JP5755979B2 - Processing equipment equipped with a bite tool - Google Patents

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本発明は、被加工物を旋削するためのバイト工具を備えた加工装置に関する。   The present invention relates to a machining apparatus provided with a bite tool for turning a workpiece.

半導体チップが複数個形成された半導体ウエーハはダイシング装置等によって個々の半導体チップに分割され、この分割された半導体チップは携帯電話やパソコン等の電気機器に広く用いられている。
近年、電気機器の軽量化、小型化を可能にするために、半導体チップの電極に50〜100μmの突起状のバンプを形成し、このバンプを実装基板に形成された電極に直接接合するようにしたフリップチップと称する半導体チップが開発され実用に供されている。また、インターポーザーといわれる基板に複数の半導体チップを併設したり、積層したりして小型化を図る技術も開発され実用化されている。
A semiconductor wafer in which a plurality of semiconductor chips are formed is divided into individual semiconductor chips by a dicing apparatus or the like, and the divided semiconductor chips are widely used in electric devices such as mobile phones and personal computers.
In recent years, in order to reduce the weight and size of electrical equipment, a bump having a protrusion of 50 to 100 μm is formed on an electrode of a semiconductor chip, and this bump is directly bonded to an electrode formed on a mounting substrate. A semiconductor chip called a flip chip has been developed and put into practical use. In addition, a technique for reducing the size by mounting a plurality of semiconductor chips on a substrate called an interposer or stacking them has been developed and put into practical use.

しかるに、上述した各技術は半導体チップ等の基板の表面に複数個の突起状のバンプ(電極)を形成し、その突起状の電極を介して基板同士を接合するため、突起状のバンプ(電極)の高さを揃える必要がある。この突起状のバンプ(電極)の高さを揃えるためには、一般的に研削が用いられている。しかしながら、バンプ(電極)を研削すると、バンプ(電極)が金等の粘りのある金属によって形成されている場合にはバリが発生し、このバリが隣接するバンプ(電極)と短絡するという問題がある。   However, each of the above-described technologies forms a plurality of protruding bumps (electrodes) on the surface of a substrate such as a semiconductor chip and bonds the substrates to each other via the protruding electrodes. ) Must be the same height. In order to make the height of the bumps (electrodes) in a protruding shape, grinding is generally used. However, when the bump (electrode) is ground, if the bump (electrode) is formed of a sticky metal such as gold, a burr is generated, and this burr is short-circuited to the adjacent bump (electrode). is there.

また、半導体チップ等の基板の表面に複数個の突起状のバンプ(電極)を形成する技術として、金等の金属ワイヤーの先端を加熱溶融してボールを形成した後、半導体チップの電極にそのボールを超音波併用熱圧着し、ボールの頭を破断するスタッドバンプ形成法がある。このスタッドバンプ形成法によって形成されたバンプ(電極)は、熱圧着されたボールの頭を破断する際に針状の髭が発生することから研磨することが困難であり、加熱した板をバンプに押し当ててバンプ(電極)の高さを揃えるようにしている。(例えば、特許文献1参照。)   Also, as a technique for forming a plurality of bumps (electrodes) on the surface of a substrate such as a semiconductor chip, the tip of a metal wire such as gold is heated and melted to form a ball, which is then applied to the electrode of the semiconductor chip. There is a stud bump forming method in which a ball is thermocompression bonded with ultrasonic waves to break the head of the ball. Bumps (electrodes) formed by this stud bump formation method are difficult to polish because needle-shaped wrinkles are generated when the head of a thermocompressed ball is broken, and a heated plate is used as a bump. The bumps (electrodes) are made to have the same height by being pressed. (For example, refer to Patent Document 1.)

しかるに、加熱した板をバンプ(電極)に押し当ててバンプの高さを揃えると、バンプの頭が潰れる際に隣接するバンプと短絡するという問題がある。この問題を解消するために上記公報に記載された発明においては、バンプ(電極)の先端部を除去する余分な工程を設けている。   However, when the heated plate is pressed against the bumps (electrodes) and the bumps are made to have the same height, there is a problem that when the heads of the bumps are crushed, they are short-circuited with the adjacent bumps. In order to solve this problem, in the invention described in the above publication, an extra step of removing the tip of the bump (electrode) is provided.

上述した問題を解消するために、板状物等の被加工物を保持する保持面を備えた被加工物保持手段と、該被加工物保持手段の保持面に保持された被加工物を旋削するためのバイト工具を備えた旋削手段とを具備し、板状物の表面に突出して形成された複数個の電極の先端部をバイト工具によって旋削して除去するバイト工具を備えた加工装置が提案されている。(例えば、特許文献2参照。)   In order to solve the problems described above, a workpiece holding means having a holding surface for holding a workpiece such as a plate-like object, and a workpiece held on the holding surface of the workpiece holding means are turned. And a turning device having a cutting tool for cutting, and a machining apparatus having a cutting tool that turns and removes the tip portions of a plurality of electrodes protruding from the surface of the plate-like object with a cutting tool. Proposed. (For example, see Patent Document 2.)

特開2001−53097号公報JP 2001-53097 A 特開2004−319697号公報JP 2004-319697 A

而して、上述したバイト工具を備えた加工装置においては、被加工物を保持する被加工物保持手段が熱膨張すると、被加工物保持手段の保持面に保持された板状物の高さ位置が高くなるため、板状物の表面に突出して形成された複数個の電極の先端部を設定された値より余分に旋削してしまうという問題がある。   Thus, in the machining apparatus provided with the above-described bite tool, when the workpiece holding means for holding the workpiece is thermally expanded, the height of the plate-like object held on the holding surface of the workpiece holding means is increased. Since the position becomes high, there is a problem that the tip portions of the plurality of electrodes formed to protrude from the surface of the plate-like object are turned more than the set value.

