JP5807554B2 - Peeling apparatus and electronic device manufacturing method - Google Patents

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本発明は、基板と補強板とを剥離する剥離装置、及び電子デバイスの製造方法に関する。   The present invention relates to a peeling apparatus for peeling a substrate and a reinforcing plate, and an electronic device manufacturing method.

表示パネル、太陽電池、薄膜2次電池等の電子デバイスの薄型化、軽量化に伴い、電子デバイスに用いられる基板の薄板化が要望されている。基板が薄くなると、基板のハンドリング性が悪くなるので、基板上に電子デバイス用の機能層(例えば薄膜トランジスタ、カラーフィルタ)を形成するのが難しくなる。   As electronic devices such as display panels, solar cells, and thin-film secondary batteries are made thinner and lighter, there is a demand for thinner substrates used in electronic devices. As the substrate becomes thinner, the handling of the substrate becomes worse, and it becomes difficult to form a functional layer (for example, a thin film transistor or a color filter) for an electronic device on the substrate.

そこで、補強板で補強した基板上に機能層を形成した後、基板と補強板とを剥離する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。基板と補強板との剥離は、基板の主面と補強板の主面との界面の一端にナイフを挿入した後、界面を一端側から他端側に向けて順次剥離するように、基板及び補強板の少なくとも一方を撓み変形させて行われる。   Thus, a method has been proposed in which a functional layer is formed on a substrate reinforced with a reinforcing plate, and then the substrate and the reinforcing plate are peeled off (see, for example, Patent Document 1). The substrate and the reinforcing plate are peeled by inserting the knife into one end of the interface between the main surface of the substrate and the main surface of the reinforcing plate, and then peeling the substrate and the reinforcing plate sequentially from one end side to the other end side. This is performed by bending and deforming at least one of the reinforcing plates.

従来から、ナイフの挿入位置を調整するため、カメラが用いられている。カメラは、ナイフの刃先の位置と界面の位置とを同時に撮像し、撮像した画像データを画像処理部に供給する。画像処理部は、カメラから供給された画像データを画像処理して、ナイフの刃先と界面との相対位置を検出する。   Conventionally, a camera is used to adjust the insertion position of the knife. The camera simultaneously captures the position of the knife edge and the position of the interface, and supplies the captured image data to the image processing unit. The image processing unit performs image processing on the image data supplied from the camera and detects a relative position between the blade edge of the knife and the interface.

国際公開第2010/090147号International Publication No. 2010/090147

しかし、界面の位置を直接検出することが困難な場合があった。例えば、機能層の形成時に基板の端面及び補強板の端面がコーティングされる場合や、補強板に含まれる樹脂層が基板の端面にはみ出ている場合等、界面の位置が隠れている場合が挙げられる。また、基板の端面又は補強板の端面にクラックが存在する場合、界面の位置を誤って検出する虞がある。そのため、ナイフの挿入位置の精度が悪くなることがあった。   However, it may be difficult to directly detect the position of the interface. For example, when the end face of the substrate and the end face of the reinforcing plate are coated at the time of forming the functional layer, or when the position of the interface is hidden, such as when the resin layer included in the reinforcing plate protrudes from the end face of the substrate. It is done. Moreover, when a crack exists in the end surface of a board | substrate or the end surface of a reinforcement board, there exists a possibility of detecting the position of an interface accidentally. Therefore, the accuracy of the knife insertion position may be deteriorated.

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、ナイフを界面に精度良く挿入できる剥離装置、及び電子デバイスの製造方法の提供を目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a peeling apparatus capable of accurately inserting a knife into an interface and a method for manufacturing an electronic device.

上記課題を解決するため、本発明の一の態様による剥離装置は、
基板と、該基板に貼り付けられた補強板とを剥離する剥離装置において、
前記基板と前記補強板の第1主面との界面に挿入されるナイフと、
該ナイフの挿入前に、前記界面に対して垂直な方向における、前記ナイフの刃先と前記界面との間隔を調整する調整部と、
前記界面に対して垂直な方向における、前記ナイフの刃先と、前記補強板の前記第1主面とは反対側の第2主面との相対位置を検出する位置検出部と、
前記補強板の板厚を検出する板厚検出部と、
前記位置検出部の検出結果と、前記板厚検出部の検出結果とに基づいて、前記調整部を動作させる調整処理部とを備え
前記位置検出部は、前記ナイフの刃先の位置、及び前記補強板の前記第2主面の位置を撮像する撮像部と、該撮像部によって撮像された画像を画像処理する画像処理部と、該画像処理部の画像処理結果に基づいて前記相対位置を算出する算出部とを備え、
前記補強板は透光性を有し、
前記板厚検出部は、分光干渉法によって前記補強板の板厚を検出する。
In order to solve the above problems, a peeling apparatus according to one aspect of the present invention provides:
In the peeling device for peeling the substrate and the reinforcing plate attached to the substrate,
A knife inserted into an interface between the substrate and the first main surface of the reinforcing plate;
An adjustment unit that adjusts the distance between the blade edge of the knife and the interface in a direction perpendicular to the interface before insertion of the knife;
A position detection unit for detecting a relative position between a blade edge of the knife and a second main surface opposite to the first main surface of the reinforcing plate in a direction perpendicular to the interface;
A plate thickness detector for detecting the plate thickness of the reinforcing plate;
An adjustment processing unit for operating the adjustment unit based on the detection result of the position detection unit and the detection result of the plate thickness detection unit ;
The position detection unit includes an imaging unit that captures the position of the blade edge of the knife and the position of the second main surface of the reinforcing plate, an image processing unit that performs image processing on an image captured by the imaging unit, A calculation unit that calculates the relative position based on an image processing result of the image processing unit,
The reinforcing plate has translucency,
The plate thickness detection unit detects the plate thickness of the reinforcing plate by spectral interferometry.

また、本発明の他の態様による電子デバイスの製造方法は、
補強板で補強した基板上に機能層を形成する工程と、前記機能層が形成された前記基板と前記補強板とを剥離する工程とを有する電子デバイスの製造方法において、
前記基板と前記補強板の第1主面との界面にナイフを挿入する前に、前記界面に対して垂直な方向における、前記ナイフの刃先と前記界面との間隔を調整する調整工程を有し、
該調整工程は、
前記界面に対して垂直な方向における、前記ナイフの刃先と、前記補強板の前記第1主面とは反対側の第2主面との相対位置を検出する位置検出工程と、
前記補強板の板厚を検出する板厚検出工程と、
前記位置検出工程で検出された前記相対位置、及び前記板厚検出工程で検出された前記補強板の板厚に基づいて前記間隔を調整する調整処理工程とを備え、
前記位置検出工程では、前記ナイフの刃先の位置、及び前記補強板の前記第2主面の位置を撮像する撮像部によって撮像された画像を画像処理して、前記相対位置を算出し、
前記補強板は透光性を有し、
前記板厚検出工程では、分光干渉法によって前記板厚を検出する。
In addition, a method for manufacturing an electronic device according to another aspect of the present invention includes:
In a method for manufacturing an electronic device, comprising a step of forming a functional layer on a substrate reinforced with a reinforcing plate, and a step of separating the reinforcing plate and the substrate on which the functional layer is formed.
An adjustment step of adjusting a distance between the blade edge of the knife and the interface in a direction perpendicular to the interface before inserting the knife into the interface between the substrate and the first main surface of the reinforcing plate; ,
The adjustment process includes:
A position detection step of detecting a relative position between the blade edge of the knife and the second main surface opposite to the first main surface of the reinforcing plate in a direction perpendicular to the interface;
A plate thickness detecting step for detecting the plate thickness of the reinforcing plate;
E Bei an adjustment process of adjusting the interval based on the thickness of said detected relative position by the position detection step, and detected by the thickness detection step the reinforcing plate,
In the position detection step, image processing is performed on an image captured by an imaging unit that captures the position of the blade edge of the knife and the position of the second main surface of the reinforcing plate, and the relative position is calculated.
The reinforcing plate has translucency,
In the plate thickness detection step, the plate thickness is detected by spectral interferometry.

本発明によれば、ナイフを界面に精度良く挿入できる剥離装置、及び電子デバイスの製造方法が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the peeling apparatus which can insert a knife into an interface with sufficient precision, and the manufacturing method of an electronic device are provided.

本発明の一実施形態による電子デバイスの製造工程に供される積層板を示す断面図Sectional drawing which shows the laminated board provided to the manufacturing process of the electronic device by one Embodiment of this invention 本発明の一実施形態による電子デバイスの製造工程の途中で作製される積層体を示す断面図Sectional drawing which shows the laminated body produced in the middle of the manufacturing process of the electronic device by one Embodiment of this invention 本発明の一実施形態による剥離装置の要部を示す断面図であって、図4のIII-III断面図FIG. 5 is a cross-sectional view showing a main part of a peeling apparatus according to an embodiment of the present invention, taken along the line III-III in FIG. 本発明の一実施形態による剥離装置の要部を示す平面図The top view which shows the principal part of the peeling apparatus by one Embodiment of this invention. 剥離装置の剥離動作を示す断面図(1)Sectional drawing which shows peeling operation of peeling apparatus (1) 剥離装置の剥離動作を示す断面図(2)Sectional drawing which shows peeling operation of peeling apparatus (2) 撮像部による撮像時の剥離装置の状態を示す図(1)The figure which shows the state of the peeling apparatus at the time of the imaging by an imaging part (1) 撮像部によって撮像される画像を示す図(1)The figure which shows the image imaged by an imaging part (1) 撮像部による撮像時の剥離装置の状態を示す図(2)The figure which shows the state of the peeling apparatus at the time of the imaging by an imaging part (2) 撮像部によって撮像される画像を示す図(2)The figure which shows the image imaged by an imaging part (2) 撮像部による撮像時の剥離装置の状態を示す図(3)The figure which shows the state of the peeling apparatus at the time of the imaging by an imaging part (3) 撮像部による撮像時の剥離装置の状態を示す図(4)The figure which shows the state of the peeling apparatus at the time of the imaging by an imaging part (4) 図12の状態から行われる剥離装置の剥離動作を示す断面図Sectional drawing which shows peeling operation | movement of the peeling apparatus performed from the state of FIG.

以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。各図面において、同一の又は対応する構成には、同一の又は対応する符号を付して、説明を省略する。   Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding components are denoted by the same or corresponding reference numerals, and description thereof is omitted.

本実施形態の電子デバイスの製造方法は、電子デバイスに用いられる基板の薄板化に対応するため、補強板で補強した基板上に機能層を形成する工程と、機能層が形成された基板と補強板とを剥離する工程とを有する。補強板は、電子デバイスの一部とはならない。   The manufacturing method of the electronic device according to the present embodiment corresponds to the thinning of the substrate used in the electronic device, and therefore the step of forming the functional layer on the substrate reinforced with the reinforcing plate, the substrate on which the functional layer is formed, and the reinforcement And a step of peeling the plate. The reinforcing plate does not become part of the electronic device.

ここで、電子デバイスとは、表示パネル、太陽電池、薄膜2次電池等の電子部品をいう。表示パネルは、液晶パネル(LCD)やプラズマパネル(PDP)、有機ELパネル(OLED)を含む。   Here, the electronic device refers to an electronic component such as a display panel, a solar battery, or a thin film secondary battery. The display panel includes a liquid crystal panel (LCD), a plasma panel (PDP), and an organic EL panel (OLED).

(積層板)
図1は、本発明の一実施形態による電子デバイスの製造工程に供される積層板を示す断面図である。積層板1は、基板2と、基板2を補強する補強板3とを含む。
(Laminated board)
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a laminated plate used in an electronic device manufacturing process according to an embodiment of the present invention. The laminated plate 1 includes a substrate 2 and a reinforcing plate 3 that reinforces the substrate 2.

(基板)
基板2には、電子デバイスの製造工程の途中で、所定の機能層(例えば、導電層)が形成される。
(substrate)
A predetermined functional layer (for example, a conductive layer) is formed on the substrate 2 during the manufacturing process of the electronic device.

基板2は、例えばガラス基板、セラミックス基板、樹脂基板、金属基板、又は半導体基板等である。これらの中でも、ガラス基板は、耐薬品性、耐透湿性に優れ、且つ、線膨張係数が小さいので好ましい。線膨張係数が小さくなるほど、高温下で形成される機能層のパターンが冷却時にずれ難い。   The substrate 2 is, for example, a glass substrate, a ceramic substrate, a resin substrate, a metal substrate, or a semiconductor substrate. Among these, a glass substrate is preferable because it is excellent in chemical resistance and moisture permeability and has a small linear expansion coefficient. As the linear expansion coefficient decreases, the pattern of the functional layer formed at high temperatures is less likely to shift during cooling.

