JP5769285B2 - マイクロリソグラフィのための照明光学ユニット及び露光装置 - Google Patents
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Description
図33は、一方で未補正絞り24の内側絞り縁部23、及び他方で補正絞り26の内側絞り縁部25を図10に対応する方式で示している。図34は、一方で未補正絞り24の半径プロフィール27、及び他方で補正絞り24の半径プロフィール28を図11に対応する方式で極座標の図において示している。補正絞り26に特徴的なものは、極座標0、すなわち、図33の3時の位置における更に別の局所的最大値である。この局所的最大値の結果、外側から見て第3のファセットリングに位置するこの局所的最大値の位置の瞳の個々のファセット29は、未補正絞り24を用いた時にほぼ半分に低減されるが、補正絞り26を用いた時には完全に透過される。
Claims (11)
- 物体面(5)の物体視野を照明するための照明光学ユニット(4)を含み、
前記物体視野を像平面(7)の像視野内に結像するための投影光学ユニット(6)を含み、
照明光(8)が衝突することができる複数の個々のファセット(14;32)を有し、かつ前記投影光学ユニット(6)の入射瞳平面に一致する前記照明光学ユニット(4)の平面か又は前記投影光学ユニット(6)の入射瞳平面に対して光学的に共役な前記照明光学ユニット(4)の平面に配置された瞳ファセットミラー(15;33)を含む、
マイクロリソグラフィのための投影露光装置(1)であって、
前記瞳ファセットミラー(15;33)の反射面に隣接して配置されるか又は前記瞳ファセットミラー(15;33)が配置された前記照明光学ユニット(4)の平面に対して光学的に共役な前記照明光学ユニット(4)の平面に配置され、かつ瞳ファセットミラー(15;33)の個々のファセット(14;32)に割り当てられた、該投影光学ユニット(6)の入射瞳における少なくとも一部の光源像が、1つの同じ絞り縁部(19;25;38;39)によって部分的に遮光されるように、該投影光学ユニット(6)の該入射瞳の照明を遮蔽する補正絞り(17;26;40)を含み、
前記補正絞り(26;40)は、絞り縁部(25;38、39)全体に沿って連続補正プロフィールを有し、前記絞り縁部(25;38、39)に沿って補正量だけ連続的に未補正周方向輪郭、特に未補正半径から外れ、
前記補正絞りの極座標での半径プロフィールは、前記未補正絞りの半径プロフィールよりも大きい程度かつ高い周波数で変化させられている、
ことを特徴とする装置。 - 前記補正絞り(17;26;40)は、前記瞳ファセットミラー(15;33)に隣接して配置されることを特徴とする請求項1に記載の投影露光装置。
- 前記補正絞り(26;40)は、セグメント化された絞りであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の投影露光装置。
- 前記補正絞り(17;26)は、
ちょうど1つの絞り縁部(19;25)によって境界が定められた単一の中心通路開口部(18)、
を有する、
ことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の投影露光装置。 - 前記補正絞り(40)は、
内側絞り縁部(38)及び外側絞り縁部(39)によって境界が定められたリング形通路開口部(18a)、
を有する、
ことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の投影露光装置。 - 前記補正絞りは、
外側絞り縁部によって境界が定められた複数の通路開口部、
を有する、
ことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の投影露光装置。 - EUV光源(3)を含むことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の投影露光装置。
- 請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の投影露光装置(1)を作動させる方法であって、
投影露光装置(1)を第1の照明形状(21)で作動させる段階と、
前記第1の照明形状を第2の照明形状と交換する段階と、
瞳ファセットミラー(15;33)の個々のファセット(14、32)に割り当てられた、投影光学ユニット(6)の入射瞳における少なくとも一部の光源像が、1つの同じ絞り縁部(19;25;38、39)によって部分的に遮光されるように、絞り縁部(19;25;38、39)が構成され、かつ該絞り縁部(19;25;38、39)の形態が、前記第2の照明形状(22、22’、22’’)に適応させた方式で照明のテレセントリック性及び楕円度の補正のための該部分遮光のために事前に定められた交換絞り(17;26;40)に補正絞り(17;26;40)を交換する段階と、
前記投影露光装置(1)を前記第2の照明形状(22、22’、22’’)で作動させる段階と、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記照明形状を交換する段階は、前記補正絞り(17;26;40)の変更に加えて、像視野にわたる前記照明の均一性を適応させるための更に別の補正要素(41)の適用又は交換を実施する段階を伴うことを特徴とする請求項8に記載の方法。
- 微細構造素子を製造する方法であって、
感光材料で構成された層が少なくとも部分的に付加されたウェーハを準備する段階と、
結像される構造を有するレチクルを準備する段階と、
請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の投影露光装置(1)を準備する段階と、
前記投影露光装置(1)の投影光学ユニット(6)を用いて前記レチクルの少なくとも一部を前記層の領域上に投影する段階と、
を含むことを特徴とする製造方法。 - 投影の前に照明及び結像光(8)の部分遮光のための補正絞り(17;26;40)の絞り縁部(19;25;38、39)が、結像光学アセンブリ(16)の構成要素での該照明及び結像光(8)の反射の結果として生じる歪曲収差が少なくとも部分的に補償されるように調節されていることを特徴とする請求項10に記載の製造方法。
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