本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術課題は、被加工物を保持する被加工物保持手段の熱膨張を抑制することができるバイト工具を備えた加工装置を提供することにある。   This invention is made | formed in view of the said fact, The main technical subject provides the processing apparatus provided with the bite tool which can suppress the thermal expansion of the workpiece holding means holding a workpiece. There is.

上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、被加工物を保持する被加工物保持機構と、該被加工物保持機構に保持された被加工物を旋削するためのバイト工具を備えた旋削手段と、を具備するバイト工具を備えた加工装置において、
該被加工物保持機構は、被加工物を吸引保持する保持テーブルと、該保持テーブルを支持する冷却部材と、該冷却部材を支持する基台と、該冷却部材に冷却水を供給する冷却水供給手段と、該冷却部材に供給された冷却水をチャックテーブルに向けて噴射するシャワーノズルと、を具備している、
ことを特徴とするバイト工具を備えた加工装置が提供される。
In order to solve the above-mentioned main technical problem, according to the present invention, a workpiece holding mechanism for holding a workpiece and a bite tool for turning the workpiece held by the workpiece holding mechanism are provided. In a processing apparatus provided with a cutting tool having a turning means,
The workpiece holding mechanism includes a holding table that holds the workpiece by suction, a cooling member that supports the holding table, a base that supports the cooling member, and cooling water that supplies cooling water to the cooling member. A supply means, and a shower nozzle that injects cooling water supplied to the cooling member toward the chuck table.
There is provided a machining apparatus provided with a cutting tool characterized by the above.

上記シャワーノズルは、保持テーブルを囲繞して設けられた環状のノズル部材からなり、環状のノズル部材の内周壁に複数の噴出口が設けられている。   The shower nozzle is composed of an annular nozzle member provided so as to surround the holding table, and a plurality of jet nozzles are provided on the inner peripheral wall of the annular nozzle member.

本発明によるバイト工具を備えた加工装置は、被加工物を保持する被加工物保持機構が被加工物を吸引保持する保持テーブルと、該保持テーブルを支持する冷却部材と、該冷却部材を支持する基台と、冷却部材に冷却水を供給する冷却水供給手段と、冷却部材に供給された冷却水を保持テーブルに向けて噴射するシャワーノズルとを具備しているので、冷却水供給手段によって冷却部材に供給された冷却水によって冷却部材が冷却されるとともに、該冷却部材に支持されている保持テーブルが冷却されるため、保持テーブルの熱膨張が抑制される。そして、冷却部材に流入され冷却部材を介して保持テーブルを冷却した冷却水がシャワーノズルに流入し、シャワーノズルから保持テーブルに向けて噴射せしめられるため、保持テーブルおよび該保持テーブルに保持された被加工物が冷却されるので、保持テーブルおよび該保持テーブルに保持された被加工物の熱膨張が抑制される。   A processing apparatus having a cutting tool according to the present invention includes a holding table that holds a workpiece by a workpiece holding mechanism that holds the workpiece, a cooling member that supports the holding table, and supports the cooling member. A cooling water supply means for supplying cooling water to the cooling member, and a shower nozzle for injecting the cooling water supplied to the cooling member toward the holding table. While the cooling member is cooled by the cooling water supplied to the cooling member and the holding table supported by the cooling member is cooled, the thermal expansion of the holding table is suppressed. Then, the cooling water that has flowed into the cooling member and has cooled the holding table via the cooling member flows into the shower nozzle and is sprayed from the shower nozzle toward the holding table. Since the workpiece is cooled, thermal expansion of the holding table and the workpiece held on the holding table is suppressed.

本発明に従って構成されたバイト工具を備えた加工装置の斜視図。The perspective view of the processing apparatus provided with the bite tool comprised according to this invention. 図1に示すバイト工具を備えた加工装置に装備される旋削ユニットの斜視図。The perspective view of the turning unit with which the processing apparatus provided with the cutting tool shown in FIG. 1 is equipped. 図1に示すバイト工具を備えた加工装置に装備される被加工物保持機構および被加工物保持機構移動手段を示す斜視図。The perspective view which shows the workpiece holding mechanism and workpiece holding mechanism moving means with which the processing apparatus provided with the cutting tool shown in FIG. 1 is equipped. 図1に示すバイト工具を備えた加工装置に装備される被加工物保持機構を構成するチャックテーブルの要部を破断して示す説明図。Explanatory drawing which fractures | ruptures and shows the principal part of the chuck table which comprises the workpiece holding mechanism with which the processing apparatus provided with the bite tool shown in FIG. 1 is equipped. 被加工物としての半導体ウエーハの平面図。The top view of the semiconductor wafer as a to-be-processed object. 図5に示す半導体ウエーハの要部を拡大して示す断面図。Sectional drawing which expands and shows the principal part of the semiconductor wafer shown in FIG. 図1に示すバイト工具を備えた加工装置による旋削工程の説明図。Explanatory drawing of the turning process by the processing apparatus provided with the cutting tool shown in FIG. 図1に示すバイト工具を備えた加工装置によって旋削加工された半導体ウエーハの要部を拡大して示す断面図。Sectional drawing which expands and shows the principal part of the semiconductor wafer turned by the processing apparatus provided with the cutting tool shown in FIG.

