JP6436389B2 - Peel start part creating apparatus, peel start part creating method, and electronic device manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は剥離開始部作成装置、及び剥離開始部作成方法並びに電子デバイスの製造方法に関する。   The present invention relates to a peeling start part creating apparatus, a peeling start part creating method, and an electronic device manufacturing method.

表示パネル、太陽電池、又は薄膜二次電池等の電子デバイスの薄型化、軽量化に伴い、これらの電子デバイスに用いられるガラス製、樹脂製、金属製等の基板の薄板化が要望されている。   As electronic devices such as display panels, solar cells, and thin-film secondary batteries are made thinner and lighter, glass, resin, and metal substrates used for these electronic devices are required to be thinned. .

しかし、基板の板厚が薄くなると、基板のハンドリング性が悪くなり、基板の上に電子デバイス用の機能層(たとえば、薄膜トランジスタ(TFT: Thin Film Transistor)やカラーフィルタ(CF:Color Filter)など)を形成することが難しくなる。   However, when the thickness of the substrate is reduced, the handling of the substrate is deteriorated, and a functional layer for an electronic device (for example, a thin film transistor (TFT) or a color filter (CF)) is formed on the substrate. It becomes difficult to form.

そこで、樹脂層を介して補強板を基板に貼合することで基板を補強し、この補強された基板の上に機能層を形成する方法が提案されている(たとえば、特許文献1参照)。この方法では、基板に補強板を貼合して積層体とし、その積層体とされた基板の上に機能層を形成する。そして、機能層の形成後、基板から補強板を剥離する。   Thus, a method has been proposed in which a reinforcing plate is bonded to a substrate via a resin layer to reinforce the substrate, and a functional layer is formed on the reinforced substrate (see, for example, Patent Document 1). In this method, a reinforcing plate is bonded to a substrate to form a laminate, and a functional layer is formed on the substrate that is the laminate. And after formation of a functional layer, a reinforcement board is peeled from a board | substrate.

補強板の剥離は、たとえば、対角線上に位置する2つのコーナ部の一方端から他方端に向けて、補強板又は基板、あるいは、その双方を撓み変形させることにより行われる。この際、剥離が容易に行われるようにするために、剥離開始部(剥離のきっかけとなる隙間)が人為的に作成される。この剥離開始部は、樹脂層にナイフを刺入することにより作成される。   The reinforcing plate is peeled off by, for example, bending and deforming the reinforcing plate and / or the substrate from one end to the other end of the two corner portions located on the diagonal line. At this time, in order to facilitate the peeling, a peeling start portion (a gap serving as a trigger for peeling) is artificially created. This peeling start portion is created by inserting a knife into the resin layer.

国際公開第2010/090147号International Publication No. 2010/090147

剥離開始部の作成においては、ナイフの刃先を樹脂層に精度よく刺入する必要がある。ナイフの刺入を精度よく行うためには、樹脂層とナイフの刃先との位置関係を検出し、その検出結果に基づいて、ナイフの刃先と樹脂層とが対向するように積層体とナイフとの位置調整をし、ナイフを樹脂層に刺入する必要がある。   In creating the peeling start portion, it is necessary to insert the knife edge into the resin layer with high accuracy. In order to insert the knife accurately, the positional relationship between the resin layer and the blade edge of the knife is detected, and on the basis of the detection result, the laminate and the knife are arranged so that the knife edge and the resin layer face each other. It is necessary to adjust the position and insert a knife into the resin layer.

しかしながら、ナイフの刃先と樹脂層との位置を検出する精度と、積層体とナイフとを位置調整する精度との関係で、ナイフが樹脂層ではなく製品となる基板に位置調整される場合がある。この状態で、ナイフを樹脂層に向けて移動させると、ナイフと基板とが接触し、ナイフが製品となる基板に損傷を与える懸念がある。特に。樹脂層が薄くなると、その懸念が顕著となる。   However, there is a case where the knife is positioned not on the resin layer but on the substrate serving as a product due to the relationship between the accuracy of detecting the position of the knife edge and the resin layer and the accuracy of adjusting the position of the laminated body and the knife. . In this state, if the knife is moved toward the resin layer, the knife and the substrate come into contact with each other, and there is a concern that the knife may damage the product substrate. In particular. As the resin layer becomes thinner, the concern becomes significant.

本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、ナイフを樹脂層に精度よく刺入することができる剥離開始部作成装置、及び剥離開始部作成方法並びに電子デバイスの製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a problem, and provides a peeling start portion creation apparatus, a peeling start portion creation method, and an electronic device manufacturing method capable of accurately inserting a knife into a resin layer. The purpose is to do.

第1の実施形態に係る剥離開始部作成装置は、製品基板である第1の主面と第2の主面とを有する第1の基板と、補強板である第1の主面と第2の主面とを有する第2の基板とが吸着層を介して剥離可能に貼合された積層体に対して、前記吸着層にナイフを刺入することにより、前記積層体に剥離開始部を作成する積層体の剥離開始部作成装置において、前記ナイフと前記積層体とを前記第2の基板の前記第2の主面に平行な方向に相対的に前進又は後退させる移動部と、前記ナイフの刃先が前記吸着層、及び前記第2の基板の何れに接触したかを検出する検出部と、前記第2の基板の前記第2の主面と垂直な方向における前記積層体と前記ナイフとの位置関係を検出する位置検出部と、前記第2の基板の前記第2の主面に垂直な方向に相対的に移動させ、前記積層体と前記ナイフとの位置を調整する位置調整部と、前記移動部、前記検出部、前記位置検出部、及び前記位置調整部を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記位置検出部により前記積層体と前記ナイフとの位置を検出する位置検出処理と、前記位置検出部の検出結果に基づいて、前記位置調整部により、前記ナイフの位置を前記積層体の前記吸着層に対向する位置から予め定められた距離だけ前記第2の基板の側に前記ナイフの位置を位置調整する第1位置調整処理と、前記移動部により前記ナイフと前記積層体とを相対的に前進する前進処理と、前記検出部により前記ナイフの刃先が前記吸着層、及び前記第2の基板の何れに接触したか検出する検出処理と、前記ナイフの刃先が前記第2の基板に接触したと検出した場合は、前記移動部により前記積層体と前記ナイフと相対的に後退する後退処理と、前記位置調整部により前記吸着層の側に前記吸着層の厚さ以下の距離だけ前記ナイフの位置を調整する第2位置調整処理と、を実行し、前記ナイフが前記吸着層に接触したことを検出するまで、前記前進処理と前記検出処理と前記後退処理と前記第2位置調整処理とをこの順で繰り返し、前記ナイフの刃先が前記吸着層に接触したと検出した場合は、前記移動部により前記ナイフと前記積層体とを継続して相対的に前進する継続前進処理を実行する。 The peeling start part creation apparatus according to the first embodiment includes a first substrate having a first main surface and a second main surface that are product substrates, a first main surface that is a reinforcing plate, and a second substrate. And a second substrate having a main surface of the laminate, the peelable start portion is formed on the laminate by inserting a knife into the adsorbent layer with respect to the laminate that is detachably bonded via the adsorbent layer. In the device for creating a peeling start part of a laminate to be created, a moving unit that relatively advances or retracts the knife and the laminate in a direction parallel to the second main surface of the second substrate, and the knife A detection unit that detects which of the suction layer and the second substrate is in contact with the blade edge, the laminate and the knife in a direction perpendicular to the second main surface of the second substrate, Relative to the position detection unit for detecting the positional relationship between the second substrate and the second main surface of the second substrate. A position adjustment unit that adjusts the position of the laminate and the knife, and a control unit that controls the movement unit, the detection unit, the position detection unit, and the position adjustment unit, The control unit detects the position of the stacked body and the knife by the position detection unit, and based on the detection result of the position detection unit, the position adjustment unit sets the position of the knife by the position detection unit. A first position adjustment process for adjusting the position of the knife on the second substrate side by a predetermined distance from a position of the body facing the adsorption layer; and the knife and the laminate by the moving unit. A detecting process for detecting which of the suction layer and the second substrate is contacted by the detection unit; and a detecting process for detecting whether the knife edge is in contact with the second blade. Touched the substrate If detected, the moving unit moves backward relative to the stacked body and the knife, and the position adjusting unit moves the knife toward the adsorption layer by a distance equal to or less than the thickness of the adsorption layer. A second position adjustment process that adjusts the forward movement process, the detection process, the backward movement process, and the second position adjustment process until it is detected that the knife has contacted the adsorption layer. When it is detected that the blade edge of the knife is in contact with the adsorption layer, a continuous advance process is performed in which the knife and the laminate are continuously moved forward by the moving unit.

第2の実施形態に係る剥離開始部作成方法は、製品基板である第1の主面と第2の主面とを有する第1の基板と、補強板である第1の主面と第2の主面とを有する第2の基板とが吸着層を介して剥離可能に貼合された積層体に対して、前記吸着層にナイフを刺入することにより、前記積層体に剥離開始部を作成する剥離開始部作成方法において、前記第2の基板の前記第2の主面と垂直な方向における前記積層体と前記ナイフとの位置関係を検出する位置検出ステップと、前記位置検出ステップの検出結果に基づいて、前記積層体と前記ナイフとを前記第2の基板の第2の主面と垂直な方向に相対的に移動させて、前記ナイフの位置を前記積層体の前記吸着層に対向する位置から予め定められた距離だけ前記第2の基板の側に前記ナイフの位置を位置調整する第1位置調整ステップと、前記第2の基板の前記第2の主面に平行な方向に、前記ナイフと前記積層体とを相対的に前進させる前進ステップと、前記ナイフの刃先が前記吸着層、及び前記第2の基板の何れに接触したか検出する検出ステップと、前記ナイフの刃先が前記第2の基板に接触したと検出した場合は、前記第2の基板の前記第2の主面に平行な方向に、前記積層体と前記ナイフと相対的に後退させる後退ステップと、前記積層体と前記ナイフとを前記第2の基板の第2の主面と垂直な方向に相対的に移動させて、前記吸着層の側に前記吸着層の厚さ以下の距離だけ前記ナイフの位置を調整する第2位置調整ステップと、を実行し、前記ナイフが前記吸着層に接触したことを検出するまで、前記前進ステップと前記検出ステップと、前記後退ステップと前記第2位置調整ステップとをこの順で繰り返すステップと、前記ナイフの刃先が前記吸着層に接触したと検出した場合は、前記ナイフと前記積層体とを相対的に継続して前進させる継続前進ステップと、を有する。 The peeling start part creation method according to the second embodiment includes a first substrate having a first main surface and a second main surface that are product substrates, a first main surface that is a reinforcing plate, and a second substrate. And a second substrate having a main surface of the laminate, the peelable start portion is formed on the laminate by inserting a knife into the adsorbent layer with respect to the laminate that is detachably bonded via the adsorbent layer. In the peeling start part creation method to be created, a position detection step for detecting a positional relationship between the laminate and the knife in a direction perpendicular to the second main surface of the second substrate, and detection of the position detection step Based on the result, the laminated body and the knife are moved relative to each other in a direction perpendicular to the second main surface of the second substrate, and the position of the knife is opposed to the adsorption layer of the laminated body. The position of the knife on the second substrate side by a predetermined distance from the position to be A first position adjusting step for adjusting the position of the second substrate, an advancing step for relatively advancing the knife and the laminated body in a direction parallel to the second main surface of the second substrate, and a blade edge of the knife Detecting step of detecting which of the adsorbing layer and the second substrate is in contact, and detecting that the blade edge of the knife is in contact with the second substrate, the first of the second substrate A retreating step for retreating the laminate and the knife relative to each other in a direction parallel to the principal surface of the second substrate, and a direction perpendicular to the second principal surface of the second substrate. And a second position adjusting step of adjusting the position of the knife by a distance equal to or less than the thickness of the adsorption layer to the side of the adsorption layer, and the knife contacts the adsorption layer The forward step and the A step of repeating the ejecting step, the retreating step, and the second position adjusting step in this order; and when detecting that the blade edge of the knife is in contact with the adsorption layer, the knife and the laminate are relatively And a continuous forward step for continuously moving forward.

第3の実施形態に係る電子デバイスの製造方法は、製品基板である第1の主面と第2の主面とを有する第1の基板と、補強板である第1の主面と第2の主面とを有する第2の基板とが吸着層を介して、前記第1の基板の第2の主面と前記第2の基板の第1の主面とが剥離可能に貼合された積層体に対し、前記第1の基板の第1の主面に機能層を形成する機能層形成工程と、前記機能層が形成された前記第1の基板と前記第2の基板とを分離する分離工程と、を有する電子デバイスの製造方法において、前記分離工程は、前記吸着層にナイフを刺入れて剥離開始部を作成する剥離開始部作成工程と、前記剥離開始部を起点として前記第1の基板と前記第2の基板とを順次剥離する剥離工程と、を有し、剥離開始部作成工程は、前記第2の基板の前記第2の主面と垂直な方向における前記積層体と前記ナイフとの位置関係を検出する位置検出ステップと、前記位置検出ステップの検出結果に基づいて、前記積層体と前記ナイフとを前記第2の基板の第2の主面と垂直な方向に相対的に移動させて、前記ナイフの位置を前記積層体の前記吸着層に対向する位置から予め定められた距離だけ前記第2の基板の側に前記ナイフの位置を位置調整する第1位置調整ステップと、前記第2の基板の前記第2の主面に平行な方向に、前記ナイフと前記積層体とを相対的に前進させる前進ステップと、前記ナイフの刃先が前記吸着層、及び前記第2の基板の何れに接触したか検出する検出ステップと、前記ナイフの刃先が前記第2の基板に接触したと検出した場合は、前記第2の基板の前記第2の主面に平行な方向に、前記積層体と前記ナイフと相対的に後退させる後退ステップと、前記積層体と前記ナイフとを前記第2の基板の第2の主面と垂直な方向に相対的に移動させて、前記吸着層の側に前記吸着層の厚さ以下の距離だけ前記ナイフの位置を調整する第2位置調整ステップと、を実行し、前記ナイフが前記吸着層に接触したことを検出するまで、前記前進ステップと前記検出ステップと、前記後退ステップと前記第2位置調整ステップとをこの順で繰り返すステップと、前記ナイフの刃先が前記吸着層に接触したと検出した場合は、前記ナイフと前記積層体とを相対的に継続して前進させる継続前進ステップと、を含む。



The electronic device manufacturing method according to the third embodiment includes a first substrate having a first main surface and a second main surface that are product substrates, a first main surface that is a reinforcing plate, and a second substrate. The second substrate having the main surface of the first substrate is detachably bonded to the second main surface of the first substrate and the first main surface of the second substrate through the adsorption layer. A functional layer forming step of forming a functional layer on the first main surface of the first substrate, and the first substrate and the second substrate on which the functional layer is formed are separated from the stacked body. In the method for manufacturing an electronic device having a separation step, the separation step includes a separation start portion creation step for creating a separation start portion by inserting a knife into the adsorption layer, and the separation start portion as a starting point. A peeling step of sequentially peeling the substrate of the second substrate and the second substrate, and the peeling start portion creating step of the second substrate A position detecting step for detecting a positional relationship between the stacked body and the knife in a direction perpendicular to the second main surface; and based on a detection result of the position detecting step, the stacked body and the knife are The position of the knife is moved by a predetermined distance from a position facing the adsorption layer of the stacked body by relatively moving in a direction perpendicular to the second main surface of the second substrate. A first position adjusting step for adjusting the position of the knife to the side, and a forward step for relatively advancing the knife and the laminate in a direction parallel to the second main surface of the second substrate. Detecting step of detecting whether the blade edge of the knife has contacted the adsorption layer or the second substrate, and detecting that the blade edge of the knife has contacted the second substrate, 2nd main surface of 2 substrates A retreating step for retreating the laminate and the knife relative to each other in a parallel direction; and moving the laminate and the knife relatively to a direction perpendicular to the second main surface of the second substrate. And a second position adjusting step for adjusting the position of the knife on the side of the adsorption layer by a distance equal to or less than the thickness of the adsorption layer, until it is detected that the knife has contacted the adsorption layer. The forward step, the detection step, the backward step, and the second position adjustment step are repeated in this order, and when it is detected that the blade edge of the knife is in contact with the adsorption layer, the knife and the And a continuous advance step for relatively continuously advancing the laminated body.



