JP5778711B2 - セル間接続部材の製造方法およびセル間接続部材および固体酸化物形燃料電池用セル - Google Patents
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Description
そして、このようなSOFC用セルでは、例えば700〜900℃程度の作動温度で作動し、空気極側から燃料極側への電解質膜を介した酸化物イオンの移動に伴って、一対の電極の間に起電力が発生し、その起電力を外部に取り出し利用することができる。セル間接続部材にはインターコネクタやインターコネクタを介してセル間を電気的に接続する部材が該当する。
近年の開発の進展に伴い、SOFCの作動温度が下がってきている。従来の作動温度は1000℃程度であり、耐熱性の観点から基材としてランタンクロマイトに代表される金属酸化物が使用されていたが、最近は作動温度が700℃〜800℃まで下がっており、合金が使用できるようになってきた。基材として合金を使用することにより、コストダウン、ロバスト性の向上が期待できる。
また、合金はSOFCの他の構成材料との熱膨張率の整合性を取るため、フェライト系ステンレスが使用されることが多い。(例:日立金属社製 ZMG232L)フェライト系ステンレスはFe、Crの他にMnを0.1〜1重量%含むものが多い。
保護膜材料としては、Co−Mn系スピネル、Zn−Co系スピネル、Zn−Co−Mn系スピネル、Zn−Mn系スピネル、スピネル酸化物でないものとしてもZnO等が用いられている。
前記保護膜が、Zn x (Co y Mn (1-y) ) (3-x) O 4 (0<x<1、0<y×(3−x)≦2)を含み、
前記基材上に、金属酸化物微粒子を主成分として含有する未焼結の塗膜を形成する塗膜形成工程を行い、前記基材に含まれるMnが前記塗膜成分と反応する条件下で、前記塗膜を1000℃以上1100℃以下で、2時間以上焼成する焼成工程を行い、前記塗膜内に前記塗膜成分とMnとが反応して生じるMn含有緻密層(以下単に緻密層と称する)を、前記基材表面に形成されるCr2O3層と密着形成させ、前記緻密層の厚さを1μm以上に成長させる点にある。
そのため、この緻密層を十分機能させることによって、SOFCの耐久性を延長できると考えられる。そこで、本発明者らが検討した結果、前記基材表面に形成されるCr2O3層と密着形成させ、前記緻密層厚さ前記を1μm以上に成長させることによって、前記緻密層は十分なCrの飛散防止を実現できるとともに抵抗増加の抑制を実現でき、好適な耐久性向上効果が期待できることがわかる。
これらの金属酸化物成分を用いると、基材として用いられる種々材料との密着性が高く、受熱に対する耐久性が高く、かつ、緻密層を形成した際に、スピネル構造の酸素バリア性が高く、Cr飛散防止効果の高い保護膜に形成されることが明らかになっているので好ましい。本発明者らは、(ZnxCo1-x)Co2O4(0.45≦x≦1.00)等のZn−Co系材料や、Co1.5Mn1.5O4等のMn−Co系材料に代表されるものが特に有利に用いられることを既に見出している。さらに、複合酸化物として種々の化合物を検討したところ、Znx(CoyMn(1-y))(3-x)O4(0<x<1、0<y×(3−x)≦2)を含む保護膜は、基材、空気極等との熱膨張率の不一致(差)が小さく、特に製造工程時(保護膜の焼成時)において、一度は晒される800℃〜1000℃の環境下においても基材、空気極等との熱膨張率の不一致(差)が小さいうえに、Crの飛散抑制効果がきわめて高いことを見出している。
なお、1000℃以上とした場合2時間以上の加熱で1μm以上の緻密層が成長するとともに、塗膜全体を均一に焼成することができるので好ましい。なお、さらに長時間焼成することを妨げるものではないが、塗膜全体が緻密層に成長してしまうと、それ以上の加熱は基板のステンレス部材の酸化劣化を促進するだけになるため、塗膜の厚さと、目標となる緻密層の厚さを勘案して、加熱時間を適宜設定することが好ましい。
前記保護膜が、Co 1.5 Mn 1.5 O 4 を含み、
