JP5780457B2 - レーザ装置、レーザ装置を備えた露光装置及び検査装置 - Google Patents
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Description
10 第1レーザ光出力部
20 第2レーザ光出力部
30 波長変換光学素子
31 合成光学素子
L10 第1のレーザ光(L11 基本波、L12 第2高調波)
L20 第2のレーザ光
L30 変換光
ε1 355nm光の吸収による発熱
ε2 2.5μm光の吸収による発熱
ε3 発熱の和(ε3=ε1+ε2)
A 2.5μm光が入射されない状態での結晶内の発熱のばらつき
B 2.5μm光が入射された状態での結晶内の発熱のばらつき
LS2 第2構成形態のレーザ装置
15 第1レーザ光出力部
25 第2レーザ光出力部
35 波長変換光学素子
36 合成光学素子
L15 第1のレーザ光
L25 第2のレーザ光
L35 変換光
ε1 266nm光の吸収による発熱
ε2 2.6μm光の吸収による発熱
ε3 発熱の和(ε3=ε1+ε2)
C 2.6μm光が入射されない状態での結晶内の発熱のばらつき
D 2.6μm光が入射された状態での結晶内の発熱のばらつき
100 露光装置
102 照明光学系 103 マスク支持台
104 投影光学系 105 露光対象物支持テーブル
113 フォトマスク 115 露光対象物
200 検査装置
202 照明光学系 203 被検物支持台
204 投影光学系 213 被検物
215 TDIセンサ
Claims (7)
- 第1のレーザ光を出力する第1レーザ光出力部と、
前記第1レーザ光出力部から出力された前記第1のレーザ光を波長変換して変換光を出力する波長変換光学素子と、
前記第1のレーザ光と波長が異なる第2のレーザ光を出力する第2レーザ光出力部と、
前記第2レーザ光出力部から出力された前記第2のレーザ光を前記波長変換光学素子における前記第1のレーザ光の入射面側から入射させる合成光学素子とを備え、
前記第2のレーザ光の光路は、前記波長変換光学素子の入射面及び出射面において前記第1のレーザ光の光路の近傍に位置するか、または、前記波長変換光学素子の入出射面間において前記第1のレーザ光の光路と重ね合わされており、
前記第2のレーザ光の波長及びパワーは、前記波長変換光学素子において前記第2のレーザ光を吸収することによって発生する熱量と、前記波長変換光学素子において発生する前記変換光を前記波長変換光学素子が吸収することによって発生する熱量とが、略等しくなるように設定されることを特徴とするレーザ装置。 - 前記変換光の波長は紫外領域であり、前記第2のレーザ光の波長は赤外領域であることを特徴とする請求項1に記載のレーザ装置。
- 前記波長変換光学素子における前記変換光の吸収係数をα 1 、前記第2のレーザ光の吸収係数をα 2 とし、前記波長変換光学素子から出力される前記変換光のパワーをP 1 、前記波長変換光学素子に入射する前記第2のレーザ光のパワーをP 2 としたときに、
α 1 ×P 1 ≒α 2 ×P 2 を満足することを特徴とする請求項1または2に記載のレーザ装置。 - 前記第1のレーザ光は、第1波長のレーザ光と第2波長のレーザ光とが同軸に重複されて形成されており、
前記波長変換光学素子は、前記第1波長のレーザ光と前記第2波長のレーザ光との和周波発生により前記変換光を発生することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のレーザ装置。 - 前記第1のレーザ光は、第3波長のレーザ光であり、
前記波長変換光学素子は、前記第3波長のレーザ光の第2高調波発生により前記変換光を発生することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のレーザ装置。 - 請求項1〜5のいずれか一項に記載のレーザ装置と、
所定の露光パターンが形成されたフォトマスクを保持するマスク支持部と、
露光対象物を保持する露光対象物支持部と、
前記レーザ装置から出力されたレーザ光を前記マスク支持部に保持されたフォトマスクに照射する照明光学系と、
前記フォトマスクを透過した光を露光対象物支持部に保持された露光対象物に投影する投影光学系とを備えたことを特徴とする露光装置。 - 請求項1〜5のいずれか一項に記載のレーザ装置と、
被検物を保持する被検物支持部と、
前記レーザ装置から出力されたレーザ光を前記被検物支持部に保持された被検物に照射する照明光学系と、
前記被検物からの光を検出器に投影する投影光学系とを備えたことを特徴とする検査装置。
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JP2011160273A JP5780457B2 (ja) | 2011-07-21 | 2011-07-21 | レーザ装置、レーザ装置を備えた露光装置及び検査装置 |
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JP2013025114A JP2013025114A (ja) | 2013-02-04 |
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2011
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