本発明に係る剥離開始部作成装置、及び剥離開始部作成方法並びに電子デバイスの製造方法によれば、ナイフを樹脂層に精度よく刺入することができる。   According to the peeling start part creating apparatus, the peeling start part creating method, and the electronic device manufacturing method according to the present invention, it is possible to insert the knife into the resin layer with high accuracy.

電子デバイスの製造工程に供される積層体の一例を示す要部拡大側面図The principal part enlarged side view which shows an example of the laminated body provided to the manufacturing process of an electronic device LCDの製造工程の途中で作製される積層体の一例を示す要部拡大側面図The principal part enlarged side view which shows an example of the laminated body produced in the middle of the manufacturing process of LCD 剥離開始部作成装置の構成を示した説明図Explanatory drawing showing the configuration of the peeling start part creation device ナイフと積層体との位置関係を検出する位置検出部の構成を示した説明図Explanatory drawing which showed the structure of the position detection part which detects the positional relationship of a knife and a laminated body. 剥離開始部作成方法の手順を示すフローチャートFlow chart showing the procedure of the peeling start part creation method 剥離開始部作成方法の手順の一部を示した側面図Side view showing part of the procedure for creating the peeling start part 剥離開始部作成方法の手順の一部を示した側面図Side view showing part of the procedure for creating the peeling start part 剥離開始部作成方法の手順の一部を示した側面図Side view showing part of the procedure for creating the peeling start part 剥離開始部作成方法の手順の一部を示した平面図The top view which showed a part of procedure of the peeling start part creation method 剥離装置の構成を示した縦断面図Longitudinal sectional view showing the configuration of the peeling device 剥離ユニットに対する複数の可動体の配置位置を模式的に示した可撓性板の平面図The top view of the flexible board which showed typically the arrangement position of a plurality of movable bodies to a peeling unit 剥離ユニットの構成を示した説明図Explanatory drawing showing the configuration of the peeling unit 積層体から補強板を剥離している剥離装置の縦断面図Longitudinal sectional view of the peeling device that peels the reinforcing plate from the laminate

以下、添付図面にしたがって本発明の好ましい実施の形態について説明する。本発明は以下の好ましい実施の形態により説明される。本発明の範囲を逸脱すること無く、多くの手法により変更を行うことができ、本実施の形態以外の他の実施の形態を利用することができる。したがって、本発明の範囲内における全ての変更が特許請求の範囲に含まれる。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The present invention is illustrated by the following preferred embodiments. Changes can be made by many techniques without departing from the scope of the present invention, and other embodiments than the present embodiment can be utilized. Accordingly, all modifications within the scope of the present invention are included in the claims.

ここで、図中、同一の記号で示される部分は、同様の機能を有する同様の要素である。また、本明細書中で、数値範囲を“ 〜 ”を用いて表す場合は、“ 〜 ”で示される上限、下限の数値も数値範囲に含むものとする。   Here, in the drawing, portions indicated by the same symbols are similar elements having similar functions. In addition, in the present specification, when a numerical range is expressed using “˜”, upper and lower numerical values indicated by “˜” are also included in the numerical range.

以下、添付図面にしたがって、本発明に係る剥離開始部作成装置、及び剥離開始部作成方法並びに電子デバイスの製造方法について説明する。   Hereinafter, a peeling start part creating apparatus, a peeling start part creating method, and an electronic device manufacturing method according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

電子デバイスとは、表示パネル、太陽電池、又は薄膜二次電池等の電子部品をいう。表示パネルとしては、液晶ディスプレイパネル(LCD:Liquid Crystal Display)、プラズマディスプレイパネル(PDP:Plasma Display Panel)、及び有機ELディスプレイパネル(OELD:Organic Electro Luminescence Display)を例示できる。   The electronic device refers to an electronic component such as a display panel, a solar battery, or a thin film secondary battery. As a display panel, a liquid crystal display panel (LCD: Liquid Crystal Display), a plasma display panel (PDP: Plasma Display Panel), and an organic EL display panel (OELD: Organic Electro Luminescence Display) can be illustrated.

〔電子デバイスの製造方法の概要〕
電子デバイスは、ガラス製、樹脂製、金属製等の基板の第1の主面に電子デバイス用の機能層(LCDであれば、薄膜トランジスタ(TFT)、カラーフィルタ(CF))を形成することにより製造される。
[Outline of electronic device manufacturing method]
An electronic device is formed by forming a functional layer for an electronic device (in the case of LCD, a thin film transistor (TFT) or a color filter (CF)) on the first main surface of a substrate made of glass, resin, metal, or the like. Manufactured.

この基板は、機能層の形成前に、その第2の主面に樹脂層を介して補強板が貼合され、積層体として構成される。その後、積層体の状態で基板の第1の主面に機能層が形成され、機能層の形成後、補強板が基板から剥離される。   Before the functional layer is formed, the substrate is configured as a laminated body in which a reinforcing plate is bonded to the second main surface via a resin layer. Thereafter, a functional layer is formed on the first main surface of the substrate in the state of the laminate, and after the functional layer is formed, the reinforcing plate is peeled from the substrate.

すなわち、電子デバイスの製造方法は、積層体の状態で基板の第1の主面に機能層を形成する機能層形成工程、及び機能層が形成された基板と補強板とを分離する分離工程が備えられる。この分離工程は、樹脂層にナイフを刺入れて剥離開始部を作成する剥離開始部作成工程と、剥離開始部を起点として基板と補強板とを順次剥離する剥離工程と、を含んでいる。この分離工程の剥離開始部作成工程に、本発明に係る剥離開始部作成方法及び剥離開始部作成装置が適用される。   That is, the method for manufacturing an electronic device includes a functional layer forming step of forming a functional layer on the first main surface of the substrate in the state of a laminate, and a separation step of separating the substrate on which the functional layer is formed and the reinforcing plate. Provided. This separation step includes a peeling start portion creation step for creating a peeling start portion by inserting a knife into the resin layer, and a peeling step for sequentially peeling the substrate and the reinforcing plate starting from the peeling start portion. The peeling start part creating method and the peeling start part creating apparatus according to the present invention are applied to the peeling start part creating process of the separation process.

〔積層体〕
図1は、積層体1の一例を示した要部拡大側面図である。
[Laminate]
FIG. 1 is an enlarged side view of an essential part showing an example of a laminated body 1.

積層体1は、第1の基板である基板2と、その基板2を補強する第2の基板である補強板3とを備える。第1の基板である基板2に機能層が形成される。また、補強板3は、第1の主面3a(基板2と対向する面)に吸着層である樹脂層4を備え、この樹脂層4に基板2の第2の主面2b(機能層が形成される第1の主面2aと反対の面)が貼合される。基板2は、樹脂層4との間に作用するファンデルワールス力、又は樹脂層4の粘着力によって、補強板3に剥離可能に貼合される。補強板3は、その第2の主面3b(基板2と対向する第1の主面3aと反対の面)がテーブル(不図示)等に支持される。   The laminated body 1 includes a substrate 2 that is a first substrate and a reinforcing plate 3 that is a second substrate that reinforces the substrate 2. A functional layer is formed on the substrate 2 which is the first substrate. Further, the reinforcing plate 3 includes a resin layer 4 as an adsorption layer on the first main surface 3a (surface facing the substrate 2), and the second main surface 2b (functional layer of the substrate 2) is provided on the resin layer 4. The surface opposite to the first main surface 2a to be formed) is bonded. The substrate 2 is detachably bonded to the reinforcing plate 3 by van der Waals force acting between the resin layer 4 or the adhesive force of the resin layer 4. The reinforcing plate 3 has a second main surface 3b (a surface opposite to the first main surface 3a facing the substrate 2) supported by a table (not shown) or the like.

[基板]
第1の基板を構成する基板2は、第1の主面2aと第2の主面2bとを備えている。基板2の第1の主面2aの上に機能層が形成される。基板2としては、ガラス基板、セラミックス基板、樹脂基板、金属基板、半導体基板を例示できる。例示されたこれらの基板のなかでも、ガラス基板は、耐薬品性、耐透湿性に優れ、かつ、線膨張係数が小さいので、電子デバイス用の基板2として好適である。また、線膨張係数が小さくなるにしたがい、高温下で形成される機能層のパターンが冷却時にずれ難くなるという利点もガラス基板にはある。ここで、基板2が最終製品を構成する製品基板となる。
[substrate]
The substrate 2 constituting the first substrate includes a first main surface 2a and a second main surface 2b. A functional layer is formed on the first main surface 2 a of the substrate 2. Examples of the substrate 2 include a glass substrate, a ceramic substrate, a resin substrate, a metal substrate, and a semiconductor substrate. Among these exemplified substrates, the glass substrate is suitable as the substrate 2 for an electronic device because it is excellent in chemical resistance and moisture permeability and has a small linear expansion coefficient. Further, as the linear expansion coefficient decreases, the glass substrate also has an advantage that the pattern of the functional layer formed at a high temperature is difficult to shift during cooling. Here, the board | substrate 2 becomes a product board | substrate which comprises a final product.

ガラス基板のガラスとしては、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダライムガラス、高シリカガラス、又はその他の酸化ケイ素を主な成分とする酸化物系ガラスを例示できる。酸化物系ガラスとしては、酸化物換算による酸化ケイ素の含有量が40〜90質量%のガラスが好ましい。   Examples of the glass of the glass substrate include alkali-free glass, borosilicate glass, soda lime glass, high silica glass, and other oxide-based glasses containing silicon oxide as a main component. As the oxide glass, a glass having a silicon oxide content of 40 to 90% by mass in terms of oxide is preferable.

ガラス基板のガラスは、製造する電子デバイスの種類に適したガラス、その製造工程に適したガラスを選択して採用することが好ましい。たとえば、液晶パネル用のガラス基板には、アルカリ金属成分を実質的に含まないガラス(無アルカリガラス)を採用することが好ましい。   As the glass of the glass substrate, it is preferable to select and use a glass suitable for the type of electronic device to be produced and a glass suitable for the production process. For example, it is preferable to employ glass (non-alkali glass) that does not substantially contain an alkali metal component for the glass substrate for a liquid crystal panel.

基板2の板厚は、基板2の種類に応じて設定される。たとえば、基板2にガラス基板を採用する場合、その板厚は、電子デバイスの軽量化、薄板化のため、好ましくは0.7mm以下、より好ましくは0.3mm以下、さらに好ましくは0.1mm以下に設定される。板厚が0.3mm以下の場合、ガラス基板に良好なフレキシブル性を与えることができる。更に、板厚が0.1mm以下の場合、ガラス基板をロール状に巻き取ることができる。なお、ガラス基板の製造の観点、及びガラス基板の取り扱いの観点から、その板厚は0.03mm以上であることが好ましい。   The thickness of the substrate 2 is set according to the type of the substrate 2. For example, when a glass substrate is employed as the substrate 2, the thickness thereof is preferably 0.7 mm or less, more preferably 0.3 mm or less, and further preferably 0.1 mm or less, in order to reduce the weight and thickness of the electronic device. Set to When the plate thickness is 0.3 mm or less, good flexibility can be imparted to the glass substrate. Furthermore, when the plate thickness is 0.1 mm or less, the glass substrate can be wound into a roll. In addition, it is preferable that the plate | board thickness is 0.03 mm or more from a viewpoint of manufacture of a glass substrate, and a viewpoint of the handling of a glass substrate.

図1では基板2が1枚の基板で構成されているが、基板2は、複数枚の基板で構成されたものでもよい。すなわち、基板2は、複数枚の基板を積層した積層体で構成することもできる。   In FIG. 1, the substrate 2 is composed of a single substrate, but the substrate 2 may be composed of a plurality of substrates. That is, the board | substrate 2 can also be comprised with the laminated body which laminated | stacked the several board | substrate.

[補強板]
第2の基板を構成する補強板3は、第1の主面3aと第2の主面3bとを備え、第1の主面3aの側に基板2が貼合され、第2の主面3bの側がステージ等に支持される。補強板3はガラス基板、セラミックス基板、樹脂基板、金属基板、及び半導体基板を例示できる。
[Reinforcement plate]
The reinforcing plate 3 constituting the second substrate includes a first main surface 3a and a second main surface 3b, the substrate 2 is bonded to the first main surface 3a, and the second main surface. The side 3b is supported by a stage or the like. Examples of the reinforcing plate 3 include a glass substrate, a ceramic substrate, a resin substrate, a metal substrate, and a semiconductor substrate.

補強板3の種類は、製造する電子デバイスの種類、その電子デバイスに使用する基板2の種類等に応じて選定される。補強板3と基板2とが同一の材質であれば、機能層形成工程おける意図しない、温度変化による反り、剥離を低減できる。   The type of the reinforcing plate 3 is selected according to the type of electronic device to be manufactured, the type of the substrate 2 used for the electronic device, and the like. If the reinforcing plate 3 and the substrate 2 are made of the same material, it is possible to reduce unintentional warpage due to temperature change and peeling in the functional layer forming step.

補強板3と基板2との平均線膨張係数の差(絶対値)は、基板2の寸法形状等に応じて適宜設定される。平均線膨張係数の差は35×10−7/℃以下であることが好ましい。ここで、「平均線膨張係数」とは、50〜300℃の温度範囲における平均線膨張係数(JIS R3102)をいう。 The difference (absolute value) in the average linear expansion coefficient between the reinforcing plate 3 and the substrate 2 is appropriately set according to the dimensional shape and the like of the substrate 2. The difference in average linear expansion coefficient is preferably 35 × 10 −7 / ° C. or less. Here, the “average linear expansion coefficient” refers to an average linear expansion coefficient (JIS R3102) in a temperature range of 50 to 300 ° C.

補強板3の板厚は、0.7mm以下に設定され、補強板3の種類、補強する基板2の種類、板厚等に応じて設定される。なお、補強板3の板厚は、基板2よりも厚くてもよいし、薄くてもよいが、基板2を補強するため、0.4mm以上であることが好ましい。   The plate thickness of the reinforcing plate 3 is set to 0.7 mm or less, and is set according to the type of the reinforcing plate 3, the type of the substrate 2 to be reinforced, the plate thickness, and the like. The reinforcing plate 3 may be thicker or thinner than the substrate 2, but is preferably 0.4 mm or more in order to reinforce the substrate 2.

なお、本例では補強板3が1枚の基板で構成されているが、補強板3は、複数枚の基板を積層した積層体で構成することもできる。   In this example, the reinforcing plate 3 is constituted by a single substrate, but the reinforcing plate 3 can also be constituted by a laminated body in which a plurality of substrates are laminated.

