JP5806501B2 - インプリント装置、及び、物品の製造方法 - Google Patents

インプリント装置、及び、物品の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5806501B2
JP5806501B2 JP2011105653A JP2011105653A JP5806501B2 JP 5806501 B2 JP5806501 B2 JP 5806501B2 JP 2011105653 A JP2011105653 A JP 2011105653A JP 2011105653 A JP2011105653 A JP 2011105653A JP 5806501 B2 JP5806501 B2 JP 5806501B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
mold
imprint
resin
imprint material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2011105653A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2012238674A (ja
JP2012238674A5 (enExample
Inventor
佐藤　浩司
浩司 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2011105653A priority Critical patent/JP5806501B2/ja
Publication of JP2012238674A publication Critical patent/JP2012238674A/ja
Publication of JP2012238674A5 publication Critical patent/JP2012238674A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5806501B2 publication Critical patent/JP5806501B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
JP2011105653A 2011-05-10 2011-05-10 インプリント装置、及び、物品の製造方法 Active JP5806501B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011105653A JP5806501B2 (ja) 2011-05-10 2011-05-10 インプリント装置、及び、物品の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011105653A JP5806501B2 (ja) 2011-05-10 2011-05-10 インプリント装置、及び、物品の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2012238674A JP2012238674A (ja) 2012-12-06
JP2012238674A5 JP2012238674A5 (enExample) 2014-06-26
JP5806501B2 true JP5806501B2 (ja) 2015-11-10

Family

ID=47461341

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011105653A Active JP5806501B2 (ja) 2011-05-10 2011-05-10 インプリント装置、及び、物品の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5806501B2 (enExample)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11261267B1 (en) 2020-12-17 2022-03-01 Canon Kabushiki Kaisha Photocurable composition
US12105417B2 (en) 2021-10-05 2024-10-01 Canon Kabushiki Kaisha Method of forming a photo-cured layer

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6333039B2 (ja) 2013-05-16 2018-05-30 キヤノン株式会社 インプリント装置、デバイス製造方法およびインプリント方法
JP6315904B2 (ja) * 2013-06-28 2018-04-25 キヤノン株式会社 インプリント方法、インプリント装置及びデバイスの製造方法
JP5909210B2 (ja) * 2013-07-11 2016-04-26 キヤノン株式会社 インプリント装置及び物品の製造方法
JP6234207B2 (ja) * 2013-12-18 2017-11-22 キヤノン株式会社 インプリント方法、インプリント装置および物品の製造方法
JP2015167203A (ja) * 2014-03-04 2015-09-24 富士フイルム株式会社 パターン形成方法およびパターン化基板製造方法
JP7043199B2 (ja) * 2017-08-03 2022-03-29 キヤノン株式会社 インプリント方法、プログラム、インプリント装置及び物品の製造方法
US10725375B2 (en) 2018-12-04 2020-07-28 Canon Kabushiki Kaisha Using non-linear fluid dispensers for forming thick films

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5182470B2 (ja) * 2007-07-17 2013-04-17 大日本印刷株式会社 インプリントモールド
JP4609562B2 (ja) * 2008-09-10 2011-01-12 日立電線株式会社 微細構造転写用スタンパ及びその製造方法
US20100096764A1 (en) * 2008-10-20 2010-04-22 Molecular Imprints, Inc. Gas Environment for Imprint Lithography
JP2011009641A (ja) * 2009-06-29 2011-01-13 Toshiba Corp 半導体装置の製造方法及びインプリント用テンプレート
NL2005007A (en) * 2009-08-28 2011-03-01 Asml Netherlands Bv Imprint lithography method and apparatus.
JP2012114158A (ja) * 2010-11-22 2012-06-14 Toshiba Corp インプリント方法およびインプリント装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11261267B1 (en) 2020-12-17 2022-03-01 Canon Kabushiki Kaisha Photocurable composition
US12105417B2 (en) 2021-10-05 2024-10-01 Canon Kabushiki Kaisha Method of forming a photo-cured layer

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012238674A (ja) 2012-12-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5806501B2 (ja) インプリント装置、及び、物品の製造方法
US9535321B2 (en) Imprint apparatus and article manufacturing method
JP5647029B2 (ja) インプリント装置及び物品の製造方法
KR101421910B1 (ko) 전사 시스템 및 전사 방법
US9387607B2 (en) Imprint apparatus, imprint method, and method for producing device
JP6300459B2 (ja) インプリント装置およびインプリント方法、それを用いた物品の製造方法
KR101995615B1 (ko) 임프린트 방법, 임프린트 장치 및 물품 제조 방법
JP5574801B2 (ja) インプリント装置及び物品の製造方法
JP6304965B2 (ja) インプリント装置およびインプリント方法、それを用いた物品の製造方法
JP7278828B2 (ja) 成形方法、成形装置、インプリント方法、および物品の製造方法
US9952504B2 (en) Imprint method, imprint apparatus, and method for manufacturing device
JP6234207B2 (ja) インプリント方法、インプリント装置および物品の製造方法
JP5936373B2 (ja) インプリント装置、インプリント装置の制御方法、及びデバイス製造方法
JP7150535B2 (ja) 平坦化装置、平坦化方法及び物品の製造方法
JP5448714B2 (ja) インプリント装置、及びそれを用いた物品の製造方法
JP5671410B2 (ja) インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法
KR20190037114A (ko) 임프린트 장치, 임프린트 방법, 임프린트재의 배치 패턴의 결정 방법 및 물품의 제조 방법
WO2017047073A1 (en) Imprint apparatus and method of manufacturing article
KR20180048323A (ko) 임프린트 장치, 임프린트 방법 및 물품의 제조 방법
JP6450105B2 (ja) インプリント装置及び物品製造方法
JP2014007260A (ja) インプリント装置、収納ケース及び物品の製造方法
KR101388805B1 (ko) 임프린트 장치 및 그것을 사용한 물품의 제조 방법
KR20180128844A (ko) 거푸집, 임프린트 장치, 및 물품의 제조 방법
JP7721736B1 (ja) 平坦化装置、平坦化方法、および物品の製造方法
JP7604257B2 (ja) インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140512

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140512

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20150220

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150227

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150428

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150807

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150904

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5806501

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151