JP5791312B2 - 表面加工データの作成方法および装置 - Google Patents
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Description
これらの絞を樹脂製品の表面に形成するために、従来のエッチング工法や電気鋳造法などに代わり、特開平7−241909号公報や特開2004−358662号公報には、皮革モデルなどの表面形状を読み取った表面測定値から表面形状の深さを256階調の濃度で表わした画像データに変換してコンピュータにより生成した加工データを用いて絞を付与する技術が提案されている。
しかし、このような方式では、先ず製品形状データをボクセルデータに変換するために膨大なデータ量を必要とする。
さらに、複数の曲面からなる連続した複雑形状の製品表面に対しては、分割した範囲ごとに絞を生成し、絞生成後に隣接する絞形状とのつなぎ目処理が必要となるが、これに対する満足な処理が未解決である。
これは、絞付与対象の自由曲面で定義される製品形状データをポリゴンメッシュ化し、ポリゴンメッシュを分割した1つを初期領域としてテクスチャをマッピングし、このマッピングされたテクスチャに所定の要求レベルを満たす変化でつながる新たなテクスチャを合成して、隣接する領域に新たなテクスチャをマッピングすることを繰り返してすべての領域にテクスチャをマッピングし、ポリゴンメッシュの各頂点をテクスチャに基づいてそれぞれの法線方向に変位させた新たな頂点に基づいて作成した新たなポリゴンメッシュデータを絞が付与された表面加工データとするものである。
これにより、初期段階でデータを分割したとしても絞形状のつなぎ目が滑らかで、表面が可展面でない製品形状の場合でも歪みの少ない見栄えの良い絞を付与することができる。
絞付与対象の自由曲面で定義される製品形状データを複数に分割したパッチ単位でポリゴンメッシュ化し、
1つのパッチを処理対象として、隣接するパッチ1つずつとの間で順次にポリゴンメッシュを連続させる形状連続処理を行い、
処理対象の各パッチごとにその平均法線を用いてテクスチャ座標系を設定し、
処理対象のパッチのすべての頂点を当該パッチのテクスチャ座標系に射影してテクスチャ値を求めるとともに、
処理対象のパッチにおける所定範囲の頂点について、当該処理対象のパッチに隣接するパッチのテクスチャ座標系に射影してテクスチャ値を求めて、両テクスチャ値の混ぜ合わせを行うことによりテクスチャをマッピングし、
処理対象のパッチの各頂点を当該パッチにマッピングされたテクスチャに基づいてそれぞれの法線方向に変位させ、
変位させた各頂点に基づいて新たなポリゴンメッシュデータを作成し、
上記形状連続処理以下を繰り返して、上記新たなポリゴンメッシュデータを絞が付与されたパッチ単位の表面加工データとするものとした。
隣接関係の探索は、1つのパッチの境界線上の頂点が他のパッチの境界線上の頂点列を用いて作成したポリライン上に重なっているとき、当該1つのパッチと他のパッチが隣接関係にあるものとすればよい。
上記の所定範囲は、隣接するパッチとの境界の頂点との最短距離が所定値以内の範囲とすることができる。
さらに、両テクスチャ値の混ぜ合わせは、上記の最短距離でウエイト付けして行うのが好ましい。
そして、最短距離を求める対象である隣接するパッチとの境界の頂点は、互いに位置を一致させた当該隣接するパッチの境界線上の頂点を参照することにより識別することができる。
一連の処理において、処理対象のパッチはポリゴンメッシュのデータ量の大きい順に選択するのが好ましい。
パッチに分割しているので表面が可展面でない製品形状の場合でも歪みの少ない見栄えの良い絞を付与することができる。
そしてとくに、形状連続処理から絞付与されたポリゴンメッシュ作成までを処理対象のパッチ単位で処理するものとし、その間処理対象のパッチに隣接するパッチが複数あっても順次に1つずつデータを読み込んで処理すればよいから、コンピュータのメモリへは一時に最大2つのパッチ分のポリゴンメッシュデータを格納するだけで済み、データがメモリの格納可能量を超えてコンピュータの処理速度が極端に低下したりすることがなく、高い実用性を有する。
図1は、実施の形態にかかる表面加工データ作成装置の構成を示すブロック図である。
表面加工データ作成装置10はコンピュータ構成で、製品の表面形状および絞のテクスチャデータとさらに処理ツールデータを入力するデータ入力部11と、入力データ格納部12と、入力データ格納部12に格納されたデータを基に、製品の表面曲面に絞形状を付したポリゴンデータを生成するデータ処理部13と、生成したポリゴンデータを記憶するポリゴンデータ記憶部19と、ポリゴンデータ記憶部19からポリゴンデータを加工データとして出力するデータ出力部20と、データ処理部13に接続した例えばハードディスクからなる処理データ格納部14とからなる。