以下、本発明に従って構成されたバイト工具を備えた加工装置の好適な実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, a preferred embodiment of a machining apparatus provided with a bite tool constructed according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図1には本発明に従って構成されたバイト工具を備えた加工装置の斜視図が示されている。
図示の実施形態におけるバイト工具を備えた加工装置は、全体を番号2で示す装置ハウジングを具備している。装置ハウジング2は、細長く延在する直方体形状の主部21と、該主部21の後端部(図1において右上端)に設けられ実質上鉛直に上方に延びる直立壁22とを有している。直立壁22の前面には、上下方向に延びる一対の案内レール221、221が設けられている。この一対の案内レール221、221に旋削手段としての旋削ユニット3が上下方向に移動可能に装着されている。
FIG. 1 is a perspective view of a machining apparatus having a bite tool constructed according to the present invention.
The processing apparatus provided with the bite tool in the illustrated embodiment includes an apparatus housing denoted as a whole by 2. The apparatus housing 2 includes a rectangular parallelepiped main portion 21 that extends elongated and an upright wall 22 that is provided at a rear end portion (upper right end in FIG. 1) of the main portion 21 and extends substantially vertically upward. Yes. A pair of guide rails 221 and 221 extending in the vertical direction are provided on the front surface of the upright wall 22. A turning unit 3 as a turning means is mounted on the pair of guide rails 221 and 221 so as to be movable in the vertical direction.

旋削ユニット3は、支持基台31と該支持基台31に装着されたスピンドルユニット32を具備している。支持基台31は、後面両側に上下方向に延びる一対の脚部311、311が設けられており、この一対の脚部311、311に上記一対の案内レール221、221と摺動可能に係合する被案内溝312、312が形成されている。このように直立壁22に設けられた一対の案内レール221、221に摺動可能に装着された支持基台31の前面には支持部材313が装着され、この支持部材313にスピンドルユニット32が取り付けられる。   The turning unit 3 includes a support base 31 and a spindle unit 32 attached to the support base 31. The support base 31 is provided with a pair of legs 311 and 311 extending in the vertical direction on both sides of the rear surface. The pair of legs 311 and 311 is slidably engaged with the pair of guide rails 221 and 221. Guided grooves 312 and 312 are formed. A support member 313 is mounted on the front surface of the support base 31 slidably mounted on the pair of guide rails 221 and 221 provided on the upright wall 22 in this manner, and the spindle unit 32 is attached to the support member 313. It is done.

スピンドルユニット32は、支持部材313に装着されたスピンドルハウジング321と、該スピンドルハウジング321に回転自在に配設された回転スピンドル322と、該回転スピンドル322を回転駆動するための駆動源としてのサーボモータ323とを具備している。回転スピンドル322の下端部はスピンドルハウジング321の下端を越えて下方に突出せしめられており、その下端には円板形状のバイト工具装着部材324が設けられている。なお、バイト工具装着部材324には、バイト工具33が着脱可能に装着される。   The spindle unit 32 includes a spindle housing 321 mounted on a support member 313, a rotating spindle 322 rotatably disposed on the spindle housing 321, and a servo motor as a drive source for rotationally driving the rotating spindle 322. 323. The lower end of the rotary spindle 322 protrudes downward beyond the lower end of the spindle housing 321, and a disk-shaped tool tool mounting member 324 is provided at the lower end. The tool tool 33 is detachably mounted on the tool tool mounting member 324.

ここで、バイト工具33のバイト工具装着部材324への着脱構造について、図2を参照して説明する。
バイト工具装着部材324には、外周部の一部に上下方向に貫通するバイト取り付け穴324aが設けられているとともに、このバイト取り付け穴324aと対応する外周面からバイト取り付け穴324aに達する雌ねじ穴324bが設けられている。このように構成されたバイト工具装着部材324のバイト取り付け穴324aにバイト工具33を挿入し、雌ねじ穴324bに締め付けボルト330を螺合して締め付けることにより、バイト工具33はバイト工具装着部材324に着脱可能に装着される。なお、バイト工具33は、図示の実施形態においては超鋼合金等の工具鋼によって棒状に形成されたバイト本体331と、該バイト本体331の先端部に設けられたダイヤモンド等で形成された切れ刃332とによって構成したものが用いられている。このように構成されバイト工具装着部材324に装着されているバイト工具33は、上記回転スピンドル322が回転することにより、後述する被加工物保持手段を構成するチャックテーブルの被加工物を保持する保持面と平行な面内で回転せしめられる。
Here, the attachment / detachment structure of the cutting tool 33 to the cutting tool mounting member 324 will be described with reference to FIG.
The tool tool mounting member 324 is provided with a tool mounting hole 324a penetrating in a vertical direction in a part of the outer peripheral portion, and a female screw hole 324b reaching the tool mounting hole 324a from an outer peripheral surface corresponding to the tool mounting hole 324a. Is provided. The bite tool 33 is inserted into the bite tool attachment member 324 by inserting the bite tool 33 into the bite attachment hole 324a of the bite tool attachment member 324 thus configured, and screwing and tightening the tightening bolt 330 into the female screw hole 324b. Removably mounted. In the illustrated embodiment, the cutting tool 33 is composed of a cutting tool body 331 formed in a rod shape with tool steel such as super steel alloy, and a cutting blade formed of diamond or the like provided at the tip of the cutting tool body 331. 332 is used. The bite tool 33 configured as described above and mounted on the bite tool mounting member 324 holds the workpiece of the chuck table that constitutes a workpiece holding means, which will be described later, as the rotary spindle 322 rotates. It can be rotated in a plane parallel to the plane.