[樹脂層]
吸着層を構成する樹脂層4は補強板3の第1の主面3aに備えられ、補強板3と基板2とが樹脂層4を介して剥離可能に貼合される。樹脂層4と補強板3との間で意図しない剥離を防止するため、樹脂層4と補強板3との間の結合力が、樹脂層4と基板2との間の結合力よりも高く設定される。これにより、剥離工程では、積層体1の樹脂層4と基板2との間で剥離が実行される。
[Resin layer]
The resin layer 4 constituting the adsorption layer is provided on the first main surface 3 a of the reinforcing plate 3, and the reinforcing plate 3 and the substrate 2 are detachably bonded via the resin layer 4. In order to prevent unintended peeling between the resin layer 4 and the reinforcing plate 3, the bonding force between the resin layer 4 and the reinforcing plate 3 is set higher than the bonding force between the resin layer 4 and the substrate 2. Is done. Thereby, in a peeling process, peeling is performed between the resin layer 4 and the board | substrate 2 of the laminated body 1. FIG.

樹脂層4を構成する樹脂は、特に限定されないが、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、及びポリイミドシリコーン樹脂を例示できる。いくつかの種類の樹脂を混合して用いることもできる。そのなかでも、耐熱性や剥離性の観点から、シリコーン樹脂、ポリイミドシリコーン樹脂が好ましい。   Although resin which comprises the resin layer 4 is not specifically limited, Acrylic resin, polyolefin resin, polyurethane resin, polyimide resin, silicone resin, and polyimide silicone resin can be illustrated. Several types of resins can be mixed and used. Of these, silicone resins and polyimide silicone resins are preferred from the viewpoints of heat resistance and peelability.

樹脂層4の厚さは、特に限定されないが、好ましくは1〜50μmに設定され、より好ましくは2〜20μmに設定される。樹脂層4の厚さを1μm以上とすることにより、樹脂層4と基板2との間に気泡や異物が混入した際、樹脂層4の変形によって、気泡や異物の厚さを吸収できる。一方、樹脂層4の厚さを50μm以下とすることにより、樹脂層4の形成時間を短縮でき、更に樹脂層4の樹脂を必要以上に使用しないため経済的である。   Although the thickness of the resin layer 4 is not specifically limited, Preferably it is set to 1-50 micrometers, More preferably, it is set to 2-20 micrometers. By setting the thickness of the resin layer 4 to 1 μm or more, when bubbles or foreign matters are mixed between the resin layer 4 and the substrate 2, the thickness of the bubbles or foreign matters can be absorbed by the deformation of the resin layer 4. On the other hand, when the thickness of the resin layer 4 is 50 μm or less, the formation time of the resin layer 4 can be shortened, and the resin of the resin layer 4 is not used more than necessary, which is economical.

なお、樹脂層4の外形は、補強板3が樹脂層4の全体を支持できるように、補強板3の外形と同一であるか、補強板3の外形よりも小さいことが好ましい。また、樹脂層4の外形は、樹脂層4が基板2の全体を密着できるように、基板2の外形と同一であるか、基板2の外形よりも大きいことが好ましい。   The outer shape of the resin layer 4 is preferably the same as the outer shape of the reinforcing plate 3 or smaller than the outer shape of the reinforcing plate 3 so that the reinforcing plate 3 can support the entire resin layer 4. In addition, the outer shape of the resin layer 4 is preferably the same as or larger than the outer shape of the substrate 2 so that the resin layer 4 can adhere the entire substrate 2.

また、図1では樹脂層4が1層で構成されているが、樹脂層4は2層以上で構成することもできる。この場合、樹脂層4を構成する全ての層の合計の厚さが、樹脂層4の厚さとなる。また、この場合、各層を構成する樹脂の種類は異なっていてもよい。   Moreover, although the resin layer 4 is comprised by 1 layer in FIG. 1, the resin layer 4 can also be comprised by two or more layers. In this case, the total thickness of all the layers constituting the resin layer 4 is the thickness of the resin layer 4. In this case, the type of resin constituting each layer may be different.

更に、実施形態では、吸着層として有機膜である樹脂層4を用いたが、樹脂層4に代えて無機層を用いてもよい。無機層を構成する無機膜は、例えばメタルシリサイド、窒化物、炭化物、及び炭窒化物からなる群から選択される少なくとも1種を含む。   Furthermore, in the embodiment, the resin layer 4 that is an organic film is used as the adsorption layer, but an inorganic layer may be used instead of the resin layer 4. The inorganic film constituting the inorganic layer includes, for example, at least one selected from the group consisting of metal silicide, nitride, carbide, and carbonitride.

メタルシリサイドは、例えばW、Fe、Mn、Mg、Mo、Cr、Ru、Re、Co、Ni、Ta、Ti、Zr、及びBaからなる群から選択される少なくとも1種を含むものであり、好ましくはタングステンシリサイドである。   The metal silicide includes, for example, at least one selected from the group consisting of W, Fe, Mn, Mg, Mo, Cr, Ru, Re, Co, Ni, Ta, Ti, Zr, and Ba. Is tungsten silicide.

窒化物は、例えばSi、Hf、Zr、Ta、Ti、Nb、Na、Co、Al、Zn、Pb、Mg、Sn、In、B、Cr、Mo、及びBaからなる群から選択される少なくとも1種を含むものであり、好ましくは窒化アルミニウム、窒化チタン、または窒化ケイ素である。   The nitride is, for example, at least one selected from the group consisting of Si, Hf, Zr, Ta, Ti, Nb, Na, Co, Al, Zn, Pb, Mg, Sn, In, B, Cr, Mo, and Ba. It contains seeds, preferably aluminum nitride, titanium nitride, or silicon nitride.

炭化物は、例えばTi、W、Si、Zr、及びNbからなる群から選択される少なくとも1種を含むものであり、好ましくは炭化ケイ素である。   The carbide includes, for example, at least one selected from the group consisting of Ti, W, Si, Zr, and Nb, and is preferably silicon carbide.

炭窒化物は、例えばTi、W、Si、Zr、及びNbからなる群から選択される少なくとも1種を含むものであり、好ましくは炭窒化ケイ素である。   The carbonitride includes, for example, at least one selected from the group consisting of Ti, W, Si, Zr, and Nb, and is preferably silicon carbonitride.

メタルシリサイド、窒化物、炭化物、及び炭窒化物は、その材料に含まれるSi、N又はCと、その材料に含まれる他の元素との間の電気陰性度の差が小さく、分極が小さい。そのため、無機膜と水との反応性が低く、無機膜の表面に水酸基が生じにくい。よって、無機膜とガラス基板である基板2との離型性が良好に保たれる。   Metal silicide, nitride, carbide, and carbonitride have a small difference in electronegativity between Si, N, or C contained in the material and other elements contained in the material, and have a small polarization. Therefore, the reactivity between the inorganic film and water is low, and hydroxyl groups are unlikely to be generated on the surface of the inorganic film. Therefore, the releasability between the inorganic film and the substrate 2 which is a glass substrate is kept good.

〔機能層が形成された積層体〕
機能層形成工程を経ることにより積層体1の基板2の第1の主面2aには、機能層が形成される。機能層の形成方法としては、CVD(Chemical Vapor Deposition)法、PVD(Physical Vapor Deposition)法等の蒸着法、スパッタ法が用いられる。機能層は、フォトリソグラフィ法、エッチング法によって所定のパターンに形成される。
[Laminated body in which functional layer is formed]
A functional layer is formed on the first main surface 2a of the substrate 2 of the laminate 1 through the functional layer forming step. As a method for forming the functional layer, a vapor deposition method such as a CVD (Chemical Vapor Deposition) method, a PVD (Physical Vapor Deposition) method, or a sputtering method is used. The functional layer is formed in a predetermined pattern by photolithography or etching.

図2は、LCDの製造工程の途中で作製される積層体6の一例を示した要部拡大側面図である。   FIG. 2 is an enlarged side view of an essential part showing an example of a laminate 6 produced in the middle of the LCD manufacturing process.

積層体6は、補強板3A、樹脂層4A、基板2A、機能層7、基板2B、樹脂層4B、及び補強板3Bが、この順で積層されて構成される。補強板3Aは樹脂層4Aを介して基板2Aに剥離可能に貼合され、補強板3Bは樹脂層4Bを介して基板2Bに剥離可能に貼合されている。すなわち、図2の積層体6は、図1に示した積層体1が、機能層7を挟んで対称に配置された積層体に相当する。以下、基板2A、樹脂層4A、及び補強板3Aからなる積層体を第1の積層体1Aとし、基板2B、樹脂層4B、及び補強板3Bからなる積層体を第2の積層体1Bという。   The laminate 6 is configured by laminating a reinforcing plate 3A, a resin layer 4A, a substrate 2A, a functional layer 7, a substrate 2B, a resin layer 4B, and a reinforcing plate 3B in this order. The reinforcing plate 3A is detachably bonded to the substrate 2A via the resin layer 4A, and the reinforcing plate 3B is detachably bonded to the substrate 2B via the resin layer 4B. That is, the laminate 6 in FIG. 2 corresponds to a laminate in which the laminate 1 shown in FIG. 1 is arranged symmetrically with the functional layer 7 in between. Hereinafter, a laminate composed of the substrate 2A, the resin layer 4A, and the reinforcing plate 3A is referred to as a first laminate 1A, and a laminate composed of the substrate 2B, the resin layer 4B, and the reinforcing plate 3B is referred to as a second laminate 1B.

第1の積層体1Aの基板2Aの第1の主面2Aaには、機能層7としての薄膜トランジスタ(TFT)が形成される。第2の積層体1Bの基板2Bの第1の主面2Baには、機能層7としてのカラーフィルタ(CF)が形成される。   A thin film transistor (TFT) as the functional layer 7 is formed on the first main surface 2Aa of the substrate 2A of the first stacked body 1A. A color filter (CF) as the functional layer 7 is formed on the first main surface 2Ba of the substrate 2B of the second stacked body 1B.

第1の積層体1Aと第2の積層体1Bとは、互いに基板2Aの第1の主面2Aaと基板2Bの第1の主面2Baとが重ね合わされて一体化される。これにより、機能層7を挟んで、第1の積層体1Aと第2の積層体1Bとが、対称に配置された構造の積層体6が製造される。   The first stacked body 1A and the second stacked body 1B are integrated by superimposing the first main surface 2Aa of the substrate 2A and the first main surface 2Ba of the substrate 2B on each other. Thereby, the laminated body 6 having a structure in which the first laminated body 1A and the second laminated body 1B are arranged symmetrically with the functional layer 7 interposed therebetween is manufactured.

基板2Aの第2の主面2Abと補強板3Aの第1の主面3Aaとが対向する位置に配置され、樹脂層4Aを介して基板2Aと補強板3Aとが剥離可能に貼合される。また、基板2Bの第2の主面2Bbと補強板3Bの第1の主面3Baとが対向する位置に配置され、樹脂層4Bを介して基板2Bと補強板3Bとが剥離可能に貼合される。積層体6は、剥離工程で補強板3A、3Bが剥離され、その後、偏光板、バックライト等が取り付けられて、製品であるLCDが製造される。剥離工程では、補強板3Aの第2の主面3Ab、及び/又は補強板3Bの第2の主面3Bbを可撓性板により吸着し、可撓性板を撓ませることにより補強板3A及び/又は補強板3Bを積層体6から剥離する。   The second main surface 2Ab of the substrate 2A and the first main surface 3Aa of the reinforcing plate 3A are arranged at positions facing each other, and the substrate 2A and the reinforcing plate 3A are detachably bonded via the resin layer 4A. . Further, the second main surface 2Bb of the substrate 2B and the first main surface 3Ba of the reinforcing plate 3B are disposed at positions facing each other, and the substrate 2B and the reinforcing plate 3B are bonded to each other through the resin layer 4B. Is done. In the laminate 6, the reinforcing plates 3 </ b> A and 3 </ b> B are peeled off in a peeling step, and thereafter, a polarizing plate, a backlight, and the like are attached to manufacture a product LCD. In the peeling process, the second main surface 3Ab of the reinforcing plate 3A and / or the second main surface 3Bb of the reinforcing plate 3B are adsorbed by the flexible plate, and the reinforcing plate 3A and the reinforcing plate 3A are bent by bending the flexible plate. / Or the reinforcing plate 3B is peeled off from the laminated body 6.

なお、図2の積層体6は、補強板3Aと補強板3Bとを備える構成であるが、積層体としては、補強板3A、及び補強板3Bの一方のみを備える構成であってもよい。   In addition, although the laminated body 6 of FIG. 2 is a structure provided with the reinforcement board 3A and the reinforcement board 3B, as a laminated body, the structure provided with only one of the reinforcement board 3A and the reinforcement board 3B may be sufficient.

〔剥離開始部作成装置〕
図3は、剥離開始部作成装置10の構成を説明するための説明図である。なお、ここでは、便宜上、図1に示した積層体1に剥離開始部を形成する場合を例に説明する。
[Peeling start part creation device]
FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining a configuration of the peeling start part creation device 10. Here, for the sake of convenience, a case where a peeling start portion is formed in the laminate 1 shown in FIG. 1 will be described as an example.

剥離開始部作成装置10は、積層体1を支持するテーブル12と、ナイフNを保持するホルダ14と、テーブル12を水平方向(図3中のX軸方向)に移動させるテーブル駆動ユニット16と、ナイフNを水平方向に移動させるナイフ駆動ユニット18と、ナイフNを鉛直方向(図3中のZ軸方向)に移動して位置を調整する位置調整ユニット20と、ナイフNの刃先Naが積層体1のどの位置(樹脂層4又は補強板3)に接触したかを検出する検出部としてのロードセル22と、ホルダ14とロードセル22とを搭載するための支持部材24と、ナイフNの刃先Naの高さ方向の位置を検出するレーザ変位計26と、テーブル12に支持された積層体1の補強板3の板厚を検出する板厚検出計28と、全体の動作を統括して制御する制御部として機能する制御部30と、を備えて構成される。   The peeling start part creating apparatus 10 includes a table 12 that supports the laminated body 1, a holder 14 that holds the knife N, a table drive unit 16 that moves the table 12 in the horizontal direction (X-axis direction in FIG. 3), The knife drive unit 18 that moves the knife N in the horizontal direction, the position adjustment unit 20 that moves the knife N in the vertical direction (Z-axis direction in FIG. 3) and adjusts the position, and the blade edge Na of the knife N are laminated bodies. 1, a load cell 22 as a detection unit for detecting which position (resin layer 4 or reinforcing plate 3) is in contact with, a support member 24 for mounting the holder 14 and the load cell 22, and a cutting edge Na of the knife N A laser displacement meter 26 that detects the position in the height direction, a plate thickness detector 28 that detects the plate thickness of the reinforcing plate 3 of the laminate 1 supported by the table 12, and a control that controls the overall operation in an integrated manner. Part A control unit 30 that functions to, and provided with a.

テーブル12は、テーブル支持架台32の上に水平に設置される。テーブル12は、積層体1のほぼ全面を支持できるように、積層体1の外形に対応した外形を有する。テーブル12の上面は、積層体1の載置面とされ、水平面として構成される。積層体1は、このテーブル12の上面(載置面)に載置される。   The table 12 is horizontally installed on the table support frame 32. The table 12 has an outer shape corresponding to the outer shape of the multilayer body 1 so as to support almost the entire surface of the multilayer body 1. The upper surface of the table 12 is a mounting surface of the stacked body 1 and is configured as a horizontal plane. The laminate 1 is placed on the upper surface (mounting surface) of the table 12.

また、テーブル12には、図示しない吸引機構が備えられる。テーブル12に載置された積層体1は、この吸引機構によって、補強板3の第2の主面3bが真空吸引される。これにより、テーブル12に載置された積層体1が、テーブル12に吸着保持される。   The table 12 is provided with a suction mechanism (not shown). In the laminated body 1 placed on the table 12, the second main surface 3b of the reinforcing plate 3 is vacuum-sucked by this suction mechanism. As a result, the laminate 1 placed on the table 12 is sucked and held on the table 12.