表面加工データ作成装置10には、キーボードやジョグレバーなどからなる操作入力部22と、画像データを表示可能なモニタ23とが接続される。
なお、境界線はとくに断らない限り、いわゆるトリムラインを含むものであり製品形状の端縁を画して隣接するパッチのない境界線を含むものである。
表面形状データには、製品の絞を付与する対象部分(以下、絞付与対象という)の全体サイズが含まれている。
テクスチャデータはデータ処理部13での処理のため画素値として読み出される。以下では、便宜的に画素値を単に色、あるいは色情報とも言う。
処理ツールデータには、テクスチャの混ぜ合わせの際に重み付けを行う範囲を定める境界線上の頂点からの最短距離の上限値、抜き勾配に応じて変化させる縮小率の算出に用いる射出成形型の型開き方向などがある。
ポリゴンメッシュ化部30は、各パッチWごとにその自由曲面上に頂点を有する三角形ポリゴンメッシュを作成し、ポリゴンメッシュ統合部31は隣接するパッチ間で三角形ポリゴンメッシュが滑らかにつながるように処理を行う。
テクスチャ合成部33は、パッチ単位で三角形ポリゴンメッシュにテクスチャをマッピングするとともに、隣接パッチとのテクスチャの連続性を確保するため色の混ぜ合わせを行う。
三角形ポリゴンメッシュの頂点位置変位については、金型の抜き勾配に応じた変位量縮小率を適用して変位量を変化させ、型抜き時のアンダーの発生を防止する。データ処理部13には、変位量縮小率を定める複数の変化式があらかじめ設定されており、成形材料や製品形状の特性等を考慮して、操作入力部22の操作によりいずれかの変化式を選択可能となっている。
処理データ格納部14には、まずポリゴンメッシュ化部30で作成されたすべてのパッチの三角形ポリゴンメッシュが格納されてデータ処理部13での処理に応じてパッチ単位で読み出され、再格納される。作業メモリ35に一時的に格納されるのは、処理される最大2つまでのパッチ分のデータとなる。すなわち、ポリゴンメッシュ統合部31で頂点列を一致させた隣接パッチの三角形ポリゴンメッシュも一致処理が済むごとに作業メモリ35から消去され、新たな隣接パッチの三角形ポリゴンメッシュと入れ替えられる。また、テクスチャ合成部33でマッピングした三角形ポリゴンメッシュも、パッチ単位の処理が終わるごとに処理データ格納部14に格納されて、作業メモリ35からは消去される。
データ処理部13は絞が付与されたポリゴンデータをパッチ単位でポリゴンデータ記憶部19に記憶させる。
モニタ23には、各処理の進捗状態を画像を含めて表示することができる。
図2は処理の流れを示すメインフローチャートである。
製品の表面形状データのパッチ情報、絞のテクスチャデータ、型開き方向の角度情報、および後述する三角形ポリゴンメッシュの間隔上限値bが操作入力部22の操作によりデータ入力部11に入力されると、各データが入力データ格納部12に格納されて、処理が開始される。なお、これらのデータ入力とともに、変位量縮小率を定める変化式も操作入力部22により選択される。
ステップ101で、すべてのパッチWについて三角形ポリゴンメッシュを作成したかどうかをチェックする。
まだ三角形ポリゴンメッシュQcを作成していないパッチが残っていればステップ100へ戻り、すべてのパッチWの三角形ポリゴンメッシュ作成が完了していればステップ102へ進む。
ステップ102では、ポリゴンメッシュ統合部31において、パッチごとに他のパッチと境界が重なっているかの隣接関係を探索して、互いに隣接するパッチを特定する。
ステップ104では、すべてのパッチWについて頂点一致処理が完了したかどうかをチェックする。
頂点一致処理が終了していないパッチが残っていればステップ103へ戻り、すべてのパッチについて頂点一致処理が完了していればステップ105へ進む。
ステップ105において、テクスチャ合成部33はパッチWの三角形ポリゴンメッシュQcにテクスチャをマッピングする。
ステップ105、106は1つのパッチWについて続けて実行される。
ステップ107で、すべてのパッチWについて絞形状が付与されポリゴンデータ記憶部19に格納されたかどうかをチェックする。
すべてのパッチについて絞形状の付与が終了していなければステップ105へ戻り、終了していればステップ108へ進む。
ステップ108では、モニタ23に処理が完了した旨を表示して、本処理を終了する。
処理データ格納部14に格納されたデータは消去される。
このあと、データ出力部20は、操作入力部22の操作により、ポリゴンデータ記憶部19から絞付与ポリゴンデータを読み出し、加工データとして加工装置等へ出力可能となる。
