１３は一緒になってオキソを形成してもよいことを表し、
    Ｒ１４は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル又はＣ３〜Ｃ６アルキニルを表し、
    Ｒ１５は、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
    Ｒ１６は、−ＯＨ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ又はＣ１〜Ｃ４アルキルチオを表し、
    Ｒ１７は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル、Ｃ３〜Ｃ６ハロアルケニル、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル、−Ｃ（Ｒ５）＝ＮＯＲ１９、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１９、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ５）Ｒ１９、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣ（Ｏ）Ｒ１９、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ１９、−Ｎ（Ｒ２１）Ｒ２０、（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニル、Ｄ９〜Ｄ１１、Ｄ１８〜Ｄ２０、Ｄ４２〜Ｄ４７又はＤ４８を表し、
    Ｒ１８は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１９ａ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１９ａ又はＣ１〜Ｃ６ハロアルキルチオを表し、
    Ｒ１９は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル又はＣ２〜Ｃ６アルケニルを表し、
    Ｒ１９ａは、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルチオ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルフィニル（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル、フェニル、（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニル、Ｄ４２、Ｄ４３又はＤ４４を表し、
    Ｒ２０は、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル、フェニル、（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニル、Ｄ４２〜Ｄ４６又はＤ４７を表し、
    Ｒ２１は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル又はＣ３〜Ｃ６アルキニルを表し、
    Ｌ２は、単結合又はＣ１〜Ｃ６アルキレン鎖を表し、
    Ｑ２は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル、−Ｎ（Ｒ２３）Ｒ２２、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ２３）Ｒ２２、フェニル、（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニル、Ｄ１８〜Ｄ２０、Ｄ４２〜Ｄ４６又はＤ４７を表し、
    Ｒ２２は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル、フェニル又は（Ｚ）ｐ１によって置換されたフェニルを表し、
    Ｒ２３は、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
    ｐ１は、１〜５の整数を表し、
    ｐ２は、０〜４の整数を表し、
    ｐ３は、０〜３の整数を表し、
    ｐ４は、０〜２の整数を表し、
    ｐ５は、０又は１の整数を表し、
    ｑ２は、０〜５の整数を表し、
    ｑ３は、０〜７の整数を表し、
    ｑ４は、０〜９の整数を表し、
    ｒは、０〜２の整数を表し、
    ｔは、０又は１の整数を表す。］で表される置換アセトフェノン化合物とを有機溶媒中、塩基の存在下、８０℃を超える温度で反応させることにより、
    Figure 0005843075
     ［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ａ５、Ａ６およびＡ７は前記の意味を表す。］で表される１，３−ビス（置換フェニル）−３−置換−２−プロペン−１−オン化合物を１工程で製造する方法。
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Families Citing this family (62)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EA011764B1 (ru) 2004-03-05 2009-06-30 Ниссан Кемикал Индастриз, Лтд. Изоксазолинзамещённое производное бензамида и пестицид
TW200803740A (en) 2005-12-16 2008-01-16 Du Pont 5-aryl isoxazolines for controlling invertebrate pests
TWI412322B (zh) 2005-12-30 2013-10-21 Du Pont 控制無脊椎害蟲之異唑啉
EP2155701B1 (en) * 2007-06-13 2013-12-11 E. I. Du Pont de Nemours and Company Isoxazoline insecticides
TWI430995B (zh) 2007-06-26 2014-03-21 Du Pont 萘異唑啉無脊椎有害動物控制劑
CN101743000A (zh) 2007-06-27 2010-06-16 杜邦公司 动物虫害控制方法
TWI600639B (zh) 2007-08-17 2017-10-01 杜邦股份有限公司 製備５-鹵烷基-４，５-二氫異唑衍生物之化合物
CN101809004B (zh) * 2007-10-03 2012-12-26 杜邦公司 用于控制无脊椎害虫的萘异噁唑啉化合物
TWI518076B (zh) 2008-04-09 2016-01-21 杜邦股份有限公司 製備雜環化合物之方法
CN102131789A (zh) 2008-08-22 2011-07-20 先正达参股股份有限公司 杀虫化合物
ES2434734T3 (es) 2008-08-22 2013-12-17 Syngenta Participations Ag Compuestos insecticidas
NZ590756A (en) 2008-09-04 2013-01-25 Syngenta Participations Ag Insecticidal compounds
BRPI1007878A2 (pt) * 2009-01-29 2015-09-01 Syngenta Participations Ag "compostos inseticidas"
DK2424862T3 (en) 2009-04-30 2014-12-15 Basf Se METHOD FOR PRODUCING SUBSTITUTED ISOXAZOLINFORBINDELSER AND THEIR Precursor
JP5679102B2 (ja) * 2009-08-03 2015-03-04 日産化学工業株式会社 ジヒドロイソキサゾール置換安息香酸化合物の光学活性体とジアステレオマー塩及びその製造方法
TWI487486B (zh) 2009-12-01 2015-06-11 Syngenta Participations Ag 以異唑啉衍生物為主之殺蟲化合物