ガラス基板のガラスとしては、特に限定されないが、例えば、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダライムガラス、高シリカガラス、その他の酸化ケイ素を主な成分とする酸化物系ガラス等が挙げられる。酸化物系ガラスとしては、酸化物換算による酸化ケイ素の含有量が40〜90質量%のガラスが好ましい。   The glass of the glass substrate is not particularly limited, and examples thereof include non-alkali glass, borosilicate glass, soda lime glass, high silica glass, and other oxide-based glasses mainly containing silicon oxide. As the oxide glass, a glass having a silicon oxide content of 40 to 90% by mass in terms of oxide is preferable.

ガラス基板のガラスとしては、電子デバイスの種類やその製造工程に適したガラスが採用されることが好ましい。例えば、液晶パネル用のガラス基板は、アルカリ金属成分を実質的に含まないガラス(無アルカリガラス)からなることが好ましい。このように、ガラス基板のガラスは、適用される電子デバイスの種類及びその製造工程に基づいて適宜選択される。   As the glass of the glass substrate, glass suitable for the type of electronic device and its manufacturing process is preferably employed. For example, it is preferable that the glass substrate for liquid crystal panels consists of glass (an alkali free glass) which does not contain an alkali metal component substantially. As described above, the glass of the glass substrate is appropriately selected based on the type of electronic device to be applied and the manufacturing process thereof.

樹脂基板の樹脂は、結晶性樹脂であっても、非結晶性樹脂であってもよく、特に限定されない。   The resin of the resin substrate may be a crystalline resin or an amorphous resin, and is not particularly limited.

結晶性樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂であるポリアミド、ポリアセタール、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、もしくはシンジオタクティックポリスチレン等が挙げられ、熱硬化性樹脂ではポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、液晶ポリマー、フッ素樹脂、もしくはポリエーテルニトリル等が挙げられる。   Examples of the crystalline resin include thermoplastic resins such as polyamide, polyacetal, polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, or syndiotactic polystyrene. Thermosetting resins include polyphenylene sulfide and polyether ether ketone. , Liquid crystal polymer, fluororesin, or polyether nitrile.

非結晶性樹脂として、例えば、熱可塑性樹脂であるポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリシクロヘキセン、もしくはポリノルボルネン系樹脂等が挙げられ、熱硬化性樹脂ではポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、もしくは熱可塑性ポリイミドが挙げられる。   Examples of non-crystalline resins include polycarbonate, modified polyphenylene ether, polycyclohexene, or polynorbornene-based resins that are thermoplastic resins. Examples of thermosetting resins include polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polyamideimide, Examples thereof include polyetherimide and thermoplastic polyimide.

樹脂基板の樹脂としては、非結晶性で熱可塑性の樹脂が特に好ましい。   The resin for the resin substrate is particularly preferably an amorphous thermoplastic resin.

基板2の厚さは、基板2の種類に応じて設定される。例えば、ガラス基板の場合、電子デバイスの軽量化、薄板化のため、好ましくは0.7mm以下であり、より好ましくは0.3mm以下であり、さらに好ましくは0.1mm以下である。0.3mm以下の場合、ガラス基板に良好なフレキシブル性を与えることが可能である。0.1mm以下の場合、ガラス基板をロール状に巻き取ることが可能である。また、ガラス基板の厚さは、ガラス基板の製造が容易であること、ガラス基板の取り扱いが容易であること等の理由から、0.03mm以上であることが好ましい。   The thickness of the substrate 2 is set according to the type of the substrate 2. For example, in the case of a glass substrate, it is preferably 0.7 mm or less, more preferably 0.3 mm or less, and still more preferably 0.1 mm or less for reducing the weight and thickness of the electronic device. In the case of 0.3 mm or less, it is possible to give good flexibility to the glass substrate. In the case of 0.1 mm or less, the glass substrate can be wound into a roll. Further, the thickness of the glass substrate is preferably 0.03 mm or more for reasons such as easy manufacture of the glass substrate and easy handling of the glass substrate.

(補強板)
補強板3は、基板2に密着されると、剥離操作が行われるまで、基板2を補強する。補強板3は、機能層の形成後、電子デバイスの製造工程の途中で、基板2から剥離され、電子デバイスの一部とはならない。
(Reinforcement plate)
When the reinforcing plate 3 is in close contact with the substrate 2, the reinforcing plate 3 reinforces the substrate 2 until a peeling operation is performed. The reinforcing plate 3 is peeled off from the substrate 2 during the manufacturing process of the electronic device after the functional layer is formed, and does not become a part of the electronic device.

補強板3は、温度変化による反りや剥離を抑制するため、基板2との線膨張係数差の絶対値の小さいものが好ましい。基板2がガラス基板の場合、補強板3はガラス板を含むものが好ましい。このガラス板のガラスは、ガラス基板のガラスと同じ種類であることが好ましい。   The reinforcing plate 3 preferably has a small absolute value of the difference in linear expansion coefficient from the substrate 2 in order to suppress warping and peeling due to temperature changes. When the substrate 2 is a glass substrate, the reinforcing plate 3 preferably includes a glass plate. The glass of this glass plate is preferably the same type as the glass of the glass substrate.

補強板3は、支持板4と、支持板4上に形成される樹脂層5とを備える。樹脂層5と基板2との間に作用するファンデルワールス力等により樹脂層5と基板2とが剥離可能に結合される。   The reinforcing plate 3 includes a support plate 4 and a resin layer 5 formed on the support plate 4. The resin layer 5 and the substrate 2 are detachably coupled to each other by van der Waals force acting between the resin layer 5 and the substrate 2.

尚、本実施形態の補強板3は、支持板4と樹脂層5とで構成されるが、支持板4のみで構成されてもよい。支持板4と基板2との間に作用するファンデルワールス力等により支持板4と基板2とが剥離可能に結合される。支持板4であるガラス板と、基板2であるガラス基板とが高温で接着しないように、支持板4の表面に無機薄膜が形成されていてもよい。また、支持板4の表面に表面粗さの異なる領域を設けること等によって、支持板4と基板2との界面に、結合力の異なる領域が設けられていてもよい。   In addition, although the reinforcement board 3 of this embodiment is comprised with the support board 4 and the resin layer 5, you may be comprised only with the support board 4. FIG. The support plate 4 and the substrate 2 are detachably coupled to each other by van der Waals force acting between the support plate 4 and the substrate 2. An inorganic thin film may be formed on the surface of the support plate 4 so that the glass plate which is the support plate 4 and the glass substrate which is the substrate 2 are not bonded at a high temperature. In addition, a region having a different bonding force may be provided at the interface between the support plate 4 and the substrate 2 by providing a region having a different surface roughness on the surface of the support plate 4.

また、本実施形態の補強板3は、支持板4と樹脂層5とで構成されるが、支持板4は複数であってもよい。同様に、樹脂層5は複数であってもよい。   Moreover, although the reinforcement board 3 of this embodiment is comprised with the support plate 4 and the resin layer 5, the support plate 4 may be plural. Similarly, a plurality of resin layers 5 may be provided.

(支持板)
支持板4は、樹脂層5を介して、基板2を支持して補強する。支持板4は、電子デバイスの製造工程における基板2の変形、傷付き、破損等を防止する。
(Support plate)
The support plate 4 supports and reinforces the substrate 2 through the resin layer 5. The support plate 4 prevents the substrate 2 from being deformed, scratched, damaged or the like in the manufacturing process of the electronic device.

支持板4は、例えば、ガラス板、セラミックス板、樹脂板、半導体板、又は金属板等である。支持板4の種類は、電子デバイスの種類や基板2の種類等に応じて選定される。支持板4と基板2とが同種であると、温度変化による反りや剥離が低減される。   The support plate 4 is, for example, a glass plate, a ceramic plate, a resin plate, a semiconductor plate, or a metal plate. The type of the support plate 4 is selected according to the type of the electronic device, the type of the substrate 2 and the like. When the support plate 4 and the substrate 2 are of the same type, warpage and peeling due to temperature changes are reduced.

支持板4と基板2の平均線膨張係数の差(絶対値)は、基板2の寸法形状等に応じて適宜設定されるが、例えば35×10−7/℃以下であることが好ましい。ここで、「平均線膨張係数」とは、50〜300℃の温度範囲における平均線膨張係数(JIS R 3102)をいう。 The difference (absolute value) in the average linear expansion coefficient between the support plate 4 and the substrate 2 is appropriately set according to the dimension shape and the like of the substrate 2, but is preferably, for example, 35 × 10 −7 / ° C. or less. Here, the “average linear expansion coefficient” refers to an average linear expansion coefficient (JIS R 3102) in a temperature range of 50 to 300 ° C.

支持板4の厚さは、例えば0.7mm以下である。また、支持板4の厚さは、基板2を補強するため、0.4mm以上であることが好ましい。支持板4の厚さは、基板2よりも厚くてもよいし、薄くてもよい。   The thickness of the support plate 4 is 0.7 mm or less, for example. Further, the thickness of the support plate 4 is preferably 0.4 mm or more in order to reinforce the substrate 2. The support plate 4 may be thicker than the substrate 2 or thinner.

支持板4の外形は、支持板4が樹脂層5の全体を支持できるように、図1に示すように樹脂層5の外形と同一であるか、樹脂層5の外形よりも大きいことが好ましい。   The outer shape of the support plate 4 is preferably the same as or larger than the outer shape of the resin layer 5 as shown in FIG. 1 so that the support plate 4 can support the entire resin layer 5. .

(樹脂層)
樹脂層5は、基板2に密着されると、剥離操作が行われるまで、基板2の位置ずれを防止する。樹脂層5は剥離操作によって基板2から容易に剥離する。基板2を容易に剥離することで、基板2の破損を防止でき、また、意図しない位置(樹脂層5と支持板4との間)での剥離を防止できる。
(Resin layer)
When the resin layer 5 is in close contact with the substrate 2, it prevents the substrate 2 from being displaced until a peeling operation is performed. The resin layer 5 is easily peeled from the substrate 2 by a peeling operation. By easily peeling the substrate 2, it is possible to prevent the substrate 2 from being damaged and to prevent peeling at an unintended position (between the resin layer 5 and the support plate 4).

樹脂層5は、支持板4との結合力が、基板2との結合力よりも相対的に高くなるように形成される。これによって、剥離操作が行われる際に、積層板1が意図しない位置(樹脂層5と支持板4との間)で剥離するのを防止できる。   The resin layer 5 is formed such that the bonding force with the support plate 4 is relatively higher than the bonding force with the substrate 2. Thereby, when the peeling operation is performed, it is possible to prevent the laminated plate 1 from being peeled at an unintended position (between the resin layer 5 and the support plate 4).

樹脂層5の樹脂は、特に限定されない。例えば、樹脂層5の樹脂としては、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミドシリコーン樹脂等が挙げられる。いくつかの種類の樹脂を混合して用いることもできる。中でも、耐熱性や剥離性の観点から、シリコーン樹脂、ポリイミドシリコーン樹脂が好ましい。   The resin of the resin layer 5 is not particularly limited. For example, the resin of the resin layer 5 includes acrylic resin, polyolefin resin, polyurethane resin, polyimide resin, silicone resin, polyimide silicone resin, and the like. Several types of resins can be mixed and used. Of these, silicone resins and polyimide silicone resins are preferred from the viewpoints of heat resistance and peelability.

樹脂層5の厚さは、特に限定されないが、好ましくは1〜50μm、より好ましくは4〜20μmである。樹脂層5の厚さを1μm以上とすることで、樹脂層5と基板2との間に気泡や異物が混入した場合に、気泡や異物の厚さを吸収するように樹脂層5が変形できる。一方、樹脂層5の厚さが50μm以下であると、樹脂層5の形成時間を短縮でき、さらに樹脂層5の樹脂を必要以上に使用しないため経済的である。   Although the thickness of the resin layer 5 is not specifically limited, Preferably it is 1-50 micrometers, More preferably, it is 4-20 micrometers. By setting the thickness of the resin layer 5 to 1 μm or more, the resin layer 5 can be deformed so as to absorb the thickness of the bubbles and foreign matter when the bubbles and foreign matter are mixed between the resin layer 5 and the substrate 2. . On the other hand, when the thickness of the resin layer 5 is 50 μm or less, it is economical because the formation time of the resin layer 5 can be shortened and the resin of the resin layer 5 is not used more than necessary.

