JP5831575B2 - 偏光光照射装置 - Google Patents

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Description

本発明は、線状の光源、樋状の主反射鏡、及びワイヤーグリッド偏光子を備えた偏光光照射装置に関する。
樋状の主反射鏡内に線状の光源を収め、この光源の光を、主反射鏡の出射側に設けたワイヤーグリッド偏光子によって偏光して、照射対象物に照射する偏光光照射装置が知られている。この偏光光照射装置では、光源の長手方向の照度は、光源の中心に対して光源の端部近傍で急激に下がり、照度むらが大きい。
そこで、照度むらを補うため、光源の長手方向外側に向かう光を反射する補助反射鏡を、光源の両端部外側に設けた紫外線照射装置(例えば、特許文献1参照)がある。また、同様の補助反射鏡を、主反射鏡を囲う筐体の下方に設けた紫外可視光照射装置(例えば、特許文献2参照)がある。
特開2008−221170号公報 特開2012−138348号公報
しかしながら、偏光光照射装置に上述した従来の構成を単に適用しただけでは、照度むらを十分に補うことができなかった。
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであり、照度むらをより改善可能な偏光光照射装置を提供することを目的とする。
上述した目的を達成するために、本発明は、線状の光源と、この光源の光を集光する樋状の主反射鏡と、照射する光を直線偏光にするためのワイヤーグリッド偏光子とを備え、偏光光を照射対象物に照射する偏光光照射装置において、前記光源と前記ワイヤーグリッド偏光子との間に波長選択フィルタを備え、前記光源の発光端近傍に、前記主反射鏡の断面を覆い、前記光源から前記波長選択フィルタ近傍に延出する補助反射鏡を設け、前記補助反射鏡は、前記光源と前記波長選択フィルタとの間、及び、前記波長選択フィルタと前記ワイヤーグリッド偏光子との間に分割して配置したことを特徴とする。
また、本発明は、線状の光源と、この光源の光を集光する樋状の主反射鏡と、照射する光を直線偏光にするためのワイヤーグリッド偏光子とを備え、偏光光を照射対象物に照射する偏光光照射装置において、前記光源の発光端近傍に、前記光源から前記ワイヤーグリッド偏光子近傍に延出する補助反射鏡を設け、前記光源と前記ワイヤーグリッド偏光子との間に波長選択フィルタを備え、前記補助反射鏡は、前記光源と前記波長選択フィルタとの間、及び、前記波長選択フィルタと前記ワイヤーグリッド偏光子との間に分割して配置したことを特徴とする。
また、上述の構成において、前記補助反射鏡は、当該補助反射鏡からの反射光が前記波長選択フィルタの鉛直方向に近づくように、前記波長選択フィルタの鉛直方向に対して傾斜させて設けてもよい。
上述の構成において、前記補助反射鏡は、前記照射対象物の鉛直方向に対して°〜2
0°の範囲で傾斜させて設けてもよい。
上述の構成において、前記補助反射鏡は、上部補助反射鏡と下部補助反射鏡に分割され、前記光源の発光長が前記光源の長さ方向における前記照射対象物の長さよりも短い場合には、前記下部補助反射鏡の下端を前記照射対象物の長さ以上の位置に配置し、前記光源の発光長が前記照射対象物の前記長さよりも長い場合には、前記下部補助反射鏡の角度を前記上部補助反射鏡と異ならせて配置してもよい。
上述の構成において、前記主反射鏡の先端と前記波長選択フィルタとの間に空間部を形成してもよい。
上述の構成において、前記主反射鏡の先端と前記波長選択フィルタとの間の空間部、及び、前記波長選択フィルタと前記ワイヤーグリッド偏光子との間の空間部に冷却風を流してもよい。
上述の構成において、前記補助反射鏡は、前記光源側の基端部を前記主反射鏡の断面を覆う大きさで形成し、前記基端部に前記光源を貫通させる切り欠き部を設けるとともに、前記ワイヤーグリッド偏光子側の先端部を少なくとも前記主反射鏡の断面開口幅以上の大きさで形成して構成してもよい。