ES2569486T3 (es) 2009-12-17 2016-05-11 Merial, Inc. Compuestos de dihidroazol antiparasitarios y composiciones que comprenden los mismos
ES2566402T3 (es) 2010-05-27 2016-04-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Forma cristalina de 4-[5-[3-cloro-5-(trifluorometil)fenil]-4,5-dihidro-5-(trifluorometil)-3-isoxazolil]-N-[2-oxo-2-[(2,2,2-trifluoroetil)amino]etil]-1-naftalenocarboxamida
WO2011161130A1 (en) 2010-06-23 2011-12-29 Basf Se Process for producing imine compounds for combating invertebrate pests
WO2012007426A1 (en) 2010-07-13 2012-01-19 Basf Se Azoline substituted isoxazoline benzamide compounds for combating animal pests
JP2012111745A (ja) * 2010-11-02 2012-06-14 Sumitomo Chemical Co Ltd ５−トリフルオロメチル−４−ニトロ−２−イソキサゾリン化合物およびその製造方法
EP2635552A2 (en) 2010-11-03 2013-09-11 Basf Se Method for preparing substituted isoxazoline compounds and their precursors 4-chloro, 4-bromo- or 4-iodobenzaldehyde oximes
US8895587B2 (en) * 2011-05-18 2014-11-25 Syngenta Participations Ag Insecticidal compounds based on arylthioacetamide derivatives
JP2013010740A (ja) * 2011-06-03 2013-01-17 Sumitomo Chemical Co Ltd イソキサゾリン化合物を製造する方法
JP6032437B2 (ja) * 2011-08-05 2016-11-30 日産化学工業株式会社 置換４，４−ジフルオロ−２−ブテン−１−オン化合物及び置換イソキサゾリン化合物の製造方法
JP6075563B2 (ja) 2011-11-08 2017-02-08 日産化学工業株式会社 光学活性イソキサゾリン化合物の触媒的不斉合成方法及び光学活性イソキサゾリン化合物
ES2727479T3 (es) 2011-12-23 2019-10-16 Basf Se Compuestos de isotiazolina para combatir plagas de invertebrados
TR201902125T4 (tr) 2012-02-06 2019-03-21 Merial Inc Si̇stemi̇k olarak etki̇ eden akti̇f ajanlari i̇çeren parazi̇ti̇si̇dal oral veteri̇nerli̇ğe ai̇t bi̇leşi̇mler, bunlarin yöntemleri̇ ve kullanimlari
JO3626B1 (ar) 2012-02-23 2020-08-27 Merial Inc تركيبات موضعية تحتوي على فيبرونيل و بيرميثرين و طرق استخدامها
MX366041B (es) 2012-11-20 2019-06-25 Boehringer Ingelheim Animal Health Usa Inc Compuestos antihelmínticos y composiciones y método de uso de los mismos.
DK3063144T3 (da) 2013-11-01 2021-10-25 Boehringer Ingelheim Animal Health Usa Inc Antiparasitære og pesticid-isoxazolinforbindelser
NZ726251A (en) 2014-04-17 2017-11-24 Merial Inc Use of malononitrile compounds for protecting animals from parasites
SI3137449T1 (sl) * 2014-04-30 2020-04-30 Syngenta Participations Ag Postopek za pripravo substituiranih cikloserinov
CA2949511A1 (en) 2014-05-19 2015-11-26 Merial, Inc. Anthelmintic compounds
WO2016069983A1 (en) 2014-10-31 2016-05-06 Merial, Inc. Parasiticidal composition comprising fipronil
UY36570A (es) 2015-02-26 2016-10-31 Merial Inc Formulaciones inyectables de acción prolongada que comprenden un agente activo isoxazolina, métodos y usos de las mismas
MX2021001566A (es) 2015-05-20 2022-09-12 Boehringer Ingelheim Animal Health Usa Inc Compuestos depsipeptidicos como anthelminticos.
NZ747676A (en) 2016-04-06 2023-05-26 Boehringer Ingelheim Animal Health Usa Inc Process for the preparation of isoxazoline compounds
US10526264B2 (en) 2016-07-07 2020-01-07 Basf Se Oxy-cope rearrangement for the manufacture of insecticidal cyclopentene compounds
AU2017344097A1 (en) 2016-10-14 2019-05-02 Boehringer Ingelheim Animal Health USA Inc. Pesticidal and parasiticidal vinyl isoxazoline compounds
US11382949B2 (en) 2016-11-16 2022-07-12 Boehringer Ingelheim Animal Health USA Inc. Anthelmintic depsipeptide compounds
CN106674143A (zh) * 2016-11-30 2017-05-17 南京林业大学 一种合成3’‑苯甲酰基‑3,3‑二甲基螺{二环[2.2.1]庚‑2,5’‑异噁唑啉}的方法
WO2018166855A1 (en) 2017-03-16 2018-09-20 Basf Se Heterobicyclic substituted dihydroisoxazoles
CN106866447A (zh) * 2017-03-30 2017-06-20 成都绿林科技有限公司 一种合成对乙酰基苯甲酰胺的方法
MX2020001724A (es) 2017-08-14 2020-07-29 Boehringer Ingelheim Animal Health Usa Inc Compuestos de pirazol-isoxazolina plaguicidas y parasiticidas.