樹脂層5の外形は、樹脂層5が基板2の全体を密着できるように、図1に示すように基板2の外形と同一か、基板2の外形よりも大きいことが好ましい。   The outer shape of the resin layer 5 is preferably the same as or larger than the outer shape of the substrate 2 as shown in FIG. 1 so that the resin layer 5 can adhere the entire substrate 2.

尚、樹脂層5は2層以上からなっていてもよい。この場合「樹脂層の厚さ」は全ての樹脂層の合計の厚さを意味するものとする。   In addition, the resin layer 5 may consist of two or more layers. In this case, “the thickness of the resin layer” means the total thickness of all the resin layers.

また、樹脂層5が2層以上からなる場合は、各々の層を形成する樹脂の種類が異なってもよい。   Moreover, when the resin layer 5 consists of two or more layers, the kind of resin which forms each layer may differ.

(積層体)
図2は、本発明の一実施形態による電子デバイスの製造工程の途中で作製される積層体を示す断面図である。
(Laminate)
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a laminated body produced during the manufacturing process of the electronic device according to the embodiment of the present invention.

積層体6は、積層板1の基板2上に、導電層等の機能層を形成してなる。機能層の種類は、電子デバイスの種類に応じて選択される。複数の機能層が基板2上に順次積層されてもよい。機能層の形成方法としては、一般的な方法が用いられ、例えばCVD法やPVD法等の蒸着法、スパッタ法等が用いられる。機能層は、フォトリソグラフィ法やエッチング法で所定のパターンに形成される。   The laminate 6 is formed by forming a functional layer such as a conductive layer on the substrate 2 of the laminate 1. The type of functional layer is selected according to the type of electronic device. A plurality of functional layers may be sequentially stacked on the substrate 2. As a method for forming the functional layer, a general method is used. For example, a vapor deposition method such as a CVD method or a PVD method, a sputtering method, or the like is used. The functional layer is formed in a predetermined pattern by a photolithography method or an etching method.

例えば、積層体6は、補強板3A、基板2A、液晶層7、基板2B、及び補強板3Bをこの順で有する。この積層体6は、LCDの製造工程の途中で作製されるものである。一方の基板2A上の液晶層7側の面には図示されない薄膜トランジスタ(TFT)が形成されており、他方の基板2B上の液晶層7側の面には図示されないカラーフィルタ(CF)が形成されている。   For example, the laminate 6 includes a reinforcing plate 3A, a substrate 2A, a liquid crystal layer 7, a substrate 2B, and a reinforcing plate 3B in this order. This laminate 6 is produced during the manufacturing process of the LCD. A thin film transistor (TFT) (not shown) is formed on the surface on the liquid crystal layer 7 side on one substrate 2A, and a color filter (CF) (not shown) is formed on the surface on the liquid crystal layer 7 side on the other substrate 2B. ing.

補強板3A、3Bが剥離された後、偏光板、バックライト等が取り付けられ、製品であるLCDが得られる。補強板3A、3Bの剥離には、後述の剥離装置が用いられる。   After the reinforcing plates 3A and 3B are peeled off, a polarizing plate, a backlight and the like are attached to obtain a product LCD. A peeling device described later is used for peeling the reinforcing plates 3A and 3B.

尚、本実施形態では、補強板3A、3Bの剥離は、液晶層7の形成後に行われるが、TFTやCFの形成後、液晶層7の形成前に行われてもよい。   In this embodiment, the reinforcing plates 3A and 3B are peeled off after the liquid crystal layer 7 is formed, but may be formed after the TFT and CF are formed and before the liquid crystal layer 7 is formed.

(剥離装置)
図3は、本発明の一実施形態による剥離装置の要部を示す断面図であって、図4のIII-III断面図である。図4は、本発明の一実施形態による剥離装置の要部を示す平面図である。図5及び図6は、剥離装置の剥離動作を示す断面図である。図5(a)は基板2Aと補強板3Aとの界面8Aにナイフを挿入した状態を示し、図5(b)は基板2A及び補強板3Aを互いに反対方向に撓み変形させた状態を示す。図6(a)は基板2Bと補強板3Bとの界面8Bにナイフを挿入した状態を示し、図6(b)は基板2B及び補強板3Bを互いに反対方向に撓み変形させた状態を示す。
(Peeling device)
3 is a cross-sectional view showing a main part of the peeling apparatus according to the embodiment of the present invention, and is a cross-sectional view taken along the line III-III in FIG. FIG. 4 is a plan view showing a main part of the peeling apparatus according to one embodiment of the present invention. 5 and 6 are cross-sectional views showing the peeling operation of the peeling device. 5A shows a state in which a knife is inserted into the interface 8A between the substrate 2A and the reinforcing plate 3A, and FIG. 5B shows a state in which the substrate 2A and the reinforcing plate 3A are bent and deformed in directions opposite to each other. 6A shows a state in which a knife is inserted into the interface 8B between the substrate 2B and the reinforcing plate 3B, and FIG. 6B shows a state in which the substrate 2B and the reinforcing plate 3B are bent and deformed in directions opposite to each other.

剥離装置10は、図5(a)に示すように、基板2Aと補強板3Aの下面(第1主面)3Abとの界面8Aの一端にナイフ20を挿入する。その後、剥離装置10は、図5(b)に示すように、界面8Aを一端側から他端側に向けて順次剥離するように、基板2A及び補強板3Aの少なくとも一方(図では両方)を撓み変形させる。   As shown in FIG. 5A, the peeling device 10 inserts a knife 20 into one end of an interface 8A between the substrate 2A and the lower surface (first main surface) 3Ab of the reinforcing plate 3A. Thereafter, as shown in FIG. 5B, the peeling apparatus 10 removes at least one of the substrate 2A and the reinforcing plate 3A (both in the drawing) so that the interface 8A is sequentially peeled from one end side to the other end side. Bend and deform.

また、剥離装置10は、図6(a)に示すように、基板2Bと補強板3Bの上面(第1主面)3Baとの界面8Bの一端にナイフ20を挿入する。その後、剥離装置10は、図6(b)に示すように、界面8Bを一端側から他端側に向けて順次剥離するように、基板2B及び補強板3Bの少なくとも一方(図では両方)を撓み変形させる。   Further, as shown in FIG. 6A, the peeling device 10 inserts a knife 20 at one end of an interface 8B between the substrate 2B and the upper surface (first main surface) 3Ba of the reinforcing plate 3B. Thereafter, as shown in FIG. 6B, the peeling device 10 removes at least one of the substrate 2B and the reinforcing plate 3B (both in the drawing) so that the interface 8B is sequentially peeled from one end side to the other end side. Bend and deform.

剥離装置10は、ナイフ20を界面8A、8Bに挿入するとき、ナイフ20の挿入位置に向けて流体(例えば圧縮空気)を噴射するノズルを有してもよい。ナイフ20の挿入位置は、図4に示すように、積層体6の角部であってよい。   The peeling apparatus 10 may include a nozzle that ejects fluid (for example, compressed air) toward the insertion position of the knife 20 when the knife 20 is inserted into the interfaces 8A and 8B. The insertion position of the knife 20 may be a corner of the laminate 6 as shown in FIG.

このようにして、剥離装置10は、積層体6から補強板3A、3Bを剥離する。尚、本実施形態では、積層体6から上側の補強板3Aを剥離した後に下側の補強板3Bを剥離するが、下側の補強板3Bを剥離した後に上側の補強板3Aを剥離してもよい。以下、剥離装置10の各構成について説明する。   In this way, the peeling device 10 peels the reinforcing plates 3A and 3B from the laminate 6. In the present embodiment, the upper reinforcing plate 3A is peeled off from the laminate 6 and then the lower reinforcing plate 3B is peeled. However, after the lower reinforcing plate 3B is peeled off, the upper reinforcing plate 3A is peeled off. Also good. Hereinafter, each structure of the peeling apparatus 10 is demonstrated.

剥離装置10は、図3に示すように、積層体6の下面(第1主面)6bを支持する可撓性板11Bと、積層体6の上面(第2主面)6aを支持する可撓性板11Aと、可撓性板11A、11B上に固定される複数の可動体12A、12Bと、ナイフ20とを備える。   As shown in FIG. 3, the peeling apparatus 10 can support a flexible plate 11B that supports the lower surface (first main surface) 6b of the multilayer body 6 and an upper surface (second main surface) 6a of the multilayer body 6. A flexible plate 11A, a plurality of movable bodies 12A and 12B fixed on the flexible plates 11A and 11B, and a knife 20 are provided.

可撓性板11A、11Bは、積層体6を真空吸着する。尚、真空吸着する代わりに、静電吸着又は磁気吸着してもよい。可撓性板11A、11B上には複数の可動体12A、12Bが固定される。   The flexible plates 11A and 11B vacuum-suck the stacked body 6. Instead of vacuum suction, electrostatic suction or magnetic suction may be used. A plurality of movable bodies 12A and 12B are fixed on the flexible plates 11A and 11B.

複数の可動体12A、12Bは、図4に示すように間隔をおいて2次元的に配置され、フレームFrに対して移動可能に構成される。複数の可動体12A、12Bはモータ等によって駆動される。複数の可動体12A、12Bを所定の順序で移動させることにより、可撓性板11A、11Bが撓み変形する。   The plurality of movable bodies 12A and 12B are two-dimensionally arranged at intervals as shown in FIG. 4 and configured to be movable with respect to the frame Fr. The plurality of movable bodies 12A and 12B are driven by a motor or the like. By moving the plurality of movable bodies 12A and 12B in a predetermined order, the flexible plates 11A and 11B are bent and deformed.

ナイフ20は、基板2A、2Bと補強板3A、3Bとの界面8A、8Bに挿入されるとき弾性変形するように、例えば50〜600μmの厚さを有する。ナイフ20の刃先20aは、界面8A、8Bに対して平行に配置され、例えば水平に配置される。   The knife 20 has a thickness of, for example, 50 to 600 μm so as to be elastically deformed when inserted into the interfaces 8A and 8B between the substrates 2A and 2B and the reinforcing plates 3A and 3B. The cutting edge 20a of the knife 20 is arranged in parallel to the interfaces 8A and 8B, for example, horizontally.

剥離装置10は、可撓性板11A、11Bで支持される積層体6に対してナイフ20を相対的に移動するため、図3に示すように、ナイフ移動部30と、積層体移動部40とをさらに備える。   Since the peeling apparatus 10 moves the knife 20 relative to the laminated body 6 supported by the flexible plates 11A and 11B, as shown in FIG. 3, the knife moving unit 30 and the laminated body moving unit 40 are used. And further comprising.

ナイフ移動部30は、フレームFrに対してナイフ20を水平方向に移動させる水平駆動用モータ31と、フレームFrに対してナイフ20を鉛直方向に移動させる鉛直駆動用モータ32とを備える。   The knife moving unit 30 includes a horizontal drive motor 31 that moves the knife 20 in the horizontal direction with respect to the frame Fr, and a vertical drive motor 32 that moves the knife 20 in the vertical direction with respect to the frame Fr.

水平駆動用モータ31は、サーボモータであってよく、正逆回転可能なモータ本体部31a、及びモータ本体部31aの回転量及び回転方向を検出するエンコーダ部31b等で構成される。モータ本体部31aは、モータ本体部31aの回転運動を直線運動に変換するボールネジ33を介して、水平可動体34と連結されている。モータ本体部31aが回転すると、水平可動体34が水平方向に移動する。モータ本体部31aは、水平可動体34の位置が目標位置となるように、エンコーダ部31bの検出結果に基づいてフィードバック制御される。   The horizontal drive motor 31 may be a servo motor, and includes a motor body 31a that can rotate forward and backward, an encoder 31b that detects a rotation amount and a rotation direction of the motor body 31a, and the like. The motor main body 31a is connected to the horizontal movable body 34 via a ball screw 33 that converts the rotational motion of the motor main body 31a into a linear motion. When the motor main body 31a rotates, the horizontal movable body 34 moves in the horizontal direction. The motor main body 31a is feedback-controlled based on the detection result of the encoder 31b so that the position of the horizontal movable body 34 becomes the target position.

