JP5784779B2 - 単点リニア蒸発源システム - Google Patents
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- 230000008020 evaporation Effects 0.000 title claims description 83
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 title claims description 83
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 39
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 16
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 8
- 239000011796 hollow space material Substances 0.000 claims description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 6
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 4
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 229910001335 Galvanized steel Inorganic materials 0.000 description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008397 galvanized steel Substances 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 3
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 2
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
- C23C14/0036—Reactive sputtering
- C23C14/0063—Reactive sputtering characterised by means for introducing or removing gases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
- C23C14/0036—Reactive sputtering
- C23C14/0084—Producing gradient compositions
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Description
本発明は、基板上に薄膜を蒸着する単点リニア蒸発源システムを提供し、当該単点リニア蒸発源システムは、本体と、蒸発器と、2枚のガイド板とを含む。前記本体は、細長状のものであり、細長状のキャビティーを含み、前記本体の前記基板に対向する面に、前記基板に蒸着気体を吹き付けるためのものであって前記キャビティーに連通する複数のノズルが設けられている。蒸発器は、前記キャビティーに連通する開口部を備え、内部に収容された蒸着材料を蒸発させるためのものである。2枚のガイド板は、傾斜するように前記キャビティー内の両端部に設けられ、前記ガイド板の周側と前記本体が密封されるように接続され、前記2枚のガイド板の間の距離は、前記基板に近接する一端の間が、前記蒸発器に近接する一端の間より長い。
本発明の1つの実施形態によれば、前記単点リニア蒸発源システムは、一端が前記蒸発器の開口部に連通し、他端が前記キャビティーに連通し、内径が前記蒸発器の開口部のサイズようり小さい接続管をさらに含む。
本発明の1つの実施形態によれば、前記本体の長さは、前記基板の長さの1/2〜4/5である。
本発明の1つの実施形態によれば、前記2枚のガイド板は、対称するように設けられている。
上記の技術案からわかるように、本発明の単点リニア蒸発源システムの利点と積極的な效果は、下記のように、本発明の単点リニア蒸発源システムにおいて、傾斜するように本体のキャビティー内の両端部側に設置された2枚のガイド板により、キャビティーの形状を変化させ、蒸発器付近のキャビティーの縦断面が比較的小さく、基板付近のキャビティーの縦断面が比較的大きくなるため、キャビティー内の蒸気圧力のバランスを有効に改善させることができ、キャビティー内の中央部位置及び両端部位置における蒸気圧が均等になり、基板上に蒸着される薄膜の均一度を向上させる。
図2に示されるように、本発明の第1の実施例に係る単点リニア蒸発源システムは、基板100上に薄膜を蒸着するためのものである。本第1の実施例における単点リニア蒸発源システムは、本体10、坩堝20、2枚のガイド板70及び複数のノズル12を含む。
図3に示されるように、本発明の第2の実施例に係る単点リニア蒸発源システムの構成は、第1の実施例とほぼ同様であり、相違点は、ただ、当該第2の実施例の単点リニア蒸発源システムがさらに接続管30を備えることにある。接続管30の一端は坩堝20の開口部に連通し、他端はキャビティーに連通する。即ち、坩堝20とキャビティーとは接続管30を介してお互いに連通する。ここで、接続管は、その内径が坩堝20の開口部のサイズより小さく、坩堝20からの蒸気を収集する機能を発揮し、これにより、坩堝20内の蒸気のオーバーフローを抑制することができ、材料の無駄を抑制することができる。
図4に示されるように、本発明の第3の実施例に係る単点リニア蒸発源システムの構成は、第2の実施例とほぼ同様であり、相違点は、ただ、本第3の実施例の単点リニア蒸発源システムが、さらに、排気管40、プレナムチャンバー50及び弁を含むことにある。排気管40の一端は接続管30に連通し、他端はプレナムチャンバー50に連通する。弁は、接続管30内に取り付けられている(図示略)。