本発明によれば、光源の発光端近傍に、光源からワイヤーグリッド偏光子近傍に延出する補助反射鏡を設けたため、照度むらをより改善できる。
本発明の第1実施形態に係る偏光光照射装置を模式的に示す正面図である。 偏光光照射装置を示す側面図である。 偏光子ユニットの構成を示す図であり、(A)は平面図、(B)は側断面図である。 偏光光照射装置を示す側断面図である。 偏光光照射装置を、ランプの端部を拡大して示す模式図である。 補助反射板の角度とワークの総エネルギーとの関係を示すグラフである。 補助反射鏡の角度と照度との関係を示すグラフであり、(A)は全体を、(B)は(A)の部分Yを拡大して示す。 補助反射鏡の長さと照度との関係を示すグラフである。 本発明の第2実施形態に係る偏光光照射装置を模式的に示す正面図である。 偏光光照射装置を示す側面図である。 偏光光照射装置を、ランプの端部を拡大して示す模式図である。 偏光光照射装置を示す側断面図である。 補助反射鏡の長さと照度との関係を示すグラフである。 本発明の第3実施形態に係る偏光光照射装置を、ランプの端部を拡大して示す模式図である。
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
<第1実施形態>
図1は第1実施形態に係る偏光光照射装置を模式的に示す正面図であり、図2は偏光光照射装置を示す側面図である。図3は、偏光子ユニットの構成を示す図であり、図3(A)は平面図、図3(B)は側断面図である。図4は、偏光光照射装置を示す側断面図である。
偏光光照射装置1は、図1及び2に示すように、板状もしくは、帯状のワーク(照射対象物)Wの光配向膜に偏光光を照射して光配向する光配向装置である。偏光光照射装置1は、下面に光出射開口部3Aを有する筐体3内に光源たるランプ4、主反射板(主反射鏡)5及び補助反射板(補助反射鏡)6を備えるとともに、光出射開口部3Aに偏光子ユニット10を備えている。これら主反射板5及び補助反射板6は、偏光光照射装置1の反射鏡を構成している。
ワークWは、直動機構(不図示)によって直動方向Xに沿って移送されて偏光光照射装置1の直下を通過し、この通過の際に偏光光に曝露されて光配向膜が配向される。本実施形態では、ワークWは平面視で矩形状に形成され、ワークWの短手方向が直動方向Xに一致するように移送されるようになっている。
筐体3は、ワークWから所定距離離れた上方位置に配置されている。ランプ4は、放電灯であり、少なくともワークWの長手方向の長さと同等以上に延びる直管型(棒状)の紫外線ランプが用いられている。
主反射板5は、断面楕円形、かつランプ4の長手方向に沿って延びるシリンドリカル凹面(樋状)反射鏡のであり、ランプ4の光を集光して光出射開口部3Aから偏光子ユニット10に向けて照射する。
光出射開口部3Aは、ランプ4の直下に形成された平面視で矩形状の開口部であり、長手方向がランプ4の長手方向(軸方向)に一致するように設けられている。
光出射開口部3Aの内側には、透過する光の波長を選択する波長選択フィルタ7が設けられ、この波長選択フィルタ7によって偏光光照射装置1は所望の波長の光を照射するようになっている。
なお、本実施形態では、波長選択フィルタ7を設けたが、ランプ4自体で所望の波長の光を出射できる場合には、波長選択フィルタ7を省略してもよい。
光出射開口部3Aには、偏光子ユニット10が設けられ、この偏光子ユニット10によって光出射開口部3Aが塞がれる。偏光子ユニット10は、波長選択フィルタ7とワークWの間に配置され、ワークWに照射される光を偏光する。この偏光光がワークWの光配向膜に照射されることで、当該光配向膜が配向される。
偏光子ユニット10は、図3に示すように、複数の単位偏光子ユニット12と、これら単位偏光子ユニット12を横並びに一列に整列するフレーム14とを備えている。フレーム14は、各単位偏光子ユニット12を連接配置する板状の枠体である。単位偏光子ユニット12は、略矩形板状に形成されたワイヤーグリッド偏光子(偏光子)16を備えている。