鉛直駆動用モータ32は、水平可動体34に固定されるモータ支持部材35で支持される。鉛直駆動用モータ32は、サーボモータであってよく、正逆回転可能なモータ本体部32a、及びモータ本体部32aの回転量及び回転方向を検出するエンコーダ部32b等で構成される。モータ本体部32aは、モータ本体部32aの回転運動を直線運動に変換するボールネジ36を介して、鉛直可動体37と連結されている。モータ本体部32aが回転すると、鉛直可動体37が鉛直方向に移動する。モータ本体部32aは、鉛直可動体37の位置が目標位置となるように、エンコーダ部32bの検出結果に基づいてフィードバック制御される。   The vertical drive motor 32 is supported by a motor support member 35 fixed to the horizontal movable body 34. The vertical drive motor 32 may be a servo motor, and includes a motor main body portion 32a that can rotate forward and backward, an encoder portion 32b that detects a rotation amount and a rotation direction of the motor main body portion 32a, and the like. The motor body 32a is connected to the vertical movable body 37 via a ball screw 36 that converts the rotational motion of the motor body 32a into a linear motion. When the motor main body 32a rotates, the vertical movable body 37 moves in the vertical direction. The motor main body 32a is feedback-controlled based on the detection result of the encoder 32b so that the position of the vertical movable body 37 becomes the target position.

鉛直可動体37は、ナイフ支持部材38を支持している。ナイフ支持部材38は、ナイフ20を支持する部材であって、鉛直可動体37にボルト等で締結されている。   The vertical movable body 37 supports a knife support member 38. The knife support member 38 is a member that supports the knife 20 and is fastened to the vertical movable body 37 with a bolt or the like.

積層体移動部40は、可撓性板11A、11Bで支持される積層体6をフレームFrに対して鉛直方向に移動させる積層体用モータ41を備える。積層体用モータ41は、サーボモータであってよく、正逆回転可能なモータ本体部41a、及びモータ本体部41aの回転量及び回転方向を検出するエンコーダ部41b等で構成される。モータ本体部41aは、モータ本体部41aの回転運動を直線運動に変換するボールネジ42、及び可動体12Bを介して、可撓性板11Bと連結されている。モータ本体部41aが回転すると、可撓性板11A、11Bで支持される積層体6が鉛直方向に移動する。モータ本体部41aは、積層体6の位置が目標位置となるように、エンコーダ部41bの検出結果に基づいてフィードバック制御される。   The laminated body moving unit 40 includes a laminated body motor 41 that moves the laminated body 6 supported by the flexible plates 11A and 11B in the vertical direction with respect to the frame Fr. The laminated body motor 41 may be a servo motor, and includes a motor main body portion 41a that can rotate forward and reverse, an encoder portion 41b that detects the amount and direction of rotation of the motor main body portion 41a, and the like. The motor main body 41a is connected to the flexible plate 11B via a ball screw 42 that converts the rotational motion of the motor main body 41a into a linear motion and the movable body 12B. When the motor body 41a rotates, the laminate 6 supported by the flexible plates 11A and 11B moves in the vertical direction. The motor body 41a is feedback-controlled based on the detection result of the encoder 41b so that the position of the stacked body 6 becomes the target position.

ナイフ移動部30及び積層体移動部40によって、ナイフ20の挿入位置を調整する調整部が構成される。調整部は、ナイフ20の挿入前に、界面8A、8Bに対して垂直な方向(例えば鉛直方向)における、ナイフ20の刃先20aと界面8A、8Bとの間隔WA、WB(図3、図9(b)参照)を調整する。界面8Aは、基板2Aと補強板3Aの下面(第1主面)3Abとの境界面である。界面8Bは、基板2Bと補強板3Bの上面(第1主面)3Baとの境界面である。   The knife moving unit 30 and the laminate moving unit 40 constitute an adjusting unit that adjusts the insertion position of the knife 20. Before the insertion of the knife 20, the adjustment unit is configured to provide the intervals WA and WB (FIGS. 3 and 9) between the blade edge 20a of the knife 20 and the interfaces 8A and 8B in a direction perpendicular to the interfaces 8A and 8B (for example, the vertical direction). (Refer to (b)). The interface 8A is a boundary surface between the substrate 2A and the lower surface (first main surface) 3Ab of the reinforcing plate 3A. The interface 8B is a boundary surface between the substrate 2B and the upper surface (first main surface) 3Ba of the reinforcing plate 3B.

ナイフ20の刃先20aと界面8Aとの間隔WAは、図3に示すように、ナイフ20の刃先20aに対する補強板3Aの上面(第2主面)3Aaの相対位置(距離LA、及び上下関係)と、補強板3Aの板厚DAとから算出される。同様に、ナイフ20の刃先20aと界面8Bとの間隔WBは、図9(b)に示すように、ナイフ20の刃先20aに対する補強板3Bの下面(第2主面)3Bbの相対位置(距離LB、及び上下関係)と、補強板3Bの板厚DBとから算出される。   As shown in FIG. 3, the distance WA between the blade edge 20a of the knife 20 and the interface 8A is a relative position (distance LA and vertical relationship) of the upper surface (second main surface) 3Aa of the reinforcing plate 3A with respect to the blade edge 20a of the knife 20. And the thickness DA of the reinforcing plate 3A. Similarly, as shown in FIG. 9B, the interval WB between the blade edge 20a of the knife 20 and the interface 8B is a relative position (distance) of the lower surface (second main surface) 3Bb of the reinforcing plate 3B with respect to the blade edge 20a of the knife 20. LB and vertical relationship) and the thickness DB of the reinforcing plate 3B.

剥離装置10は、ナイフ20の刃先20aに対する補強板3A、3Bの第2主面3Aa、3Bbの相対位置(距離LA、距離LB等)を検出するため、撮像部51と、画像処理部52と、ナイフ用光源53と、可撓性板用光源54とをさらに備える。   The peeling device 10 detects the relative positions (distance LA, distance LB, etc.) of the second main surfaces 3Aa and 3Bb of the reinforcing plates 3A and 3B with respect to the cutting edge 20a of the knife 20, so that the imaging unit 51, the image processing unit 52, The light source 53 for knives and the light source 54 for flexible plates are further provided.

撮像部51は、CCDカメラやCMOSカメラ等のカメラで構成される。撮像部51は、フレームFrに対して固定される。撮像部51は、ナイフ20の刃先20aの位置、及び補強板3A、3Bの第2主面3Aa、3Bbの位置を撮像し、撮像した画像データを画像処理部52に供給する。撮像部51は、ナイフ20の刃先20aの位置と、補強板3A、3Bの第2主面3Aa、3Bbの位置とを別々に撮像してよい。画像処理による位置検出の精度が向上する。   The imaging unit 51 includes a camera such as a CCD camera or a CMOS camera. The imaging unit 51 is fixed with respect to the frame Fr. The imaging unit 51 images the position of the cutting edge 20a of the knife 20 and the positions of the second main surfaces 3Aa and 3Bb of the reinforcing plates 3A and 3B, and supplies the captured image data to the image processing unit 52. The imaging unit 51 may separately capture the position of the cutting edge 20a of the knife 20 and the positions of the second main surfaces 3Aa and 3Bb of the reinforcing plates 3A and 3B. The accuracy of position detection by image processing is improved.

画像処理部52は、CPU、ROMやRAM等の記憶媒体等を含むコンピュータで構成される。画像処理部52は、撮像部51から供給された画像を画像処理し、撮像部51に対するナイフ20の刃先20aの相対位置、及び撮像部51に対する補強板3A、3Bの第2主面3Aa、3Bbの相対位置を検出する。画像処理の方法としては、例えば微分フィルタを用いる方法等がある。微分フィルタを用いる方法では、画素の輝度(明度)等が急激に変化する位置を検出し、画像中におけるナイフ20の刃先20aの位置、及び画像中における補強板3A、3Bの第2主面3Aa、3Bbの位置を検出する。画像処理部52は、画像処理の結果を制御部80に供給する。   The image processing unit 52 is configured by a computer including a CPU, a storage medium such as a ROM and a RAM, and the like. The image processing unit 52 performs image processing on the image supplied from the imaging unit 51, the relative position of the cutting edge 20 a of the knife 20 with respect to the imaging unit 51, and the second main surfaces 3 </ b> Aa and 3 </ b> Bb of the reinforcing plates 3 </ b> A and 3 </ b> B with respect to the imaging unit 51. The relative position of is detected. Examples of the image processing method include a method using a differential filter. In the method using the differential filter, a position where the luminance (brightness) of the pixel changes abruptly is detected, the position of the blade 20a of the knife 20 in the image, and the second main surface 3Aa of the reinforcing plates 3A and 3B in the image. 3Bb position is detected. The image processing unit 52 supplies the image processing result to the control unit 80.

ナイフ用光源53は、撮像部51によってナイフ20の刃先20aの位置を撮像するとき、ナイフ20の刃先20aに向けて光を照射する。このとき、図4に示すように、ナイフ20の刃先20aは、撮像部51とナイフ用光源53との間に配置されてよい。   The knife light source 53 irradiates light toward the cutting edge 20 a of the knife 20 when the imaging unit 51 images the position of the cutting edge 20 a of the knife 20. At this time, as shown in FIG. 4, the cutting edge 20 a of the knife 20 may be disposed between the imaging unit 51 and the knife light source 53.

可撓性板用光源54は、撮像部51によって補強板3A、3Bの第2主面3Aa、3Bbの位置を撮像するとき、可撓性板11A、11Bに向けて光を照射する。可撓性板用光源54からの光は、撮像部51であるカメラの光軸の途中に設けられるハーフミラー55で反射され、カメラの光軸と同軸的に可撓性板11A、11Bを照らす。   The flexible plate light source 54 emits light toward the flexible plates 11A and 11B when the imaging unit 51 images the positions of the second main surfaces 3Aa and 3Bb of the reinforcing plates 3A and 3B. Light from the light source 54 for the flexible plate is reflected by a half mirror 55 provided in the middle of the optical axis of the camera that is the imaging unit 51, and illuminates the flexible plates 11A and 11B coaxially with the optical axis of the camera. .

尚、本実施形態の可撓性板用光源54の照明方式は、同軸照明であるが、可撓性板用光源54からの光が可撓性板11A、11Bで反射され撮像部51に入射する限り、多種多様であってよい。例えば、カメラの光軸を囲むように配置されるリング照明、カメラと別に設けられる外部照明などであってもよい。   Note that the illumination method of the flexible plate light source 54 of the present embodiment is coaxial illumination, but light from the flexible plate light source 54 is reflected by the flexible plates 11A and 11B and enters the imaging unit 51. It can be as diverse as you can. For example, ring illumination arranged so as to surround the optical axis of the camera, external illumination provided separately from the camera, or the like may be used.

剥離装置10は、補強板3A、3Bの板厚DA、DB(図3及び図9(b)参照)を検出する板厚検出部60A、60B(図3参照)をさらに備える。板厚検出部60A、60Bは、例えば分光干渉法によって透光性を有する補強板3A、3Bの板厚DA、DBを検出する。   The peeling apparatus 10 further includes plate thickness detection units 60A and 60B (see FIG. 3) that detect the plate thickness DA and DB (see FIGS. 3 and 9B) of the reinforcing plates 3A and 3B. The plate thickness detectors 60A and 60B detect the plate thickness DA and DB of the reinforcing plates 3A and 3B having translucency by, for example, spectral interference.

板厚検出部60Aは、積層体6の上面6a(即ち、上側の補強板3Aの上面3Aa)に向けて光源から検査光を照射し、積層体6で反射した干渉光を分光器で分光し、分光した光を受光器で受光し、受光波形を解析して上側の補強板3Aの板厚DAを算出する。検査光は所定の広さの波長を有し、受光波形の解析では波長に対する強度の変化を解析する。上側の可撓性板11Aには、検査光及び干渉光を通過させる貫通孔14Aが形成されている。   The plate thickness detector 60A irradiates the inspection light from the light source toward the upper surface 6a of the laminated body 6 (that is, the upper surface 3Aa of the upper reinforcing plate 3A) and separates the interference light reflected by the laminated body 6 with a spectrometer. The dispersed light is received by a light receiver, and the received light waveform is analyzed to calculate the thickness DA of the upper reinforcing plate 3A. The inspection light has a wavelength with a predetermined width, and in the analysis of the received light waveform, the change in intensity with respect to the wavelength is analyzed. The upper flexible plate 11A is formed with a through hole 14A that allows inspection light and interference light to pass therethrough.