ステップ200において、選択したパッチWの図4の(a)に示すような自由曲面(パラメトリック曲面)Jを格子の間隔が間隔上限値b以下となるように分割するパラメータu、vの分割数を算出する。例えばパッチWのuのパラメータ間隔(最大値−最小値)をある整数mで分割し、パラメータ間隔cを求める。cを用いてパッチWを分割し、間隔上限値bと比較し、bより大きい場合にはmを増やす。すべての格子間隔が間隔上限値bより小さくなるまでこの処理を繰り返す。パラメータvに対しても同様の処理を行う。図4の(b)は自由曲面上の分割線を示す。
具体的には、グリッド点Caのうち、図6に白抜きで示すように、パッチWの境界線Kを含んで境界線の外部にあるものを削除し、さらに、境界線Kより内部にあっても境界線からの距離が格子間隔の1/100未満のものも削除する。格子間隔は間隔上限値b、あるいは実際に分割した格子間隔でもよい。
なお、境界線Kはトリムラインを含み、B−spline曲線で示される。境界線Kの形状はパッチごとに任意である。
境界線Kからの距離が所定距離未満のグリッド点Caを排除するのは、次に述べる境界線K上の点を用いて形成するポリゴンが極端に小さくなってしまうことを避けるためである。
なお、分割数についてはグリッド点Caの場合と同様に全周が等分割される値にすることができるが、グリッド点Caおよび点列Cbの分割についてはいずれも間隔上限値bで等分割した上最後の間隔上限値bを越える部分のみを2分してもよい。これにより、グリッド点および点列がそれぞれ所定範囲内に均一化した間隔となる。
ステップ206において、四角格子メッシュSqcの外周形状が階段状になって凹部がある場合には、図9のE1、E2部に示すように、当該凹部の内角を挟む外周の2つのグリッド点を直線で連結して三角形Δ1、Δ2を形成する。ただし、E3部の破線で示すように、2つのグリッド点を連結する直線が境界線Kを横切る場合は三角形を形成しない。
続いてステップ208において、四角格子メッシュSqcの外周にあるグリッド点Caと境界線K上の点列Cbとの間にも三角形ポリゴンを生成する。
正三角形に近いかどうかは、三角形の最大内角度と最小内角度の差が0(ゼロ)に近いほど正三角形に近いとするか、あるいは最長辺の長さと最短辺の長さの比が1に近いほど正三角形に近いとして判断することができる。
以上により、図11に示すように、四角格子メッシュSqcの外周から境界線K上の点列Cbまで拡大した三角形ポリゴンメッシュQcがパッチの自由曲面J上に生成される。
ここでは、図12に破線で示す四角格子メッシュSqcの外周上のグリッド点Ca3と境界線上の点Cb3を連結してその両側に三角形ポリゴンが存在する1つの稜線R1に対して、太実線で示すように一方の三角形ポリゴンを構成する境界線上の点Cb4と他方の三角形ポリゴンを構成する外周上のグリッド点Ca4とを連結する稜線R2を演算する。そして、この新たな稜線R2の両側に形成される2つの三角形(エッジスワップ後の三角形)を求める。
各パッチWの三角形ポリゴンメッシュQcのデータは、前述のように、その作成ごとに処理データ格納部14に格納される。
以下の各処理において、単にパッチと言うときも、特記しない限りパッチの三角形ポリゴンメッシュQcを指す。
まずステップ300において、すべてのパッチWの三角形ポリゴンメッシュQcのデータ容量を調べ、データ容量の大きい順にパッチWの処理順番を設定する。
これは、複数のパッチを個別に比較する場合に、より早く入力されたパッチのほうが遅く入力されたパッチよりも入出力回数が少なくなるので、データ容量の大きいパッチの入力をできるだけ減らして処理速度を速めるために順番を定めるものである。
ステップ301で、処理データ格納部14からデータ容量の大きい順に1つのパッチWの三角形ポリゴンメッシュQcのデータを作業メモリ35に読み出し、その境界線上の頂点列を抽出する。抽出した頂点列(のデータ)はグローバル座標ファイルとして作業メモリ35に格納する。その後、三角形ポリゴンメッシュQcのデータは作業メモリ35から消去する。
ステップ303で、すべてのパッチWについてポリラインを作成したかどうかをチェックする。
ポリライン未作成のパッチがあればステップ301へ戻り、すべてのパッチのポリライン作成が完了するとステップ304へ進む。
そして、ステップ306においてパッチWAの頂点列が当該他のパッチWのポリライン上に重なっているかどうかを探索する。
パッチWAの頂点列が他のパッチWのポリライン上に重なっている場合には、ステップ307へ進んで、当該他のパッチWが処理対象のパッチWAと隣接している旨の隣接関係を設定し、その隣接情報を作業メモリ35に格納したあと、ステップ308へ進む。