本実施形態では、各単位偏光子ユニット12は、ワイヤーグリッド偏光子16をワイヤー方向Aが直動方向Xと平行になるように支持し、このワイヤー方向Aと直交する方向と、ワイヤーグリッド偏光子16の配列方向Bとが一致するようになされている。
ワイヤーグリッド偏光子16は、直線偏光子の一種であり、基板の表面にグリッドを形成したものである。上述の通り、ランプ4が棒状であることから、ワイヤーグリッド偏光子16には、さまざまな角度の光が入射するが、ワイヤーグリッド偏光子16は、斜めに入射する光であっても直線偏光化して透過する。
ワイヤーグリッド偏光子16は、その法線方向を回動軸にして面内で回動させて偏光軸C1の方向を微調整できるように単位偏光子ユニット12に支持されている。すなわち、複数のワイヤーグリッド偏光子16は、偏光軸C1の方向を微調整できるように互いに隙間を空けて配置されている。全ての単位偏光子ユニット12について、ワイヤーグリッド偏光子16の偏光軸C1が所定の照射基準方向に揃うように微調整されることで、偏光子ユニット10の長軸方向の全長に亘り偏光軸C1が高精度に揃えられた偏光光が得られ、高品位な光配向が可能となる。偏光軸C1が調整されたワイヤーグリッド偏光子16は、単位偏光子ユニット12の上端、及び下端がねじ(固定手段)19によってフレーム14に固定されることで、フレーム14に固定配置される。
また、偏光光照射装置1は、図4に示すように、ランプ4、主反射板5、波長選択フィルタ7及び偏光子ユニット10を冷却する冷却経路30を備えている。冷却経路30には、冷却風を送風する送風機(不図示)が接続されている。
筐体3内には、ランプ4及び主反射板5の側方を囲む隔壁31が、筐体3と隙間δ1を空けて設けられている。隔壁31は、下部にランプ4及び主反射板5を下方に露出する開口31Aを有するとともに、上部に通風孔31Bを有している。
冷却風は、隔壁31と筐体3との間の隙間δ1に供給され、主反射板5の先端5Bと波長選択フィルタ7との間の空間部S1を流れて、主反射板5内と、主反射板5の外側であって隔壁31内の空間Rとに流れ込み、ランプ4、主反射板5、波長選択フィルタ7及び偏光子ユニット10の光学部材を冷却する。これらの光学部材を冷却して温度が高くなった冷却風は、主反射板5の上部に形成された貫通孔5Aから、また、主反射板5の外側から、隔壁31内の空間Rに流れ、隔壁31外に排出される。偏光光照射装置1は、冷却風が冷却経路30を循環するように構成されてもよいし、光学部材を冷却した冷却風を外部に排出してもよい。
この偏光光照射装置1においては、ランプ4の長手方向の照度は、ランプ4の中心に対してランプ4の両端部Q近傍で急激に下がり、照度むらが大きい。照度むらを補うため、ランプの長手方向外側に向かう光を反射する補助反射鏡を、ランプの両端部外側、或いは、筐体の下方に設ける方法がある。補助反射鏡をランプの両端部外側、或いは、筐体の下方に設けた構成では、照度むらを十分に補うことができなかった。
そこで、本実施形態では、ランプ4の発光端(電極)P近傍に補助反射板6を設けている。なお、以下の説明では、発光端P間の距離を発光長Mとして説明する。
図5は、偏光光照射装置1を、ランプ4の端部Qを拡大して示す模式図である。
補助反射板6は、ランプ4とワークWの間に設けられ、ワークWの外に漏れる光をワークWに向けて反射することで、ランプ4及び主反射板5の照射による照度分布を補うものである。
詳述すると、この偏光光照射装置1では、ランプ4及び主反射板5のみで照射した場合、図1及び図5に示すように、ランプ4の両端部Qに対応する領域Dで照度が不足する。この偏光光照射装置1では、この領域Dの照度不足を反射光によって補うように補助反射板6が構成されている。
具体的には、補助反射板6は、ランプ4の両端に対面する一対の端板20を有し、その内壁面が反射面として構成されている。補助反射板6の基端8Aはランプ4の発光端P近傍に位置する。