CN107629029A (zh) * 2017-09-19 2018-01-26 安徽省诚联医药科技有限公司 维帕他韦中间体的制备方法
CN112996788A (zh) 2018-07-09 2021-06-18 勃林格殷格翰动物保健美国公司 驱蠕虫的杂环化合物
US11773066B2 (en) 2018-11-20 2023-10-03 Boehringer Ingelheim Animal Health USA Inc. Indazolylcyanoethylamino compound, compositions of same, method of making, and methods of using thereof
CN109553528A (zh) * 2018-12-21 2019-04-02 荆门医药工业技术研究院 一种2-甲基-4-乙酰基苯甲酸甲酯的合成方法
CA3133100A1 (en) 2019-03-19 2020-09-24 Boehringer Ingelheim Animal Health USA Inc. Anthelmintic aza-benzothiophene and aza-benzofuran compounds
AR119790A1 (es) 2019-08-29 2022-01-12 Pi Industries Ltd Compuestos de isoxazolina y su uso como agentes para el control de plagas
BR112022024156A2 (pt) 2020-05-29 2023-02-14 Boehringer Ingelheim Animal Health Usa Inc Compostos heterocílicos antelmínticos
US20220064130A1 (en) * 2020-09-03 2022-03-03 Cadila Healthcare Limited Process for preparation of isoxazoline substituted benzamide compound
CN116917283A (zh) 2020-12-11 2023-10-20 皮埃企业有限公司 异噁唑啉化合物及其做为害虫控制剂的用途
US20240116854A1 (en) 2021-01-27 2024-04-11 Intervet Inc. Cyclopropylamide compounds against parasites in fish
BR112023015168A2 (pt) 2021-01-27 2023-10-03 Corteva Agriscience Llc Compostos de ciclopropilamida contra parasitas em peixes
CN113512007A (zh) * 2021-08-20 2021-10-19 江苏君若药业有限公司 氟雷拉纳的合成
CN113896690B (zh) * 2021-11-22 2023-04-21 常州齐晖药业有限公司 一种异噁唑啉类驱虫药氟雷拉纳的制备方法
CN114315748A (zh) * 2021-12-29 2022-04-12 江苏天和制药有限公司 一种氟雷拉纳的合成方法
WO2023156938A1 (en) 2022-02-17 2023-08-24 Boehringer Ingelheim Vetmedica Gmbh Method and system for providing a fluid product mailer
CN115477577B (zh) * 2022-10-25 2024-03-15 台州臻挚生物科技有限公司 一种制备2-甲基-4-乙酰基苯甲酸及其衍生物的新方法
CN116178295A (zh) * 2023-01-28 2023-05-30 山东亿盛实业股份有限公司 一种苯唑草酮代谢物t283的制备方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4215076A (en) * 1976-04-23 1980-07-29 Union Carbide Corporation Surfactant-promoted aldol reactions
US5420301A (en) 1988-03-18 1995-05-30 Ciba-Geigy Corporation Process for the preparation of substituted difluorobenzo-1,3-dioxoles
US5300689A (en) * 1992-03-20 1994-04-05 Henkel Corporation Oximation process
AU697361B2 (en) 1994-12-22 1998-10-01 Smithkline Beecham Plc Tetracyclic spiro compounds, process for their preparation and their use as 5HT1D receptor antagonists
JP3882229B2 (ja) 1996-06-28 2007-02-14 ユニマテック株式会社 新規なビニルエーテル化合物、その合成中間体およびそれらの製造法
US5939360A (en) * 1997-07-08 1999-08-17 Nippon Soda Co., Ltd. Compound and herbicidal composition for weed control
WO2000058290A1 (fr) * 1999-03-29 2000-10-05 Nippon Soda Co., Ltd. Procede de preparation de (e)-3-(1-propenyl)isoxazoline
EA011764B1 (ru) 2004-03-05 2009-06-30 Ниссан Кемикал Индастриз, Лтд. Изоксазолинзамещённое производное бензамида и пестицид
JP2007106756A (ja) * 2005-09-14 2007-04-26 Nissan Chem Ind Ltd 置換イソキサゾリン化合物及び有害生物防除剤
KR20080080168A (ko) * 2005-12-14 2008-09-02 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 무척추 해충 방제용 이속사졸린
WO2007074789A1 (ja) 2005-12-26 2007-07-05 Nissan Chemical Industries, Ltd. １，３－ビス（置換フェニル）－３－ヒドロキシプロパン－１－オンおよび２－プロペン－１－オン化合物およびその塩
JP2008260691A (ja) * 2007-04-10 2008-10-30 Bayer Cropscience Ag 殺虫性アリールイソオキサゾリン誘導体
TWI600639B (zh) * 2007-08-17 2017-10-01 杜邦股份有限公司 製備５-鹵烷基-４，５-二氫異唑衍生物之化合物
TWI518076B (zh) 2008-04-09 2016-01-21 杜邦股份有限公司 製備雜環化合物之方法

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