JP5775530B2 - 照明システム、リソグラフィ方法、コンピュータプログラム、デバイス製造方法、およびリソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
[0001] 本出願は、2009年12月23日に出願された米国仮出願第61/289,736号の利益を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
パターンプリンティングの限界の理論的な推定値は、式(1)に示す分解能のレイリー規準によって与えることができる:
1.ステップモードにおいては、サポート構造(例えば、マスクテーブル)MTおよび基板テーブルWTを基本的に静止状態に保ちつつ、放射ビームに付けられたパターン全体を一度にターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一静的露光)。その後、基板テーブルWTは、Xおよび/またはY方向に移動され、それによって別のターゲット部分Cを露光することができる。
2.スキャンモードにおいては、サポート構造(例えば、マスクテーブル)MTおよび基板テーブルWTを同期的にスキャンする一方で、放射ビームに付けられたパターンをターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一動的露光)。サポート構造(例えば、マスクテーブル)MTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの(縮小)拡大率および像反転特性によって決めることができる。
3.別のモードにおいては、プログラマブルパターニングデバイスを保持した状態で、サポート構造(例えば、マスクテーブル)MTを基本的に静止状態に保ち、また基板テーブルWTを動かす、またはスキャンする一方で、放射ビームに付けられているパターンをターゲット部分C上に投影する。このモードにおいては、通常、パルス放射源が採用されており、さらにプログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTの移動後ごとに、またはスキャン中の連続する放射パルスと放射パルスとの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、前述の型のプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (25)
- パターンをパターニングデバイスから基板上に投影するリソグラフィ装置用の、放射ビームを調整しかつ該放射ビームを該パターニングデバイス上に誘導するように構成された照明システムであって、
第1反射コンポーネントおよび第2反射コンポーネントであって、該第1反射コンポーネントは前記放射ビームの放射を該第2反射コンポーネント上に誘導するように配置され、該第1反射コンポーネントは各可動反射エレメントが照明モードを変化させるように、前記放射ビームの少なくとも一部を前記パターニングデバイス上に誘導する第1位置と、前記放射ビームの少なくとも一部を前記パターニングデバイス上に誘導させない第2位置と、の間で少なくとも移動可能な複数の可動反射エレメントを備え、該第2反射コンポーネントは前記パターニングデバイスの瞳面と関連する、第1反射コンポーネントおよび第2反射コンポーネントと、
前記複数の可動反射エレメントを設定する制御システムと、を備え、
前記制御システムは、
前記第1位置および前記第2位置のいずれかに移動させて所定の照明モードのセットから選択された所望の照明モードに設定する第1の設定と、
前記第1の設定に次いで前記複数の可動反射エレメントのうちの少なくとも1つを前記所望の照明モードにおいて対応する位置とは異なる補正位置であって、前記パターンの近接効果補正をもたらす補正位置に設定して結像パラメータを調整する第2の設定と、実行する、
照明システム。 - 前記制御システムは、ピッチによるCDの変動、ピッチによるNILSの変動、およびピッチによるライン:スペース比からなる群から選択される結像パラメータの調整をもたらす、請求項1に記載の照明システム。
- 前記制御システムは、前記可動エレメントのうちの前記少なくとも1つを、該可動エレメントのうちの前記少なくとも1つが放射を前記基板に到達しないような方向に誘導するような前記第2位置に、設定する、請求項1または2に記載の照明システム。
- 前記制御システムは、前記可動エレメントのうちの前記少なくとも1つを、該可動エレメントのうちの前記少なくとも1つが放射を前記基板に到達するような方向に誘導するような前記第1位置に、設定する、請求項1または2に記載の照明システム。
- 前記制御システムは、前記第2の設定において、前記可動反射エレメントのうちの前記少なくとも1つを、暗点が前記所望の照明モードの明領域に形成されるように、設定する、請求項1乃至4のいずれか1項に記載の照明システム。
- 前記制御システムは、前記第2の設定において、前記可動反射エレメントのうちの前記少なくとも1つを、明点が前記所望の照明モードの暗領域に形成されるように、設定する、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の照明システム。
- 前記制御システムは、
選択位置における選択可動反射エレメントの効果の合計が前記結像パラメータの所望の調整に可能な限り近くなるように前記可動反射エレメントのうちの1つ以上とその位置とを選択するためのセレクタを、前記制御システムが採用可能であるように、各位置における前記可動反射エレメントの各々の前記結像パラメータに対する効果を特定する情報を記憶するメモリと、