具体的には、発光長MがワークWの長さNより長い場合は、基端8Aの位置は発光端PとワークWの端W1との間が望ましく、基端8Aを発光端Pの外側に配置する場合は、基端8Aの位置は発光端Pから30mm以内が望ましい。発光長MがワークWの長さNより短い場合は、基端8Aの位置は発光端Pから30mm以内が望ましく、先端8Bの位置はワークWの端W1の外側に配置する必要がある。本実施形態では、発光長MがワークWの長さNより長く、基端8Aの位置は発光端Pに配置している。
補助反射板6の長さLは、少なくとも主反射板5の先端5B以上に設定される。図5(A)は先端8Bを主反射板5の先端5Bと同位置に配置した場合、図5(B)は先端8Bを偏光子ユニット10近傍に配置した場合を示す。
端板20の基端部20Aは、図2に示すように、主反射板5の断面を覆う大きさで形成され、この基端部20Aには、ランプ4を貫通させる切り欠き部21が形成されている。切り欠き部21は、主反射板5の頂部5Cに向けて開口しており、この開口部21Aからランプ4が切り欠き部21に挿入される。端板20の先端部20Bは、主反射板5の断面開口幅Kと略同等の大きさに形成されている。
係る構成の下、一対の端板20は、上記領域Dに向けて光を反射し、この反射光によって領域Dの照度が補われる。
また、端板20の傾斜角度θは、照度を補うべき領域Dに反射光を照射するように調整され、これにより、均斉度が高められる。
本実施形態の波長選択フィルタ7は透過吸収型フィルタ又は多層膜から形成されるフィルタで構成されており、このような波長選択フィルタ7は、入射角度が斜めになるほど透過光量が減る特性(角度特性)を有する。そして、この波長選択フィルタ7の角度特性によって、波長選択フィルタ7を透過して照射面を照射する光束は、斜めに透過する光線の割合が多い程照射面での光量が減少することになる。したがって、本実施形態では、補助反射板6は、図5(C)に示すように、基端8Aの側から先端8Bの側にかけて拡開するように端板20を傾斜することで、反射光の角度をワークの鉛直方向(法線方向)に近づけて、透過光量の減少を少なくしている。具体的には、端板20は、ランプ4の軸方向との接点(本実施形態では、発光端P)を中心に、ワークWの鉛直方向に対して傾斜角度θだけ傾けている。
図6は、補助反射板6の傾斜角度θとワークの総エネルギーとの関係を示すグラフである。図6では、横軸にワークWの長さを、縦軸に補助反射板6がない場合に対するワークW内光量の増加比率を示す。図6中、巾1600mmの位置は、ランプ4の発光端P(電極)位置を示す。また、図6中、線E1は補助反射板6の傾斜角度θが0°の場合の結果、線E2は補助反射板6の傾斜角度θが5°の場合の結果、線E3は補助反射板6の傾斜角度θが10°の場合の結果、線E4は補助反射板6の傾斜角度θが15°の場合の結果、線E5は補助反射板6の傾斜角度θが20°の場合の結果、E6は補助反射板6の傾斜角度θが25°の場合の結果を示す。
図6に示すように、波長選択フィルタ7の角度特性により、補助反射板6に傾斜角度θがある方が、全体光量が増えている。本実施形態では、傾斜角度θは、5°付近において光量が最も増加している。また、傾斜角度θが大きくなると、光量の増加比率が低くなり、補助反射板6を設ける効果が低減する傾向がある。
図7は、補助反射鏡6の傾斜角度と照度との関係を示すグラフであり、図7(A)は全体を、図7(B)は図7(A)の部分Yを拡大して示す。図7では、横軸にワークWの軸方向における中心からの距離を、縦軸に発光長Mの中心における照度を100%とした場合の照度比を示す。なお、発光長Mは1600mmであり、ランプ4の発光端P(電極)位置は800mm付近の位置に対応する。また、図7中、線F1は補助反射板を設けずに主反射板のみの場合の結果、線F2は補助反射板の傾斜角度θが0°の場合の結果、線F3は補助反射板の傾斜角度θが5°の場合の結果、線F4は補助反射板の傾斜角度θが10°の場合の結果、線F5は補助反射板の傾斜角度θが15°の場合の結果、線F6は補助反射板の傾斜角度θが20°の場合の結果を示す。