同様に、板厚検出部60Bは、積層体6の下面6b(即ち、下側の補強板3Bの下面3Bb)に向けて光源から検査光を照射し、積層体6で反射した干渉光を分光器で分光し、分光した光を受光器で受光し、受光波形を解析して下側の補強板3Bの板厚DBを算出する。検査光は所定の広さの波長を有し、受光波形の解析では波長に対する強度の変化を解析する。下側の可撓性板11Bには、検査光及び干渉光を通過させる貫通孔14Bが形成されている。   Similarly, the plate thickness detector 60B irradiates the inspection light from the light source toward the lower surface 6b of the laminated body 6 (that is, the lower surface 3Bb of the lower reinforcing plate 3B), and spectrally separates the interference light reflected by the laminated body 6. Spectroscopically, the dispersed light is received by a light receiver, and the received light waveform is analyzed to calculate the thickness DB of the lower reinforcing plate 3B. The inspection light has a wavelength with a predetermined width, and in the analysis of the received light waveform, the change in intensity with respect to the wavelength is analyzed. The lower flexible plate 11B is formed with a through hole 14B through which inspection light and interference light pass.

分光干渉法は、補強板3A、3Bに含まれる樹脂層5A、5Bの屈折率と、基板2A、2Bの屈折率とが異なる場合に用いられる。尚、補強板3A、3Bが支持板4A、4B(図2参照)のみで構成される場合、支持板4A、4Bの屈折率と、基板2A、2Bの屈折率との差が異なる場合に、分光干渉法が用いられる。分光干渉法では、基板2A、2Bと補強板3A、3Bとの界面8A、8Bで、屈折率が変化していればよい。   The spectral interference method is used when the refractive indexes of the resin layers 5A and 5B included in the reinforcing plates 3A and 3B are different from the refractive indexes of the substrates 2A and 2B. When the reinforcing plates 3A and 3B are configured only by the support plates 4A and 4B (see FIG. 2), when the difference between the refractive indexes of the support plates 4A and 4B and the refractive indexes of the substrates 2A and 2B is different, Spectral interferometry is used. In the spectroscopic interferometry, it is sufficient that the refractive index changes at the interfaces 8A and 8B between the substrates 2A and 2B and the reinforcing plates 3A and 3B.

尚、分光干渉法の代わりに、三角測量法を用いてもよい。三角測量法では、所定の波長を有する検査光を用いて補強板3A、3Bの板厚DA、DBを検出する。三角測量法では、分光器が不要なので、コストが安い。一方、分光干渉法は、板厚の検出精度が良い。   Note that a triangulation method may be used instead of the spectral interferometry. In the triangulation method, the plate thicknesses DA and DB of the reinforcing plates 3A and 3B are detected using inspection light having a predetermined wavelength. Triangulation is inexpensive because it does not require a spectrometer. On the other hand, spectral interferometry has good plate thickness detection accuracy.

剥離装置10は、剥離装置10の各種動作を制御する制御部80を備える。制御部80は、CPU、ROMやRAM等の記憶媒体等を含むコンピュータで構成される。記録媒体に記録されたプログラムをCPUに実行させることにより、剥離装置10の各種動作を制御する。制御部80は、算出部81、撮像処理部82、監視部83、調整処理部84を有する。   The peeling apparatus 10 includes a control unit 80 that controls various operations of the peeling apparatus 10. The control unit 80 is configured by a computer including a CPU, a storage medium such as a ROM and a RAM, and the like. Various operations of the peeling apparatus 10 are controlled by causing the CPU to execute a program recorded on the recording medium. The control unit 80 includes a calculation unit 81, an imaging processing unit 82, a monitoring unit 83, and an adjustment processing unit 84.

尚、算出部81、撮像処理部82、監視部83、撮像部51、及び画像処理部52等で位置検出部が構成される。位置検出部は、詳しくは後述するが、界面8A、8Bに対して垂直な方向(例えば鉛直方向)における、ナイフ20の刃先20aに対する補強板3A、3Bの第2主面3Aa、3Bbの相対位置(距離LA、LB等)を検出する。   The calculation unit 81, the imaging processing unit 82, the monitoring unit 83, the imaging unit 51, the image processing unit 52, and the like constitute a position detection unit. As will be described in detail later, the position detection unit is a relative position of the second main surfaces 3Aa and 3Bb of the reinforcing plates 3A and 3B with respect to the cutting edge 20a of the knife 20 in a direction perpendicular to the interfaces 8A and 8B (for example, a vertical direction). (Distance LA, LB, etc.) is detected.

次に、上記構成の剥離装置10の動作について説明する。剥離装置10の各種動作は、制御装置70による制御下で行われる。   Next, operation | movement of the peeling apparatus 10 of the said structure is demonstrated. Various operations of the peeling device 10 are performed under the control of the control device 70.

積層体6は、可撓性板11B上に水平に載置される。可撓性板11Bが積層体6の下面6bを真空吸着すると、可撓性板11Aが積層体6の上面6aに押し付けられ、積層体6の上面6aを真空吸着する。このとき、可撓性板11A、11Bは平板状になっており、板厚検出部60A、60Bが、補強板3A、3Bの板厚DA、DBを検出する。板厚検出部60A、60Bは、検出結果を調整処理部84に供給する。   The laminate 6 is placed horizontally on the flexible plate 11B. When the flexible plate 11B vacuum-sucks the lower surface 6b of the stacked body 6, the flexible plate 11A is pressed against the upper surface 6a of the stacked body 6 and vacuum-sucks the upper surface 6a of the stacked body 6. At this time, the flexible plates 11A and 11B have a flat plate shape, and the plate thickness detectors 60A and 60B detect the plate thickness DA and DB of the reinforcing plates 3A and 3B. The plate thickness detection units 60A and 60B supply detection results to the adjustment processing unit 84.

次いで、撮像処理部82は、ナイフ移動部30及び積層体移動部40によって積層体6及びナイフ20を撮像部51に対して相対的に移動させて、撮像部51によってナイフ20の刃先20aの位置と上側の補強板3Aの上面3Aaの位置とを別々に撮像させる。   Next, the imaging processing unit 82 moves the stacked body 6 and the knife 20 relative to the imaging unit 51 by the knife moving unit 30 and the stacked body moving unit 40, and the imaging unit 51 moves the position of the blade edge 20 a of the knife 20. And the position of the upper surface 3Aa of the upper reinforcing plate 3A are imaged separately.

図7は、撮像部による撮像時の剥離装置の状態を示す図である。図7(a)はナイフ20の刃先位置の撮像時における剥離装置の状態を示し、図7(b)は上側の補強板3Aの上面位置の撮像時における剥離装置の状態を示す。図8は、撮像部によって撮像される画像を示す図である。図8(a)はナイフ20の刃先位置を撮像した画像を模式的に示し、図8(b)は上側の補強板3Aの上面位置を撮像した画像を模式的に示す。図8において、画素の輝度の低い部分を斜線の網掛けで示す。   FIG. 7 is a diagram illustrating a state of the peeling device during imaging by the imaging unit. FIG. 7A shows the state of the peeling device at the time of imaging the cutting edge position of the knife 20, and FIG. 7B shows the state of the peeling device at the time of imaging the upper surface position of the upper reinforcing plate 3A. FIG. 8 is a diagram illustrating an image captured by the imaging unit. FIG. 8A schematically shows an image obtained by imaging the blade tip position of the knife 20, and FIG. 8B schematically shows an image obtained by imaging the upper surface position of the upper reinforcing plate 3A. In FIG. 8, the low luminance portion of the pixel is indicated by hatching.

例えば、撮像処理部82は、図7(a)に示すように、撮像部51によってナイフ20の刃先20aの位置を撮像する。ナイフ20の刃先20aは、刃先20aに向けて光を照射するナイフ用光源53と撮像部51との間に配置される。よって、図8(a)に示すように、ナイフ20の周辺の画像がナイフ20の画像20Pよりも明るくなるので、ナイフ20の刃先20aの位置を示す画像20aPが明確になる。撮像部51によって撮像された画像は、画像処理部52に供給される。画像処理部52は、撮像部51から供給された画像を画像処理し、撮像部51に対するナイフ20の刃先20aの相対位置を検出する。画像処理部52は、画像処理の結果を算出部81に供給する。   For example, the imaging processing unit 82 images the position of the blade edge 20a of the knife 20 by the imaging unit 51, as shown in FIG. The blade edge 20a of the knife 20 is disposed between the knife light source 53 that irradiates light toward the blade edge 20a and the imaging unit 51. Therefore, as shown in FIG. 8A, the image around the knife 20 becomes brighter than the image 20P of the knife 20, so that the image 20aP showing the position of the blade edge 20a of the knife 20 becomes clear. The image captured by the image capturing unit 51 is supplied to the image processing unit 52. The image processing unit 52 performs image processing on the image supplied from the imaging unit 51, and detects the relative position of the cutting edge 20 a of the knife 20 with respect to the imaging unit 51. The image processing unit 52 supplies the image processing result to the calculation unit 81.

次いで、撮像処理部82は、図7(b)に示すように、ナイフ移動部30によってナイフ20を撮像部51に対して待機位置まで下げる。この間、監視部83は、撮像部51に対するナイフ20の相対位置の変化を監視する。相対位置の変化は、ナイフ20の移動距離MA(図7(b)参照)の他、ナイフ20の移動方向を含む。監視部83は、例えば鉛直駆動用モータ32のエンコーダ部32bを用いて監視を行う。監視部83は、監視結果を算出部81に供給する。また、撮像処理部82は、積層体移動部40によって積層体6を撮像部51に対して所定位置まで上げる。   Next, as illustrated in FIG. 7B, the imaging processing unit 82 lowers the knife 20 with respect to the imaging unit 51 to the standby position by the knife moving unit 30. During this time, the monitoring unit 83 monitors a change in the relative position of the knife 20 with respect to the imaging unit 51. The change in the relative position includes the moving direction of the knife 20 in addition to the moving distance MA of the knife 20 (see FIG. 7B). The monitoring unit 83 performs monitoring using the encoder unit 32b of the vertical drive motor 32, for example. The monitoring unit 83 supplies the monitoring result to the calculation unit 81. Further, the imaging processing unit 82 raises the stacked body 6 to the predetermined position with respect to the imaging unit 51 by the stacked body moving unit 40.

その後、撮像処理部82は、撮像部51によって上側の補強板3Aの上面3Aaの位置を撮像する。このとき、上側の可撓性板11Aの端部は、撮像部51によって撮像される部分15Aで、可撓性板用光源54からの光を撮像部51に向けて反射する。よって、図8(b)に示すように、可撓性板11Aの画像11APが補強板3Aの画像3APよりも明るくなるので、補強板3Aの上面3Aaの位置を示す画像3AaPが明確になる。上記部分15Aは、光反射率を高めるため、反射膜(例えば白い塗料の膜)で構成されてよい。上記部分15Aの画像15APがより明るくなる。撮像部51によって撮像された画像は、画像処理部52に供給される。画像処理部52は、撮像部51から供給された画像を画像処理し、撮像部51に対する補強板3Aの上面3Aaの相対位置を検出する。画像処理部52は、画像処理の結果を算出部81に供給する。   Thereafter, the imaging processing unit 82 images the position of the upper surface 3Aa of the upper reinforcing plate 3A by the imaging unit 51. At this time, the end of the upper flexible plate 11 </ b> A is a portion 15 </ b> A imaged by the imaging unit 51, and reflects light from the flexible plate light source 54 toward the imaging unit 51. Therefore, as shown in FIG. 8B, the image 11AP of the flexible plate 11A becomes brighter than the image 3AP of the reinforcing plate 3A, so that an image 3AaP indicating the position of the upper surface 3Aa of the reinforcing plate 3A becomes clear. The portion 15A may be formed of a reflective film (for example, a white paint film) in order to increase the light reflectance. The image 15AP of the portion 15A becomes brighter. The image captured by the image capturing unit 51 is supplied to the image processing unit 52. The image processing unit 52 performs image processing on the image supplied from the imaging unit 51 and detects the relative position of the upper surface 3Aa of the reinforcing plate 3A with respect to the imaging unit 51. The image processing unit 52 supplies the image processing result to the calculation unit 81.

算出部81は、画像処理部52による画像処理の結果に基づいて、図7(a)に示すナイフ20の刃先20aと、図7(b)に示す補強板3Aの上面3Aaとの鉛直方向における相対位置を算出する。相対位置は、距離GA(図7(b)参照)の他、上下関係を含む。距離GAは、画像中での距離GAP(図8(b)参照)と、比例定数との積から算出される。比例定数は予め試験等で決定され、制御部80の記憶媒体に記憶される。   Based on the result of the image processing by the image processing unit 52, the calculation unit 81 in the vertical direction between the cutting edge 20a of the knife 20 shown in FIG. 7A and the upper surface 3Aa of the reinforcing plate 3A shown in FIG. 7B. The relative position is calculated. The relative position includes a vertical relationship in addition to the distance GA (see FIG. 7B). The distance GA is calculated from the product of the distance GAP (see FIG. 8B) in the image and the proportionality constant. The proportionality constant is determined in advance by a test or the like and is stored in the storage medium of the control unit 80.

