JP5815459B2 - プラズマエッチング方法 - Google Patents
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あるいは、プラズマエッチング方法において、他の実施形態においては、前記マスク形成工程は、前記膜の途中まで塩素ガスと酸素ガスとの混合ガスを用いてエッチングを行い、引き続き、残りの前記膜のエッチングと前記マスク縮小化工程とを、塩素ガスと酸素ガスとの混合ガスを用いて行うことが好ましい。
2 導波管
3 石英板
4 エッチング処理室
5 ソレノイドコイル
6 プラズマ
7 処理ウエハ
8 静電吸着電源
9 試料台
10 高周波電源
11 排気装置
12 発光モニタリング装置
13 大気ローダ
14 ロードロック室
15 アンロードロック室
16 真空搬送室
17 真空搬送ロボット
18 第一のカセット
19 第二のカセット
20 第三のカセット
21 シリコン基板
22 クロム膜
23 炭化珪素膜
24 クロム膜
25 反射防止膜
26 ホトレジスト
27 反応生成物
28 混合ガス供給部
Claims (11)
- 予めパターニングされたホトレジストと前記ホトレジストの下方に配置されたマスク用膜とを有する積層膜をマスクとして、プラズマを用いて炭化珪素膜をプラズマエッチングするプラズマエッチング方法において、
前記マスク用膜は、Cr膜,Mn膜,Fe膜,Co膜,Ni膜,Y膜,Zr膜,Nb膜,Mo膜,Ru膜,Hf膜,Ir膜,Pt膜,Au膜の中から選ばれる膜またはCr,Mn,Fe,Co,Ni,Y,Zr,Nb,Mo,Ru,Hf,Ir,Pt,Auの中から選ばれる元素を含有する酸化物であり、
前記ホトレジストをマスクとして塩素ガスと酸素ガスとの混合ガスを用いて前記マスク用膜をエッチングする第一の工程と、
前記第一の工程後、塩素ガスと酸素ガスと希ガスとの混合ガスを用いて前記マスク用膜の寸法を縮小化する第二の工程とを有することを特徴とするプラズマエッチング方法。 - 請求項1に記載のプラズマエッチング方法において、
前記第一の工程は、前記炭化珪素膜が露出するまで行うことを特徴とするプラズマエッチング方法。 - 予めパターニングされたホトレジストと前記ホトレジストの下方に配置されたマスク用膜とを有する積層膜をマスクとして、プラズマを用いて炭化珪素膜をプラズマエッチングするプラズマエッチング方法において、
前記マスク用膜は、Cr膜,Mn膜,Fe膜,Co膜,Ni膜,Y膜,Zr膜,Nb膜,Mo膜,Ru膜,Hf膜,Ir膜,Pt膜,Au膜の中から選ばれる膜またはCr,Mn,Fe,Co,Ni,Y,Zr,Nb,Mo,Ru,Hf,Ir,Pt,Auの中から選ばれる元素を含有する酸化物であり、
前記ホトレジストをマスクとして塩素ガスと酸素ガスとの混合ガスを用いて前記マスク用膜の厚み方向の途中までエッチングする第一の工程と、
塩素ガスと酸素ガスと希ガスとの混合ガスを用いて前記第一の工程後のマスク用膜における厚み方向の残りをエッチングするとともに、前記第一の工程後のマスク用膜における前記厚み方向に対して垂直方向の寸法を縮小化する第二の工程とを有することを特徴とするプラズマエッチング方法。 - 請求項1に記載のプラズマエッチング方法において、
前記第二の工程の混合ガス流量に対する酸素ガスの流量比は、前記第一の工程の混合ガス流量に対する酸素ガスの流量比より小さいことを特徴とするプラズマエッチング方法。 - 請求項4に記載のプラズマエッチング方法において、
前記第二の工程の塩素ガス流量は、前記第一の工程の塩素ガス流量より少ないことを特徴とするプラズマエッチング方法。 - 請求項5に記載のプラズマエッチング方法において、
前記第二の工程の高周波バイアス電力は、前記第一の工程の高周波バイアス電力より小さいことを特徴とするプラズマエッチング方法。 - 請求項1ないし請求項6のいずれか一項に記載のプラズマエッチング方法において、
前記第二の工程後、六フッ化硫黄ガスとアルゴンガスとの混合ガスを用いて前記炭化珪素膜をエッチングする第三の工程をさらに有することを特徴とするプラズマエッチング方法。 - 請求項7に記載のプラズマエッチング方法において、
前記第三の工程を前記炭化珪素膜の下地膜が露出するまで行い、
前記第三の工程後、六フッ化硫黄ガスを用いて残りの炭化珪素膜をエッチングする第四の工程をさらに有することを特徴するプラズマエッチング方法。 - 請求項8に記載のプラズマエッチング方法において、
前記第四の工程の処理時間は、前記第三の工程の処理時間の3倍とすることを特徴とするプラズマエッチング方法。 - 請求項1ないし請求項6のいずれか一項に記載のプラズマエッチング方法において、
前記積層膜は、反射防止膜をさらに有することを特徴とするプラズマエッチング方法。 - 請求項1ないし請求項6のいずれか一項に記載のプラズマエッチング方法において、
前記希ガスは、ヘリウムガスであることを特徴とするプラズマエッチング方法。
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