図7に示すように、照度比については、主反射板5のみで80%の位置において、補助反射板6の傾斜角度θが0°〜10°で95%程度に改善され、主反射板5のみで70%の位置においては、傾斜角度θが0°〜10°で90%以上に改善されている。主反射板5のみで60%の位置においては、傾斜角度θが5°〜20°で80%以上に改善されている。
また、補助反射板6の長さLによっても、照度比は変化する。
図8は、補助反射板6の長さと照度との関係を示すグラフである。図8では、横軸にワークWの軸方向における中心からの距離を、縦軸にPの中心における照度を100%とした場合の照度比を示す。なお、図8は、補助反射板6の傾斜角度θを5°にした場合の結果を示す。図8中、線G1は補助反射板6を設けずに主反射板5のみの場合の結果、線G2は主反射板5の先端5Bからの補助反射板6の長さが0mmの場合の結果、線G3は主反射板5の先端5Bからの補助反射板6の長さが60mmの場合の結果、線G4は主反射板5の先端5Bからの補助反射板6の長さが120mmの場合の結果を示す。
図8に示すように、補助反射板6を偏光子ユニット10に近付けるほど、実質的な反射面の面積を増やすことができるので、照度比を改善できる。
すなわち、偏光光照射装置1においては、傾斜角度θを0°〜20°の範囲にすることが望ましく、補助反射板6の先端8Bを偏光子ユニット10の近傍に位置させることが望ましい。本実施形態では、傾斜角度θを5°、補助反射板6の長さLを、主反射板5の先端5Bからの補助反射板6の長さが120mmとなるように設定している。
本実施形態では、補助反射板6をランプ4から偏光子ユニット10近傍に延在させても、図4に示すように、ランプ4の両側には補助反射板6が設けられていないため、主反射板5の先端5Bと偏光子ユニット10との間に空間部S1が形成される。この空間部S1に冷却風を流すことで、上述したように、光学部材を効果的に冷却できる。
以上説明したように、本実施形態によれば、ランプ4の発光端P近傍に、ランプ4から偏光子ユニット10近傍に延出する補助反射板6を設ける構成とした。この構成により、ランプ4の両端部Qに対応する領域Dの照度不足を補助反射板6の反射光によって補うことができるので、ワークWの均斉度を高めることができる。
また、本実施形態によれば、補助反射板6は、ワークWの鉛直方向に対して0°〜20°の範囲で傾斜させて設ける構成とした。波長選択フィルタ7が透過吸収型フィルタ又は多層膜から構成されるフィルタである場合には、波長選択フィルタ7の角度特性によって照射面に照射される光線の角度が制限される。この構成により、波長選択フィルタ7が透過吸収型フィルタであっても多層膜から構成されるフィルタであっても、透過光量の減少を少なくすることができる。
また、本実施形態によれば、主反射板5の先端5Bと波長選択フィルタ7との間の空間部Sに冷却風を流す構成としたため、ランプ4、主反射板5、補助反射板6、波長選択フィルタ7及び偏光子ユニット10を効果的に冷却できる。
また、本実施形態によれば、補助反射板6は、ランプ4側の基端部20Aを主反射板5の断面を覆う大きさで形成し、基端部20Aにランプ4を貫通させる切り欠き部21を設ける構成とした。この構成により、例えば補助反射板6をランプ4の下方に設ける場合に比べ、補助反射板6の反射面の面積を増やすことができるので、ワークWに反射できる光量を増加させることができる。
また、偏光子ユニット10側の先端部20Bを少なくとも主反射板5の断面開口幅K以上の大きさで形成して構成した。この構成により、ランプ4の端部Q外側に向かう光をより多く反射できるので、ワークWに反射できる光量を増加させることができる。
<第2実施形態>
第1実施形態では、波長選択フィルタ7と偏光子ユニット10とを近接して配置していたが、第2実施形態では、波長選択フィルタ7と偏光子ユニット10とを離間して配置している。なお、第2実施形態では、偏光光照射装置1と同一部分には同一の符号を付して説明を省略する。
図9は第2実施形態に係る偏光光照射装置を模式的に示す正面図であり、図10は偏光光照射装置を示す側面図である。図11は、偏光光照射装置を、ランプ4の端部を拡大して示す模式図である。