頂点列が他のパッチWのポリライン上に重なっていなかった場合には、ステップ306からステップ308へ進む。
パッチWAの頂点列とポリラインの重なりを探索していない他のパッチが残っている場合にはステップ305へ戻って、残りの他のパッチのポリラインを読み出し探索を繰り返す。
すべての他のパッチWについて上記頂点列とポリラインの重なりの探索が終わると1つの処理対象のパッチWAに関する隣接情報が得られたことになる。
このあとはステップ309において、すべてのパッチについてそれぞれを処理対象として隣接関係の探索が行われたかどうかをチェックする。
処理対象としなかったパッチがまだ残っている場合にはステップ304へ戻り、すべてのパッチが処理対象として隣接関係の探索が完了するとステップ103へ進む。
ステップ400において、まず処理対象のパッチWAの三角形ポリゴンメッシュQcのデータを処理データ格納部14から作業メモリ35に読み出し、ステップ401でパッチWAに対して隣接関係にあるパッチWBの三角形ポリゴンメッシュQcを同様に読み出す。パッチWAもパッチWBも読み出し順は前述のとおりデータ容量の大きい順である。
ステップ402において、2つのパッチWA、WBの境界にある頂点を移動あるいは生成して一致させる。
図示の例では頂点Pa1〜Pa5がパッチWAの境界線BOA上の頂点列PAをなし、頂点Pb1〜Pb7がパッチWBの境界線BOB上の頂点列PBをなしているが、両頂点列は互いに同位置となってはいない。そして、例えばパッチWBの角部では、頂点列PBの始点(頂点Pb1)に隣接する手前側の頂点PbzがパッチWAの境界線BOAと共通の線上に乗らない場合には、パッチWBにおける当該頂点Pbzと始点の頂点Pb1を結ぶ境界線はパッチWAの境界線BOAから離れることになる。このような場合、パッチWAの頂点Pa1は境界線BOA上の頂点ではあるがパッチWBとの共通の境界線上にはないから、頂点Pa1をパッチWBの離間した境界線の頂点Pbzと一致させることは適当でない。
このため、図15の(a)に矢示するように、パッチWAでは反時計方向に頂点列PAを辿り、パッチWBでは時計方向に頂点列PBを辿るものとして、パッチWBの頂点列PBの始点(頂点Pb1)がパッチWAの境界線BOA上にあるときは、当該始点が共通の境界線上にある頂点列の端であるとする。逆に頂点列Pbの始点がパッチWAの境界線BOA上にないときは、すなわち共通の境界線上になく、パッチWAの頂点列PAの始点が共通の境界線上にある頂点列の端となる。
パッチWAとパッチWBの頂点列の終点についても同様である。
パッチWAとパッチWBで同位置とした始点位置の両頂点(Pax、Pb1)を対象点Nとし、対象点のフラグをそれぞれABとする。すなわち、フラグABは位置が一致した頂点を示す。
なお、境界線BOA上に生成した頂点Paxと、その前後の頂点Pa1、Pa2間を1辺とする三角形の他の頂点との間に、エッジを生成して2つの三角形ポリゴンに分割して、四角形が生じないようにする。
すなわち、対象点Nの位置からさらに次に近い方の頂点がフラグAのパッチ側にある場合には、フラグBのパッチの境界線上フラグAの対象点Nと同じ位置に新たな頂点を生成し、対象点Nの位置から近いさらに次の頂点がフラグBのパッチ側にある場合には、当該近い方の頂点と対象点Nの頂点とをそれらの間の中点位置へそれぞれ移動させる。
なお、対象点Nの位置から次の頂点への距離が等しい場合には、対象点Nの位置からさらに次に近い方の頂点がフラグAのパッチ側にある場合と同様に、フラグBのパッチの境界線上フラグAの対象点Nと同じ位置に新たな頂点を生成する。
図15の例では、フラグABの頂点からパッチWAの頂点Pa2の方がパッチWBの頂点Pb2よりも近いから、頂点Pa2を対象点Nとし、パッチWAのフラグをAとし、パッチWBのフラグをBとする。
次に、フラグABとした頂点Pa2、Pb2から次の頂点までの距離を計算すると、頂点Pb3の方が頂点Pa3よりも近いから頂点Pb3を新たな対象点Nとし、パッチWBのフラグがAに変り、パッチWAのフラグがBとなる。
ここでも、境界線BOA上に生成した頂点Payと、その前後の頂点Pa2、Pa3間
を1辺とする三角形の他の頂点との間に、エッジを生成して2つの三角形ポリゴンに分割する。
なお、フラグABの頂点からフラグAおよびBのパッチにおける次の頂点までの距離が等しい場合は、これらの頂点の位置をそのまま確定して、当該頂点を次のフラグABの頂点とすればよい。
図17、図18の(h)以降は上述した要領で頂点の生成、移動を繰り返し実施した経過を示し、これにより最終的に(k)に示すように、2つのパッチWA、WBの境界に互いに頂点位置を一致させた頂点列PA’、PB’が得られる。
