JP5794830B2 - 有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法 - Google Patents
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Description
Display Panel)と、電界発光素子と、発光ダイオード(Light
Emitting Diode:LED)とがある。受光型としては、液晶ディスプレイ(LCD:Liquid Crystal Display)を挙げられる。このうち、電界発光素子は、視野角が広く、コントラストが優秀であるだけでなく、応答速度が速いという長所を有しているので、次世代表示素子として注目されている。このような電子発光素子は、発光層を形成する物質によって、無機電界発光素子と有機電界発光素子とに区分される。
Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)、ZnO群から選択された一つ以上の物質を含みうる。
本発明において、前記ソース電極及びドレイン電極を形成する工程は、前記ゲート電極のコーナーの上部には、前記ソース電極及び前記ドレイン電極が形成されないようにできる。
Film Transistor)2と有機発光素子3とが備えられる。図1は、有機発光ディスプレイ装置の一画素の一部を示した図面であって、本発明の有機発光ディスプレイ装置は、このような画素が複数個存在する。
2を例示したが、本発明の権利範囲は、必ずしもこれに限定されず、トップゲート構造のTFTにも適用可能である。
Dianhydride)またはピロメリット酸ジイミド及びこれらの誘導体、ぺリレンテトラカルボン酸二無水物(PTCDA:Perylene Tetracarboxylic
Dianhydride)またはぺリレンテトラカルボン酸ジイミド及びこれらの誘導体を含みうる。
Vapor Deposition)、CVD(Chemical Vapor Deposition)またはALD(Atomic Layer Deposition)などの工程で塗布した後にパターニングすることによって、活性層23を形成する。ここで、半導体物質は、無機半導体または有機半導体から選択されて形成されうる。また、活性層23は、酸化物半導体で形成され、例えば、G−I−Z−O層[a(In2O3)b(Ga2O3)c(ZnO)層](a、b、cは、それぞれa≧0、b≧0、c>0の条件を満足させる実数)でありうる。
2 TFT
3 有機発光素子
21 ゲート電極
22 ゲート絶縁層
23 活性層
24 絶縁層
25 ソース電極
25a 第1ソース電極
25b 第2ソース電極
25c 第3ソース電極
26 ドレイン電極
26a 第1ドレイン電極
26b 第2ドレイン電極
26c 第3ドレイン電極
27 パッシベーション層
29 画素定義膜
31 第1電極
32 有機層
33 第2電極
Claims (20)
- ゲート電極、前記ゲート電極と絶縁された活性層、前記ゲート電極と絶縁され、前記活性層にコンタクトされるソース電極及びドレイン電極、及び前記ソース電極及びドレイン電極と前記活性層との間に介された絶縁層を備える薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタに電気的に連結された有機発光素子と、を備え、
前記絶縁層は、活性層上に形成され、
前記ソース電極及び前記ドレイン電極は、前記絶縁層上に形成され、かつ、前記活性層にコンタクトされ、
前記ソース電極は、相互分離形成された第1ソース電極及び第2ソース電極と、前記第1ソース電極及び前記第2ソース電極を電気的に連結する第3ソース電極とを備え、
前記ドレイン電極は、相互分離形成された第1ドレイン電極及び第2ドレイン電極と、前記第1ドレイン電極及び前記第2ドレイン電極を電気的に連結する第3ドレイン電極とを備え、
前記薄膜トランジスタと前記有機発光素子との間に、前記第1及び第2ソース電極、及び前記第1及び第2ドレイン電極を覆うようにパッシベーション層が介在され、