図5に示されるように、本発明の第4の実施例に係る単点リニア蒸発源システムの構成は、第1の実施例とほぼ同様であり、相違点は、ただ、当該第4の実施例の単点リニア蒸発源システムが、さらに、3ポート弁60、排気管40及びプレナムチャンバー50を含むことにある。3ポート弁60は、坩堝20に連通する第1のポートと、本体10のキャビティーに連通する第2のポートと、排気管40の一端部に連通する第3のポートとを備え、排気管40の他端部はプレナムチャンバー50に連通する。本第4の実施例において、坩堝20、キャビティー及び排気管40は、3ポート弁60を介して互いに連通することができる。
図7を参照すると、本発明の第5の実施例に係る単点リニア蒸発源システムにおいて、ガイド板70は、本体10に対する傾斜角度θを調整可能に本体10に取り付けられる。第5の実施例に係る当該単点リニア蒸発源システムは、例えば,さらに電動機80を備えるが、この電動機80をモーターに取り替えても良い。ガイド板70は、第1の板体71と第2の板体72を含む。第1の板体71の上端部は、従来の接続方式により本体10の一端の端壁の天井部に接続される。第1の板体71の下部は、中空の空間を有し、第2の板体72の上部を第1の板体71の下部の空間内に挿入することで、第1の板体71と第2の板体72とが摺動可能に接続される。本第5の実施例において、第2の板体72の上部が中空の空間を有してもよく、この場合、第1の板体71の下部を第2の板体72の中空の空間内に挿入することができる。
図8A及び図8Bを参照すると、本発明の第6の実施例に係る単点リニア蒸発源システムの構成は、第5の実施例とほぼ同様であり、相違点は、ただ、第2の板体72の上部が第1の板体71の下部に重なって配置されることにある。第2の板体72には、2本の燕尾状の溝が設けられ、第1の板体71には、燕尾状の溝に対応する形状の2本の燕尾状の凸条711が設けられ、燕尾状の凸条711と燕尾状の溝との結合により、第2の板体72が第1の板体71に摺動可能に接続される。本第6の実施例において、燕尾状の溝を第1の板体71に設け、燕尾状の凸条711を第2の板体72に設けても良い。燕尾状の溝の数は、2本に限られるものではなく、1本のみ又は3本、4本などにしても良い。
図9A及び図9Bを参照すると、本発明の第7の実施例に係る単点リニア蒸発源システムの構成は、第5の実施例とほぼ同様であり、相違点は、ただ、第2の板体72の上部が第1の板体71の下部に重なって配置されることにある。第2の板体72には、2本の楕円状の溝が設けられ、第1の板体71には、楕円状の溝に対応する形状の2本の楕円状の凸条712が設けられ、楕円状の凸条712と楕円状の溝との結合により、第2の板体72が第1の板体71に摺動可能に接続される。本第7の実施例において、楕円状の溝を第1の板体71に設け、楕円状の凸条712を第2の板体72に設けても良い。楕円状の溝の数は、2本に限られるものではなく、1本のみ又は3本、4本などにしても良い。
10:本体
12:ノズル
20:坩堝
30:接続管
40:排気管
50:プレナムチャンバー
60:3ポート弁
70:ガイド板
71:第1の板体
711:燕尾状の凸条
712:楕円状の凸条
72:第2の板体
80:電動機
81:出力軸
Claims (10)
- 基板上に薄膜を蒸着する単点リニア蒸発源システムであって、
細長状の本体と、蒸発器と、2枚のガイド板と、を含み、
前記本体は、細長状のキャビティーを含み、前記本体の前記基板に対向する面に、前記基板に蒸着気体を吹き付けるためのものであって前記キャビティーに連通する複数のノズルが設けられており、
前記蒸発器は、前記キャビティーに連通する開口部を備え、内部に収容された蒸着材料を蒸発させ、
前記2枚のガイド板は、傾斜するように前記キャビティー内の両端部に設けられ、前記ガイド板の周側と前記本体が密封されるように接続され、
前記2枚のガイド板の間の距離は、前記基板に近接する一端の間が、前記蒸発器に近接する一端の間より長く、
前記ガイド板は、角度が調整可能に前記本体に設けられている、
単点リニア蒸発源システム。 - さらに、電動機又はモーターを含み、
前記ガイド板は、第1の板体と第2の板体を含み、前記第1の板体は、その上端部を支点として回転可能に前記本体に接続され、前記第2の板体の上部が摺動可能に前記第1の板体の下部に接続され、前記電動機又はモーターの出力軸が前記本体に設けられている貫通孔を貫通して、前記第1の板体に接続されている
請求項1に記載の単点リニア蒸発源システム。 - 前記第1の板体の下部と前記第2の板体の上部中の何れの一方が中空の空間を有し、前記第1の板体の下部と前記第2の板体の上部の中の他方が前記中空の空間内に挿入される
請求項2に記載の単点リニア蒸発源システム。 - 前記第2の板体の上部が前記第1の板体の下部に重なって配置され、前記第2の板体と第1の板体の中の何れの一方に少なくとも1本の凹溝が設けられ、前記第2の板体と第1の板体の中の他方に前記凹溝に対応する形状の少なくとも1本の凸条が設けられている
請求項2に記載の単点リニア蒸発源システム。 - 前記凹溝は、燕尾状又は楕円状である
請求項4に記載の単点リニア蒸発源システム。 - 一端が前記蒸発器の開口部に連通し、他端が前記キャビティーに連通し、内径が前記蒸発器の開口部のサイズより小さい接続管をさらに含む
請求項1に記載の単点リニア蒸発源システム。 - さらに、
一端が前記接続管に連通する排気管と、
前記排気管の他端部に連通するプレナムチャンバーと、
前記接続管内に取り付けられている弁と、
を含み、
前記単点リニア蒸発源システムが動作している時、前記弁は、前記蒸発器と前記キャビティーを連通させるとともに、前記蒸発器と前記排気管との連通を切断する状態となり、前記単点リニア蒸発源システムが動作を停止している時、前記弁は、前記蒸発器と前記キャビティーとの連通を切断するとともに、前記キャビティーと前記排気管を連通させる状
態となる
請求項6に記載の単点リニア蒸発源システム。 - さらに、
3つのポートを備え、第1のポートが前記蒸発器に連通し、第2のポートが前記本体のキャビティーに連通する3ポート弁と、
一端が前記3ポート弁の第3のポートに連通する排気管と、