図1に戻って説明を続けると、図示の実施形態におけるバイト工具を備えた加工装置は、上記旋削ユニット3を上記一対の案内レール221、221に沿って上下方向(後述する被加工物保持手段を構成するチャックテーブルの保持面と垂直な方向)に移動せしめる旋削ユニット送り機構4を備えている。この旋削ユニット送り機構4は、直立壁22の前側に配設され実質上鉛直に延びる雄ねじロッド41を具備している。この雄ねじロッド41は、その上端部および下端部が直立壁22に取り付けられた軸受部材42および43によって回転自在に支持されている。上側の軸受部材42には雄ねじロッド41を回転駆動するための駆動源としてのパルスモータ44が配設されており、このパルスモータ44の出力軸が雄ねじロッド41に伝動連結されている。支持基台31の後面にはその幅方向中央部から後方に突出する連結部(図示していない)も形成されており、この連結部には鉛直方向に延びる貫通雌ねじ穴が形成されており、この雌ねじ穴に上記雄ねじロッド41が螺合せしめられている。従って、パルスモータ44が正転すると支持基台31即ち旋削ユニット3が下降即ち前進せしめられ、パルスモータ44が逆転すると支持基台31即ち旋削ユニット3が上昇即ち後退せしめられる。   Returning to FIG. 1, the description will be continued. In the machining apparatus provided with the bite tool in the illustrated embodiment, the turning unit 3 is moved in the vertical direction along the pair of guide rails 221 and 221 (workpiece holding means described later). A turning unit feed mechanism 4 which is moved in a direction perpendicular to the holding surface of the chuck table constituting the. The turning unit feed mechanism 4 includes a male screw rod 41 disposed on the front side of the upright wall 22 and extending substantially vertically. The male screw rod 41 is rotatably supported by bearing members 42 and 43 whose upper end and lower end are attached to the upright wall 22. The upper bearing member 42 is provided with a pulse motor 44 as a drive source for rotationally driving the male screw rod 41, and the output shaft of the pulse motor 44 is connected to the male screw rod 41 by transmission. On the rear surface of the support base 31 is also formed a connecting portion (not shown) that protrudes rearward from the central portion in the width direction, and this connecting portion has a through female screw hole extending in the vertical direction, The male screw rod 41 is screwed into the female screw hole. Therefore, when the pulse motor 44 rotates forward, the support base 31, that is, the turning unit 3, is lowered or moved forward, and when the pulse motor 44 reversely moves, the support base 31, that is, the turning unit 3, is raised or moved backward.

図1および図3を参照して説明を続けると、ハウジング2の主部21の後半部上には略矩形状の加工作業部211が形成されており、この加工作業部211には被加工物保持機構5が配設されている。被加工物保持機構5は、移動基台51とこの移動基台51に配設され板状の被加工物を保持するチャックテーブル52とを含んでいる。移動基台51は、上記加工作業部211上に前後方向(直立壁22の前面に垂直な方向)である矢印23aおよび23bで示す方向に延在する一対の案内レール23、23上に摺動自在に載置されており、後述する被加工物保持機構移動手段56によって図1に示す被加工物搬入・搬出域24(図3において実線で示す位置)と上記スピンドルユニット32を構成するバイト工具33と対向する加工域25(図3において2点鎖線で示す位置)との間で移動せしめられる。   1 and 3, a substantially rectangular machining work portion 211 is formed on the rear half of the main portion 21 of the housing 2, and the machining work portion 211 includes a workpiece. A holding mechanism 5 is provided. The workpiece holding mechanism 5 includes a moving base 51 and a chuck table 52 disposed on the moving base 51 and holding a plate-like workpiece. The movable base 51 slides on a pair of guide rails 23 and 23 extending in the direction indicated by the arrows 23a and 23b in the front-rear direction (direction perpendicular to the front surface of the upright wall 22) on the processing work unit 211. A workpiece loading / unloading area 24 shown in FIG. 1 (position indicated by a solid line in FIG. 3) and a tool for constituting the spindle unit 32 by a workpiece holding mechanism moving means 56 to be described later. 33 and the machining area 25 (position indicated by a two-dot chain line in FIG. 3) opposite to each other.

次に、上記チャックテーブル52について、図4を参照して説明する。
図示の実施形態におけるチャックテーブル52は、アルミニウム等の金属材によって円盤状に形成された保持テーブル521と、該保持テーブル521を支持する円盤状の冷却部材522と、該冷却部材522を支持する円柱状の基台523とからなっており、上記移動基台51上に配設されている。保持テーブル521は、下面に冷却部材522の上面に形成された嵌合凹部522aに嵌合する嵌合凸部521aが設けられている。このように形成された保持テーブル521の上面である保持面には同心円状に形成された複数の環状溝からなる吸引溝521bが設けられており、この該吸引溝521bは中心部に軸方向に設けられた吸引通路521cに連通されている。
Next, the chuck table 52 will be described with reference to FIG.
The chuck table 52 in the illustrated embodiment includes a holding table 521 formed in a disc shape by a metal material such as aluminum, a disc-shaped cooling member 522 that supports the holding table 521, and a circle that supports the cooling member 522. A columnar base 523 is disposed on the movable base 51. The holding table 521 is provided with a fitting convex portion 521 a that fits into a fitting concave portion 522 a formed on the upper surface of the cooling member 522 on the lower surface. The holding surface, which is the upper surface of the holding table 521 formed in this way, is provided with a suction groove 521b composed of a plurality of concentric annular grooves, and the suction groove 521b is axially formed at the center. The suction passage 521c is provided.

チャックテーブル52を構成する冷却部材522の下面には、基台523の上面に形成された嵌合凹部523aに嵌合する嵌合凸部522bが設けられている。このように形成された冷却部材522は、中心部に軸方向に設けられ上記吸引通路521cに連通する連通路522cと、上記保持テーブル521を冷却するための渦巻き状に形成された冷却水流通路522dと、該冷却水流通路522dの中心部に連通する冷却水導入通路522eと、冷却水流通路522dの外周端に連通する冷却水排出通路522fを備えている。   On the lower surface of the cooling member 522 constituting the chuck table 52, a fitting convex portion 522b that fits into a fitting concave portion 523a formed on the upper surface of the base 523 is provided. The cooling member 522 formed in this way is provided in a central portion in the axial direction and communicates with the suction passage 521c and communicates with the suction passage 521c, and a cooling water flow passage 522d formed in a spiral shape for cooling the holding table 521. A cooling water introduction passage 522e communicating with the central portion of the cooling water flow passage 522d, and a cooling water discharge passage 522f communicating with the outer peripheral end of the cooling water flow passage 522d.

