JP5806912B2 - 液体原料の気化方法 - Google Patents
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- 反応室内に原料ガスと還元ガスとを夫々導入し、当該反応室に設置した基板表面に気相からの析出により所定の薄膜を成膜する際に液体原料を気化して反応室内に導入する原料ガスとする液体原料の気化方法であって、
気化室に通じる原料供給路を介して、液体原料を供給すると共に、気化室を臨む原料供給路の導入口周辺からキャリアガスを噴射することで、液体原料を気化室内に噴霧し、この噴霧された液体原料を、所定温度に加熱された気化室内での熱交換により気化し、
この気化された原料ガスを当該気化室に開設した排出口から排出し、
前記原料供給路内で液体原料に所定流量で還元ガスを混合して気液混合状態とし、この状態で前記導入口から気化室に噴射し、前記原料供給路内で混合する還元ガスの流量に応じて反応室に直接導入する還元ガスの流量を少なくすることを特徴とする液体原料の気化方法。
- 請求項1記載の液体原料の気化方法であって、基板表面にニッケル膜を成膜するものにおいて、
液体原料をビス(N,N´−ジターシャルブチルアセトアミジネイト)ニッケルまたはメチルシクロペンタジエ二ルニッケルとし、前記還元ガスを水素ガスとすることを特徴とする液体原料の気化方法。 - 前記キャリアガスを前記還元ガスたる水素ガスとすることを特徴とする請求項2記載の液体原料の気化方法。
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