算出部81は、画像処理部52による画像処理の結果に基づく算出結果と、監視部83の監視結果とに基づいて、ナイフ20の刃先20aと、上側の補強板3Aの上面3Aaとの鉛直方向における相対位置を算出する。相対位置は、距離LA(図7(b)参照)の他、上下関係を含む。例えば図7(b)では、ナイフ20の刃先20aが、補強板3Aの上面3Aaよりも下方に位置する。補強板3Aの上面3Aaと下面3Abとの間の距離は、補強板3Aの板厚DAと等しい。   Based on the calculation result based on the result of the image processing by the image processing unit 52 and the monitoring result of the monitoring unit 83, the calculating unit 81 is perpendicular to the cutting edge 20a of the knife 20 and the upper surface 3Aa of the upper reinforcing plate 3A. The relative position at is calculated. The relative position includes a vertical relationship in addition to the distance LA (see FIG. 7B). For example, in FIG. 7B, the cutting edge 20a of the knife 20 is positioned below the upper surface 3Aa of the reinforcing plate 3A. The distance between the upper surface 3Aa and the lower surface 3Ab of the reinforcing plate 3A is equal to the plate thickness DA of the reinforcing plate 3A.

調整処理部84は、算出部81の算出結果と、板厚検出部60Aの検出結果とに基づいて、ナイフ20の刃先20aと、界面8Aとの間の鉛直方向における間隔WA(図7(b)参照)を算出する。次いで、調整処理部84は、間隔WAを調整する調整部(例えばナイフ移動部30)を動作させ、間隔WAを略0(ゼロ)に調整する。   Based on the calculation result of the calculation unit 81 and the detection result of the plate thickness detection unit 60A, the adjustment processing unit 84 determines the vertical interval WA between the blade edge 20a of the knife 20 and the interface 8A (FIG. 7B). )) Is calculated. Next, the adjustment processing unit 84 operates an adjustment unit (for example, the knife moving unit 30) that adjusts the interval WA, and adjusts the interval WA to substantially 0 (zero).

その後、制御部80は、ナイフ移動部30によってナイフ20を水平に移動し、図5(a)に示すように基板2Aと補強板3Aとの界面8Aの一端に挿入させる。その結果、界面8Aに剥離の起点が形成される。   Thereafter, the control unit 80 moves the knife 20 horizontally by the knife moving unit 30 and inserts it into one end of the interface 8A between the substrate 2A and the reinforcing plate 3A as shown in FIG. As a result, a separation starting point is formed at the interface 8A.

このように、本実施形態では、ナイフ20の刃先20aと、界面8Aとの間の鉛直方向における間隔WAが、ナイフ20の刃先20aに対する補強板3Aの上面3Aaの相対位置(距離LA、及び上下関係)と、補強板3Aの板厚DAとから算出される。よって、界面8Aの位置を直接検出することが困難な場合に、界面8Aの位置を精度良く検出することができ、ナイフ20を界面8Aに精度良く挿入することができる。   Thus, in this embodiment, the vertical interval WA between the cutting edge 20a of the knife 20 and the interface 8A is such that the relative position of the upper surface 3Aa of the reinforcing plate 3A with respect to the cutting edge 20a of the knife 20 (distance LA and upper and lower Relationship) and the thickness DA of the reinforcing plate 3A. Therefore, when it is difficult to directly detect the position of the interface 8A, the position of the interface 8A can be detected with high accuracy, and the knife 20 can be inserted into the interface 8A with high accuracy.

その後、制御部80は、図5(b)に示すように基板2Aと補強板3Aとの界面8Aを一端側から他端側に向けて順次剥離するように、複数の可動体12A、12Bを所定の順序でフレームFrに対して移動させ、可撓性板11A、11Bを撓み変形させる。   Thereafter, as shown in FIG. 5B, the control unit 80 removes the plurality of movable bodies 12A and 12B so that the interface 8A between the substrate 2A and the reinforcing plate 3A is sequentially peeled from one end side to the other end side. The flexible plates 11A and 11B are bent and deformed in a predetermined order with respect to the frame Fr.

基板2Aと補強板3Aの剥離完了後、制御部80は、可撓性板11Aによる真空吸着を解除する。その後、可撓性板11Aから補強板3Aが取り外される。続いて、可撓性板11Aが基板2Aに押し付けられ、基板2Aの上面を吸着する。このとき、可撓性板11A、11Bは平板状になっている。   After the separation of the substrate 2A and the reinforcing plate 3A is completed, the control unit 80 releases the vacuum suction by the flexible plate 11A. Thereafter, the reinforcing plate 3A is removed from the flexible plate 11A. Subsequently, the flexible plate 11A is pressed against the substrate 2A and sucks the upper surface of the substrate 2A. At this time, the flexible plates 11A and 11B are flat.

次いで、撮像処理部82は、ナイフ移動部30及び積層体移動部40によって、補強板3B及びナイフ20を撮像部51に対して相対的に移動させて、撮像部51によってナイフ20の刃先20aの位置と下側の補強板3Bの下面3Bbの位置とを別々に撮像させる。   Next, the imaging processing unit 82 moves the reinforcing plate 3B and the knife 20 relative to the imaging unit 51 by the knife moving unit 30 and the stacked body moving unit 40, and the imaging unit 51 moves the blade tip 20 a of the knife 20. The position and the position of the lower surface 3Bb of the lower reinforcing plate 3B are imaged separately.

図9は、撮像部による撮像時の剥離装置の状態を示す図である。図9(a)はナイフ20の刃先位置の撮像時における剥離装置の状態を示し、図9(b)は下側の補強板3Bの下面位置の撮像時における剥離装置の状態を示す。図10は、撮像部によって撮像される画像を示す図である。図10(a)はナイフ20の刃先位置を撮像した画像を模式的に示し、図10(b)は下側の補強板3Bの下面位置を撮像した画像を模式的に示す。図10において、画素の輝度の低い部分を斜線の網掛けで示す。   FIG. 9 is a diagram illustrating a state of the peeling device during imaging by the imaging unit. FIG. 9A shows the state of the peeling device at the time of imaging the cutting edge position of the knife 20, and FIG. 9B shows the state of the peeling device at the time of imaging the lower surface position of the lower reinforcing plate 3B. FIG. 10 is a diagram illustrating an image captured by the imaging unit. FIG. 10A schematically shows an image obtained by imaging the blade edge position of the knife 20, and FIG. 10B schematically shows an image obtained by imaging the lower surface position of the lower reinforcing plate 3B. In FIG. 10, the low luminance portion of the pixel is indicated by hatching.

例えば、撮像処理部82は、図9(a)に示すように、撮像部51によってナイフ20の刃先20aの位置を撮像する。ナイフ20の刃先20aは、刃先20aに向けて光を照射するナイフ用光源53と撮像部51との間に配置される。よって、図9(a)に示すように、ナイフ20の周辺の画像がナイフ20の画像20Pよりも明るくなるので、ナイフ20の刃先20aの位置を示す画像20aPが明確になる。上記部分15Bは、光反射率を高めるため、反射膜(例えば白い塗料の膜)で構成されてよい。上記部分15Bの画像15BPがより明るくなる。撮像部51によって撮像された画像は、画像処理部52に供給される。画像処理部52は、撮像部51から供給された画像を画像処理し、撮像部51に対するナイフ20の刃先20aの相対位置を検出する。画像処理部52は、画像処理の結果を算出部81に供給する。   For example, as illustrated in FIG. 9A, the imaging processing unit 82 images the position of the cutting edge 20 a of the knife 20 using the imaging unit 51. The blade edge 20a of the knife 20 is disposed between the knife light source 53 that irradiates light toward the blade edge 20a and the imaging unit 51. Therefore, as shown in FIG. 9A, the image around the knife 20 becomes brighter than the image 20P of the knife 20, so that an image 20aP showing the position of the blade edge 20a of the knife 20 becomes clear. The portion 15B may be formed of a reflective film (for example, a white paint film) in order to increase the light reflectance. The image 15BP of the part 15B becomes brighter. The image captured by the image capturing unit 51 is supplied to the image processing unit 52. The image processing unit 52 performs image processing on the image supplied from the imaging unit 51, and detects the relative position of the cutting edge 20 a of the knife 20 with respect to the imaging unit 51. The image processing unit 52 supplies the image processing result to the calculation unit 81.

次いで、撮像処理部82は、図9(b)に示すように、ナイフ移動部30によってナイフ20を撮像部51に対して待機位置まで下げる。この間、監視部83は、撮像部51に対するナイフ20の相対位置の変化を監視する。相対位置の変化は、ナイフ20の移動距離MB(図9(b)参照)の他、ナイフ20の移動方向を含む。監視部83は、例えば鉛直駆動用モータ32のエンコーダ部32bを用いて監視を行う。監視部83は、監視結果を算出部81に供給する。また、撮像処理部82は、積層体移動部40によって補強板3Bを撮像部51に対して所定位置まで上げる。   Next, as illustrated in FIG. 9B, the imaging processing unit 82 lowers the knife 20 with respect to the imaging unit 51 to the standby position by the knife moving unit 30. During this time, the monitoring unit 83 monitors a change in the relative position of the knife 20 with respect to the imaging unit 51. The change in the relative position includes the movement direction of the knife 20 in addition to the movement distance MB of the knife 20 (see FIG. 9B). The monitoring unit 83 performs monitoring using the encoder unit 32b of the vertical drive motor 32, for example. The monitoring unit 83 supplies the monitoring result to the calculation unit 81. Further, the imaging processing unit 82 raises the reinforcing plate 3 </ b> B to the predetermined position with respect to the imaging unit 51 by the stacked body moving unit 40.

その後、撮像処理部82は、撮像部51によって下側の補強板3Bの下面3Bbの位置を撮像する。このとき、下側の可撓性板11Bの端部は、撮像部51によって撮像される部分15Bで、可撓性板用光源54からの光を撮像部51に向けて反射する。よって、図10(b)に示すように、可撓性板11Bの画像11BPが補強板3Bの画像3BPよりも明るくなるので、補強板3Bの下面3Bbの位置を示す画像3BbPが明確になる。撮像部51によって撮像された画像は、画像処理部52に供給される。画像処理部52は、撮像部51から供給された画像を画像処理し、撮像部51に対する補強板3Bの下面3Bbの相対位置を検出する。画像処理部52は、画像処理の結果を算出部81に供給する。   Thereafter, the imaging processing unit 82 images the position of the lower surface 3Bb of the lower reinforcing plate 3B by the imaging unit 51. At this time, the end of the lower flexible plate 11 </ b> B is a portion 15 </ b> B imaged by the imaging unit 51, and reflects light from the flexible plate light source 54 toward the imaging unit 51. Therefore, as shown in FIG. 10B, the image 11BP of the flexible plate 11B becomes brighter than the image 3BP of the reinforcing plate 3B, so that the image 3BbP indicating the position of the lower surface 3Bb of the reinforcing plate 3B becomes clear. The image captured by the image capturing unit 51 is supplied to the image processing unit 52. The image processing unit 52 performs image processing on the image supplied from the imaging unit 51 and detects the relative position of the lower surface 3Bb of the reinforcing plate 3B with respect to the imaging unit 51. The image processing unit 52 supplies the image processing result to the calculation unit 81.

算出部81は、画像処理部52による画像処理の結果に基づいて、図9(a)に示すナイフ20の刃先20aと、図9(b)に示す補強板3Bの下面3Bbとの鉛直方向における相対位置を算出する。相対位置は、距離GB(図9(b)参照)の他、上下関係を含む。距離GBは、画像中における距離GBP(図10(b)参照)と、比例定数との積から算出される。比例定数は予め試験等で決定され、制御部80の記憶媒体に記憶される。   Based on the result of the image processing by the image processing unit 52, the calculation unit 81 in the vertical direction between the cutting edge 20a of the knife 20 shown in FIG. 9A and the lower surface 3Bb of the reinforcing plate 3B shown in FIG. 9B. The relative position is calculated. The relative position includes a vertical relation in addition to the distance GB (see FIG. 9B). The distance GB is calculated from the product of the distance GBP in the image (see FIG. 10B) and the proportionality constant. The proportionality constant is determined in advance by a test or the like and is stored in the storage medium of the control unit 80.