前記基材上に、金属酸化物微粒子を主成分として含有する未焼結の塗膜を形成する塗膜形成工程を行い、前記基材に含まれるMnが塗膜成分と反応する条件下で、前記塗膜を1050℃以上1100℃以下で焼成する焼成工程を行い、前記塗膜内に前記塗膜成分とMnとが反応して生じるMn含有緻密層を、前記基材表面に形成されるCr 2 O 3 層と密着形成させ、前記Mn含有緻密層の厚さを1μm以上に成長させる点にある。
さらに高温の1100℃ではより短時間で厚い緻密層の形成が期待できると考えられる。
当然のことながら、1100℃を超える温度ではさらに短時間で緻密層を成長させることができると予想されるが、基板のステンレス部材の耐熱性の上限温度を超えてしまい、焼成時の酸化劣化が著しくなるため、1100℃以下とすることが望ましい。
なお、1050℃以上とした場合5時間以上の加熱で1μm以上の緻密層が成長するとともに、塗膜全体を均一に焼成することができるので好ましい。なお、さらに長時間焼成することを妨げるものではないが、塗膜全体が緻密層に成長してしまうと、それ以上の加熱は基板のステンレス部材の酸化劣化を促進するだけになるため、塗膜の厚さと、目標となる緻密層の厚さを勘案して、加熱時間を適宜設定することが好ましい。
ウエットコーティング法により金属酸化物被膜を成膜する場合、金属酸化物そのものには結着性がほとんどないので、金属酸化物微粒子と樹脂組成物との混合液を用いて、金属酸化物微粒子と樹脂からなる被膜を形成する被膜形成工程を行い、その被膜から樹脂成分を除去することにより金属酸化物を主成分とする手法が採用される。中でも、電着塗装法によると、アニオン電着を行うことによって、基材の表面には金属酸化物微粒子と樹脂組成物との混合液が付着した被膜が形成される。この被膜は、金属酸化物微粒子と樹脂組成物主成分となり、前記樹脂成分の重合に伴い、前記金属酸化物微粒子が凝集一体化されることにより形成されている。この被膜から樹脂成分を除去することによって、金属酸化物微粒子同士が凝集して被膜を形成した保護膜を形成することができる。すると、得られる保護膜は、たとえばディップコートに比べて比較的薄くて均一な塗膜を得ることができるので好ましい。
したがって、アニオン電着塗装を行うと、前記塗膜は基材の全領域に均一に製膜されるので望ましい。
なお、前記基材の合金をMn含有率0.3%以上とすることによって、Mnを確実に拡散させ緻密層を形成させることでCrの飛散を防止することができるが、Mn含有率の高い基材は、耐酸化力が低いと考えられている点から、1%以下とすることが好ましい。
本発明にかかるSOFC用セル接続部材およびその製造方法の実施の形態について、図面に基づいて説明する。
図1および図2に示すSOFC用セルCは、酸化物イオン電導性の固体酸化物の緻密体からなる電解質膜30の一方面側に、酸化物イオンおよび電子電導性の多孔体からなる空気極31を接合するとともに、同電解質膜30の他方面側に電子電導性の多孔体からなる燃料極32を接合してなる単セル3を備える。
このセルスタックにおいて、積層方向の両端部に配置されたセル接続部材1は、燃料流路2bまたは空気流路2aの一方のみが形成されるものであればよく、その他の中間に配置されたセル接続部材1は、一方の面に燃料流路2bが形成され他方の面に空気流路2aが形成されるものを利用することができる。なお、かかる積層構造のセルスタックでは、上記セル接続部材1をセパレータと呼ぶ場合がある。
このようなセルスタックの構造を有するSOFCを一般的に平板型SOFCと呼ぶ。本実施の形態では、一例として平板型SOFCについて説明するが、本願発明は、その他の構造のSOFCについても適用可能である。
前記セル接続部材1は、図1、図3に示すように、セル接続部材用の基材11の表面に保護膜12を設けて構成してある。そして、前記各単セル3の間に空気流路2a、燃料流路2bを形成しつつ接続可能にする溝板状に形成してある。