ナイフNは、平面視で矩形の平板形状を有し、片方の長辺部分に鋭角な刃先Naを有する。ナイフNの板厚は、たとえば、50〜600μmである。   The knife N has a rectangular flat plate shape in plan view, and has an acute blade edge Na on one long side portion. The plate | board thickness of the knife N is 50-600 micrometers, for example.

ホルダ14は、ナイフNを着脱可能に保持する。ホルダ14は、例えば、ナイフNの両端部を把持する。ホルダ14は、支持部材24の上面に設けられた直動装置34に固定されている。直動装置34は、支持部材24の上面に固定されたガイドレール36と、ガイドレール36と係合されたガイドブロック38とを備え、ガイドブロック38はガイドレール36に沿ってスライド移動自在に支持されている。ホルダ14がガイドブロック38に固定されている。ガイドブロック38をガイドレール36に沿ってスライドすることにより、ホルダ14とホルダ14に保持されるナイフNとをガイドレール36に沿ってスライドさせることができる。   The holder 14 detachably holds the knife N. The holder 14 grips both ends of the knife N, for example. The holder 14 is fixed to a linear motion device 34 provided on the upper surface of the support member 24. The linear motion device 34 includes a guide rail 36 fixed to the upper surface of the support member 24 and a guide block 38 engaged with the guide rail 36, and the guide block 38 is slidably supported along the guide rail 36. Has been. The holder 14 is fixed to the guide block 38. By sliding the guide block 38 along the guide rail 36, the holder 14 and the knife N held by the holder 14 can be slid along the guide rail 36.

支持部材24の上面に、ホルダ14から離間して積層体1の位置と反対の位置にフレーム40が設けられている。フレーム40にはロードセル22と第1のストッパ42とが設けられている。ホルダ14とロードセル22との間に圧縮バネ44が取り付けられている。圧縮バネ44による押圧力をロードセル22で測定することができる。また、圧縮バネ44により、ホルダ14は積層体1の方向に付勢されている。   On the upper surface of the support member 24, a frame 40 is provided at a position opposite to the position of the stacked body 1 away from the holder 14. The frame 40 is provided with a load cell 22 and a first stopper 42. A compression spring 44 is attached between the holder 14 and the load cell 22. The pressing force by the compression spring 44 can be measured by the load cell 22. Further, the holder 14 is urged in the direction of the laminated body 1 by the compression spring 44.

なお、圧縮バネ44による押圧力をロードセル22により測定することで、刃先Naが補強板3又は樹脂層4の何れに接触したかを検出することができる。この方法については後述する。   In addition, by measuring the pressing force by the compression spring 44 with the load cell 22, it is possible to detect whether the blade edge Na is in contact with the reinforcing plate 3 or the resin layer 4. This method will be described later.

支持部材24の上面であって、ホルダ14に対して圧縮バネ44と反対側に第2のストッパ46が設けられている。第2のストッパ46が、支持部材24の上面において、圧縮バネ44の付勢力に抗してホルダ14の移動を規制する。   A second stopper 46 is provided on the upper surface of the support member 24 on the opposite side of the holder 14 from the compression spring 44. The second stopper 46 restricts the movement of the holder 14 against the urging force of the compression spring 44 on the upper surface of the support member 24.

圧縮バネ44の付勢力とは反対方向の力(ここで反力という)を、刃先Naが受けた場合、反力の大きさに応じてホルダ14が付勢力と反対方向に移動する。この場合、圧縮バネ44は圧縮される。圧縮バネ44が完全に圧縮される前に、第1のストッパ42が反力に抗してホルダ14の移動を規制する。なお、第1のストッパ42、及び圧縮バネ44の動作についてはさらに後述する。   When the cutting edge Na receives a force in a direction opposite to the urging force of the compression spring 44 (herein referred to as a reaction force), the holder 14 moves in a direction opposite to the urging force according to the magnitude of the reaction force. In this case, the compression spring 44 is compressed. Before the compression spring 44 is completely compressed, the first stopper 42 restricts the movement of the holder 14 against the reaction force. The operations of the first stopper 42 and the compression spring 44 will be further described later.

テーブル駆動ユニット16は、積層体移動部を構成し、テーブル12が設置されたテーブル支持架台32を水平方向に移動させて、テーブル12に支持された積層体1を水平移動させる。テーブル駆動ユニット16は、本体フレーム50と、本体フレーム50に備えられるレール52と、レール52の上をスライド可能なスライダ54と、レール52に沿って配設されるボールネジ56と、ボールネジ56を回転させるモータ58と、を備える。本体フレーム50はベース(不図示)に水平に設置される。ここでベースとは剥離開始部作成装置10が設置される場所であり、例えば、代表的には床面である。   The table driving unit 16 constitutes a stacked body moving unit, and moves the table support frame 32 on which the table 12 is installed in the horizontal direction to horizontally move the stacked body 1 supported by the table 12. The table driving unit 16 rotates the main body frame 50, a rail 52 provided in the main body frame 50, a slider 54 that can slide on the rail 52, a ball screw 56 disposed along the rail 52, and the ball screw 56. A motor 58 to be operated. The main body frame 50 is horizontally installed on a base (not shown). Here, the base is a place where the peeling start part creating apparatus 10 is installed, and is typically a floor surface, for example.

モータ58の回転運動がボールネジ56により直線運動に変換され、レール52に沿って、スライダ54が直線運動する。この結果、スライダ54に設置されたテーブル支持架台32と、テーブル支持架台32に設置されたテーブル12とが水平方向に移動自在となる。   The rotational motion of the motor 58 is converted into linear motion by the ball screw 56, and the slider 54 moves linearly along the rail 52. As a result, the table support frame 32 installed on the slider 54 and the table 12 installed on the table support frame 32 are movable in the horizontal direction.

ナイフ駆動ユニット18は、ナイフ移動部を構成し、ナイフNを保持するホルダ14を搭載する支持部材24を水平方向に移動させて、結果としてナイフNを水平方向に移動させる。ナイフ駆動ユニット18は、ベース(不図示)上に設置された架台80の上に設置される。   The knife drive unit 18 constitutes a knife moving unit, moves the support member 24 carrying the holder 14 holding the knife N in the horizontal direction, and consequently moves the knife N in the horizontal direction. The knife driving unit 18 is installed on a gantry 80 installed on a base (not shown).

ナイフ駆動ユニット18は、本体フレーム60と、本体フレーム60に備えられるレール62と、レール62の上をスライド可能なスライダ64と、レール62に沿って配設されるボールネジ66と、ボールネジ66を回転させるモータ68と、を備える。本体フレーム60はベース(不図示)に水平方向に設置される。本体フレーム60はベース(不図示)に水平に設置された架台80に対して水平に設置される。モータ68の回転運動がボールネジ66により直線運動に変換され、スライダ64が直線運動する。   The knife drive unit 18 rotates the main body frame 60, a rail 62 provided in the main body frame 60, a slider 64 slidable on the rail 62, a ball screw 66 disposed along the rail 62, and the ball screw 66. And a motor 68 to be operated. The main body frame 60 is horizontally installed on a base (not shown). The main body frame 60 is installed horizontally with respect to a gantry 80 installed horizontally on a base (not shown). The rotary motion of the motor 68 is converted into a linear motion by the ball screw 66, and the slider 64 moves linearly.

支持部材24は、スライダ64の上に位置調整ユニット20を介して設置される。したがって、スライダ64を水平方向に移動することにより、位置調整ユニット20、支持部材24、ホルダ14及びナイフNが水平方向に移動自在となる。   The support member 24 is installed on the slider 64 via the position adjustment unit 20. Therefore, by moving the slider 64 in the horizontal direction, the position adjustment unit 20, the support member 24, the holder 14, and the knife N can be moved in the horizontal direction.

ここで、ナイフ駆動ユニット18のレール62は、テーブル駆動ユニット16のレール52と平行になるように設置されるので、テーブル12とナイフNとが水平面上を同じ方向(図3中のX軸方向)に直線移動することができる。したがって、積層体1とナイフNとを相対的に水平方向に前進又は後退させることができる。   Here, since the rail 62 of the knife drive unit 18 is installed so as to be parallel to the rail 52 of the table drive unit 16, the table 12 and the knife N are on the horizontal plane in the same direction (X-axis direction in FIG. 3). ) Can be moved in a straight line. Therefore, the laminated body 1 and the knife N can be moved forward or backward relatively in the horizontal direction.

ここで、前進とはナイフNと積層体1とが近接するように移動することを意味し、後退とは、ナイフNと積層体1とが離間するように移動することを意味する。   Here, the forward means that the knife N and the laminated body 1 move so as to approach each other, and the backward means that the knife N and the laminated body 1 move so as to be separated from each other.

実施形態では、積層体移動部(テーブル駆動ユニット16)とナイフ移動部(ナイフ駆動ユニット18)とにより移動部が構成されている。この移動部により、ナイフNと積層体1とを水平方向に相対的に前進又は後退させる。ナイフNと積層体1とを水平方向に相対的に前進又は後退させる限りにおいて、特にその構成は限定されない。ここで水平方向は、図3中のX軸方向であり、第2の基板である補強板3の第2の主面3bに平行な方向を意味する。   In the embodiment, the moving unit is configured by the stacked body moving unit (table driving unit 16) and the knife moving unit (knife driving unit 18). By this moving part, the knife N and the laminated body 1 are moved forward or backward relatively in the horizontal direction. As long as the knife N and the laminate 1 are relatively advanced or retracted in the horizontal direction, the configuration is not particularly limited. Here, the horizontal direction is the X-axis direction in FIG. 3 and means a direction parallel to the second main surface 3b of the reinforcing plate 3 that is the second substrate.

位置調整ユニット20は、位置調整部を構成し、ナイフNを保持するホルダ14を鉛直方向に移動させて、ナイフNを鉛直方向に移動させる。位置調整ユニット20は、ナイフ駆動ユニット18のスライダ64の上に設置されている。   The position adjustment unit 20 constitutes a position adjustment unit, and moves the knife N in the vertical direction by moving the holder 14 holding the knife N in the vertical direction. The position adjustment unit 20 is installed on the slider 64 of the knife drive unit 18.

位置調整ユニット20は、本体フレーム70と、本体フレーム70に備えられるレール72と、レール72の上をスライド可能なスライダ74と、レール72に沿って配設されるボールネジ76と、ボールネジ76を回転させるモータ78と、を備える。本体フレーム70は、ナイフ駆動ユニット18のスライダ64の上に垂直に起立して設置される。モータ78の回転運動がボールネジ76により直線運動に変換され、スライダ74が直線運動する。   The position adjustment unit 20 rotates the main body frame 70, a rail 72 provided on the main body frame 70, a slider 74 that can slide on the rail 72, a ball screw 76 disposed along the rail 72, and the ball screw 76. And a motor 78 to be operated. The main body frame 70 is vertically installed on the slider 64 of the knife drive unit 18. The rotary motion of the motor 78 is converted into a linear motion by the ball screw 76, and the slider 74 moves linearly.

支持部材24は、位置調整ユニット20のスライダ74に設けられている。したがって、スライダ74を鉛直方向に移動することにより、支持部材24、ホルダ14及びナイフNが鉛直方向に移動自在となる。   The support member 24 is provided on the slider 74 of the position adjustment unit 20. Therefore, by moving the slider 74 in the vertical direction, the support member 24, the holder 14, and the knife N can be moved in the vertical direction.

実施形態では、位置調整ユニット20により位置調整部が構成されている。この位置調整部によりナイフNと積層体1とを鉛直方向に移動することで、ナイフNと積層体1との位置が調整される。鉛直方向は、図3中のZ軸方向であり、第2の基板である補強板3の第2の主面3bに垂直な方向を意味する。   In the embodiment, the position adjustment unit 20 includes a position adjustment unit. The position of the knife N and the laminated body 1 is adjusted by moving the knife N and the laminated body 1 in the vertical direction by the position adjusting unit. The vertical direction is the Z-axis direction in FIG. 3 and means a direction perpendicular to the second main surface 3b of the reinforcing plate 3 that is the second substrate.

実施形態では公知のレーザ変位計26がブラケット(不図示)を介してベース(不図示)に設置されている。このレーザ変位計26は検出光としてのレーザ光を鉛直方向に出射して、そのレーザ光が照射された物体の表面までの距離を検出する。水平面として設定される基準面からの変位量を検出して、基準面から物体の表面までの距離を検出する。   In the embodiment, a known laser displacement meter 26 is installed on a base (not shown) via a bracket (not shown). The laser displacement meter 26 emits laser light as detection light in the vertical direction, and detects the distance to the surface of the object irradiated with the laser light. A displacement amount from a reference plane set as a horizontal plane is detected, and a distance from the reference plane to the surface of the object is detected.

また、公知の板厚検出計28が、ブラケット(不図示)を介して、ベース(不図示)に設置され、鉛直に上向きに検査光を出射する。板厚検出計28は、例えば、分光干渉法によって補強板3の板厚を検出する。分光干渉法による板厚検出計28では、積層体1に向けて光源から検査光を照射し、積層体1で反射した干渉光を分光器で分光し、分光した光を受光器で受光し、受光波形を解析して、補強板3の板厚を算出する。検査光は、所定の広さの波長を有し、受光波形の解析では波長に対する強度の変化を解析する。分光干渉法による板厚検出計28を用いる場合、積層体1を構成する補強板3は、透光性を有するものであることが好ましい。   A known plate thickness detector 28 is installed on a base (not shown) via a bracket (not shown), and emits inspection light vertically upward. The plate thickness detector 28 detects the plate thickness of the reinforcing plate 3 by, for example, spectral interferometry. In the plate thickness detector 28 by the spectral interference method, the inspection light is irradiated from the light source toward the laminated body 1, the interference light reflected by the laminated body 1 is dispersed by the spectroscope, and the dispersed light is received by the light receiver. The thickness of the reinforcing plate 3 is calculated by analyzing the received light waveform. The inspection light has a wavelength of a predetermined width, and the intensity change with respect to the wavelength is analyzed in the analysis of the received light waveform. When the plate thickness detector 28 by the spectral interference method is used, it is preferable that the reinforcing plate 3 constituting the laminated body 1 has translucency.

次に、レーザ変位計26と板厚検出計28とにより、積層体1とナイフNとの位置関係を検出する位置検出方法について図4を参照して説明する。なお、図4は、ナイフと積層体との位置関係を検出する位置検出部の構成を示す説明図である。実施形態ではレーザ変位計26と板厚検出計28とが位置検出部を構成している。但し、位置関係を検出することができれば、位置検出部は、特に限定されることはない。   Next, a position detection method for detecting the positional relationship between the laminated body 1 and the knife N using the laser displacement meter 26 and the plate thickness detector 28 will be described with reference to FIG. FIG. 4 is an explanatory diagram showing the configuration of the position detection unit that detects the positional relationship between the knife and the laminated body. In the embodiment, the laser displacement meter 26 and the plate thickness detector 28 constitute a position detector. However, the position detection unit is not particularly limited as long as the positional relationship can be detected.

ナイフNをレーザ変位計26の設置位置に移動することにより、その刃先Naにレーザ光が照射され、刃先Naの高さ方向の位置、すなわち、基準面からの鉛直方向の距離L1が検出される。   By moving the knife N to the installation position of the laser displacement meter 26, the cutting edge Na is irradiated with laser light, and the height direction position of the cutting edge Na, that is, the distance L1 in the vertical direction from the reference plane is detected. .