このように構成された冷却部材522の連通路522cは、基台523に設けられた連通路523bを介して吸引手段524に接続されている。吸引手段524は、吸引源524aと、該吸引源524aと連通路523bを接続する配管524bと、該配管524bに配設された電磁開閉弁524cとからなっている。この電磁開閉弁524cは、除勢(OFF)している状態では閉路しており、附勢(ON)すると開路するようになっている。従って、電磁開閉弁524cが附勢(ON)されると、配管524b、連通路523b、連通路522cおよび吸引通路521cを介して吸引溝521bに負圧が作用し、保持テーブル521の上面である保持面に載置された被加工物が吸引保持される。   The communication path 522 c of the cooling member 522 configured as described above is connected to the suction unit 524 through the communication path 523 b provided in the base 523. The suction means 524 includes a suction source 524a, a pipe 524b connecting the suction source 524a and the communication path 523b, and an electromagnetic opening / closing valve 524c disposed in the pipe 524b. The electromagnetic opening / closing valve 524c is closed when de-energized (OFF), and is opened when energized (ON). Therefore, when the electromagnetic on-off valve 524c is energized (ON), negative pressure acts on the suction groove 521b via the pipe 524b, the communication path 523b, the communication path 522c, and the suction path 521c, and the upper surface of the holding table 521 is detected. The workpiece placed on the holding surface is sucked and held.

また、冷却部材522に設けられた冷却水流通路522dに連通する冷却水導入通路522eは、基台523に設けられた連通路523cを介して冷却水供給手段525に接続されている。冷却水供給手段525は、冷却水供給源525aと、該冷却水供給源525aと連通路523cとを接続する供給配管525bと、該供給配管525bに配設された電磁開閉弁525cとからなっている。上記電磁開閉弁525cは、除勢(OFF)している状態では閉路しており、附勢(ON)すると開路するようになっている。従って、電磁開閉弁525cが附勢(ON)されると、冷却水供給源525aから冷却水が供給配管525b、連通路523c、冷却水導入通路522eを介して冷却水流通路522dに流入し、冷却水排出通路522fを介して排出せしめられる。この結果、冷却部材522が冷却されるとともに、該冷却部材522に支持されている保持テーブル521が冷却されるため、保持テーブル521の熱膨張が抑制される。なお、上述したように冷却水流通路522dに流入され冷却部材522を冷却した冷却水は、冷却水排出通路522fを介して後述するシャワーノズルに送られる。   A cooling water introduction passage 522e communicating with the cooling water flow passage 522d provided in the cooling member 522 is connected to the cooling water supply means 525 via a communication passage 523c provided in the base 523. The cooling water supply means 525 includes a cooling water supply source 525a, a supply pipe 525b connecting the cooling water supply source 525a and the communication path 523c, and an electromagnetic opening / closing valve 525c disposed in the supply pipe 525b. Yes. The electromagnetic on-off valve 525c is closed when de-energized (OFF) and opened when energized (ON). Therefore, when the electromagnetic on-off valve 525c is energized (ON), the cooling water flows from the cooling water supply source 525a into the cooling water flow passage 522d through the supply pipe 525b, the communication passage 523c, and the cooling water introduction passage 522e, and is cooled. It is discharged through the water discharge passage 522f. As a result, the cooling member 522 is cooled and the holding table 521 supported by the cooling member 522 is cooled, so that the thermal expansion of the holding table 521 is suppressed. As described above, the cooling water that has flowed into the cooling water flow passage 522d and has cooled the cooling member 522 is sent to a shower nozzle described later via the cooling water discharge passage 522f.

図3および図4を参照して説明を続けると、図示の実施形態における被加工物保持機構5は、上記冷却部材522に供給された冷却水を保持テーブル521に向けて噴射するシャワーノズル53を具備している。このシャワーノズル53は、図示の実施形態においては環状のノズル部材531からなり、上記チャックテーブル52を挿通する穴を有し移動基台51およびチャックテーブル52とともに移動可能に配設されたカバー部材54上に保持テーブル521を囲繞して配設されている。環状のノズル部材531は、パイプ材によって環状に形成され、内周壁に保持テーブル521に向けて開口する複数の噴射口531aが設けられているとともに、底壁に冷却水流入口531bが設けられている。このように構成された環状のノズル部材531は、冷却水流入口531bが上記カバー部材54に設けられた連通路541および冷却水流入管532を介して上記冷却部材522に設けられた冷却水排出通路522fに連通されている。従って、冷却部材522に設けられた冷却水流通路522dに流入され冷却部材522を冷却した冷却水は、冷却水排出通路522fから冷却水流入管532、連通路541、冷却水流入口531bを介してシャワーノズル53に流入し、シャワーノズル53を構成する環状のノズル部材531に設けられた複数の噴射口531aから保持テーブル521に向けて噴射せしめられる。この結果、保持テーブル521が冷却されるため、保持テーブル521および該保持テーブル521に保持された被加工物の熱膨張が抑制される。   3 and 4, the workpiece holding mechanism 5 in the illustrated embodiment has a shower nozzle 53 that injects the cooling water supplied to the cooling member 522 toward the holding table 521. It has. The shower nozzle 53 includes an annular nozzle member 531 in the illustrated embodiment, and has a hole through which the chuck table 52 is inserted, and is disposed so as to be movable together with the movable base 51 and the chuck table 52. A holding table 521 is disposed on the top. The annular nozzle member 531 is formed in an annular shape by a pipe material, and a plurality of injection ports 531a opening toward the holding table 521 are provided on the inner peripheral wall, and a cooling water inflow port 531b is provided on the bottom wall. . The annular nozzle member 531 configured as described above has a cooling water inflow passage 522f provided in the cooling member 522 via a communication passage 541 provided with a cooling water inlet 531b in the cover member 54 and a cooling water inflow pipe 532. It is communicated to. Accordingly, the cooling water that flows into the cooling water flow passage 522d provided in the cooling member 522 and cools the cooling member 522 passes through the cooling water discharge pipe 522f, the cooling water inflow pipe 532, the communication passage 541, and the cooling water inlet 531b. 53, and is injected toward the holding table 521 from a plurality of injection ports 531a provided in the annular nozzle member 531 constituting the shower nozzle 53. As a result, since the holding table 521 is cooled, thermal expansion of the holding table 521 and the workpiece held on the holding table 521 is suppressed.