前記保護膜12は、たとえば、Crを22%、Mnを約0.5%含むフェライト系ステンレス鋼(日立金属製ZMG232L)等からなる前記基材11の表面にたとえば、ZnCoMnO4等の金属酸化物微粒子とポリアクリル酸等のアニオン型樹脂とを質量比で(金属酸化物微粒子:アニオン型樹脂)=(0.5:1)〜(1.7:1)の割合で含有している混合液を用いて、アニオン電着塗装法により金属酸化物微粒子を主成分として含有する未焼結の塗膜を形成する塗膜形成工程を行い、前記塗膜を焼成して前記塗膜中の樹脂成分を焼失させた焼成被膜を形成し、さらに前記焼成被膜を前記基材に含まれるMnが前記塗膜成分と反応する条件下で焼成させて、前記基材11表面に形成されるCr2O3層11aと密着する金属酸化物からなる保護膜12を形成する焼成工程を行うことにより形成されている。
<実施例>
前記ステンレス鋼材からなるインターコネクタ用の基材11表面にスピネル型の金属酸化物よりなる塗膜を設けた試験片を作成し、前記試験片を各種温度で、所定時間加熱する熱処理を行うことにより、前記塗膜を焼成し(焼成工程)、保護膜12を作成した。前記保護膜12は、各試験片とも保護膜の膜厚が5〜10μm程度になる条件でアニオン電着塗装し、前記保護膜12の表面に、接着層を接着して熱処理の試験を行った。各試験片について、前記保護膜12に占める緻密層12aの厚さをSEMにより測定し、熱処理による緻密層12aの変化を調べた。
前記金属酸化物としてZnCoMnO4を用い、アニオン電着塗装により前記基材上に塗膜を形成し、1000℃で2時間焼成して保護膜12のサンプルを作成した。保護膜12の断面形状を確認したところ、図4に示すように、基材11の表面にCr2O3層11aが形成されるとともに、形成された塗膜が、Cr2O3層11aに密着する緻密層12a(本願に言うMn含有緻密層)と、塗膜表面側の多孔層とからなる保護膜12に形成されていることが分かった。この緻密層12aの厚さは約2μmであった。
上記サンプルを空気極材料に埋め込み、1000℃×200hrの通電試験を行ったところ、初期の電圧降下は、55mV程度で200hr後の電圧降下増加量(劣化量)は3mV以下であり、抵抗増加が十分抑制されているとともに、長期耐久性が期待できることがわかった。
なお、上記サンプルを切断して断面をEPMAにより観察し、Crの飛散状態を調べたところ、飛散カウント数が2945となっており、ZnCoMnO4に由来する高いCr飛散抑制効果を発揮していることもわかった。
実施例1における焼成時間を200時間とした以外は、実施例1と同様にサンプルを形成し、通電試験およびCr飛散数の測定を行った。その結果を表1に示す。
実施例1における焼成温度を800℃に変更した以外は実施例1と同様にサンプルを形成し、通電試験を行った。その結果を表1に示す。
実施例1における焼成温度と焼成時間を種々変更した以外は実施例1と同様にサンプルを形成し、通電試験を行った。その結果を表1に示す。
前記金属酸化物としてCo1.5Mn1.5O4を用い、アニオン電着塗装により前記基材上に塗膜を形成し、1050℃で5時間焼成して保護膜12のサンプルを作成し、実施例1と同様の試験を行った。その結果を表1に示す。
前記金属酸化物としてCo1.5Mn1.5O4を用い、アニオン電着塗装により前記基材上に塗膜を形成し、1000℃で2時間焼成して保護膜12のサンプルを作成し、実施例1と同様の試験を行った。その結果を表1に示す。
(焼成時間について)
実施例2では、焼成時間が十分長く、基材に含まれるMnが塗膜成分と十分に反応していると考えられ、塗膜がすべて緻密層となっており、その厚みが7μmであった。
また、初期の電圧降下は、55mV程度で200hr後の電圧降下増加量(劣化量)は3mV以下であり、実施例1と同等の性能を示すとともに、Cr飛散量が330(カウント)となっており、緻密層の膜厚が増加すると、さらに高いCr飛散抑制効果を発揮することがわかった。
また、実施例2において、緻密層の組成をEDX分析により調べたところ、Zn:Co:Mn=0.77:1.0:1.64(モル比)であった。なお、初期のモル比は1:1:1であるため、量が増えているMnは外部由来であることがわかる。