テーブル12に支持された積層体1をレーザ変位計26の設置位置(検出位置)に移動することにより、補強板3の第2の主面3bにレーザ光が照射され、補強板3の第2の主面3bの高さ方向の位置、すなわち、基準面からの鉛直方向の距離L2が検出される。   By moving the laminated body 1 supported by the table 12 to the installation position (detection position) of the laser displacement meter 26, the second main surface 3b of the reinforcing plate 3 is irradiated with laser light, and the second of the reinforcing plate 3 is irradiated. The position of the main surface 3b in the height direction, that is, the vertical distance L2 from the reference surface is detected.

テーブル12に支持された積層体1を板厚検出計28の設置位置(板厚検出位置)に移動することにより、補強板3の第2の主面3bに向けて検査光が出射され、補強板3の板厚が検出される。   By moving the laminated body 1 supported by the table 12 to the installation position (plate thickness detection position) of the plate thickness detector 28, the inspection light is emitted toward the second main surface 3b of the reinforcement plate 3, and the reinforcement is performed. The plate thickness of the plate 3 is detected.

なお、補強板3は第1の主面3aに樹脂層4を備えているので、補強板3の板厚T1と、樹脂層4を含めた補強板3の板厚T2(補強板3の板厚+樹脂層4の厚さ)とが、補強板3の板厚として検出される。   Since the reinforcing plate 3 includes the resin layer 4 on the first main surface 3a, the plate thickness T1 of the reinforcing plate 3 and the plate thickness T2 of the reinforcing plate 3 including the resin layer 4 (the plate of the reinforcing plate 3). (Thickness + thickness of the resin layer 4) is detected as the plate thickness of the reinforcing plate 3.

取得した距離L1、距離L2、及び補強板3の板厚T1,T2から、積層体1とナイフNとの位置関係、すなわち、ナイフNの刃先Naとナイフ刺入予定位置との距離H(ズレ量ともいう)を検出する。   From the acquired distance L1, distance L2, and plate thicknesses T1, T2 of the reinforcing plate 3, the positional relationship between the laminate 1 and the knife N, that is, the distance H (displacement) between the blade edge Na of the knife N and the knife insertion planned position. ) Is also detected.

上述したように補強板3に樹脂層4が備えられているので、補強板3の板厚T1と、樹脂層4と補強板3とを含めた板厚T2との平均値((T1+T2)/2)が、補強板3の板厚とされる。距離Hは、したがって、H=[L2+((T1+T2)/2)]−L1で求めることができる。なお、距離Hを、補強板3の板厚T1と、樹脂層4と補強板3とを含めた板厚T2との平均値((T1+T2)/2)を利用して求めているので、ナイフ刺入予定位置は樹脂層4の厚さ方向の中央に設定されることになる。   Since the resin layer 4 is provided on the reinforcing plate 3 as described above, the average value ((T1 + T2) / the thickness T1 of the reinforcing plate 3 and the thickness T2 including the resin layer 4 and the reinforcing plate 3). 2) is the thickness of the reinforcing plate 3. The distance H can therefore be determined by H = [L2 + ((T1 + T2) / 2)]-L1. Since the distance H is obtained by using the average value ((T1 + T2) / 2) of the plate thickness T1 of the reinforcing plate 3 and the plate thickness T2 including the resin layer 4 and the reinforcing plate 3, a knife is used. The planned insertion position is set at the center of the resin layer 4 in the thickness direction.

制御部30は、剥離開始部作成装置10の全体の動作を統括制御するとともに、各種演算処理を実行する。制御部30は、例えば、CPU(Central Processing Unit)、ROM(Read Only Memory)やRAM(Random Access Memory)等の記憶媒体等を含むコンピュータ等で構成される。制御部30は所定の制御プログラムを実行して、各種処理を実行する。例えば、テーブル駆動ユニット16の駆動を制御して、テーブル12の移動を制御するとともに、ナイフ駆動ユニット18の駆動を制御して、ナイフNの移動を制御する。また、レーザ変位計26、及び板厚検出計28の検出結果に基づいて、ナイフ刺入予定位置に対するナイフNの刃先Naとの位置関係を検出し、その検出結果に基づいて、位置調整ユニット20の駆動を制御して、積層体1に対するナイフNの位置調整を実施する。   The control unit 30 performs overall control of the entire operation of the peeling start unit creating apparatus 10 and executes various arithmetic processes. The control unit 30 includes, for example, a computer including a storage medium such as a CPU (Central Processing Unit), ROM (Read Only Memory), and RAM (Random Access Memory). The control unit 30 executes a predetermined control program and executes various processes. For example, the drive of the table drive unit 16 is controlled to control the movement of the table 12, and the drive of the knife drive unit 18 is controlled to control the movement of the knife N. Further, based on the detection results of the laser displacement meter 26 and the plate thickness detector 28, the positional relationship between the knife insertion scheduled position and the blade edge Na of the knife N is detected, and based on the detection result, the position adjustment unit 20 is detected. The position adjustment of the knife N with respect to the laminated body 1 is carried out by controlling the driving of.

[剥離開始部作成方法]
剥離開始部作成装置10による剥離開始部作成方法について、図3から図8を参照に説明する。図5は剥離開始部作成方法の手順を示すフローチャートであり、図6から図8は剥離開始部作成方法の手順の一部を示した説明図である。
[Peeling start part creation method]
A method for creating a peeling start portion by the peeling start portion creating apparatus 10 will be described with reference to FIGS. FIG. 5 is a flowchart showing the procedure of the peeling start portion creation method, and FIGS. 6 to 8 are explanatory views showing a part of the procedure of the peeling start portion creation method.

実施形態においては、制御部30が、テーブル駆動ユニット16、ナイフ駆動ユニット18、レーザ変位計26、板厚検出計28、及び位置調整ユニット20の動作を統括制御することにより、剥離開始部作成装置10による剥離開始部作成方法が実行される(図3)。   In the embodiment, the control unit 30 controls the operations of the table drive unit 16, the knife drive unit 18, the laser displacement meter 26, the plate thickness detector 28, and the position adjustment unit 20, so that the peeling start unit creating device is performed. 10 is performed (FIG. 3).

最初に、図5のフローチャートに示すように、制御部30が位置検出処理である位置検出ステップを実行する(ステップS110)。位置検出ステップでは、制御部30がテーブル駆動ユニット16、ナイフ駆動ユニット18、レーザ変位計26、及び板厚検出計28を駆動し、取得され情報に基づいて制御部30が積層体1とナイフNと位置関係を検出する。すなわち、ナイフ刺入予定位置と刃先Naとの距離H(ズレ量)を検出する(図4、及び図6(A))。   First, as shown in the flowchart of FIG. 5, the control unit 30 executes a position detection step that is a position detection process (step S110). In the position detection step, the control unit 30 drives the table drive unit 16, the knife drive unit 18, the laser displacement meter 26, and the plate thickness detector 28, and the control unit 30 controls the stacked body 1 and the knife N based on the acquired information. And detect the positional relationship. That is, the distance H (deviation amount) between the knife insertion scheduled position and the blade edge Na is detected (FIGS. 4 and 6A).

次に、図5のフローチャートに示すように、制御部30が第1位置調整処理である第1位置調整ステップを実行する(ステップS120)。第1位置調整ステップでは、まず、検出された距離H(ズレ量)の検出結果に基づいて、制御部30が位置調整ユニット20を駆動し、積層体1の樹脂層4に対向する位置にナイフNを位置調整する(図6(B))。すなわち、ナイフNの刃先Naをナイフ刺入予定位置と同じ高さに位置させるように、ナイフNを鉛直方向に移動する。同じ高さに位置させるとは、距離Hが0となるように位置させることを意味する。   Next, as shown in the flowchart of FIG. 5, the control unit 30 executes a first position adjustment step which is a first position adjustment process (step S120). In the first position adjustment step, first, the control unit 30 drives the position adjustment unit 20 based on the detection result of the detected distance H (deviation amount), and the knife is placed at a position facing the resin layer 4 of the laminate 1. The position of N is adjusted (FIG. 6B). That is, the knife N is moved in the vertical direction so that the blade edge Na of the knife N is positioned at the same height as the planned knife insertion position. Positioning at the same height means positioning the distance H to be zero.

次に、第1位置調整ステップでは、制御部30が位置調整ユニット20を駆動し、ナイフNの位置を予め定められた距離だけ補強板3の側に位置調整する(図6(C))。すなわち、ナイフNの刃先Naが、ナイフ刺入予定位置に対して補強板3の側に位置するように、ナイフNを鉛直方向に移動させる。図6では、説明のために図6(B)の位置調整をしているが、図6(B)を省略し図6(A)から図6(C)へ直接位置調整しても良い。   Next, in the first position adjustment step, the control unit 30 drives the position adjustment unit 20 to adjust the position of the knife N toward the reinforcing plate 3 by a predetermined distance (FIG. 6C). That is, the knife N is moved in the vertical direction so that the blade edge Na of the knife N is positioned on the reinforcing plate 3 side with respect to the knife insertion scheduled position. In FIG. 6, the position adjustment of FIG. 6B is performed for the sake of explanation, but FIG. 6B may be omitted and the position adjustment may be performed directly from FIG. 6A to FIG.

つまり、第1位置調整ステップにおける、樹脂層4に対向する位置から予め定められた距離だけ補強板3の側にナイフNの位置を位置調整させることは、(1)樹脂層4の対向する位置にナイフNを位置調整し、次いで予め定められた距離だけ補強板3の側にナイフNを位置調整する場合と、(2)検出結果に基づいて、樹脂層4に対向する位置を求め、その位置から予め定められた距離だけ移動する距離を求めて、樹脂層4の対向する位置にナイフNを位置調整することなく、ナイフNを直接補強板3の側に位置するように、ナイフNを位置調整する場合と、を含んでいる。   That is, in the first position adjustment step, the position of the knife N is adjusted to the reinforcing plate 3 side by a predetermined distance from the position facing the resin layer 4. (1) The position where the resin layer 4 faces Adjusting the position of the knife N, and then adjusting the position of the knife N on the side of the reinforcing plate 3 by a predetermined distance, and (2) obtaining the position facing the resin layer 4 based on the detection result, The distance of movement by a predetermined distance from the position is obtained, and the knife N is positioned directly on the reinforcing plate 3 side without adjusting the position of the knife N at the position facing the resin layer 4. And the case of adjusting the position.

図6(A)の如く、位置検出ステップでレーザ変位計26及び板厚検出計28を利用して距離Hを検出している。しかしながら、位置検出の精度を高めたとしても、位置検出は、ある範囲の検出誤差を含んでいる。また、図6(B)の如く、距離Hが0となる位置にナイフNを鉛直方向に移動させている。しかしながら、位置調整ユニット20の精度を高めたとしても、位置調整は、ある範囲の位置決めの誤差を含んでいる。そのため、これらの誤差の要因から、ナイフNの刃先Naの位置が、ナイフ刺入予定位置である樹脂層4の厚さ方向の中央の位置と、同じ高さとはならない場合が生じる。例えば、図6(B)の時点で、ナイフNの刃先Naの位置が、基板2の位置と同じ高さとなることも生じる。   As shown in FIG. 6A, the distance H is detected by using the laser displacement meter 26 and the plate thickness detector 28 in the position detection step. However, even if the accuracy of position detection is increased, the position detection includes a certain range of detection errors. Further, as shown in FIG. 6B, the knife N is moved in the vertical direction to a position where the distance H becomes zero. However, even if the accuracy of the position adjustment unit 20 is increased, the position adjustment includes a certain range of positioning errors. Therefore, due to these error factors, the position of the blade edge Na of the knife N may not be the same height as the center position in the thickness direction of the resin layer 4 which is the knife insertion scheduled position. For example, the position of the blade edge Na of the knife N may be the same height as the position of the substrate 2 at the time of FIG.

実施形態の第1位置調整ステップにおいては、ナイフNと積層体1の樹脂層4とを対向する位置に位置調整し、その後、予め定められた距離だけ補強板3の側にナイフNの位置を位置調整している。上述の第1位置調整ステップを実行することで、後の前進ステップにおいてナイフNを積層体1に向けて前進させた際にナイフNが基板2に接触することを回避することが可能となる。   In the first position adjustment step of the embodiment, the position of the knife N and the resin layer 4 of the laminate 1 are adjusted so as to face each other, and then the position of the knife N is set on the reinforcing plate 3 side by a predetermined distance. The position is adjusted. By performing the first position adjustment step described above, it is possible to avoid the knife N from contacting the substrate 2 when the knife N is advanced toward the stacked body 1 in the subsequent advancement step.

特に、位置検出部の検出誤差、と位置調整部の位置決めの誤差との両方の誤差を考慮し、予め定められた距離を最大誤差分以上とすること好ましい。最大誤差分より大きく補強板3の側へ移動することにより、前進ステップでのナイフNの刃先Naと基板2との接触をより確実に回避することができる。   In particular, it is preferable to set the predetermined distance to be equal to or greater than the maximum error in consideration of both the detection error of the position detection unit and the positioning error of the position adjustment unit. By moving to the side of the reinforcing plate 3 larger than the maximum error, it is possible to more reliably avoid contact between the blade edge Na of the knife N and the substrate 2 in the forward step.

次に、具体的な数値を挙げて説明する。例えば、樹脂層4の厚さを2μmとし、位置検出部の検出誤差と位置調整部の位置決め誤差との最大誤差を±2μmとする。まず、ナイフ刺入予定位置は、樹脂層4の厚さの中央の位置である1μmの位置となる。   Next, specific numerical values will be described. For example, the thickness of the resin layer 4 is 2 μm, and the maximum error between the detection error of the position detection unit and the positioning error of the position adjustment unit is ± 2 μm. First, the planned knife insertion position is a position of 1 μm, which is the center position of the thickness of the resin layer 4.

ここで、位置検出部と位置調整部との最大誤差を+2μm(鉛直方向上向きを+とする)とする。刃先Naをナイフ刺入予定位置に位置調整したとしても、誤差の影響受けて、樹脂層4の厚みを超え、基板2と対向する位置に位置調整されることになる。   Here, the maximum error between the position detection unit and the position adjustment unit is +2 μm (upward in the vertical direction is +). Even if the position of the blade edge Na is adjusted to the planned knife insertion position, the position is adjusted to a position that exceeds the thickness of the resin layer 4 and faces the substrate 2 due to an error.

そこで、上述の最大誤差分の2μm以上を補強板3の側へ刃先Naを鉛直方向に移動することで、前進ステップにおいて基板2と刃先Naとの接触を回避できる。   Therefore, by moving the blade edge Na in the vertical direction by 2 μm or more corresponding to the maximum error, the contact between the substrate 2 and the blade edge Na can be avoided in the forward step.

次に、図5のフローチャートに示すように、制御部30が前進処理である前進ステップを実行する(ステップS130)。前進ステップでは、制御部30が、移動部を構成するテーブル駆動ユニット16及び/又はナイフ駆動ユニット18を駆動し、ナイフNと積層体1とを水平方向に相対的に前進させる(図6(D))。刃先Naが積層体1の補強板3又は樹脂層4の何れかに接触するまで、テーブル駆動ユニット16及び/又はナイフ駆動ユニット18によりナイフNと積層体1とを相対的に移動する。   Next, as shown in the flowchart of FIG. 5, the control unit 30 executes a forward step that is forward processing (step S <b> 130). In the advance step, the control unit 30 drives the table drive unit 16 and / or the knife drive unit 18 constituting the moving unit to relatively advance the knife N and the stacked body 1 in the horizontal direction (FIG. 6D )). The knife N and the laminated body 1 are relatively moved by the table driving unit 16 and / or the knife driving unit 18 until the blade edge Na comes into contact with either the reinforcing plate 3 or the resin layer 4 of the laminated body 1.