偏光光照射装置100では、図9〜図11に示すように、波長選択フィルタ7と偏光子ユニット10とが比較的大きく離間して配置されている。
図12は、偏光光照射装置100を示す側断面図である。
また、偏光光照射装置100は、図12に示すように、ランプ4、主反射板5及び波長選択フィルタ7を冷却するための熱源冷却経路130と、波長選択フィルタ7及び偏光子ユニット10を冷却するための偏光子冷却経路140とをそれぞれ独立して備えている。熱源冷却経路130及び偏光子冷却経路140のそれぞれには、冷却風を送風する送風装置(不図示)が接続されている。
筐体3内には、ランプ4及び主反射板5の側方を囲む隔壁31が設けられている。隔壁31は、下部にランプ4及び主反射板5を下方に露出する開口31Aを有するとともに、上部に通風孔31Bを有している。また、筐体3と隔壁31との間には、これらを仕切る仕切壁32が設けられており、隔壁31と仕切壁32とは隙間δ2を空けて、筐体3と仕切壁32とは隙間δ3を空けて配置されている。仕切壁32は波長選択フィルタ7を下方に露出する開口32Aを有する。
熱源冷却経路130においては、冷却風は、隔壁31と仕切壁32との間の隙間δ2に供給され、主反射板5の先端5Bと波長選択フィルタ7との間の空間部S2を流れて、主反射板5内と、主反射板5の外側であって隔壁31内の空間Rとに流れ込み、ランプ4、主反射板5、及び波長選択フィルタ7を冷却する。これらのランプ4、主反射板5、及び波長選択フィルタ7を冷却して温度が高くなった冷却風は、主反射板5の上部に形成された貫通孔5Aから、また、主反射板5の外側から、隔壁31内の空間Rに流れ、隔壁31外に排出される。
偏光子冷却経路140においては、冷却風は、筐体3と仕切壁32との間の隙間δ3の一方側に供給され、波長選択フィルタ7と偏光子ユニット10との間の空間部S3に流れ込み、波長選択フィルタ7及び偏光子ユニット10を冷却する。このとき、空間部S3に流れ込んだ冷却風は、ランプ4の長手方向に対して直交するように流れる。偏光子ユニット10を冷却して温度が高くなった冷却風は、筐体3と仕切壁32との間の隙間δ3の他方側から排出される。
偏光光照射装置100は、冷却風が熱源冷却経路130及び偏光子冷却経路140のそれぞれを循環するように構成されてもよいし、光学部材を冷却した冷却風を外部に排出してもよい。
図13は、補助反射板106の長さと照度との関係を示すグラフである。図13では、横軸にワークWの軸方向における中心からの距離を、縦軸に発光長Mの中心における照度を100%とした場合の照度比を示す。なお、図13は、補助反射板6の傾斜角度θを5°にした場合の結果を示す。図13中、線H1は補助反射板106を設けずに主反射板5のみの場合の結果、線H2は補助反射板6が波長選択フィルタ7までの長さを有する場合の結果、線H3は補助反射板6が偏光子ユニット10までの長さを有する場合の結果を示す。
図13に示すように、照度比は、主反射板5のみで70%の位置において、偏光子ユニット10までの長さがあれば90%以上にできるが、波長選択フィルタ7までの長さの場合は85%にとどまる。すなわち、波長選択フィルタ7と偏光子ユニット10とが離間して配置した場合でも、補助反射板106の長さLによって照度比は変化する。
そこで、本実施形態の補助反射板106は、図11に示すように、先端8Bを偏光子ユニット10の近傍に位置させている。より詳細には、補助反射板106は、ランプ4と波長選択フィルタ7との間の上部補助反射板106A、及び、波長選択フィルタ7と偏光子ユニット10との間の下部補助反射板106Bに分割して配置されている。上部補助反射板106Aの基端部120Aには切り欠き部21が設けられている。上部補助反射板106Aの先端部120Bは、主反射板5の断面開口幅Kと略同等の大きさに形成されている。下部補助反射板106Bは、先端部120Bと略同等の幅に形成されている。
上部補助反射板106Aは、補助反射板6と同様に、傾斜角度θを0°〜20°の範囲にすることが望ましく、本実施形態では、傾斜角度θを5°に設定している。上部補助反射板106Aの下端106A1は、波長選択フィルタ7の近傍に位置している。