前記第1ソース電極と前記第2ソース電極とのそれぞれ少なくとも一部が露出されるように、前記パッシベーション層にホールが形成され、前記ホールを充填するように、前記第3ソース電極が形成されて、前記第1ソース電極と前記第2ソース電極とが電気的に連結され、
前記第1ドレイン電極と前記第2ドレイン電極とのそれぞれ少なくとも一部が露出されるように、前記パッシベーション層にホールが形成され、前記ホールを充填するように、前記第3ドレイン電極が形成されて、前記第1ドレイン電極と前記第2ドレイン電極とが電気的に連結されることを特徴とする有機発光ディスプレイ装置。 - 前記第1ソース電極及び前記第1ドレイン電極は、前記活性層が形成された領域と対応する領域に形成されることを特徴とする請求項1に記載の有機発光ディスプレイ装置。
- 前記ソース電極及び前記ドレイン電極は、前記ゲート電極のコーナーと対応する領域には形成されないことを特徴とする請求項1に記載の有機発光ディスプレイ装置。
- 前記第1ソース電極、前記第2ソース電極、前記第1ドレイン電極及び前記第2ドレイン電極は、平坦に形成されることを特徴とする請求項1に記載の有機発光ディスプレイ装置。
- 前記第1ソース電極、前記第2ソース電極、前記第1ドレイン電極及び前記第2ドレイン電極は、前記絶縁層が平坦に形成された領域の上部のみに形成されることを特徴とする請求項1に記載の有機発光ディスプレイ装置。
- 前記有機発光素子は、前記薄膜トランジスタに電気的に連結された第1電極と、
前記第1電極上に形成される有機層と、
前記有機層上に形成される第2電極と、を備えることを特徴とする請求項1に記載の有機発光ディスプレイ装置。 - 前記第1電極、前記第3ソース電極及び前記第3ドレイン電極は、同一層に同一物質で所定間隔離隔されて形成されることを特徴とする請求項6に記載の有機発光ディスプレイ装置。
- 前記第3ソース電極及び前記第3ドレイン電極は、ITO、IZO、ZnO群から選択された一つ以上の物質を含むことを特徴とする請求項1に記載の有機発光ディスプレイ装置。
- 基板上にゲート電極を形成する工程と、
前記基板上に前記ゲート電極を覆うゲート絶縁層を形成する工程と、
前記ゲート絶縁層上に活性層を形成する工程と、
前記活性層の少なくともチャネル領域を覆う絶縁層を形成する工程と、
前記絶縁層上に前記活性層とコンタクトされるソース電極及びドレイン電極を形成する工程と、
前記ソース電極及びドレイン電極のうち一つと電気的に連結された有機発光素子を形成する工程と、を含み、
前記ソース電極及びドレイン電極を形成する工程は、
相互離隔されて形成された第1ソース電極及び第2ソース電極を形成する工程と、
前記第1ソース電極及び前記第2ソース電極を電気的に連結する第3ソース電極を形成する工程と、
相互離隔されて形成された第1ドレイン電極及び第2ドレイン電極を形成する工程と、
前記第1ドレイン電極及び前記第2ドレイン電極を電気的に連結する第3ドレイン電極を形成する工程と、を含み、
前記第1及び第2ソース電極、及び前記第1及び第2ドレイン電極を覆うようにパッシベーション層を形成し、
前記第1ソース電極と前記第2ソース電極とのそれぞれ少なくとも一部が露出されるように、前記パッシベーション層にホールを形成し、前記ホールを充填するように、前記第3ソース電極を形成して、前記第1ソース電極と前記第2ソース電極とを電気的に連結し、
前記第1ドレイン電極と前記第2ドレイン電極とのそれぞれ少なくとも一部が露出されるように、前記パッシベーション層にホールを形成し、前記ホールを充填するように、前記第3ドレイン電極を形成して、前記第1ドレイン電極と前記第2ドレイン電極とを電気的に連結することを特徴とする有機発光ディスプレイ装置の製造方法。 - 前記第1ソース電極及び前記第1ドレイン電極は、前記活性層が形成された領域と対応する領域に前記活性層とコンタクトするように形成されることを特徴とする請求項9に記載の有機発光ディスプレイ装置の製造方法。
- 前記ソース電極及びドレイン電極を形成する工程は、
前記ゲート電極のコーナーの上部には、前記ソース電極及び前記ドレイン電極が形成されないようにすることを特徴とする請求項9に記載の有機発光ディスプレイ装置の製造方法。 - 前記第1ソース電極、前記第2ソース電極、前記第1ドレイン電極及び前記第2ドレイン電極は、平坦に形成されることを特徴とする請求項9に記載の有機発光ディスプレイ装置の製造方法。