さらに、前進ステップでは、刃先Naが積層体1の補強板3又は樹脂層4の何れかに接触した後も、テーブル駆動ユニット16及び/又はナイフ駆動ユニット18を駆動し、所定距離(例えば1mm)だけナイフN及び/又は積層体1を前進させる(図7(E))。この時点では、ホルダ14は第1のストッパ42に接触していない。   Further, in the forward step, the table driving unit 16 and / or the knife driving unit 18 are driven after the blade edge Na comes into contact with either the reinforcing plate 3 or the resin layer 4 of the laminate 1, and a predetermined distance (for example, 1 mm). Only the knife N and / or the laminated body 1 are advanced (FIG. 7E). At this time, the holder 14 is not in contact with the first stopper 42.

次に、図5のフローチャートに示すように、制御部30が検出処理である検出ステップを実行する(ステップS140)。検出ステップでは、制御部30がロードセル22からの押圧力を検知し、押圧力の変化から刃先Naが補強板3又は樹脂層4の何れに接触したかを検出する。   Next, as shown in the flowchart of FIG. 5, the control unit 30 executes a detection step which is a detection process (step S140). In the detection step, the control unit 30 detects the pressing force from the load cell 22 and detects whether the blade edge Na is in contact with the reinforcing plate 3 or the resin layer 4 from the change in the pressing force.

最初に、刃先Naが補強板3に接触した場合について説明する。図6(D)の如く、刃先Naが補強板3に接触した時点から、ロードセル22の押圧力は増加する。刃先Naが補強板3からの反力を受けて、圧縮バネ44が更に圧縮されるからである。   First, the case where the blade edge Na contacts the reinforcing plate 3 will be described. As shown in FIG. 6D, the pressing force of the load cell 22 increases from the point when the blade edge Na comes into contact with the reinforcing plate 3. This is because the cutting edge Na receives the reaction force from the reinforcing plate 3 and the compression spring 44 is further compressed.

さらに、図7(E)の如く、所定距離だけナイフN及び/又は積層体1の前進を続けると、ロードセル22の押圧力は、さらに増加する。その理由は、積層体1の位置が固定されていること、かつ補強板3が樹脂層4より硬いことから、ナイフNを前進させると刃先Naの受ける反力が大きくなり、圧縮バネ44が圧縮されるからである。   Further, as shown in FIG. 7E, when the knife N and / or the laminate 1 continues to advance by a predetermined distance, the pressing force of the load cell 22 further increases. The reason is that the position of the laminated body 1 is fixed and the reinforcing plate 3 is harder than the resin layer 4, so that when the knife N is advanced, the reaction force received by the blade edge Na increases and the compression spring 44 is compressed. Because it is done.

つまり、刃先Naが補強板3に接触した場合、ロードセル22から検知される押圧力は常に増加するので、刃先Naが補強板3と接触したことを検出することができる。   That is, when the blade edge Na comes into contact with the reinforcing plate 3, the pressing force detected from the load cell 22 always increases, so that it is possible to detect that the blade edge Na has come into contact with the reinforcing plate 3.

次に、図5のフローチャートに示すように、検出ステップ(ステップS140)で樹脂層4でないと判断されると(ここではNo)、制御部30が後退処理である後退ステップを実行する(ステップS150)。後退ステップでは、制御部30が、移動部を構成するテーブル駆動ユニット16及び/又はナイフ駆動ユニット18を駆動し、ナイフNと積層体1とを水平方向に相対的に後退させる(図7(F))。刃先Naが積層体1の補強板3から離間するまで、テーブル駆動ユニット16及び/又はナイフ駆動ユニット18によりナイフNと積層体1とを相対的に移動する。   Next, as shown in the flowchart of FIG. 5, when it is determined in the detection step (step S140) that the layer is not the resin layer 4 (No in this case), the control unit 30 executes a reverse step that is a reverse process (step S150). ). In the retreating step, the control unit 30 drives the table driving unit 16 and / or the knife driving unit 18 constituting the moving unit to relatively retract the knife N and the stacked body 1 in the horizontal direction (FIG. 7F). )). The knife N and the laminated body 1 are relatively moved by the table driving unit 16 and / or the knife driving unit 18 until the blade edge Na is separated from the reinforcing plate 3 of the laminated body 1.

図5のフローチャートに示すように、後退ステップ(ステップS150)を実行すると、次に、制御部30が第2位置調整処理である第2位置調整ステップを実行する(ステップS160)。第2位置調整ステップでは、制御部30が位置調整ユニット20を駆動し、ナイフNの位置を樹脂層4の厚さ以下の距離だけ基板2の側に位置調整する(図7(G))。すなわち、ナイフNの刃先Naが、樹脂層4の厚さ以下の距離だけ基板2の側に位置するように、ナイフNが鉛直方向に移動される。樹脂層4の厚さ以下の距離だけ移動させることで、樹脂層4を超えて基板2の位置にナイフNが位置調整されることを回避することができる。   As shown in the flowchart of FIG. 5, when the backward step (step S150) is executed, the control unit 30 then executes a second position adjustment step that is a second position adjustment process (step S160). In the second position adjustment step, the control unit 30 drives the position adjustment unit 20 to adjust the position of the knife N toward the substrate 2 by a distance equal to or less than the thickness of the resin layer 4 (FIG. 7G). That is, the knife N is moved in the vertical direction so that the blade edge Na of the knife N is positioned on the substrate 2 side by a distance equal to or less than the thickness of the resin layer 4. By moving the resin layer 4 by a distance equal to or less than the thickness, the knife N can be prevented from being adjusted to the position of the substrate 2 beyond the resin layer 4.

次に、図5のフローチャートに示すように、制御部30は、ナイフNの刃先Naが樹脂層4に接触したことを検出するまで、前進ステップ(ステップS130)と検出ステップ(ステップS140)と後退ステップ(ステップS150)と第2位置調整ステップ(ステップS160)とをこの順で繰り返し実行する。   Next, as shown in the flowchart of FIG. 5, the control unit 30 moves forward (step S <b> 130), detection step (step S <b> 140), and reverse until it detects that the cutting edge Na of the knife N has contacted the resin layer 4. The step (step S150) and the second position adjustment step (step S160) are repeatedly executed in this order.

次に、刃先Naが樹脂層4に接触する場合について説明する。上述したように、図5のフローチャートに示すように、制御部30が前進処理である前進ステップを実行(ステップS130)し、制御部30が検出処理である検出ステップを実行する(ステップS140)。   Next, the case where the blade edge Na contacts the resin layer 4 will be described. As described above, as shown in the flowchart of FIG. 5, the control unit 30 executes a forward step that is a forward process (step S130), and the control unit 30 executes a detection step that is a detection process (step S140).

制御部30が、移動部を構成するテーブル駆動ユニット16及び/又はナイフ駆動ユニット18を駆動し、ナイフNと積層体1とを水平方向に相対的に前進させる。この場合、刃先Naが樹脂層4に接触する(図7(H))。   The control unit 30 drives the table driving unit 16 and / or the knife driving unit 18 constituting the moving unit to relatively advance the knife N and the stacked body 1 in the horizontal direction. In this case, the blade edge Na contacts the resin layer 4 (FIG. 7H).

図7(H)の如く、刃先Naが樹脂層4に接触した時点から、図6(D)で説明したのと同様に、ロードセル22の押圧力は増加する。刃先Naが補強板3からの反力を受けて、圧縮バネ44が圧縮されるからである。   As shown in FIG. 7H, the pressing force of the load cell 22 increases from the time when the blade edge Na comes into contact with the resin layer 4 as described in FIG. 6D. This is because the blade tip Na receives the reaction force from the reinforcing plate 3 and the compression spring 44 is compressed.

さらに、図8(I)の如く、所定距離だけナイフN及び/又は積層体1の前進を続けると、ロードセル22の押圧力は、一旦増加し、その後に低下する。その理由は、積層体1の位置が固定されているが、樹脂層4が柔らかいため、刃先Naが樹脂層4を剥離しながら、樹脂層4の中を進むからである。そのため、刃先Naを押す反力が弱まり、圧縮されていた圧縮バネ44が積層体1の側に伸びるようになる。したがって、図8(I)の圧縮バネ44の長さは、図7(E)の圧縮バネ44の長さよりも長くなる。すなわち、ロードセル22により検出される押圧力に関して、刃先Naが樹脂層4に接触した場合の押圧力(図8(I))が、刃先Naが補強板3に接触した場合の押圧力(図7(E))より小さくなることが理解できる。この押圧力の違いから、刃先Naが補強板3又は樹脂層4の何れに接触したかを検出することができる。   Further, as shown in FIG. 8I, when the knife N and / or the laminated body 1 continues to advance by a predetermined distance, the pressing force of the load cell 22 once increases and then decreases. The reason is that although the position of the laminated body 1 is fixed, the resin layer 4 is soft, so that the cutting edge Na advances through the resin layer 4 while peeling the resin layer 4. Therefore, the reaction force that pushes the blade edge Na is weakened, and the compressed compression spring 44 extends toward the laminate 1. Therefore, the length of the compression spring 44 in FIG. 8I is longer than the length of the compression spring 44 in FIG. That is, regarding the pressing force detected by the load cell 22, the pressing force when the blade edge Na contacts the resin layer 4 (FIG. 8 (I)) is the pressing force when the blade edge Na contacts the reinforcing plate 3 (FIG. 7). (E)) can be understood to be smaller. From this difference in the pressing force, it can be detected whether the blade edge Na is in contact with the reinforcing plate 3 or the resin layer 4.

実施形態ではロードセル22を用いて、補強板3か樹脂層4かを検出する方法について説明したが、これに限定されず変位計等を用いることができる。変位計を用いる場合、例えば、ホルダ14と第1のストッパ42との距離を測定する。距離の変化からナイフNが補強板3又は樹脂層4の何れに接触したかを判断することができる。   In the embodiment, the method of detecting the reinforcing plate 3 or the resin layer 4 using the load cell 22 has been described. However, the present invention is not limited to this, and a displacement meter or the like can be used. When using a displacement meter, for example, the distance between the holder 14 and the first stopper 42 is measured. It can be determined whether the knife N has contacted the reinforcing plate 3 or the resin layer 4 from the change in distance.

次に、図5のフローチャートに示すように、検出ステップ(ステップS140)で樹脂層4であると判断されると(ここではYes)、制御部30が継続前進処理である継続前進ステップを実行する(ステップS170)。継続前進ステップでは、制御部30が、移動部を構成するテーブル駆動ユニット16及び/又はナイフ駆動ユニット18を駆動し、刃先Naが、樹脂層4の中を、予め決められた距離に達するまで、ナイフNと積層体1とを水平方向に相対的に前進させる(図8(J),(K))。   Next, as shown in the flowchart of FIG. 5, when it is determined that the resin layer 4 is detected in the detection step (step S <b> 140) (here, Yes), the control unit 30 executes a continuous advance step that is a continuous advance process. (Step S170). In the continuous advance step, the control unit 30 drives the table driving unit 16 and / or the knife driving unit 18 constituting the moving unit, and until the blade edge Na reaches the predetermined distance in the resin layer 4, The knife N and the laminated body 1 are relatively advanced in the horizontal direction (FIGS. 8J and 8K).

図8(J)の如く、刃先Naを樹脂層4の中を進行させると、刃先Naが受ける反力が大きくなる。その結果、圧縮バネ44が圧縮され、ホルダ14が第1のストッパ42に達するまで移動する。ホルダ14が第1のストッパ42に接触した後は、ホルダ14の移動は第1のストッパ42により規制される。   As shown in FIG. 8J, when the blade edge Na is advanced in the resin layer 4, the reaction force received by the blade edge Na increases. As a result, the compression spring 44 is compressed and moves until the holder 14 reaches the first stopper 42. After the holder 14 comes into contact with the first stopper 42, the movement of the holder 14 is restricted by the first stopper 42.

さらに、図8(K)の如く、ホルダ14と第1のストッパ42とが接触した状態で、更に、ナイフNと積層体1とを水平方向に相対的に前進させる。ナイフNを保持するホルダ14の移動が第1のストッパ42により規制されているので、反力に抗して刃先Naを樹脂層4の中を進行させることができる。   Further, as shown in FIG. 8K, the knife N and the laminated body 1 are further moved forward in the horizontal direction while the holder 14 and the first stopper 42 are in contact with each other. Since the movement of the holder 14 holding the knife N is regulated by the first stopper 42, the blade edge Na can be advanced in the resin layer 4 against the reaction force.

図9に示すように、図示しない移動部(テーブル駆動ユニット及びナイフ駆動ユニット)を駆動し、ナイフNと積層体1とを補強板の第2の主面に平行な方向に相対的に前進させる(図9(A))。次いで、刃先Naを予め決められた距離だけ樹脂層4の中を進行させる(図9(B))。最後に、ナイフNと積層体1とを補強板の第2の主面に平行な方向に相対的に後退させることで剥離開始部SPを形成する。   As shown in FIG. 9, a moving part (table drive unit and knife drive unit) (not shown) is driven, and the knife N and the laminated body 1 are relatively advanced in a direction parallel to the second main surface of the reinforcing plate. (FIG. 9A). Next, the blade edge Na is advanced through the resin layer 4 by a predetermined distance (FIG. 9B). Finally, the peeling start part SP is formed by retreating the knife N and the laminate 1 relatively in a direction parallel to the second main surface of the reinforcing plate.

なお、最初の検出ステップ(ステップS140)でナイフNの刃先Naと積層体1(補強板3又は樹脂層4)とが接触した接触位置を記憶する記憶ステップを実行することが好ましい。ここで接触した位置とは、水平方向の位置を意味する。   In addition, it is preferable to perform the memory | storage step which memorize | stores the contact position where the blade edge | tip Na of the knife N and the laminated body 1 (the reinforcement board 3 or the resin layer 4) contacted at the first detection step (step S140). The contacted position here means a position in the horizontal direction.

検出ステップ(ステップS140)で、ナイフNと補強板3とが接触したと判断されると、後退ステップ(ステップS150)と第2位置調整ステップ(ステップS160)が実行され、上述したように、前進ステップ(ステップS130)と検出ステップ(ステップS140)と後退ステップ(ステップS150)と第2位置調整ステップ(ステップS160)とが繰り返し実行される。   If it is determined in the detection step (step S140) that the knife N and the reinforcing plate 3 are in contact with each other, a backward step (step S150) and a second position adjustment step (step S160) are executed, and as described above, the forward movement is performed. The step (step S130), the detection step (step S140), the reverse step (step S150), and the second position adjustment step (step S160) are repeatedly executed.

2回目の前進ステップ(ステップS130)において、記憶した接触位置の情報に基づいてナイフNの前進速度を調整することが好ましい。接触位置の情報に基づいて、ナイフNが積層体1に接触する直前まで、ナイフNを高速で移動し、次いで低速でナイフNと積層体1とを接触させることができる。これにより、ナイフNの破損を防止できる。   In the second forward step (step S130), it is preferable to adjust the forward speed of the knife N based on the stored information on the contact position. Based on the information on the contact position, the knife N can be moved at a high speed until the knife N comes into contact with the stacked body 1, and then the knife N and the stacked body 1 can be contacted at a low speed. Thereby, the breakage of the knife N can be prevented.

また、前進ステップ(ステップS130)を速く行うことが可能となる。仮に接触位置の情報を得ていない場合、ナイフNの移動を、動き出しから積層体1と接触するまで、低速で行う必要がある。   In addition, the forward step (step S130) can be performed quickly. If the information on the contact position is not obtained, it is necessary to move the knife N at a low speed from the start of movement to the contact with the laminate 1.