なお、実施例5,7において多孔層の組成を調べたところ、多孔層の組成はあまり変化しておらず(若干の変化は、組成のばらつき、あるいはZn、Co成分の飛散により相対的に他の成分量が増えたことによると予想される)、このMnが基材由来であることを示している。
また、比較例3では焼成温度が低かったため、前記基材に含まれるMnが前記塗膜成分と反応する条件となっていなかったと考えられ、緻密層は観測できなかった。
また、このようにして得られた保護膜は、多孔層のみからなるため、通電試験において、初期の電圧降下は、55〜60mV程度で2500hr後の電圧降下増加量(劣化量)は5mV(評価区間1250hr〜2500hr)となっており、900℃、1310hrの評価値に換算すると41mV程度の電圧低下に相当すると考えられ、実施例4〜7に比べて長期耐久性が低くなっているものと考えられる。
また、実施例1、5,7および比較例3を比較すると、焼成温度が高いほど、緻密層の厚さは増え、焼成工程を高温で行うほど緻密層が速く形成されることがわかり、基材に含まれるMnが前記塗膜成分と反応する条件は、1000℃以上でよいことがわかる。
また、実施例1、2、4を比較すると、焼成時間は2時間以上とすることにより、1μm以上の緻密層が得られ、十分なCr飛散防止効果が発揮されていることがわかる。
実施例1、比較例9を比較すると、塗膜の組成の違いにより緻密層厚さが1μm以上となる焼成条件が異なることがわかる。また、実施例8、比較例9を比較すると、塗膜の組成が異なっても、Co、Zn、Mnから選ばれる少なくとも一種の金属酸化物を含む保護膜を形成し、膜厚を1μm以上とすれば、長期使用による電圧低下が低く抑制されることがわかり、長期耐久性を向上できることがわかる。
1 :セル接続部材
2 :溝
2a :空気流路
2b :燃料流路
3 :単セル
11 :基材
11a :Cr2O3層
12 :保護膜
12a :緻密層
15 :接着層
30 :電解質膜
31 :空気極
32 :燃料極
C :SOFC用セル
Claims (6)
- CrおよびMnを含有する合金または酸化物からなる基材に、金属酸化物からなる保護膜を形成するセル間接続部材の製造方法であって、
前記保護膜が、Zn x (Co y Mn (1-y) ) (3-x) O 4 (0<x<1、0<y×(3−x)≦2)を含み、
前記基材上に、金属酸化物微粒子を主成分として含有する未焼結の塗膜を形成する塗膜形成工程を行い、前記基材に含まれるMnが塗膜成分と反応する条件下で、前記塗膜を1000℃以上1100℃以下で、2時間以上焼成する焼成工程を行い、前記塗膜内に前記塗膜成分とMnとが反応して生じるMn含有緻密層を、前記基材表面に形成されるCr2O3層と密着形成させ、前記Mn含有緻密層の厚さを1μm以上に成長させるセル間接続部材の製造方法。 - CrおよびMnを含有する合金または酸化物からなる基材に、金属酸化物からなる保護膜を形成するセル間接続部材の製造方法であって、
前記保護膜が、Co 1.5 Mn 1.5 O 4 を含み、
前記基材上に、金属酸化物微粒子を主成分として含有する未焼結の塗膜を形成する塗膜形成工程を行い、前記基材に含まれるMnが塗膜成分と反応する条件下で、前記塗膜を1050℃以上1100℃以下で焼成する焼成工程を行い、前記塗膜内に前記塗膜成分とMnとが反応して生じるMn含有緻密層を、前記基材表面に形成されるCr2O3層と密着形成させ、前記Mn含有緻密層の厚さを1μm以上に成長させるセル間接続部材の製造方法。 - 前記基材上に形成される塗膜がアニオン電着塗装法により形成されたものである請求項1または2に記載のセル間接続部材の製造方法。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載のセル間接続部材の製造方法により製造されたセル間接続部材。
- 前記基材がMnを含むフェライト系ステンレス鋼である請求項4に記載のセル間接続部材。
- 請求項4または5に記載のセル間接続部材を空気極と接合してなる固体酸化物形燃料電池用セル。
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