選択位置に選択可動反射エレメントを設定する効果の合計が前記結像パラメータの所望の調整に可能な限り近くなるように前記可動反射エレメントの1つ以上とその位置とを選択するセレクタと、を備え、
前記制御システムは、前記第2の設定において、前記選択可動反射エレメントを前記選択位置に設定する、請求項1乃至6のいずれか1項に記載の照明システム。 - 前記可動反射エレメントは、前記第2反射コンポーネント上の少なくとも1つの対称度を有する位置に放射を誘導し、
前記メモリは、前記可動反射エレメントの基板に関する情報を記憶し、
前記制御システムは、前記記憶された情報および前記対称度に基づいて、情報が記憶されない可動反射エレメントの効果を計算するカルキュレータをさらに備える、請求項7に記載の照明システム。 - 前記制御システムは、前記第1の設定において、通常照明、ダイポール照明、四極照明、軟四極照明、および輪帯照明からなる群から前記所定の照明モードを選択する、請求項1乃至8のいずれか1項に記載の照明システム。
- 前記制御システムは、前記第2の設定において、前記可動反射エレメントの約20%未満を補正位置に設定する、請求項1〜9のいずれか1項に記載の照明システム。
- 前記制御システムは、前記可動反射エレメントの約10%未満を補正位置に設定する、請求項10に記載の照明システム。
- デバイスを製造するためのリソグラフィ方法であって、
放射ビームを第1反射コンポーネント上に誘導し、それによって反射し第2反射コンポーネントに入射させることであって、該放射ビームはその後パターニングデバイスに入射し、該第1反射コンポーネントは複数の可動反射エレメントを備え、各可動反射エレメントは、前記パターニングデバイスの照明モードを変化させるように、前記放射ビームの少なくとも一部を前記パターニングデバイス上に誘導する第1位置と、前記放射ビームの少なくとも一部を前記パターニングデバイス上に誘導させない第2位置と、の間で少なくとも移動可能であることと、
前記パターニングデバイスを用いて前記放射ビームをパターニングすることと、
前記パターン付き放射ビームを基板上に投影することと、
前記複数の可動反射エレメントを前記第1位置および前記第2位置のいずれかに移動させて所定の照明モードのセットから選択された所望の照明モードに設定する第1の設定を実行することと、
前記複数の可動反射エレメントのうちの少なくとも1つを前記所望の照明モードにおいて対応する位置とは異なる補正位置であって、前記パターンの近接効果補正をもたらす補正位置に設定して結像パラメータを調整する第2の設定を実行することと、を含む、リソグラフィ方法。 - 前記可動反射エレメントのうちの前記少なくとも1つは、ピッチによるCDの変動、ピッチによるNILSの変動、およびピッチによるライン:スペース比からなる群から選択される結像パラメータの調整をもたらす補正位置に設定される、請求項12に記載のリソグラフィ方法。
- 前記可動反射エレメントのうちの前記少なくとも1つは、該可動反射エレメントのうちの前記少なくとも1つが放射を前記基板に到達しないような方向に誘導するような前記第2位置に、設定される、請求項12または13に記載のリソグラフィ方法。
- 前記可動反射エレメントのうちの前記少なくとも1つは、該可動反射エレメントのうちの前記少なくとも1つが放射を前記基板に到達するような方向に誘導するような前記第1位置に、設定される、請求項12または13に記載のリソグラフィ方法。
- 前記第2の設定において、前記可動反射エレメントのうちの前記少なくとも1つは、明点が前記所望の照明モードの暗領域に形成されるように設定される、請求項12乃至15のいずれか1項に記載のリソグラフィ方法。
- 前記第2の設定において、前記可動反射エレメントのうちの前記少なくとも1つは、暗点が前記所望の照明モードの明領域に形成されるように設定される、請求項12乃至16のいずれか1項に記載のリソグラフィ方法。
- 前記可動反射エレメントの各々が採用可能な各位置における前記可動反射エレメントの各々の前記結像パラメータに対する効果を特定する情報を記憶することと、
選択可動反射エレメントを選択位置に設定する効果の合計が前記結像パラメータの所望の調整に可能な限り近くなるように前記可動反射エレメントのうちの1つ以上とその位置とを選択することと、
前記第2の設定において、前記選択可動反射エレメントを前記選択位置に設定することと、をさらに含む、請求項12乃至17のいずれか1項に記載のリソグラフィ方法。 - 前記可動反射エレメントは、前記第2反射コンポーネント上の少なくとも1つの対称度を有する位置に放射を誘導し、
前記記憶することは、前記可動反射エレメントの基板に関する情報を記憶することを含み、
前記方法は、前記記憶された情報および前記対称度に基づいて、情報が記憶されない可動反射エレメントの効果を計算することを含む、請求項18に記載のリソグラフィ方法。 - 前記第1の設定において、前記所定の照明モードは、従来の照明、ダイポール照明、四極照明、軟四極照明、および輪帯照明からなる群から選択される、請求項12乃至18のいずれか1項に記載のリソグラフィ方法。
- 前記第2の設定において、前記可動反射エレメントのうちの少なくとも1つを補正位置に設定することは、前記可動反射エレメントの約20%未満を補正位置に設定することを含む、請求項12乃至20のいずれか1項に記載のリソグラフィ方法。
- 前記可動反射エレメントのうちの少なくとも1つを補正位置に設定することは、前記可動反射エレメントの約10%未満を補正位置に設定することを含む、請求項21に記載のリソグラフィ方法。