一方で、接触位置の情報を得ている場合、上述したように、ナイフNの移動を高速、低速の2段階で行うことができるので、低速だけの移動と比較して、前進ステップを速く実行することが可能となる。   On the other hand, when the information on the contact position is obtained, as described above, the knife N can be moved in two stages of high speed and low speed, so the forward step is executed faster than the movement of only the low speed. It becomes possible to do.

次に、剥離開始部の形成された積層体から補強板を剥離するための、剥離装置、及び剥離方法について説明する。以下の説明では図2に示す積層体6を用いた場合を例に説明する。   Next, a peeling apparatus and a peeling method for peeling the reinforcing plate from the laminate in which the peeling start portion is formed will be described. In the following description, the case where the laminate 6 shown in FIG. 2 is used will be described as an example.

〔剥離装置〕
図10は、剥離装置100の構成を示した縦断面図であり、図11は、剥離装置100の剥離ユニット102に対する複数の可動体104の配置位置を模式的に示した剥離ユニット102の平面図である。なお、図10は図11のB−B線に沿う断面図に相当し、また、図11においては積層体6を実線で示している。
[Peeling device]
10 is a longitudinal sectional view showing the configuration of the peeling apparatus 100, and FIG. 11 is a plan view of the peeling unit 102 schematically showing the arrangement positions of the plurality of movable bodies 104 with respect to the peeling unit 102 of the peeling apparatus 100. It is. 10 corresponds to a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 11, and in FIG. 11, the stacked body 6 is indicated by a solid line.

図10の如く剥離装置100は、積層体6を挟んで上下に配置された一対の可動装置106,106を備える。可動装置106,106は同一構成である。ここでは、図10の下側に配置された可動装置106について説明し、上側に配置された可動装置106については同一の符号を付すことで説明を省略する。   As shown in FIG. 10, the peeling apparatus 100 includes a pair of movable devices 106 and 106 that are disposed above and below the laminated body 6. The movable devices 106 and 106 have the same configuration. Here, the movable device 106 arranged on the lower side of FIG. 10 will be described, and the movable device 106 arranged on the upper side will be denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted.

可動装置106は、複数の可動体104、可動体104ごとに可動体104を昇降移動させる複数の駆動装置108、及び駆動装置108ごとに駆動装置108を制御するコントローラ110等によって構成される。   The movable device 106 includes a plurality of movable bodies 104, a plurality of drive devices 108 that move the movable body 104 up and down for each movable body 104, a controller 110 that controls the drive device 108 for each drive device 108, and the like.

剥離ユニット102は、補強板3Bを撓み変形させるため、補強板3Bを真空吸着保持する。なお、真空吸着に代えて、静電吸着又は磁気吸着してもよい。   The peeling unit 102 holds the reinforcing plate 3B by vacuum suction in order to bend and deform the reinforcing plate 3B. Instead of vacuum suction, electrostatic suction or magnetic suction may be used.

[剥離ユニット]
図12(A)は、剥離ユニット102の平面図であり、図12(B)は、図12(A)のC−C線に沿う剥離ユニット102の拡大縦断面図である。また、図12(C)は、剥離ユニット102を構成する矩形の板状の第1の可撓性板112に対して、剥離ユニット102を構成する吸着部114が両面接着テープ116を介して着脱自在に備えられたことを示す剥離ユニット102の拡大縦断面図である。剥離ユニット102は、前述の如く第1の可撓性板112に吸着部114が両面接着テープ116を介して着脱自在に装着されて構成される。
[Peeling unit]
12A is a plan view of the peeling unit 102, and FIG. 12B is an enlarged longitudinal sectional view of the peeling unit 102 taken along the line CC in FIG. 12A. In FIG. 12C, the suction portion 114 constituting the peeling unit 102 is attached to and detached from the first flexible plate 112 having a rectangular plate shape constituting the peeling unit 102 via the double-sided adhesive tape 116. It is an expanded vertical sectional view of the peeling unit 102 which shows having been provided freely. As described above, the peeling unit 102 is configured such that the suction portion 114 is detachably attached to the first flexible plate 112 via the double-sided adhesive tape 116.

吸着部114は、第1の可撓性板112よりも厚さの薄い第2の可撓性板118を備える。第2の可撓性板118の下面(一方面)が両面接着テープ116を介して第1の可撓性板112の上面に着脱自在に装着される。   The adsorption unit 114 includes a second flexible plate 118 that is thinner than the first flexible plate 112. The lower surface (one surface) of the second flexible plate 118 is detachably attached to the upper surface of the first flexible plate 112 via a double-sided adhesive tape 116.

また、吸着部114は、積層体6の補強板3Bの内面を吸着保持する矩形の通気性シート120が備えられる。通気性シート120の厚さは、剥離時に補強板3Bに発生する引張応力を低減させる目的で2mm以下、好ましくは1mm以下であり、実施形態では0.5mmのものが使用されている。   Further, the suction part 114 is provided with a rectangular breathable sheet 120 that sucks and holds the inner surface of the reinforcing plate 3B of the laminate 6. The thickness of the air-permeable sheet 120 is 2 mm or less, preferably 1 mm or less for the purpose of reducing the tensile stress generated in the reinforcing plate 3B at the time of peeling, and in the embodiment, a thickness of 0.5 mm is used.

更に、吸着部114は、通気性シート120を包囲し、かつ補強板3Bの外周面が当接されるシール枠部材122が備えられる。シール枠部材122及び通気性シート120は、両面接着テープ124を介して第2の可撓性板118の上面(他方面)に接着される。また、シール枠部材122は、ショアE硬度が20度以上50度以下の独立気泡のスポンジであり、その厚さは、通気性シート120の厚さに対して0.3mm〜0.5mm厚く構成されている。   Furthermore, the adsorbing part 114 is provided with a seal frame member 122 that surrounds the breathable sheet 120 and is in contact with the outer peripheral surface of the reinforcing plate 3B. The seal frame member 122 and the air permeable sheet 120 are bonded to the upper surface (the other surface) of the second flexible plate 118 via the double-sided adhesive tape 124. Further, the seal frame member 122 is a closed-cell sponge having a Shore E hardness of 20 degrees or more and 50 degrees or less, and the thickness thereof is configured to be 0.3 mm to 0.5 mm thicker than the thickness of the breathable sheet 120. Has been.

通気性シート120とシール枠部材122との間には、枠状の溝126が備えられる。また、第1の可撓性板112には、複数の貫通孔128が開口されており、これらの貫通孔128の一端は溝126に連通され、他端は、不図示の吸引管路を介して吸気源(例えば真空ポンプ)に接続されている。   A frame-shaped groove 126 is provided between the breathable sheet 120 and the seal frame member 122. Further, the first flexible plate 112 has a plurality of through holes 128 opened. One end of each of the through holes 128 communicates with the groove 126, and the other end of the first flexible plate 112 via a suction pipe (not shown). Connected to an intake source (for example, a vacuum pump).

したがって、吸気源が駆動されると、吸引管路、貫通孔128、及び溝126の空気が吸引されることにより、積層体6の補強板3Bの内面が通気性シート120に真空吸着保持され、また、補強板3Bの外周面がシール枠部材122に押圧当接されるので、シール枠部材122によって囲まれる吸着空間の密閉性が高められる。   Therefore, when the intake source is driven, the air in the suction pipe, the through hole 128, and the groove 126 is sucked, whereby the inner surface of the reinforcing plate 3B of the laminate 6 is vacuum-adsorbed and held on the breathable sheet 120, In addition, since the outer peripheral surface of the reinforcing plate 3B is pressed against the seal frame member 122, the sealing performance of the suction space surrounded by the seal frame member 122 is improved.

第1の可撓性板112は、第2の可撓性板118、通気性シート120、及びシール枠部材122よりも曲げ剛性が高く、第1の可撓性板112の曲げ剛性が剥離ユニット102の曲げ剛性を支配する。剥離ユニット102の単位幅(1mm)あたりの曲げ剛性は、1000〜40000N・mm/mmであることが好ましい。例えば、剥離ユニット102の幅が100mmの部分では、曲げ剛性は、100000〜4000000N・mmとなる。剥離ユニット102の曲げ剛性を1000N・mm/mm以上とすることで、剥離ユニット102に吸着保持される補強板3Bの折れ曲がりを防止することができる。また、剥離ユニット102の曲げ剛性を40000N・mm/mm以下とすることで、剥離ユニット102に吸着保持される補強板3Bを適度に撓み変形させることができる。 The first flexible plate 112 has higher bending rigidity than the second flexible plate 118, the air permeable sheet 120, and the seal frame member 122, and the bending rigidity of the first flexible plate 112 is higher than the peeling unit. 102 dominates the bending stiffness. The bending rigidity per unit width (1 mm) of the peeling unit 102 is preferably 1000 to 40000 N · mm 2 / mm. For example, in a portion where the width of the peeling unit 102 is 100 mm, the bending rigidity is 100000 to 4000000 N · mm 2 . By setting the bending rigidity of the peeling unit 102 to 1000 N · mm 2 / mm or more, it is possible to prevent the reinforcing plate 3B from being bent and held by the peeling unit 102 from being bent. Further, by setting the bending rigidity of the peeling unit 102 to 40000 N · mm 2 / mm or less, the reinforcing plate 3B sucked and held by the peeling unit 102 can be appropriately bent and deformed.

第1の可撓性板112、及び第2の可撓性板118は、ヤング率が10MPa以下の樹脂製部材であり、例えばポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル(PVC)樹脂、アクリル樹脂、ポリアセタール(POM)樹脂等の樹脂製部材である。   The first flexible plate 112 and the second flexible plate 118 are resin members having a Young's modulus of 10 MPa or less. For example, polycarbonate resin, polyvinyl chloride (PVC) resin, acrylic resin, polyacetal (POM) ) A resin member such as resin.

[可動装置]
第1の可撓性板112の下面には、図10に示した円盤状の複数の可動体104が、図11の如く碁盤目状に固定される。これらの可動体104は、第1の可撓性板112にボルト等の締結部材によって固定されるが、ボルトに代えて接着固定されてもよい。これらの可動体104は、コントローラ110によって駆動制御された駆動装置108によって、独立して昇降移動される。
[Movable device]
A plurality of disc-shaped movable bodies 104 shown in FIG. 10 are fixed to the lower surface of the first flexible plate 112 in a grid pattern as shown in FIG. These movable bodies 104 are fixed to the first flexible plate 112 by fastening members such as bolts, but may be bonded and fixed instead of the bolts. These movable bodies 104 are moved up and down independently by a driving device 108 that is driven and controlled by the controller 110.

すなわち、コントローラ110は、駆動装置108を制御して、図11における積層体6の隅部6A側に位置する可動体104から矢印Aで示す剥離進行方向の隅部6B側に位置する可動体104を、順次下降移動させる。この動作によって、図13の縦断面図の如く、積層体6の基板2Bと補強板3Bとの間の樹脂層4Bに形成された剥離開始部SPを起点として剥離していく。なお、剥離開始部SPは、上述の剥離開始部作成装置10により剥離前に形成される。   That is, the controller 110 controls the driving device 108 to move the movable body 104 located on the corner 6B side in the peeling progress direction indicated by the arrow A from the movable body 104 located on the corner 6A side of the stacked body 6 in FIG. Are sequentially moved downward. By this operation, as shown in the longitudinal cross-sectional view of FIG. 13, the peeling starts from the peeling start portion SP formed in the resin layer 4 </ b> B between the substrate 2 </ b> B and the reinforcing plate 3 </ b> B of the laminate 6. In addition, peeling start part SP is formed before peeling by the above-mentioned peeling start part preparation apparatus 10. FIG.

駆動装置108は、例えば回転式のサーボモータ及びボールねじ機構等で構成される。サーボモータの回転運動は、ボールネジ機構において直線運動に変換され、ボールネジ機構のロッド130に伝達される。ロッド130の先端部には、ボールジョイント132を介して可動体104が設けられている。これにより、図13の如く剥離ユニット102の撓み変形に追従して可動体104を傾動させることができる。よって、剥離ユニット102に無理な力を加えることなく、剥離ユニット102を隅部6Aから隅部6Bに向けて撓み変形させることができる(図11参照)。なお、駆動装置108としては、回転式のサーボモータ及びボールねじ機構に限定されず、リニア式のサーボモータ、又は流体圧シリンダ(例えば空気圧シリンダ)であってもよい。   The driving device 108 is constituted by, for example, a rotary servo motor and a ball screw mechanism. The rotational motion of the servo motor is converted into linear motion in the ball screw mechanism and transmitted to the rod 130 of the ball screw mechanism. A movable body 104 is provided at the tip of the rod 130 via a ball joint 132. Thereby, the movable body 104 can be tilted following the bending deformation of the peeling unit 102 as shown in FIG. Therefore, the peeling unit 102 can be bent and deformed from the corner 6A toward the corner 6B without applying an excessive force to the peeling unit 102 (see FIG. 11). The driving device 108 is not limited to a rotary servo motor and a ball screw mechanism, and may be a linear servo motor or a fluid pressure cylinder (for example, a pneumatic cylinder).

複数の駆動装置108は、昇降可能なフレーム134にクッション部材136を介して取り付けられることが好ましい。クッション部材136は、剥離ユニット102の撓み変形に追従するように弾性変形する。これによって、ロッド130がフレーム134に対して傾動する。   The plurality of driving devices 108 are preferably attached to a vertically movable frame 134 via cushion members 136. The cushion member 136 is elastically deformed so as to follow the bending deformation of the peeling unit 102. As a result, the rod 130 tilts with respect to the frame 134.

フレーム134は、剥離した補強板3Bを剥離ユニット102から取り外す際に、不図示の駆動部によって下降移動される。   The frame 134 is moved downward by a drive unit (not shown) when the peeled reinforcing plate 3B is removed from the peeling unit 102.

コントローラ110は、CPU、ROM、及びRAM等の記憶媒体等を含むコンピュータとして構成される。コントローラ110は、記録媒体に記録されたプログラムをCPUに実行させることにより、複数の駆動装置108を駆動装置108ごとに制御して、複数の可動体104の昇降移動を制御する。   The controller 110 is configured as a computer including a storage medium such as a CPU, a ROM, and a RAM. The controller 110 controls the plurality of driving devices 108 for each driving device 108 by causing the CPU to execute a program recorded on the recording medium, thereby controlling the vertical movement of the plurality of movable bodies 104.