ステップ404において、パッチWAに隣接するすべてのパッチWBについて境界線上の頂点を一致させたかどうかをチェックする。
頂点一致について未処理のパッチWBが残っている場合はステップ401へ戻り、隣接するすべてのパッチWBについて頂点を一致させると、ステップ405へ進む。
ステップ405では、処理対象のパッチWA全面の平均法線を計算し、平均法線方向からテクスチャ座標系を設定して作業メモリ35のグローバル座標ファイルに格納する。
これはテクスチャマッピングのための準備である。
グローバル座標系(X,Y,Z)の原点をテクスチャ座標系(s,t,u)の原点とし、テクスチャ座標系のu軸をパッチの平均法線方向とする。
これにより、1つのパッチWAについての隣接のパッチWBとの境界線上の頂点一致処理は終了する。このパッチWAの三角形ポリゴンメッシュは以後の頂点一致処理対象から除外される。
このあとはステップ104において、すべてのパッチWについて処理対象として隣接パッチとの頂点一致処理が完了したかどうかがチェックされ、処理対象となっていないパッチが残っている場合には、ステップ400へ戻って次にデータ容量の大きいパッチについて上記のステップ処理が繰り返されることになる。
図19〜図21はステップ105、106におけるテクスチャマッピングとディスプレイスメントマッピングの詳細を示すフローチャートである。
ステップ500において、テクスチャ合成部33は絞を付与する処理対象のパッチWAの三角形ポリゴンメッシュQcを処理データ格納部14から作業メモリ35に読み出す。読み出し順はステップ300で設定したデータ容量の大きい順とする。
ステップ501において、読み出したパッチWAのすべての頂点の法線を計算して、頂点の属性情報として付加する。
次のステップ502において、パッチWAのすべての頂点をステップ405で平均法線を用いて設定した当該パッチWAのテクスチャ座標系に射影して色情報を求め、頂点の属性情報として付加する。
図22の(a)は、パッチWAにかかるテクスチャ座標系を示し、テクスチャの射影方向は平均法線と平行である。
そして、隣接するパッチ間の境界線上の頂点は、頂点一致処理されているから、パッチWAの境界線上の頂点をパッチWBの境界線上の頂点と対比することにより、同一位置に重複する頂点がパッチWAとパッチWB間の共通の境界線上にある頂点であることを識別する。
ステップ504において、パッチWAのすべての頂点と前ステップで識別されたパッチWAとパッチWB間の境界線上の頂点との最短距離Lを算出する。最短距離Lとは、図23に示すように、2頂点間の直線距離を言う。
図22の(b)には処理対象パッチWAと隣接パッチWB(破線)のテクスチャ座標系が異なるため、隣接パッチWBのテクスチャ座標系での射影を処理対象パッチWAまで敷衍したとき、同一点(頂点P)に射影されるテクスチャGBが処理対象パッチWAのテクスチャ座標系で射影されたテクスチャGAとは異なる状態が示されている。
このため、処理対象パッチWAと隣接パッチWBとはその境界でテクスチャが不連続となるから、混ぜ合わせにより色の極端な変化を抑え、滑らかにつながるようにする。
すなわち、混ぜ合わせ後の各頂点の画素値GRは次式で表わされる。
GR(g)=GA(g)(Lmax+L)/2Lmax
+ GB(g)(Lmax−L)/2Lmax
色の混ぜ合わせが終了していないパッチが残っている場合にはステップ503へ戻り、次にデータ量の大きい隣接パッチWBとの色の混ぜ合わせが繰り返される。
すべての隣接するパッチWBとの色の混ぜ合わせが終了したときはステップ507へ進む。
ステップ507では、ステップ501で計算した処理対象のパッチWAの法線のうち、境界線上の頂点の法線情報をグローバル座標ファイルに格納する。
ステップ508において、すべての頂点に色情報が付与され混ぜ合わせが済んだ隣接のパッチWBがあるかどうかをチェックする。
混ぜ合わせが済んだ隣接のパッチがまだない場合にはステップ513へ進み、ある場合にはステップ509へ進む。
ステップ509では、混ぜ合わせ処理済みのパッチWBの境界線上の頂点の法線情報(法線方向)を読み出す。この法線情報はパッチWBが処理対象のパッチであったときにステップ501でその属性情報に付加されたものである。
ステップ510において、グローバル座標ファイルからパッチWBの境界線上の頂点と一致するパッチWAの境界線上の頂点を探索する。
ステップ511において、パッチWBの頂点と一致しているパッチWAの頂点の法線をパッチWBの対応する頂点の法線に置き換えて、パッチWAの頂点の新たな法線とする。
パッチWAの法線の置換え処理が済んでいない隣接のパッチWBが残っている場合にはステップ509へ戻る。