図3を参照して説明を続けると、図示の実施形態におけるバイト工具を備えた加工装置は、上記被加工物保持機構5を一対の案内レール23、23に沿って矢印23aおよび23bで示す方向に移動せしめる被加工物保持機構移動手段56を具備している。被加工物保持機構移動手段56は、一対の案内レール23、23間に配設され一対の案内レール23、23と平行に延びる雄ねじロッド561と、該雄ねじロッド561を回転駆動するパルスモータ562を具備している。雄ねじロッド561は、上記移動基台51に設けられたねじ穴511と螺合して、その先端部が一対の案内レール23、23を連結して取り付けられた軸受部材563によって回転自在に支持されている。パルスモータ562は、その駆動軸が雄ねじロッド561の基端と伝動連結されている。従って、パルスモータ562が正転すると被加工物保持機構移動手段56の移動基台が矢印23aで示す方向に移動し、パルスモータ562が逆転すると移動基台51が矢印23bで示す方向に移動せしめられる。このようにして矢印23aおよび23bで示す方向に移動せしめられる被加工物保持機構5は、図3において実線で示す被加工物搬入・搬出域と2点鎖線で示す加工域に選択的に位置付けられる。また、被加工物保持機構5は、加工域においては所定範囲に渡って矢印23aおよび23bで示す方向に往復動せしめられる。   When the description continues with reference to FIG. 3, the machining apparatus provided with the bite tool in the illustrated embodiment shows the workpiece holding mechanism 5 in the direction indicated by the arrows 23 a and 23 b along the pair of guide rails 23, 23. The workpiece holding mechanism moving means 56 is provided. The workpiece holding mechanism moving means 56 includes a male screw rod 561 disposed between the pair of guide rails 23, 23 and extending in parallel with the pair of guide rails 23, 23, and a pulse motor 562 that rotationally drives the male screw rod 561. It has. The male screw rod 561 is screwed into a screw hole 511 provided in the moving base 51, and its tip is rotatably supported by a bearing member 563 attached by connecting a pair of guide rails 23, 23. ing. The drive shaft of the pulse motor 562 is connected to the base end of the male screw rod 561 by transmission. Therefore, when the pulse motor 562 rotates forward, the moving base of the workpiece holding mechanism moving means 56 moves in the direction indicated by the arrow 23a, and when the pulse motor 562 reverses, the moving base 51 moves in the direction indicated by the arrow 23b. It is done. The workpiece holding mechanism 5 thus moved in the direction indicated by the arrows 23a and 23b is selectively positioned in the workpiece loading / unloading area indicated by the solid line and the machining area indicated by the two-dot chain line in FIG. . In addition, the workpiece holding mechanism 5 is reciprocated in the direction indicated by the arrows 23a and 23b over a predetermined range in the machining area.

図1に戻って説明を続けると、上記被加工物保持機構5を構成する移動基台51の移動方向両側には、横断面形状が逆チャンネル形状であって、上記一対の案内レール23、23や雄ねじロッド561およびパルスモータ562等を覆っている蛇腹手段61および62が付設されている。蛇腹手段61および62はキャンパス布の如き適宜の材料から形成することができる。蛇腹手段61の前端は加工作業部211の前面壁に固定され、後端は被加工物保持機構5のカバー部材54の前端面に固定されている。蛇腹手段62の前端は被加工物保持機構5のカバー部材54の後端面に固定され、後端は装置ハウジング2の直立壁22の前面に固定されている。被加工物保持機構5が矢印23aで示す方向に移動せしめられる際には蛇腹手段61が伸張されて蛇腹手段62が収縮され、被加工物保持機構5が矢印23bで示す方向に移動せしめられる際には蛇腹手段61が収縮されて蛇腹手段62が伸張せしめられる。   Returning to FIG. 1, the description will be continued. On the both sides in the moving direction of the moving base 51 constituting the workpiece holding mechanism 5, the cross-sectional shape is a reverse channel shape, and the pair of guide rails 23, 23 And bellows means 61 and 62 covering the male screw rod 561, the pulse motor 562 and the like. The bellows means 61 and 62 can be formed from any suitable material such as campus cloth. The front end of the bellows means 61 is fixed to the front wall of the processing unit 211, and the rear end is fixed to the front end surface of the cover member 54 of the workpiece holding mechanism 5. The front end of the bellows means 62 is fixed to the rear end surface of the cover member 54 of the workpiece holding mechanism 5, and the rear end is fixed to the front surface of the upright wall 22 of the apparatus housing 2. When the workpiece holding mechanism 5 is moved in the direction indicated by the arrow 23a, the bellows means 61 is expanded and the bellows means 62 is contracted, and when the workpiece holding mechanism 5 is moved in the direction indicated by the arrow 23b. Then, the bellows means 61 is contracted and the bellows means 62 is extended.