下部補助反射板106Bは、上部補助反射板106Aと同じ傾斜角度θである必要は無く、鉛直方向を含む任意の角度に配置される。本実施形態では、ランプ4の発光長MがワークWの長さよりも短いため、下部補助反射板106Bを、ランプ4側から偏光子ユニット10側にかけて拡開するように傾斜させ、下部補助反射板106Bの下端(先端8B)をワークWの長さN以上の位置に配置している。本実施形態では、上部補助反射板106Aの傾斜角度θも5°に設定している。下部補助反射板106Bの上端106B1は、波長選択フィルタ7の近傍に位置している。
以上説明したように、本実施形態によれば、第1実施形態と同等の効果を奏する。
また、本実施形態によれば、補助反射板106は、ランプ4と波長選択フィルタ7との間、及び、波長選択フィルタ7とワイヤーグリッド偏光子16との間に分割して配置する構成とした。この構成により、補助反射板106の反射面の面積を極力確保できるので、ワークWに反射できる光量を増加させることができる。
また、本実施形態によれば、補助反射板106は、上部補助反射板106Aと下部補助反射板106Bに分割され、ランプ4の発光長Mがランプ4の長さ方向におけるワークWの長さよりも短い場合には、下部補助反射板106Bの先端8BをワークWの長さ以上の位置に配置する構成とした。この構成により、補助反射板106の反射面の面積を極力確保できるので、ワークWに反射できる光量を増加させることができる。
また、本実施形態によれば、主反射板5の先端5Bと波長選択フィルタ7との間の空間部S2、及び、波長選択フィルタ7と偏光子ユニット10との間の空間部S3に冷却風を流す構成とした。この構成により、ランプ4の発光長MがワークWの長さよりも短い場合でも、ワークWの長さに亘って照射できる。
また、本実施形態では、補助反射板106は、上部補助反射板106A及び下部補助反射板106Bに分割されていたが、一の補助反射板に波長選択フィルタ7を挿入する挿入穴を形成してもよい。
<第3実施形態>
第1実施形態では、ランプ4の発光長MがワークWの長さよりも短い場合を説明したが、第3実施形態では、ランプ4の発光長MがワークWの長さよりも長い場合を説明する。なお、第3実施形態では、偏光光照射装置100と同一部分には同一の符号を付して説明を省略する。
図14は、本発明の第3実施形態に係る偏光光照射装置を、ランプの端部を拡大して示す模式図である。
偏光光照射装置200は、図14に示すように、ランプ4の発光長MがワークWの長さよりも長いため、下部補助反射板106Bの角度を上部補助反射板106Aと異ならせて、下部補助反射板106Bをワーク2の鉛直方向に配置している。また、下部補助反射板106Bの上端106B1は、上部補助反射板106Aの下端106A1よりも、ランプ4の軸方向外側に配置されている。
このように、補助反射板106は、上部補助反射板106Aと下部補助反射板106Bに分割され、ランプ4の発光長Mがランプ4の長さ方向におけるワークWの長さよりも長い場合には、下部補助反射板106Bの角度を上部補助反射板106Aと異ならせて配置する構成とした。この構成により、下部補助反射板106Bの配置の自由度が向上する。
例えば、上部補助反射板106Aを傾斜させることで、上部補助反射板106Aによって反射された光線が波長選択フィルタ7に対し垂直な方向により近づくことができ、波長選択フィルタ7の角度特性によって生じる、透過光量の減少を抑制できるとともに、下部補助反射板106BをワークWに対して鉛直に配置することで、偏光光照射装置200の長さを短くできる。
但し、上述の実施形態は本発明の一態様であり、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能であるのは勿論である。
例えば、上述した実施形態では、補助反射板6及び上部補助反射板106Aの先端部20Bは、主反射板5の断面開口幅Kと略同等の大きさに形成したが、これに限定されるものではなく、この先端部20Bは、少なくとも主反射板5の断面開口幅K以上の大きさで形成すればよい。