混ぜ合わせ処理済みで隣接するパッチWBのすべてと法線の置換え処理が済んだときはステップ513へ進んで、処理対象のパッチWAを処理データ格納部14に格納する。作業メモリ35には処理対象パッチWAを残しておく。
ここまでの処理がテクスチャマッピングに相当する。以下はディスプレイスメントマッピングに相当する。
p’(u,v)=p(u,v)+h(u,v)q(u,v) ・・・(1)
ここで、図25に示すように、p(u,v)は変位前の曲面(基礎曲面)、h(u,v)は変位量、q(u,v)は変位させる方向の単位ベクトルである。
したがって、ここでは、ポリゴンメッシュにおけるp(u,v)の位置にある各頂点pcを上式により変位させることになる。
図19〜図21のフローチャートに戻って、ステップ514において、パッチWAの三角形ポリゴンメッシュQcの頂点pcの1つを選択して、当該頂点の法線方向を読み出す。選択する頂点の位置は任意である。
なお、この法線方向は後で頂点を変位させる際、および抜き勾配算出の際の単位ベクトルqとなる。
ステップ515において、頂点の属性情報である色情報(画素値g)と絞の深さの変換レートに基づいて、頂点の基準変位量を求める。
絞の最大深さ、すなわち最大変位量をhmax とすると、変換レートはhmax /255となり、画素値gから基準変位量h は式(2)で表される。
h=(g/255)hmax ・・・(2)
例えば、hmax が300μmのとき、画素値gが128であれば基準変位量h は150μmとなる。
そして、ステップ517において、処理開始の際に選択されている抜き勾配に対する絞深さの変化式に基づいて、頂点位置における変位量縮小率を算出する。
図26に示すように、抜き勾配を、頂点の法線方向に対して90°の線と白抜き矢印で示す型開き方向との角度θとすると、抜き勾配が小さいほど大きなアンダーが生じて型開き時の金型と製品側の絞とが干渉することになる。このため、変化式は、図27に示すように抜き勾配θが小さいほど変位量縮小率が大きくなるように、したがって変位量が小さくなるように設定されている。この際、成形後の樹脂収縮により、金型と製品の実際の干渉程度は若干緩和されることも考慮して、変化式が定められる。変位量縮小率は抜き勾配に応じて連続的に変化する。
こうして例えば、基準変位量hが200μmのとき、抜き勾配が25°より大きければ変位量縮小率0%として最終変位量hfは200μmのまま、抜き勾配が0°〜25°の範囲では変位量縮小率90〜0%として最終変位量hfを20μm〜200μmのように変化させることができる。
ステップ519において、上に求めた最終変位量hfをh(u,v)とし、単位ベクトルq(法線方向)を用いて、上述した式(1)によりポリゴンメッシュの頂点pcを変位させる。
未処理の頂点が残っている場合は、ステップ514へ戻り、ステップ519までの処理を繰り返す。
すべての頂点についてテクスチャデータに基づく法線方向の変位が終わると、ステップ520からステップ521へ進み、変位した新たな位置の各頂点pcを連結して、絞形状を付与されたポリゴンメッシュQTとする。ステップ522でこのポリゴンメッシュQTのデータをポリゴンデータ記憶部19に格納し、作業メモリ35から消去する。
以上により1つの処理対象のパッチWAについての絞形状の付与処理が終了する。
すべてのパッチWについて以上の処理が終わると絞付与ポリゴンデータを作成する処理が完了する。
このポリゴンデータにより、抜き勾配が小さいところでは前述の変位量縮小により、金型と製品との間にアンダーを生じさせることなく、図28に示すように、絞Rsの深さ(高さ)が連続的に変化する製品が得られる。図中、白抜き矢印は型開き方向である。
ステップ105(ステップ500〜513)がマッピング手段に該当し、とくにステップ503〜506がテクスチャ混ぜ合わせ手段に該当し、ステップ509〜512が法線一致処理手段に該当する。
また、ステップ514〜520が頂点変位手段を構成し、ステップ521が絞付与ポリゴンメッシュ作成手段に該当する。
最後の表面加工データ作成までの各処理段階で、1つのパッチWAを処理対象としており、その間パッチWAに隣接するパッチWBが複数あっても必要時に順次に1つずつデータを読み込んで処理すればよいから、パッチ全体のポリゴンメッシュデータについてはデータ処理部13の作業メモリ35には一時に最大2つのパッチ分を格納するだけで済み、データがメモリの格納可能量を超えて極端にコンピュータの処理速度が低下したりフリーズしてしまうおそれがない。