図1に基づいて説明を続けると、装置ハウジング2の主部21における前半部上には、第1のカセット載置部11aと、第2のカセット載置部12aと、被加工物仮置き部13aと、洗浄部14aが設けられている。上記第1のカセット載置部11aには加工前の被加工物を収容する第1のカセット11が載置され、上記第2のカセット載置部12aには加工後の被加工物を収容する第2のカセット12が載置されるようになっている。上記被加工物仮置き部13aには、第1のカセット載置部11aに載置された第1のカセット11から搬出された加工前の被加工物を仮置きする被加工物仮置き手段13が配設されている。また、上記洗浄部14aには、加工後の被加工物を洗浄する洗浄手段14が配設されている。   The description will be continued based on FIG. 1. On the front half of the main portion 21 of the apparatus housing 2, a first cassette mounting portion 11 a, a second cassette mounting portion 12 a, and a workpiece temporary storage portion are provided. 13a and a cleaning unit 14a are provided. A first cassette 11 that accommodates a workpiece before processing is placed on the first cassette mounting portion 11a, and a workpiece after processing is accommodated on the second cassette mounting portion 12a. The second cassette 12 is placed. In the workpiece temporary placement portion 13a, the workpiece temporary placement means 13 for temporarily placing the workpiece before being unloaded from the first cassette 11 placed on the first cassette placement portion 11a. Is arranged. The cleaning unit 14a is provided with cleaning means 14 for cleaning the processed workpiece.

上記第1のカセット載置部11aと第2のカセット載置部12aとの間には被加工物搬送手段15が配設されている。この被加工物搬送手段15は、第1のカセット載置部11aに載置された第1のカセット11内に収納されている加工前の被加工物を被加工物仮置き手段13に搬出するとともに、洗浄手段14で洗浄された加工後の被加工物を第2のカセット載置部12aに載置された第2のカセット12に搬送する。上記被加工物仮置き部13aと被加工物搬入・搬出域24との間には被加工物搬入手段16が配設されている。この被加工物搬入手段16は、被加工物仮置き手段13に載置された加工前の被加工物を被加工物搬入・搬出域24に位置付けられた被加工物保持機構5のチャックテーブル52上に搬送する。上記被加工物搬入・搬出域24と洗浄部14aとの間には被加工物搬出手段17が配設されている。この被加工物搬出手段17は、被加工物搬入・搬出域24に位置付けられたチャックテーブル52上に載置されている加工後の被加工物を洗浄手段14に搬送する。   A workpiece transfer means 15 is disposed between the first cassette mounting portion 11a and the second cassette mounting portion 12a. The workpiece conveying means 15 carries the workpiece before processing stored in the first cassette 11 placed on the first cassette placing portion 11 a to the workpiece temporary placing means 13. At the same time, the processed workpiece cleaned by the cleaning means 14 is transported to the second cassette 12 mounted on the second cassette mounting portion 12a. A workpiece carry-in means 16 is disposed between the workpiece temporary placement portion 13a and the workpiece carry-in / carry-out area 24. The workpiece carry-in means 16 is a chuck table 52 of the workpiece holding mechanism 5 in which the workpiece before processing placed on the workpiece temporary placing means 13 is positioned in the workpiece carry-in / out area 24. Carry up. A workpiece unloading means 17 is disposed between the workpiece loading / unloading area 24 and the cleaning unit 14a. The workpiece unloading means 17 conveys the processed workpiece placed on the chuck table 52 positioned in the workpiece loading / unloading area 24 to the cleaning means 14.

上記第1のカセット11に収容される加工前の被加工物は、図5に示すように表面に複数個のデバイス110が格子状に形成され半導体ウエーハ10からなっている。半導体ウエーハ10に形成された複数個のデバイス110の表面には、それぞれ複数個のスタッドバンプ(電極)120が形成されている。このように各デバイス110の表面のスタッドバンプ(電極)120が形成され半導体ウエーハ10の表面には、図6に示すように合成樹脂からなるアンダーフィル材130が被覆され、スタッドバンプ(電極)120が埋設された状態となっている。   The workpiece before processing accommodated in the first cassette 11 includes a semiconductor wafer 10 in which a plurality of devices 110 are formed in a lattice shape on the surface as shown in FIG. A plurality of stud bumps (electrodes) 120 are formed on the surfaces of the plurality of devices 110 formed on the semiconductor wafer 10. In this way, the stud bump (electrode) 120 on the surface of each device 110 is formed, and the surface of the semiconductor wafer 10 is covered with an underfill material 130 made of a synthetic resin as shown in FIG. Is buried.

上述した被加工物としての半導体ウエーハ10を収容した第1のカセット11は、装置ハウジング2の第1のカセット載置部11aに載置される。そして、第1のカセット載置部11aに載置された第1のカセット11に収容されていた加工前の半導体ウエーハ10が全て搬出されると、空になったカセット11に代えて複数個の加工前の半導体ウエーハ10を収容した新しいカセット11が手動で第1のカセット載置部11aに載置される。一方、装置ハウジング2の第2のカセット載置部12aに載置された第2のカセット12に所定数の加工後の半導体ウエーハ10が搬入されると、かかる第2のカセット12が手動で搬出され、新しい空の第2のカセット12が載置される。   The first cassette 11 containing the semiconductor wafer 10 as the workpiece is mounted on the first cassette mounting portion 11 a of the apparatus housing 2. When all the unprocessed semiconductor wafers 10 accommodated in the first cassette 11 placed on the first cassette placement portion 11a are carried out, a plurality of empty wafers 11 are replaced. A new cassette 11 containing the unprocessed semiconductor wafer 10 is manually mounted on the first cassette mounting portion 11a. On the other hand, when a predetermined number of processed semiconductor wafers 10 are loaded into the second cassette 12 mounted on the second cassette mounting portion 12a of the apparatus housing 2, the second cassette 12 is manually unloaded. Then, a new empty second cassette 12 is placed.