また、上述した実施形態では、線状の光源にランプ4を用いていたが、線状の光源はこれに限定されるものではない。またランプ4に代えて、紫外線LED等の発光素子を直線状に配列した線状光源を用いることもできる。また、線状の光源が照射する光は紫外線に限定されるものではない。
1,100,200 偏光光照射装置
4 ランプ(光源)
5 主反射板(主反射鏡)
6,106 補助反射板(補助反射鏡)
7 波長選択フィルタ
10 偏光子ユニット
16 ワイヤーグリッド偏光子
20A 基端部
20B 先端部
21 切り欠き部
106A 上部補助反射板(上部補助反射鏡)
106B 上部補助反射板(下部補助反射鏡)
K 断面開口幅
M 発光長
P 発光端
S1,S2 空間部
W ワーク(照射対象物)

Claims (8)

  1. 線状の光源と、この光源の光を集光する樋状の主反射鏡と、照射する光を直線偏光にするためのワイヤーグリッド偏光子とを備え、偏光光を照射対象物に照射する偏光光照射装置において、
    前記光源と前記ワイヤーグリッド偏光子との間に波長選択フィルタを備え、
    前記光源の発光端近傍に、前記主反射鏡の断面を覆い、前記光源から前記波長選択フィルタ近傍に延出する補助反射鏡を設け
    前記補助反射鏡は、前記光源と前記波長選択フィルタとの間、及び、前記波長選択フィルタと前記ワイヤーグリッド偏光子との間に分割して配置したことを特徴とする偏光光照射装置。
  2. 線状の光源と、この光源の光を集光する樋状の主反射鏡と、照射する光を直線偏光にするためのワイヤーグリッド偏光子とを備え、偏光光を照射対象物に照射する偏光光照射装置において、
    前記光源の発光端近傍に、前記光源から前記ワイヤーグリッド偏光子近傍に延出する補助反射鏡を設け、
    前記光源と前記ワイヤーグリッド偏光子との間に波長選択フィルタを備え、
    前記補助反射鏡は、前記光源と前記波長選択フィルタとの間、及び、前記波長選択フィルタと前記ワイヤーグリッド偏光子との間に分割して配置したことを特徴とする偏光光照射装置。
  3. 前記補助反射鏡は、当該補助反射鏡からの反射光が前記波長選択フィルタの鉛直方向に近づくように、前記波長選択フィルタの鉛直方向に対して傾斜させて設けたことを特徴とする請求項1又は2に記載の偏光光照射装置。
  4. 前記補助反射鏡は、前記照射対象物の鉛直方向に対して5°〜20°の範囲で傾斜させて設けたことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の偏光光照射装置。
  5. 前記補助反射鏡は、上部補助反射鏡と下部補助反射鏡に分割され、
    前記光源の発光長が前記光源の長さ方向における前記照射対象物の長さよりも短い場合には、前記下部補助反射鏡の下端を前記照射対象物の長さ以上の位置に配置し、
    前記光源の発光長が前記照射対象物の前記長さよりも長い場合には、前記下部補助反射鏡の角度を前記上部補助反射鏡と異ならせて配置したことを特徴とする請求項1乃至のいずれかに記載の偏光光照射装置。
  6. 記主反射鏡の先端と前記波長選択フィルタとの間に空間部を形成したことを特徴とする請求項1乃至のいずれかに記載の偏光光照射装置。
  7. 前記主反射鏡の先端と前記波長選択フィルタとの間の空間部、及び、前記波長選択フィルタと前記ワイヤーグリッド偏光子との間の空間部に冷却風を流すことを特徴とする請求項1乃至のいずれかに記載の偏光光照射装置。
  8. 前記補助反射鏡は、前記光源側の基端部を前記主反射鏡の断面を覆う大きさで形成し、前記基端部に前記光源を貫通させる切り欠き部を設けるとともに、前記ワイヤーグリッド偏光子側の先端部を少なくとも前記主反射鏡の断面開口幅以上の大きさで形成して構成したことを特徴とする請求項1乃至のいずれかに記載の偏光光照射装置。
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