とくに、グリッド点を生成する分割線および境界線上の点列は、それぞれ所定範囲内に均一化した間隔とし、3次元のポリゴンメッシュQcの形成は、境界線内側のグリッド点を連結して格子メッシュを形成し、該格子メッシュを三角形ポリゴン化するとともに、格子メッシュの外周におけるグリッド点と境界線上の点列を連結して三角形ポリゴン化して形成するようにしており、2次元平面への射影とさらに3次元への復元処理とを行わないため、演算負担が少なく、処理時間が短縮される。また同じく2次元化および3次元化の処理に伴う歪の発生もない。パッチWに分割しているので表面が可展面でない製品形状の場合でも歪みの少ない見栄えの良い絞を付与することができる。
隣接関係の探索は、処理対象のパッチをポリゴンメッシュのデータ量の大きい順番で選択して処理するので、データ量の大きいパッチが隣接するパッチとして何回も作業メモリへ読み出すことが回避され、処理速度が向上する。頂点一致処理以降の各処理でも同様である。
具体的には、パッチWAとパッチWBの一方の境界線上の頂点と同位置に他方の境界線に新たな頂点を生成し、または一方の境界線上の頂点と他方の境界線上の頂点をそれぞれ中間の同位置へ移動させて一致させるので、つなぎ目が極端に細かいメッシュになったり粗なメッシュになることがない。
そして、混ぜ合わせは境界線上の頂点からの最短距離Lでウエイト付けして行っているので、テクスチャの変化が滑らかである。
さらに、パッチWAの頂点の法線を隣接するパッチWBの頂点の法線に合わせるので、パッチのつなぎ目にも違和感を生じさせない。
また、パッチW間の隣接関係については、ポリゴンメッシュ化したあと1つのパッチの境界線上の頂点が他のパッチの境界線上の頂点列を用いて作成したポリライン上に重なっているかを探索して設定するものとしたが、パッチを分割した際のデータに隣接関係の情報をあらかじめ付しておいてもよい。
また、テクスチャマッピングにおいて、隣接するパッチのテクスチャ座標系を用いて画素値の混ぜ合わせを行うものとしたが、テクスチャの特性やポリゴンメッシュの細かさ等により、十分滑らかなつながりとなる場合には、画素値の混ぜ合わせ処理を省略することもできる。
絞模様のディスプレイスメントマッピングにおいて、抜き勾配に対する変位量縮小については縮小率を連続的に変化させるものとしたが、任意のステップで意図的に段階的な変化をなすようにすることも当然に可能である。
11 データ入力部
12 入力データ格納部
13 データ処理部
14 処理データ格納部
19 ポリゴンデータ記憶部
20 データ出力部
22 操作入力部
23 モニタ
30 ポリゴンメッシュ化部
31 ポリゴンメッシュ統合部
33 テクスチャ合成部
34 絞生成部
35 作業メモリ
b 間隔上限値
Ca、Ca1、Ca2、Ca3、Ca4 グリッド点
Cb 点列
Cb1、Cb2、Cb3、Cb4 点
GA、GB 射影されたテクスチャ
J 自由曲面
K、BOA、BOB 境界線
L 最短距離
N 対象点
PA、PA’、PB、PB’ 頂点列
Pa1、Pa2、Pa3、Pa4、Pa5、Pax、Pay 頂点
Pb1、Pb2、Pb3、Pb4、Pb5、Pb6、Pb7、Pbx 頂点
pc 頂点
Qc 三角形ポリゴンメッシュ
QT ポリゴンメッシュ
R1、R2 稜線
Sqc 四角格子メッシュ
Tpc 三角形ポリゴン
W、WA、WB パッチ
Δ1、Δ2 三角形
Claims (16)
- コンピュータによる表面加工データの作成方法であって、
絞付与対象の自由曲面で定義される製品形状データを複数に分割したパッチ単位でポリゴンメッシュ化し、
1つのパッチを処理対象として、隣接するパッチ1つずつとの間でポリゴンメッシュを連続させる形状連続処理を行い、
前記処理対象の各パッチごとにその平均法線を用いてテクスチャ座標系を設定し、
前記処理対象のパッチのすべての頂点を当該パッチの前記テクスチャ座標系に射影してテクスチャ値を求めるとともに、
前記処理対象のパッチにおける所定範囲の頂点について、当該処理対象のパッチに隣接するパッチの前記テクスチャ座標系に射影してテクスチャ値を求めて、両テクスチャ値の混ぜ合わせを行うことにより前記テクスチャをマッピングし、
前記処理対象のパッチの各頂点を当該パッチにマッピングされたテクスチャに基づいてそれぞれの法線方向に変位させ、
変位させた各頂点に基づいて新たなポリゴンメッシュデータを作成し、
前記形状連続処理以下の処理をそれぞれ前記処理対象のパッチと隣接するパッチの1つずつ順次にデータを作業メモリに読み込んで行うことを繰り返して、前記新たなポリゴンメッシュデータを絞が付与されたパッチ単位の表面加工データとする
ことを特徴とする表面加工データの作成方法。 - 前記隣接するパッチは、ポリゴンメッシュ化した1つのパッチの境界線上の頂点が他のパッチの境界線上の頂点列を用いて作成したポリライン上に重なっているかを探索して、ポリライン上に重なっているときを互いに隣接関係にあるとして設定することを特徴とする請求項1に記載の表面加工データの作成方法。