算出部81は、画像処理部52による画像処理の結果に基づく算出結果と、監視部83の監視結果とに基づいて、ナイフ20の刃先20aと、下側の補強板3Bの下面3Bbとの鉛直方向における相対位置を算出する。相対位置は、距離LB(図9(b)参照)の他、上下関係を含む。例えば図9(b)では、ナイフ20の刃先20aが、補強板3Bの下面3Bbよりも下方に位置する。補強板3Bの下面3Bbと上面3Baとの間の距離は、補強板3Bの板厚DBと等しい。   Based on the calculation result based on the result of the image processing by the image processing unit 52 and the monitoring result of the monitoring unit 83, the calculating unit 81 makes a vertical contact between the cutting edge 20a of the knife 20 and the lower surface 3Bb of the lower reinforcing plate 3B. Calculate the relative position in the direction. The relative position includes a vertical relationship in addition to the distance LB (see FIG. 9B). For example, in FIG.9 (b), the blade edge | tip 20a of the knife 20 is located below the lower surface 3Bb of the reinforcement board 3B. The distance between the lower surface 3Bb and the upper surface 3Ba of the reinforcing plate 3B is equal to the plate thickness DB of the reinforcing plate 3B.

調整処理部84は、算出部81の算出結果と、板厚検出部60Bの検出結果とに基づいて、ナイフ20の刃先20aと、界面8Bとの間の鉛直方向における間隔WB(図9(b)参照)を算出する。次いで、調整処理部84は、間隔WBを調整する調整部(例えばナイフ移動部30)を動作させ、間隔WBを略0(ゼロ)に調整する。   Based on the calculation result of the calculation unit 81 and the detection result of the plate thickness detection unit 60B, the adjustment processing unit 84 determines the vertical interval WB between the cutting edge 20a of the knife 20 and the interface 8B (FIG. 9B). )) Is calculated. Next, the adjustment processing unit 84 operates an adjustment unit (for example, the knife moving unit 30) that adjusts the interval WB, and adjusts the interval WB to approximately 0 (zero).

その後、制御部80は、ナイフ移動部30によってナイフ20を水平に移動し、図6(a)に示すように基板2Bと補強板3Bとの界面8Bの一端に挿入させる。その結果、界面8Bに剥離の起点が形成される。   Thereafter, the control unit 80 moves the knife 20 horizontally by the knife moving unit 30 and inserts the knife 20 into one end of the interface 8B between the substrate 2B and the reinforcing plate 3B as shown in FIG. As a result, a separation starting point is formed at the interface 8B.

このように、本実施形態では、ナイフ20の刃先20aと、界面8Bとの間の鉛直方向における間隔WBが、ナイフ20の刃先20aに対する補強板3Bの下面3Bbの相対位置(距離LB、及び上限関係)と、補強板3Bの板厚DBとから算出される。よって、界面8Bの位置を直接検出することが困難な場合に、界面8Bの位置を精度良く検出することができ、ナイフ20を界面8Bに精度良く挿入することができる。   Thus, in the present embodiment, the vertical interval WB between the cutting edge 20a of the knife 20 and the interface 8B is the relative position (distance LB and upper limit) of the lower surface 3Bb of the reinforcing plate 3B with respect to the cutting edge 20a of the knife 20. Relationship) and the thickness DB of the reinforcing plate 3B. Therefore, when it is difficult to directly detect the position of the interface 8B, the position of the interface 8B can be detected with high accuracy, and the knife 20 can be inserted into the interface 8B with high accuracy.

その後、制御部80は、図6(b)に示すように基板2Bと補強板3Bとの界面8Bを一端側から他端側に向けて順次剥離するように、複数の可動体12A、12Bを所定の順序でフレームFrに対して移動させ、可撓性板11A、11Bを撓み変形させる。   Thereafter, as shown in FIG. 6B, the control unit 80 removes the movable bodies 12A and 12B so that the interface 8B between the substrate 2B and the reinforcing plate 3B is sequentially peeled from one end side to the other end side. The flexible plates 11A and 11B are bent and deformed in a predetermined order with respect to the frame Fr.

基板2Bと補強板3Bの剥離完了後、制御部80は、可撓性板11A、11Bによる真空吸着を解除する。その後、可撓性板11Bから補強板3Bが取り外され、可撓性板11Aから基板2Aが取り外される。   After the separation of the substrate 2B and the reinforcing plate 3B is completed, the control unit 80 releases the vacuum suction by the flexible plates 11A and 11B. Thereafter, the reinforcing plate 3B is removed from the flexible plate 11B, and the substrate 2A is removed from the flexible plate 11A.

このようにして、積層体6から補強板3A、3Bが剥離された後、バックライト等が組み込まれ、製品であるLCDが得られる。   In this way, after the reinforcing plates 3A and 3B are peeled from the laminate 6, a backlight or the like is incorporated, and an LCD as a product is obtained.

尚、本実施形態の剥離装置10は、LCDの製造工程において用いられるが、本発明はこれに限定されず、他の電子デバイスの製造工程において用いることが可能である。   In addition, although the peeling apparatus 10 of this embodiment is used in the manufacturing process of LCD, this invention is not limited to this, It can be used in the manufacturing process of another electronic device.

以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に制限されない。特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形、変更が可能である。   Although one embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above embodiment. Various modifications and changes are possible within the scope of the gist of the present invention described in the claims.

例えば、上記実施形態の剥離装置10では、ナイフ20の挿入前に、界面8A、8Bが水平に配置されているが、界面8A、8Bが鉛直に配置されてもよいし、界面8A、8Bが水平面に対して傾斜していてもよい。   For example, in the peeling apparatus 10 of the above embodiment, the interfaces 8A and 8B are arranged horizontally before the knife 20 is inserted, but the interfaces 8A and 8B may be arranged vertically, or the interfaces 8A and 8B You may incline with respect to a horizontal surface.

また、上記実施形態では、補強板3A、3Bの第2主面3Aa、3Bbの位置を精度良く検出するため、可撓性板12A、12Bの端部のうち、撮像部51によって撮像される部分15Aに光反射膜(例えば白い塗料の膜)を形成したが、光吸収膜(例えば黒い塗料の膜)を形成してもよい。光反射膜と、光吸収膜とは、補強板3A、3Bの側面の状態に応じて使い分けられる。例えば図11に示すように、補強板3Bの側面の角部が面取りされている場合、補強板3Bの側面に入射した光が撮像部51に向けて反射せず、撮像部51によって撮像される補強板3Bの画像が暗くなるので、可撓性板11Bの画像が明るくなるように光反射膜が用いられる。補強板3Bの画像が暗くなる場合としては、補強板3Bの側面の角部が面取りされている場合の他、補強板3Bの側面に傷があり光が散乱される場合が挙げられる。一方、補強板3Bの側面が平坦面であって、面取りされていない場合、補強板3Bの側面に入射した光が撮像部51に向けて反射し、撮像部51によって撮像される補強板3Bの画像が明るくなるので、可撓性板11Bの画像が暗くなるように光吸収膜が用いられる。   Moreover, in the said embodiment, in order to detect accurately the position of 2nd main surface 3Aa, 3Bb of reinforcement board 3A, 3B, the part imaged by the imaging part 51 among the edge parts of flexible board 12A, 12B. Although a light reflection film (for example, a white paint film) is formed on 15A, a light absorption film (for example, a black paint film) may be formed. The light reflecting film and the light absorbing film are properly used according to the state of the side surfaces of the reinforcing plates 3A and 3B. For example, as shown in FIG. 11, when the corner of the side surface of the reinforcing plate 3B is chamfered, the light incident on the side surface of the reinforcing plate 3B is not reflected toward the imaging unit 51 and is imaged by the imaging unit 51. Since the image of the reinforcing plate 3B becomes dark, the light reflecting film is used so that the image of the flexible plate 11B becomes bright. Examples of the case where the image of the reinforcing plate 3B becomes dark include the case where the corners of the side surface of the reinforcing plate 3B are chamfered and the case where the side surface of the reinforcing plate 3B has scratches and light is scattered. On the other hand, when the side surface of the reinforcing plate 3B is a flat surface and is not chamfered, the light incident on the side surface of the reinforcing plate 3B is reflected toward the imaging unit 51 and is captured by the imaging unit 51. Since the image becomes bright, the light absorbing film is used so that the image on the flexible plate 11B becomes dark.

また、上記実施形態では、補強板3Aの第2主面3Aaの位置を検出するとき、補強板3Aの第2主面3Aa上に可撓性板11Aが載置されているが、図12に示すように載置されていなくてもよい。この場合、補強板3Aの第2主面3Aaの一部が、補強板3Aに向けて光を照射するナイフ用光源53と撮像部51との間に配置される。よって、補強板3Aの周辺の画像が補強板3Aの画像よりも明るくなるので、補強板3Aの第2主面3Aaの位置が明確になる。この場合、図13に示すように、補強板3Aの第2主面3Aa上に可撓性板11Aを載置する前に、補強板3Aと基板2Aとの界面8Aとの間にナイフ20を挿入してよい。その後、ナイフ20を挿入したままの状態で、可撓性板11Aを下降し、図5(a)に示すように可撓性板11Aで補強板3Aの第2主面3Aaを吸着する。次いで、図5(b)に示すように界面8Aを一端側から他端側に向けて順次剥離するように、基板2A及び補強板3Aの少なくとも一方(図では両方)を撓み変形させる。   In the above embodiment, when the position of the second main surface 3Aa of the reinforcing plate 3A is detected, the flexible plate 11A is placed on the second main surface 3Aa of the reinforcing plate 3A. It does not have to be placed as shown. In this case, a part of the second main surface 3Aa of the reinforcing plate 3A is arranged between the light source 53 for the knife that irradiates light toward the reinforcing plate 3A and the imaging unit 51. Therefore, since the image around the reinforcing plate 3A becomes brighter than the image of the reinforcing plate 3A, the position of the second main surface 3Aa of the reinforcing plate 3A becomes clear. In this case, as shown in FIG. 13, before placing the flexible plate 11A on the second main surface 3Aa of the reinforcing plate 3A, the knife 20 is placed between the reinforcing plate 3A and the interface 8A between the substrate 2A. May be inserted. Thereafter, with the knife 20 still inserted, the flexible plate 11A is lowered, and the second main surface 3Aa of the reinforcing plate 3A is adsorbed by the flexible plate 11A as shown in FIG. Next, as shown in FIG. 5B, at least one of the substrate 2A and the reinforcing plate 3A (both in the drawing) is bent and deformed so that the interface 8A is sequentially peeled from one end side toward the other end side.

また、上記実施形態の剥離装置10は、補強板3A、3Bの第2主面3Aa、3Bbの位置を検出するため、撮像部51を用いたが、例えばレーザ変位計等の非接触式の位置センサ、ダイヤルゲージ等の接触式の位置センサ、又は積層体用モータ41のエンコーダ部41bを用いてもよい。   Moreover, although the peeling apparatus 10 of the said embodiment used the imaging part 51 in order to detect the position of 2nd main surface 3Aa, 3Bb of reinforcement board 3A, 3B, for example, non-contact-type positions, such as a laser displacement meter A contact-type position sensor such as a sensor or a dial gauge, or the encoder 41b of the laminated body motor 41 may be used.

また、上記実施形態の剥離装置10は、ナイフ撮像時と補強板撮像時との間における、撮像部51に対するナイフ20の相対位置の変化を監視部83で監視したが、相対位置の変化がストッパーなどによって予め決められている場合、監視部83で監視しなくてもよい。   In the peeling device 10 of the above embodiment, the monitoring unit 83 monitors the change in the relative position of the knife 20 with respect to the imaging unit 51 between the imaging of the knife and the imaging of the reinforcing plate, but the change in the relative position is a stopper. For example, the monitoring unit 83 does not have to perform monitoring.

