JP5813874B2 - スパッタリング装置およびスパッタリング方法 - Google Patents
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Description
Claims (14)
- 基板(110)上に堆積材料の層を堆積するための堆積装置であって、
前記基板を保持するように適合された基板支持体(120)と、
マルチタイルターゲットアセンブリ(130;200;300;400;500)を保持するように適合されたターゲット支持体(125)であって、前記マルチタイルターゲットアセンブリは、シリンダ状形状のバッキング要素(131;220;320;420;520)、および、少なくとも2つのターゲット要素(132;133;210;211;310;311;410;411;412;510;511)の間に間隙(230;330;430;530)を形成するように相互に隣接して前記バッキング要素上に配置された前記少なくとも2つのターゲット要素を備え、前記間隙は、幅wを有するように適合された、ターゲット支持体(125)と
を備え、
前記基板支持体(120)および前記ターゲット支持体(125)は、前記間隙幅wに対する前記基板と前記ターゲット要素との間の距離(470;570)の比率が少なくとも150になるように、相互に対して配置される、堆積装置。 - 前記間隙幅wに対する前記基板と前記ターゲット要素との間の前記距離(470,570)の前記比率は、400から600の間である、請求項1に記載の堆積装置。
- 前記基板と前記ターゲット要素(132;133;210;211;310;311;410;411;412;510;511)との間の前記距離(470;570)は、75mm以上である、請求項1または2に記載の堆積装置。
- 前記少なくとも2つのターゲット要素(132;133;210;211;310;311;410;411;412;510;511)の間の前記間隙幅wは、第1のターゲット要素(210)のエッジ(212)から第2のターゲット要素(211)の対面エッジ(213)にまで及ぶものとして定義される、請求項1から3のいずれか一項に記載の堆積装置。
- 前記基板支持体(120)と前記ターゲット支持体(125)との間の前記距離(470;570)は、前記基板上に規則的な堆積を提供するため、前記個々のターゲット要素(132;133;210;211;310;311;410;411;412;510;511)の堆積材料の分散フィールドが基板表面の平面(455;555)内において実質的に重複することを可能にするように適合される、請求項1から4のいずれか一項に記載の堆積装置。
- 前記基板支持体(120)と前記ターゲット支持体(125)との間の前記距離(470;570)は、結合間隙ムラの生成が実質的に回避されるように適合される、請求項1から5のいずれか一項に記載の堆積装置。
- 前記バッキング要素(131;220;320;420;520)は、チューブである、請求項1から6のいずれか一項に記載の堆積装置。
- 前記ターゲット要素(132;133;210;211;310;311;410;411;412;510;511)は、インジウムガリウム亜鉛酸化物(IGZO)、インジウムスズ酸化物 (ITO)、亜鉛スズ酸化物(ZTO)、およびインジウム亜鉛酸化物(IZO)などの、酸化セラミックおよび/またはインジウム含有セラミック、スズ含有セラミック、亜鉛含有セラミック、ならびに、それらの組合せからなる群より選択されるセラミックを含む、請求項1から7のいずれか一項に記載の堆積装置。
- 前記基板支持体(120)は、1.5m2以上の基板を保持するように適合される、請求項1から8のいずれか一項に記載の堆積装置。
- 前記ターゲット支持体(125)は、回転ターゲットアセンブリを保持するように適合される、請求項1から9のいずれか一項に記載の堆積装置。
- 堆積装置において基板上に堆積材料の層を形成するための方法であって、
被覆されるべき基板を用意することと、
少なくとも2つのターゲット要素(132;133;210;211;310;311;410;411;412;510;511)の間に間隙(230;330;430;530)が形成されるように相互に隣接するシリンダ状形状のバッキング要素(131;220;320;420;520)上の前記少なくとも2つのターゲット要素を備えるマルチタイルターゲットアセンブリ(130;200;300;400;500)を用意することであって、前記間隙は、幅wを有する、用意することと、
前記間隙幅wに対する前記基板と前記ターゲット要素との間の距離の比率が少なくとも150になるように、前記ターゲットアセンブリに対して前記基板を位置決めすることとと
を含む、方法。 - 前記少なくとも2つのターゲット要素(132;133;210;211;310;311;410;411;412;510;511)の間の前記間隙(230;330;430;530)は、第1のターゲット要素(210)のエッジ(212)から第2のターゲット要素(211)の対面エッジ(213)にまで及ぶものとして定義される、請求項11に記載の方法。
- 前記基板を位置決めすることは、前記ターゲット要素(132;133;210;211;310;311;410;411;412;510;511)から75mm以上の距離(470;570)に前記基板を位置決めすることを含む、請求項11または12に記載の方法。
- 前記基板を位置決めすることは、前記基板上に規則的な堆積を提供するため、前記個々のターゲット要素の堆積材料の分散フィールドが前記基板表面の平面(455;555)内において重複することを可能にするように、前記ターゲットアセンブリ(130;200;300;400;500)に対して前記基板を位置決めすることをさらに含む、請求項11から13のいずれか一項に記載の方法。
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