- 前記テクスチャデータが、2次元の位置座標に対する絞の深さを濃度階調に割り当てた画素値をテクスチャ値とする画像データであることを特徴とする請求項1または2に記載の表面加工データの作成方法。
- 前記所定範囲は、前記隣接するパッチとの境界の頂点との最短距離が所定値以内であることを特徴とする請求項1に記載の表面加工データの作成方法。
- 前記両テクスチャ値の混ぜ合わせは、前記最短距離でウエイト付けして行うことを特徴とする請求項4に記載の表面加工データの作成方法。
- 前記形状連続処理は、前記処理対象のパッチと前記隣接するパッチとの間の境界線上のそれぞれの頂点の位置を互いに一致させるものであることを特徴とする請求項4または5に記載の表面加工データの作成方法。
- 前記形状連続処理は、前記処理対象のパッチと前記隣接するパッチとの間の境界線上のそれぞれの頂点の位置を互いに一致させるものであり、
前記頂点の一致は、前記処理対象のパッチと前記隣接するパッチの一方の境界線上の頂点と同位置に他方の境界線に頂点を生成させて互いに一致させることを特徴とする請求項1に記載の表面加工データの作成方法。 - 前記最短距離を求める対象である前記隣接するパッチとの境界の頂点は、当該隣接するパッチの境界線上に位置する頂点を参照することにより識別されることを特徴とする請求項6に記載の表面加工データの作成方法。
- 前記処理対象のパッチと前記隣接するパッチとの間の境界線上で位置を一致させた頂点の法線を前記処理対象のパッチと前記隣接するパッチの間で互いに一致させることを特徴とする請求項6または7に記載の表面加工データの作成方法。
- 前記処理対象のパッチの頂点の法線を前記隣接するパッチの頂点の法線に合わせて一致させることを特徴とする請求項9に記載の表面加工データの作成方法。
- 前記処理対象のパッチはポリゴンメッシュのデータ量の大きい順に選択されることを特徴とする請求項1から10のいずれか1に記載の表面加工データの作成方法。
- 前記隣接するパッチは前記1つの処理対象のパッチと隣接関係にあるパッチのうちポリゴンメッシュのデータ量の大きい順に選択されることを特徴とする請求項11に記載の表面加工データの作成方法。
- 自由曲面で定義される絞付与対象の製品形状データとテクスチャデータを入力するデータ入力部と、
製品形状データを複数に分割したパッチ単位でポリゴンメッシュ化するポリゴンメッシュ化手段と、
パッチにかかる処理に用いる作業メモリと、
パッチ間の隣接関係を探索する隣接関係探索手段と、
1つのパッチを処理対象として、隣接するパッチ1つずつとの間でポリゴンメッシュを連続させる処理を行う形状連続処理手段と、
前記処理対象の各パッチごとにその平均法線を用いてテクスチャ座標系を設定し、
前記処理対象のパッチのすべての頂点を当該パッチの前記テクスチャ座標系に射影してテクスチャ値を求めるとともに、
前記処理対象のパッチにおける所定範囲の頂点について、当該処理対象のパッチに隣接するパッチの前記テクスチャ座標系に射影してテクスチャ値を求めて、両テクスチャ値の混ぜ合わせを行うことにより前記パッチにテクスチャをマッピングするマッピング手段と、
パッチの前記ポリゴンメッシュの各頂点を当該パッチにマッピングされたテクスチャに基づいてそれぞれの法線方向に変位させる頂点変位手段と、
頂点変位手段による変位後の頂点を結んで、絞形状を含む絞付与ポリゴンメッシュを作成する絞付与ポリゴンメッシュ作成手段とを有し、
前記作業メモリは最大2つのパッチのデータを格納可能であり、前記形状連続処理手段以下の各手段はそれぞれ前記処理対象のパッチと隣接するパッチの1つずつ順次にデータを前記作業メモリに読み込んで、前記処理対象のパッチと1つの隣接するパッチの組み合わせ単位で処理を行い、
前記絞付与ポリゴンメッシュのデータをパッチ単位の表面加工データとして出力することを特徴とする表面加工データ作成装置。 - 前記形状連続処理手段は、前記処理対象のパッチと隣接するパッチ間のそれぞれの境界線上の頂点を互いに一致させることを特徴とする請求項13に記載の表面加工データ作成装置。
- 前記マッピング手段は、処理対象のパッチと隣接するパッチのそれぞれのテクスチャ座標系に基づいて、処理対象の前記隣接するパッチとの間の境界から所定範囲についてテクスチャの混ぜ合わせを行うテクスチャ混ぜ合わせ手段を含むことを特徴とする請求項13または14に記載の表面加工データ作成装置。
- 前記マッピング手段は、前記処理対象のパッチの頂点の法線を前記隣接するパッチの頂点の法線に一致させる法線一致処理手段を含むことを特徴とする請求項13から15のいずれか1に記載の表面加工データ作成装置。
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