また、上記実施形態の撮像処理部82は、撮像部51によってナイフ20の刃先20aの位置を撮像した後、補強板3Aの上面3Aaの位置を撮像したが、撮像の順序に制限はない。例えば、撮像処理部82は、補強板3Aの上面3Aaの位置を撮像した後、ナイフ20の刃先20aの位置を撮像してもよく、この場合、監視部83は、撮像部51に対する補強板3Aの相対位置の変化を監視する。監視部83は、例えば積層体用モータ41のエンコーダ部41bを用いて監視を行う。また、撮像処理部82は、両方の位置を同時に撮像してもよく、この場合、位置検出部は算出部81、撮像部51、及び画像処理部52で構成される。   Further, the imaging processing unit 82 of the above embodiment images the position of the upper surface 3Aa of the reinforcing plate 3A after imaging the position of the cutting edge 20a of the knife 20 by the imaging unit 51, but the imaging order is not limited. For example, the imaging processing unit 82 may image the position of the cutting edge 20a of the knife 20 after imaging the position of the upper surface 3Aa of the reinforcing plate 3A. In this case, the monitoring unit 83 uses the reinforcing plate 3A for the imaging unit 51. Monitor relative position changes. The monitoring unit 83 performs monitoring using, for example, the encoder unit 41b of the laminated body motor 41. Further, the imaging processing unit 82 may capture both positions at the same time. In this case, the position detection unit includes a calculation unit 81, an imaging unit 51, and an image processing unit 52.

また、上記実施形態の剥離装置10は、板厚検出部60A、60Bによって補強板3A、3Bの板厚を検出した後、位置検出部によってナイフ20の刃先20aに対する補強板3A、3Bの第2主面3Aa、3Bbの相対位置を検出するとしたが、順序は逆でもよいし、同時でもよい。   In the peeling device 10 of the above embodiment, the plate thickness detectors 60A and 60B detect the plate thickness of the reinforcing plates 3A and 3B, and then the position detector detects the second plate of the reinforcing plates 3A and 3B with respect to the blade edge 20a of the knife 20. The relative positions of the main surfaces 3Aa and 3Bb are detected, but the order may be reversed or simultaneous.

また、上記実施形態の剥離装置10は、画像処理部52としてのコンピュータを、制御部80としてのコンピュータと別に備えるが、制御部80が画像処理部52の機能を果たしてもよい。   Moreover, although the peeling apparatus 10 of the said embodiment is provided with the computer as the image processing part 52 separately from the computer as the control part 80, the control part 80 may fulfill | perform the function of the image processing part 52.

また、上記実施形態の剥離装置10は、界面8A、8Bを一端側から他端側まで剥離するとき、可撓性板11A、11Bの両方を撓み変形させるとしたが、いずれか一方のみを撓み変形させてもよい。この場合、他方の可撓性板の代わりに、撓み変形困難な剛性板が用いられてもよい。   In the peeling device 10 of the above embodiment, when peeling the interfaces 8A and 8B from one end side to the other end side, both the flexible plates 11A and 11B are bent and deformed, but only one of them is bent. It may be deformed. In this case, a rigid plate that is difficult to bend and deform may be used instead of the other flexible plate.

また、上記実施形態の剥離装置10は、界面8A、8Bの両方を剥離する装置であるが、いずれか一方のみ(例えば界面8Aのみ)を剥離する装置であってもよい。   Moreover, although the peeling apparatus 10 of the said embodiment is an apparatus which peels both interface 8A, 8B, the apparatus which peels only any one (for example, only interface 8A) may be sufficient.

2A、2B 基板
3A、3B 補強板
3Ab、3Ba 第1主面
3Aa、3Bb 第2主面
7 液晶層(機能層)
8A、8B 界面
10 剥離装置
11A、11B 可撓性板(支持体)
12A、12A 可動体
20 ナイフ
20a 刃先
30 ナイフ移動部
40 積層体移動部
51 撮像部
52 画像処理部
53 ナイフ用光源
54 可撓性板用光源(支持体用光源)
60A、60B 板厚検出部
80 制御部
81 算出部
82 撮像処理部
83 監視部
84 調整処理部
2A, 2B Substrate 3A, 3B Reinforcing plate 3Ab, 3Ba First main surface 3Aa, 3Bb Second main surface 7 Liquid crystal layer (functional layer)
8A, 8B Interface 10 Peeling device 11A, 11B Flexible plate (support)
12A, 12A Movable body 20 Knife 20a Cutting edge 30 Knife moving part 40 Laminate moving part 51 Imaging part 52 Image processing part 53 Light source for knife 54 Light source for flexible plate (light source for support)
60A, 60B Plate thickness detection unit 80 Control unit 81 Calculation unit 82 Imaging processing unit 83 Monitoring unit 84 Adjustment processing unit

Claims (8)

基板と、該基板に貼り付けられた補強板とを剥離する剥離装置において、
前記基板と前記補強板の第1主面との界面に挿入されるナイフと、
該ナイフの挿入前に、前記界面に対して垂直な方向における、前記ナイフの刃先と前記界面との間隔を調整する調整部と、
前記界面に対して垂直な方向における、前記ナイフの刃先と、前記補強板の前記第1主面とは反対側の第2主面との相対位置を検出する位置検出部と、
前記補強板の板厚を検出する板厚検出部と、
前記位置検出部の検出結果と、前記板厚検出部の検出結果とに基づいて、前記調整部を動作させる調整処理部とを備え
前記位置検出部は、前記ナイフの刃先の位置、及び前記補強板の前記第2主面の位置を撮像する撮像部と、該撮像部によって撮像された画像を画像処理する画像処理部と、該画像処理部の画像処理結果に基づいて前記相対位置を算出する算出部とを備え、
前記補強板は透光性を有し、
前記板厚検出部は、分光干渉法によって前記補強板の板厚を検出する、剥離装置。
In the peeling device for peeling the substrate and the reinforcing plate attached to the substrate,
A knife inserted into an interface between the substrate and the first main surface of the reinforcing plate;
An adjustment unit that adjusts the distance between the blade edge of the knife and the interface in a direction perpendicular to the interface before insertion of the knife;
A position detection unit for detecting a relative position between a blade edge of the knife and a second main surface opposite to the first main surface of the reinforcing plate in a direction perpendicular to the interface;
A plate thickness detector for detecting the plate thickness of the reinforcing plate;
An adjustment processing unit for operating the adjustment unit based on the detection result of the position detection unit and the detection result of the plate thickness detection unit ;
The position detection unit includes an imaging unit that captures the position of the blade edge of the knife and the position of the second main surface of the reinforcing plate, an image processing unit that performs image processing on an image captured by the imaging unit, A calculation unit that calculates the relative position based on an image processing result of the image processing unit,
The reinforcing plate has translucency,
The said plate | board thickness detection part is a peeling apparatus which detects the plate | board thickness of the said reinforcement board by spectral interference method .
前記位置検出部は、前記調整部によって前記ナイフ及び前記補強板を前記撮像部に対して相対的に移動させて、前記撮像部によって前記ナイフの刃先の位置と前記補強板の前記第2主面の位置とを別々に撮像させる撮像処理部をさらに備える請求項に記載の剥離装置。 The position detection unit moves the knife and the reinforcing plate relative to the imaging unit by the adjusting unit, and the imaging unit positions the blade edge of the knife and the second main surface of the reinforcing plate. The peeling apparatus according to claim 1 , further comprising an imaging processing unit that separately images the position of the image. 前記位置検出部は、前記ナイフの刃先の位置の撮像時と前記補強板の前記第2主面の位置の撮像時との間における、前記撮像部に対する前記ナイフの相対位置の変化、及び/又は前記撮像部に対する前記補強板の相対位置の変化を監視する監視部をさらに備え、
前記算出部は、前記監視部の監視結果と、前記画像処理部の画像処理結果とに基づいて、前記ナイフの刃先と前記補強板の前記第2主面との前記相対位置を算出する請求項に記載の剥離装置。
The position detection unit is configured to change a relative position of the knife with respect to the imaging unit between imaging of the position of the blade edge of the knife and imaging of the position of the second main surface of the reinforcing plate, and / or A monitoring unit that monitors a change in the relative position of the reinforcing plate with respect to the imaging unit;
The said calculation part calculates the said relative position of the blade edge | tip of the said knife and the said 2nd main surface of the said reinforcement board based on the monitoring result of the said monitoring part, and the image processing result of the said image processing part. 2. The peeling apparatus according to 2 .
前記ナイフの刃先の位置の撮像時に、前記ナイフの刃先に向けて光を照射するナイフ用光源をさらに備え、
前記ナイフの刃先の位置の撮像時に、前記ナイフの刃先は、前記ナイフ用光源と前記撮像部との間に配置される前記請求項又はに記載の剥離装置。
A light source for a knife that emits light toward the blade edge of the knife when imaging the position of the blade edge of the knife;
When the imaging position of the cutting edge of the knife, the cutting edge of the knife, peeling apparatus according to claim 2 or 3 is disposed between the imaging unit and the light source for the knife.
補強板で補強した基板上に機能層を形成する工程と、前記機能層が形成された前記基板と前記補強板とを剥離する工程とを有する電子デバイスの製造方法において、
前記基板と前記補強板の第1主面との界面にナイフを挿入する前に、前記界面に対して垂直な方向における、前記ナイフの刃先と前記界面との間隔を調整する調整工程を有し、
該調整工程は、
前記界面に対して垂直な方向における、前記ナイフの刃先と、前記補強板の前記第1主面とは反対側の第2主面との相対位置を検出する位置検出工程と、
前記補強板の板厚を検出する板厚検出工程と、
前記位置検出工程で検出された前記相対位置、及び前記板厚検出工程で検出された前記補強板の板厚に基づいて前記間隔を調整する調整処理工程とを備え、
前記位置検出工程では、前記ナイフの刃先の位置、及び前記補強板の前記第2主面の位置を撮像する撮像部によって撮像された画像を画像処理して、前記相対位置を算出し、
前記補強板は透光性を有し、
前記板厚検出工程では、分光干渉法によって前記板厚を検出する、電子デバイスの製造方法。
In a method for manufacturing an electronic device, comprising a step of forming a functional layer on a substrate reinforced with a reinforcing plate, and a step of separating the reinforcing plate and the substrate on which the functional layer is formed.
An adjustment step of adjusting a distance between the blade edge of the knife and the interface in a direction perpendicular to the interface before inserting the knife into the interface between the substrate and the first main surface of the reinforcing plate; ,
The adjustment process includes:
A position detection step of detecting a relative position between the blade edge of the knife and the second main surface opposite to the first main surface of the reinforcing plate in a direction perpendicular to the interface;
A plate thickness detecting step for detecting the plate thickness of the reinforcing plate;
E Bei an adjustment process of adjusting the interval based on the thickness of said detected relative position by the position detection step, and detected by the thickness detection step the reinforcing plate,
In the position detection step, image processing is performed on an image captured by an imaging unit that captures the position of the blade edge of the knife and the position of the second main surface of the reinforcing plate, and the relative position is calculated.
The reinforcing plate has translucency,
In the plate thickness detection step, the plate thickness is detected by spectral interference method.
前記位置検出工程では、前記ナイフ及び前記補強板を前記撮像部に対して相対的に移動させて、前記撮像部によって前記ナイフの刃先の位置と前記補強板の前記第2主面の位置とを別々に撮像させる請求項に記載の電子デバイスの製造方法。 In the position detecting step, the knife and the reinforcing plate are moved relative to the imaging unit, and the position of the blade edge of the knife and the position of the second main surface of the reinforcing plate are determined by the imaging unit. The method for manufacturing an electronic device according to claim 5 , wherein images are separately taken. 前記位置検出工程では、前記ナイフの刃先の位置の撮像時と前記補強板の前記第2主面の位置の撮像時との間における、前記撮像部に対する前記ナイフの相対位置の変化、及び/又は前記撮像部に対する前記補強板の相対位置の変化と、画像処理の結果とに基づいて、前記ナイフの刃先と前記補強板の前記第2主面との前記相対位置を算出する請求項に記載の電子デバイスの製造方法。 In the position detection step, a change in the relative position of the knife with respect to the imaging unit between the time of imaging of the position of the blade edge of the knife and the time of imaging of the position of the second main surface of the reinforcing plate, and / or and changes in the relative positions of the reinforcing plate relative to the imaging unit, based on the result of image processing, according to claim 6 for calculating the relative position between the cutting edge and the second major surface of the reinforcing plate of the knife Electronic device manufacturing method. 前記ナイフの刃先の位置の撮像時に、前記ナイフの刃先は、前記ナイフの刃先に向けて光を照射するナイフ用光源と前記撮像部との間に配置される請求項又はに記載の電子デバイスの製造方法。 The electron of Claim 6 or 7 arrange | positioned between the light source for knives which irradiates light toward the blade edge | tip of the said knife, and the said imaging part at the time of imaging of the position of the blade edge | tip of the said knife. Device manufacturing method.
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