1…積層体、2,2A,2B…基板、3,3A,3B…補強板、4…樹脂層、6…積層体、7…機能層、10…剥離開始部作成装置、12…テーブル、14…ホルダ、16…テーブル駆動ユニット、18…ナイフ駆動ユニット、20…位置調整ユニット、22…ロードセル、24…支持部材、26…レーザ変位計、28…板厚検出計、30…制御部、32…テーブル支持架台、34…直動装置、36…ガイドレール、38…ガイドブロック、40…フレーム、42…第1のストッパ、44…圧縮バネ、46…第2のストッパ、50…本体フレーム、52…レール、54…スライダ、56…ボールネジ、58…モータ、60…本体フレーム、62…レール、64…スライダ、66…ボールネジ、68…モータ、70…本体フレーム、72…レール、74…スライダ、76…ボールネジ、78…モータ、80…架台、100…剥離装置、102…剥離ユニット、104…可動体、106…可動装置、108…駆動装置、110…コントローラ、112…第1の可撓性板、114…吸着部、116…両面接着テープ、118…第2の可撓性板、120…通気性シート、122…シール枠部材、124…両面接着シート、126…溝、128…貫通孔、130…ロッド、132…ボールジョイント、134…フレーム、136…クッション部材   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Laminated body, 2, 2A, 2B ... Board | substrate, 3, 3A, 3B ... Reinforcement board, 4 ... Resin layer, 6 ... Laminated body, 7 ... Functional layer, 10 ... Stripping start part production apparatus, 12 ... Table, 14 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Holder, 16 ... Table drive unit, 18 ... Knife drive unit, 20 ... Position adjustment unit, 22 ... Load cell, 24 ... Support member, 26 ... Laser displacement meter, 28 ... Plate thickness detector, 30 ... Control part, 32 ... Table support frame, 34 ... linear motion device, 36 ... guide rail, 38 ... guide block, 40 ... frame, 42 ... first stopper, 44 ... compression spring, 46 ... second stopper, 50 ... main body frame, 52 ... Rail, 54 ... Slider, 56 ... Ball screw, 58 ... Motor, 60 ... Body frame, 62 ... Rail, 64 ... Slider, 66 ... Ball screw, 68 ... Motor, 70 ... Body frame, 72 ... Ray , 74 ... slider, 76 ... ball screw, 78 ... motor, 80 ... mount, 100 ... peeling device, 102 ... peeling unit, 104 ... movable body, 106 ... movable device, 108 ... drive device, 110 ... controller, 112 ... first 114 ... Adsorption part, 116 ... Double-sided adhesive tape, 118 ... Second flexible plate, 120 ... Breathable sheet, 122 ... Seal frame member, 124 ... Double-sided adhesive sheet, 126 ... Groove, 128 ... through hole, 130 ... rod, 132 ... ball joint, 134 ... frame, 136 ... cushion member

Claims (11)

製品基板である第1の主面と第2の主面とを有する第1の基板と、補強板である第1の主面と第2の主面とを有する第2の基板とが吸着層を介して剥離可能に貼合された積層体に対して、前記吸着層にナイフを刺入することにより、前記積層体に剥離開始部を作成する剥離開始部作成装置において、
前記ナイフと前記積層体とを前記第2の基板の前記第2の主面に平行な方向に相対的に前進又は後退させる移動部と、
前記ナイフの刃先が前記吸着層、及び前記第2の基板の何れに接触したかを検出する検出部と、
前記第2の基板の前記第2の主面と垂直な方向における前記積層体と前記ナイフとの位置関係を検出する位置検出部と、
前記第2の基板の前記第2の主面に垂直な方向に相対的に移動させ、前記積層体と前記ナイフとの位置を調整する位置調整部と、
前記移動部、前記検出部、前記位置検出部、及び前記位置調整部を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記位置検出部により前記積層体と前記ナイフとの位置を検出する位置検出処理と、
前記位置検出部の検出結果に基づいて、前記位置調整部により、前記ナイフの位置を前記積層体の前記吸着層に対向する位置から予め定められた距離だけ前記第2の基板の側に前記ナイフの位置を位置調整する第1位置調整処理と、
前記移動部により前記ナイフと前記積層体とを相対的に前進する前進処理と、
前記検出部により前記ナイフの刃先が前記吸着層、及び前記第2の基板の何れに接触したか検出する検出処理と、
前記ナイフの刃先が前記第2の基板に接触したと検出した場合は、
前記移動部により前記積層体と前記ナイフと相対的に後退する後退処理と、前記位置調整部により前記吸着層の側に前記吸着層の厚さ以下の距離だけ前記ナイフの位置を調整する第2位置調整処理と、を実行し、前記ナイフが前記吸着層に接触したことを検出するまで、前記前進処理と前記検出処理と前記後退処理と前記第2位置調整処理とをこの順で繰り返し、
前記ナイフの刃先が前記吸着層に接触したと検出した場合は、前記移動部により前記ナイフと前記積層体とを継続して相対的に前進する継続前進処理を実行する、
剥離開始部作成装置。
A first substrate having a first main surface and a second main surface, which are product substrates, and a second substrate having a first main surface and a second main surface, which are reinforcing plates, are adsorbed layers. In the peel start part creating device for creating a peel start part in the laminate, by inserting a knife into the adsorption layer, for the laminate bonded in a peelable manner via
A moving part that relatively advances or retracts the knife and the laminate in a direction parallel to the second main surface of the second substrate;
A detection unit that detects which of the suction layer and the second substrate the blade edge of the knife has contacted;
A position detector that detects a positional relationship between the stacked body and the knife in a direction perpendicular to the second main surface of the second substrate;
A position adjusting unit that moves relative to a direction perpendicular to the second main surface of the second substrate and adjusts the position of the stacked body and the knife;
A controller that controls the moving unit, the detecting unit, the position detecting unit, and the position adjusting unit;
The control unit detects a position of the laminate and the knife by the position detection unit, and
Based on the detection result of the position detection unit, the position adjustment unit moves the knife to the second substrate side by a predetermined distance from a position facing the adsorption layer of the stacked body. A first position adjustment process for adjusting the position of
Advance processing for relatively advancing the knife and the laminate by the moving unit;
A detection process in which the detection unit detects which of the suction layer and the second substrate the blade edge of the knife has contacted;
When it is detected that the cutting edge of the knife is in contact with the second substrate,
A retreat process for retreating the stacked body and the knife relative to each other by the moving part; Performing the position adjustment process, and repeating the forward process, the detection process, the backward process, and the second position adjustment process in this order until it is detected that the knife has contacted the adsorption layer,
When it is detected that the blade edge of the knife is in contact with the adsorption layer, a continuous advance process is performed in which the knife and the laminated body are continuously advanced relatively by the moving unit.
Peel start part creation device.
前記検出部が変位計又はロードセルである請求項1に記載の剥離開始部作成装置。   The peeling start part creation apparatus according to claim 1, wherein the detection part is a displacement meter or a load cell. 前記予め定められた距離が、前記位置検出部、及び前記位置調整部における最大誤差分以上である請求項1又は2に記載の剥離開始部作成装置。   The peeling start part creation apparatus according to claim 1 or 2, wherein the predetermined distance is equal to or greater than a maximum error in the position detection unit and the position adjustment unit. 前記吸着層の厚さが1μm以上50μm以下である請求項1からの何れか一項に記載の剥離開始部作成装置。 The peeling start part creation apparatus according to any one of claims 1 to 3 , wherein the adsorption layer has a thickness of 1 µm to 50 µm. 前記制御部は、前記ナイフの刃先が前記吸着層、及び前記第2の基板の何れかに接触した位置情報を記憶し、2回目以降の前記前進処理の際に、前記位置情報に基づいて前記ナイフの前進速度を調整する請求項1からの何れか一項に記載の剥離開始部作成装置。 The control unit stores position information in which the blade edge of the knife is in contact with either the adsorption layer or the second substrate. Based on the position information, the control unit stores the position information in the second and subsequent forward processing. The peeling start part preparation apparatus as described in any one of Claim 1 to 4 which adjusts the advance speed of a knife. 製品基板である第1の主面と第2の主面とを有する第1の基板と、補強板である第1の主面と第2の主面とを有する第2の基板とが吸着層を介して剥離可能に貼合された積層体に対して、前記吸着層にナイフを刺入することにより、前記積層体に剥離開始部を作成する剥離開始部作成方法において、
前記第2の基板の前記第2の主面と垂直な方向における前記積層体と前記ナイフとの位置関係を検出する位置検出ステップと、
前記位置検出ステップの検出結果に基づいて、前記積層体と前記ナイフとを前記第2の基板の第2の主面と垂直な方向に相対的に移動させて、前記ナイフの位置を前記積層体の前記吸着層に対向する位置から予め定められた距離だけ前記第2の基板の側に前記ナイフの位置を位置調整する第1位置調整ステップと、
前記第2の基板の前記第2の主面に平行な方向に、前記ナイフと前記積層体とを相対的に前進させる前進ステップと、
前記ナイフの刃先が前記吸着層、及び前記第2の基板の何れに接触したか検出する検出ステップと、
前記ナイフの刃先が前記第2の基板に接触したと検出した場合は、前記第2の基板の前記第2の主面に平行な方向に、前記積層体と前記ナイフと相対的に後退させる後退ステップと、前記積層体と前記ナイフとを前記第2の基板の第2の主面と垂直な方向に相対的に移動させて、前記吸着層の側に前記吸着層の厚さ以下の距離だけ前記ナイフの位置を調整する第2位置調整ステップと、を実行し、前記ナイフが前記吸着層に接触したことを検出するまで、前記前進ステップと前記検出ステップと、前記後退ステップと前記第2位置調整ステップとをこの順で繰り返すステップと、
前記ナイフの刃先が前記吸着層に接触したと検出した場合は、前記ナイフと前記積層体とを相対的に継続して前進させる継続前進ステップと、
を有する剥離開始部作成方法。
A first substrate having a first main surface and a second main surface, which are product substrates, and a second substrate having a first main surface and a second main surface, which are reinforcing plates, are adsorbed layers. In the peel start part creating method for creating a peel start part in the laminate, by inserting a knife into the adsorption layer, for the laminate bonded in a peelable manner via
A position detecting step of detecting a positional relationship between the stacked body and the knife in a direction perpendicular to the second main surface of the second substrate;
Based on the detection result of the position detecting step, the laminated body and the knife are moved relative to each other in a direction perpendicular to the second main surface of the second substrate, and the position of the knife is changed to the laminated body. A first position adjusting step for adjusting the position of the knife on the second substrate side by a predetermined distance from a position facing the adsorption layer;
An advancing step of relatively advancing the knife and the laminate in a direction parallel to the second main surface of the second substrate;
A detection step of detecting which of the suction layer and the second substrate the blade edge of the knife has contacted;
When it is detected that the blade edge of the knife is in contact with the second substrate, the retreat is performed so that the stacked body and the knife are relatively retreated in a direction parallel to the second main surface of the second substrate. Moving the step and the laminate and the knife relative to each other in a direction perpendicular to the second main surface of the second substrate, and moving the adsorption layer toward the adsorption layer by a distance equal to or less than the thickness of the adsorption layer. A second position adjusting step for adjusting the position of the knife, and the forward step, the detecting step, the reverse step, and the second position until it is detected that the knife has contacted the adsorption layer. Repeating the adjustment steps in this order;
If it is detected that the blade edge of the knife is in contact with the adsorption layer, a continuous advance step for relatively continuously advancing the knife and the laminate;
The peeling start part production method which has this.
前記検出ステップが変位計又はロードセルで検出することを含む請求項に記載の剥離開始部作成方法。 The peeling start part preparation method according to claim 6 , wherein the detecting step includes detecting with a displacement meter or a load cell. 前記予め定められた距離が、前記位置検出ステップ、及び前記第1位置調整ステップにおける最大誤差分以上である請求項又はに記載の剥離開始部作成方法。 The peeling start part creation method according to claim 6 or 7 , wherein the predetermined distance is equal to or greater than a maximum error in the position detection step and the first position adjustment step. 前記吸着層の厚さが1μm以上50μm以下である請求項からの何れか一項に記載の剥離開始部作成方法。 The method for creating a peeling start portion according to any one of claims 6 to 8 , wherein the adsorption layer has a thickness of 1 µm to 50 µm. 前記ナイフの刃先が前記吸着層、及び前記第2の基板の何れかに接触した位置情報を記憶する記憶ステップを有し、2回目以降の前記前進ステップは、前記位置情報に基づいて前記ナイフの前進速度を調整することを含む請求項からの何れか一項に記載の剥離開始部作成方法。 A storage step for storing position information in which the blade edge of the knife is in contact with either the adsorption layer or the second substrate; The peeling start part production | generation method as described in any one of Claim 6 to 9 including adjusting advancing speed. 製品基板である第1の主面と第2の主面とを有する第1の基板と、補強板である第1の主面と第2の主面とを有する第2の基板とが吸着層を介して、前記第1の基板の第2の主面と前記第2の基板の第1の主面とが剥離可能に貼合された積層体に対し、前記第1の基板の第1の主面に機能層を形成する機能層形成工程と、前記機能層が形成された前記第1の基板と前記第2の基板とを分離する分離工程と、を有する電子デバイスの製造方法において、
前記分離工程は、前記吸着層にナイフを刺入れて剥離開始部を作成する剥離開始部作成工程と、前記剥離開始部を起点として前記第1の基板と前記第2の基板とを順次剥離する剥離工程と、を有し、
剥離開始部作成工程は、
前記第2の基板の前記第2の主面と垂直な方向における前記積層体と前記ナイフとの位置関係を検出する位置検出ステップと、
前記位置検出ステップの検出結果に基づいて、前記積層体と前記ナイフとを前記第2の基板の第2の主面と垂直な方向に相対的に移動させて、前記ナイフの位置を前記積層体の前記吸着層に対向する位置から予め定められた距離だけ前記第2の基板の側に前記ナイフの位置を位置調整する第1位置調整ステップと、
前記第2の基板の前記第2の主面に平行な方向に、前記ナイフと前記積層体とを相対的に前進させる前進ステップと、
前記ナイフの刃先が前記吸着層、及び前記第2の基板の何れに接触したか検出する検出ステップと、
前記ナイフの刃先が前記第2の基板に接触したと検出した場合は、前記第2の基板の前記第2の主面に平行な方向に、前記積層体と前記ナイフと相対的に後退させる後退ステップと、前記積層体と前記ナイフとを前記第2の基板の第2の主面と垂直な方向に相対的に移動させて、前記吸着層の側に前記吸着層の厚さ以下の距離だけ前記ナイフの位置を調整する第2位置調整ステップと、を実行し、前記ナイフが前記吸着層に接触したことを検出するまで、前記前進ステップと前記検出ステップと、前記後退ステップと前記第2位置調整ステップとをこの順で繰り返すステップと、
前記ナイフの刃先が前記吸着層に接触したと検出した場合は、前記ナイフと前記積層体とを相対的に継続して前進させる継続前進ステップと、
を含む電子デバイスの製造方法。
A first substrate having a first main surface and a second main surface, which are product substrates, and a second substrate having a first main surface and a second main surface, which are reinforcing plates, are adsorbed layers. With respect to the laminate in which the second main surface of the first substrate and the first main surface of the second substrate are detachably bonded to each other, the first substrate of the first substrate In a method for manufacturing an electronic device, comprising: a functional layer forming step of forming a functional layer on a main surface; and a separation step of separating the first substrate and the second substrate on which the functional layer is formed.
The separation step sequentially separates the first substrate and the second substrate from the separation start portion creation step of creating a separation start portion by inserting a knife into the adsorption layer, and starting from the separation start portion. A peeling step,
The peeling start part creation process
A position detecting step of detecting a positional relationship between the stacked body and the knife in a direction perpendicular to the second main surface of the second substrate;
Based on the detection result of the position detecting step, the laminated body and the knife are moved relative to each other in a direction perpendicular to the second main surface of the second substrate, and the position of the knife is changed to the laminated body. A first position adjusting step for adjusting the position of the knife on the second substrate side by a predetermined distance from a position facing the adsorption layer;
An advancing step of relatively advancing the knife and the laminate in a direction parallel to the second main surface of the second substrate;
A detection step of detecting which of the suction layer and the second substrate the blade edge of the knife has contacted;
When it is detected that the blade edge of the knife is in contact with the second substrate, the retreat is performed so that the stacked body and the knife are relatively retreated in a direction parallel to the second main surface of the second substrate. Moving the step and the laminate and the knife relative to each other in a direction perpendicular to the second main surface of the second substrate, and moving the adsorption layer toward the adsorption layer by a distance equal to or less than the thickness of the adsorption layer. A second position adjusting step for adjusting the position of the knife, and the forward step, the detecting step, the reverse step, and the second position until it is detected that the knife has contacted the adsorption layer. Repeating the adjustment steps in this order;
If it is detected that the blade edge of the knife is in contact with the adsorption layer, a continuous advance step for relatively continuously advancing the knife and the laminate;
A method of manufacturing an electronic device comprising:
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