- パターンをパターニングデバイスから基板上に投影するリソグラフィ装置であって、放射ビームを調整しかつ該放射ビームを該パターニングデバイス上に誘導するように構成された照明システムを備えるリソグラフィ装置を制御する命令を記憶するコンピュータプログラムであって、
前記照明システムは、
第1反射コンポーネントおよび第2反射コンポーネントであって、該第1反射コンポーネントは前記放射ビームの放射を該第2反射コンポーネント上に誘導するように配置され、かつ各可動反射エレメントが照明モードを変化させるように、前記放射ビームの少なくとも一部を前記パターニングデバイス上に誘導する第1位置と、前記放射ビームの少なくとも一部を前記パターニングデバイス上に誘導させない第2位置との間で少なくとも移動可能な複数の可動反射エレメントを備え、該第2反射コンポーネントは前記パターニングデバイスの瞳面と関連する、第1反射コンポーネントおよび第2反射コンポーネントと、
前記複数の可動反射エレメントをそれぞれの所望の位置に設定する制御システムと、を備え、
前記命令は、
前記複数の可動反射エレメントを前記第1位置および前記第2位置のいずれかに移動させて所定の照明モードのセットから選択された所望の照明モードを画定する第1の設定と、
前記第1の設定に次いで前記複数の可動反射エレメントのうちの少なくとも1つを前記所望の照明モードにおいて対応する位置とは異なる補正位置であって、前記パターンの近接効果補正をもたらす補正位置に設定して結像パラメータを調整する第2の設定と、を含む方法を実行するのに有効である、コンピュータプログラム。 - レシピに従って複数のリソグラフィ装置を適合させてデバイスを製造する方法であって、各リソグラフィ装置は、パターンをパターニングデバイスから基板上に投影し、また放射ビームを調整しかつ該放射ビームを該パターニングデバイス上に誘導するように構成された照明システムを備え、
前記照明システムは、
第1反射コンポーネントおよび第2反射コンポーネントであって、該第1反射コンポーネントは前記放射ビームの放射を該第2反射コンポーネント上に誘導するように配置され、かつ各可動反射エレメントが照明モードを変化させるように、前記放射ビームの少なくとも一部を前記パターニングデバイス上に誘導する第1位置と、前記放射ビームの少なくとも一部を前記パターニングデバイス上に誘導させない第2位置と、の間で少なくとも移動可能な複数の可動反射エレメントを備え、該第2反射コンポーネントは前記パターニングデバイスの瞳面と関連する、第1反射コンポーネントおよび第2反射コンポーネントと、
前記複数の可動反射エレメントをそれぞれの所望の位置に設定する制御システムと、を備え、
該方法は、
前記リソグラフィ装置のうちの第1リソグラフィ装置に対する照明設定を、所定の照明モードのセットから基本照明モードを選択し、かつ前記第1リソグラフィ装置の前記複数の可動反射エレメントを前記第1位置および前記第2位置のいずれかに移動させて前記基本照明モードを画定し、前記第1リソグラフィ装置の前記複数の可動反射エレメントのうちの少なくとも1つを前記基本照明モードに対応する位置とは異なる補正位置であって、前記パターンの近接効果補正をもたらす補正位置に設定し結像パラメータの調整をもたらすことによって、前記基本照明モードを最適化することと、
前記リソグラフィ装置のうちの第2リソグラフィ装置の照明設定を、前記第2リソグラフィ装置の前記複数の可動反射エレメントを前記第1位置および前記第2位置のいずれかに移動させて基本照明モードを画定し、前記第2リソグラフィ装置の前記複数の可動反射エレメントのうちの少なくとも1つを前記基本照明モードにおいて対応する位置とは異なる補正位置であって、前記パターンの近接効果補正をもたらす補正位置に設定することによって、前記第2リソグラフィ装置の結像性能が前記リソグラフィ装置のうちの前記第1リソグラフィ装置に適合するように決定することと、を含む、方法。 - リソグラフィ装置であって、
放射ビームを調整する照明システムであって、
第1反射コンポーネントおよび第2反射コンポーネントであって、該第1反射コンポーネントは前記放射ビームの放射を該第2反射コンポーネント上に誘導するように配置され、該第1反射コンポーネントは各可動反射エレメントが照明モードを変化させるように、前記放射ビームの少なくとも一部を前記パターニングデバイス上に誘導する第1位置と、前記放射ビームの少なくとも一部を前記パターニングデバイス上に誘導させない第2位置と、の間で少なくとも移動可能な複数の可動反射エレメントを備え、該第2反射コンポーネントはパターニングデバイスの瞳面と関連する、第1反射コンポーネントおよび第2反射コンポーネントと、
前記複数の可動反射エレメントを前記第1位置および前記第2位置のいずれかに移動させて所定の照明モードのセットから選択された所望の照明モードに設定し、前記複数の可動反射エレメントのうちの少なくとも1つを前記所望の照明モードにおいて対応する位置とは異なる補正位置であって、前記パターンの近接効果補正をもたらす補正位置に設定して結像パラメータの調整をもたらす制御システムと、を備える照明システムと、
前記調整された放射ビームを前記照明システムから受け且つ前記調整された放射ビームをパターニングしてパターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持するサポートと、
前記パターン付き放射ビームを基板上に投影する投影システムと、を備える、リソグラフィ装置。
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