- 前記第1ソース電極、前記第2ソース電極、前記第1ドレイン電極及び前記第2ドレイン電極は、前記絶縁層が平坦に形成された領域の上部のみに形成されることを特徴とする請求項9に記載の有機発光ディスプレイ装置の製造方法。
- 前記ソース電極及びドレイン電極のうち一つと電気的に連結された有機発光素子を形成する工程は、
前記ソース電極及びドレイン電極のうち一つに第1電極を電気的に連結する工程と、
前記第1電極上に有機層を形成する工程と、
前記有機層上に第2電極を形成する工程と、を含むことを特徴とする請求項9に記載の有機発光ディスプレイ装置の製造方法。 - 前記第1電極、前記第3ソース電極及び前記第3ドレイン電極は、同一層に同一物質で所定間隔離隔されて形成されることを特徴とする請求項14に記載の有機発光ディスプレイ装置の製造方法。
- 基板上にゲート電極を形成する工程と、
前記ゲート電極の上部に前記ゲート電極と絶縁された活性層を形成する工程と、
前記活性層上に絶縁層を形成する工程と、
前記絶縁層上に導電層を形成する工程と、
前記導電層をパターニングして、第1ソース電極、第2ソース電極、第1ドレイン電極及び第2ドレイン電極を形成する工程と、
前記第1ソース電極、第2ソース電極、第1ドレイン電極及び第2ドレイン電極を覆うようにパッシベーション層を形成する工程と、
前記第1ソース電極、第2ソース電極、第1ドレイン電極及び第2ドレイン電極のそれぞれの少なくとも一部が露出されるように、前記パッシベーション層にホールを形成する工程と、
前記第1ソース電極と第2ソース電極とを電気的に連結する第3ソース電極と、前記第1ドレイン電極と第2ドレイン電極とを電気的に連結する第3ドレイン電極とを形成する工程と、
前記第1ソース電極、第2ソース電極、第1ドレイン電極及び第2ドレイン電極のうち少なくとも一つと電気的に連結された有機発光素子を形成する工程と、を含み、
前記絶縁層上に導電層を形成する工程では、前記活性層の少なくとも一部が露出されるように、前記絶縁層にホールを形成した後に、前記絶縁層上及び前記ホール内に導電層を形成し、
前記導電層をパターニングして、第1ソース電極、第2ソース電極、第1ドレイン電極及び第2ドレイン電極を形成する工程では、前記第1ソース電極及び前記第1ドレイン電極を前記活性層にコンタクトさせ、
前記第3ソース電極と前記第3ドレイン電極とを形成する工程では、
前記第1ソース電極と前記第2ソース電極とのそれぞれ少なくとも一部が露出されるように、前記パッシベーション層に形成されたホールを充填して前記第3ソース電極を形成し、
前記第1ドレイン電極と前記第2ドレイン電極とのそれぞれ少なくとも一部が露出されるように、前記パッシベーション層に形成されたホールを充填して前記第3ドレイン電極を形成することを特徴とする有機発光ディスプレイ装置の製造方法。 - 前記第1ソース電極、前記第2ソース電極、前記第1ドレイン電極及び前記第2ドレイン電極は、平坦に形成されることを特徴とする請求項16に記載の有機発光ディスプレイ装置の製造方法。
- 前記第1ソース電極、前記第2ソース電極、前記第1ドレイン電極及び前記第2ドレイン電極は、前記絶縁層が平坦に形成された領域の上部のみに形成されることを特徴とする請求項16に記載の有機発光ディスプレイ装置の製造方法。
- 前記第1ソース電極、第2ソース電極、第1ドレイン電極及び第2ドレイン電極のうち少なくとも一つと電気的に連結された有機発光素子を形成する工程は、
前記第1ソース電極、第2ソース電極、第1ドレイン電極及び第2ドレイン電極のうち少なくとも一つに第1電極を電気的に連結する工程と、
前記第1電極上に有機層を形成する工程と、
前記有機層上に第2電極を形成する工程と、を含むことを特徴とする請求項16に記載の有機発光ディスプレイ装置の製造方法。 - 前記第1電極、前記第3ソース電極及び前記第3ドレイン電極は、同一層に同一物質で所定間隔離隔されて形成されることを特徴とする請求項19に記載の有機発光ディスプレイ装置の製造方法。
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