前記排気管の他端部に連通するプレナムチャンバーと、
を含み、
前記単点リニア蒸発源システムが動作している時、前記第1のポート、第2のポートが開放されるとともに、第3のポートが閉塞され、前記単点リニア蒸発源システムが動作を停止している時、前記第1のポートが閉塞されるとともに、第2のポート、第3のポートが開放される
請求項1に記載の単点リニア蒸発源システム。 - 前記本体の長さは、前記基板の長さより短い
請求項1に記載の単点リニア蒸発源システム。 - 前記本体の長さは、前記基板の長さの1/2〜4/5である
請求項9に記載の単点リニア蒸発源システム。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201310111467.9A CN104099570B (zh) | 2013-04-01 | 2013-04-01 | 单点线性蒸发源系统 |
CN201310111467.9 | 2013-04-01 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014201834A JP2014201834A (ja) | 2014-10-27 |
JP5784779B2 true JP5784779B2 (ja) | 2015-09-24 |
Family
ID=51619564
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014072111A Expired - Fee Related JP5784779B2 (ja) | 2013-04-01 | 2014-03-31 | 単点リニア蒸発源システム |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20140290579A1 (ja) |
JP (1) | JP5784779B2 (ja) |
KR (1) | KR20140119654A (ja) |
CN (1) | CN104099570B (ja) |
TW (1) | TWI472634B (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2960059B1 (en) | 2014-06-25 | 2018-10-24 | Universal Display Corporation | Systems and methods of modulating flow during vapor jet deposition of organic materials |
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US11220737B2 (en) | 2014-06-25 | 2022-01-11 | Universal Display Corporation | Systems and methods of modulating flow during vapor jet deposition of organic materials |
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KR101094299B1 (ko) * | 2009-12-17 | 2011-12-19 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 선형 증발원 및 이를 포함하는 증착 장치 |
KR101174874B1 (ko) * | 2010-01-06 | 2012-08-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 소스, 박막 증착 장치 및 유기 발광 표시 장치 제조 방법 |
-
2013
- 2013-04-01 CN CN201310111467.9A patent/CN104099570B/zh active Active
- 2013-04-23 TW TW102114356A patent/TWI472634B/zh not_active IP Right Cessation
- 2013-07-30 US US13/954,259 patent/US20140290579A1/en not_active Abandoned
-
2014
- 2014-03-31 JP JP2014072111A patent/JP5784779B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2014-04-01 KR KR1020140038525A patent/KR20140119654A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20140119654A (ko) | 2014-10-10 |
US20140290579A1 (en) | 2014-10-02 |
TW201439350A (zh) | 2014-10-16 |
CN104099570B (zh) | 2016-10-05 |
TWI472634B (zh) | 2015-02-11 |
CN104099570A (zh) | 2014-10-15 |
JP2014201834A (ja) | 2014-10-27 |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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S531 | Written request for registration of change of domicile |
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S533 | Written request for registration of change of name |
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