図示の実施形態におけるバイト工具を備えた加工装置は以上のように構成されており、以下その作動について主に図1を参照して説明する。
第1のカセット11に収容された被加工物としての加工前の半導体ウエーハ10は被加工物搬送手段15の上下動作および進退動作により搬送され、被加工物仮置き手段13に載置される。被加工物仮置き手段13に載置された半導体ウエーハ10は、ここで中心合わせが行われた後に被加工物搬入手段16の旋回動作によって被加工物搬入・搬出域24に位置付けられている被加工物保持機構5のチャックテーブル52を構成する保持テーブル521上に載置される。保持テーブル521上に半導体ウエーハ10が載置されたならば、図4に示す吸引手段524の電磁開閉弁524cを附勢(ON)して開路する。この結果、上述したように吸引源524aから配管524b、連通路523b、連通路522cおよび吸引通路521cを介して吸引溝521bに負圧が作用し、保持テーブル521の上面である保持面に載置された半導体ウエーハ10が吸引保持される。
The machining apparatus provided with the cutting tool in the illustrated embodiment is configured as described above, and the operation thereof will be described below mainly with reference to FIG.
The unprocessed semiconductor wafer 10 as a workpiece accommodated in the first cassette 11 is conveyed by the vertical movement and advancing / retreating operation of the workpiece conveyance means 15 and placed on the workpiece temporary placement means 13. The semiconductor wafer 10 placed on the workpiece temporary placing means 13 is positioned in the workpiece loading / unloading area 24 by the turning operation of the workpiece loading means 16 after being centered here. It is placed on a holding table 521 constituting the chuck table 52 of the workpiece holding mechanism 5. When the semiconductor wafer 10 is placed on the holding table 521, the electromagnetic on-off valve 524c of the suction means 524 shown in FIG. 4 is energized (ON) to open the circuit. As a result, as described above, negative pressure acts on the suction groove 521b from the suction source 524a via the pipe 524b, the communication path 523b, the communication path 522c, and the suction path 521c, and the suction table 521 is placed on the holding surface. The semiconductor wafer 10 is sucked and held.

保持テーブル521上に半導体ウエーハ10を吸引保持したならば、被加工物保持機構移動手段56(図3参照)を作動して被加工物保持機構5を矢印23aで示す方向に移動し、半導体ウエーハ10を保持したチャックテーブル52を加工域25に位置付ける。このようにして半導体ウエーハ10を保持したチャックテーブル52が加工領域25に位置付けられたならば、半導体ウエーハ10の表面に被覆されたアンダーフィル材130を旋削し、デバイス110の表面に形成された複数個のスタッドバンプ(電極)120をアンダーフィル材130の表面に露出させる旋削工程を実施する。   When the semiconductor wafer 10 is sucked and held on the holding table 521, the workpiece holding mechanism moving means 56 (see FIG. 3) is operated to move the workpiece holding mechanism 5 in the direction indicated by the arrow 23a. The chuck table 52 holding 10 is positioned in the machining area 25. When the chuck table 52 holding the semiconductor wafer 10 is positioned in the processing region 25 in this way, the underfill material 130 coated on the surface of the semiconductor wafer 10 is turned to form a plurality of devices formed on the surface of the device 110. A turning process for exposing the stud bumps (electrodes) 120 on the surface of the underfill material 130 is performed.

上記旋削工程について、図7を参照して説明する。
旋削工程は、回転スピンドル322を回転駆動し、バイト工具33が取り付けられたバイト工具装着部材324を図7において矢印Aで示す方向に例えば6000rpmの回転速度で回転する。そして、旋削ユニット3を下降させバイト工具33を所定の切り込み位置に位置付ける。次に、例えばバイト工具33の切れ刃332の旋削幅が20数μmの場合には、半導体ウエーハ10を保持したチャックテーブル52を図7において実線で示す位置から矢印Bで示す方向に例えば2mm/秒の送り速度で移動する。この結果、バイト工具装着部材324の回転に伴って回転するバイト工具33の切れ刃332によって半導体ウエーハ10の表面に被覆されたアンダーフィル材130を旋削するとともに、デバイス110の表面に形成された複数個のスタッドバンプ(電極)120が旋削され、図8に示すように半導体ウエーハ10の表面に被覆されたアンダーフィル材130の表面にスタッドバンプ(電極)120が露出せしめられる。
The turning process will be described with reference to FIG.
In the turning process, the rotary spindle 322 is driven to rotate, and the tool tool mounting member 324 to which the tool tool 33 is attached rotates in the direction indicated by the arrow A in FIG. Then, the turning unit 3 is lowered to position the cutting tool 33 at a predetermined cutting position. Next, when the turning width of the cutting edge 332 of the cutting tool 33 is, for example, 20 μm, the chuck table 52 holding the semiconductor wafer 10 is moved in the direction indicated by the arrow B from the position indicated by the solid line in FIG. Move at a feed rate of seconds. As a result, the underfill material 130 coated on the surface of the semiconductor wafer 10 is turned by the cutting edge 332 of the cutting tool 33 that rotates with the rotation of the cutting tool mounting member 324, and a plurality of pieces formed on the surface of the device 110 are formed. The individual stud bumps (electrodes) 120 are turned, and the stud bumps (electrodes) 120 are exposed on the surface of the underfill material 130 coated on the surface of the semiconductor wafer 10 as shown in FIG.

上記旋削工程においては、図4に示す冷却水供給手段525の電磁開閉弁525cを附勢(ON)して開路する。電磁開閉弁525cが開路すると、上述したように冷却水供給源525aから冷却水が供給配管525b、連通路523c、冷却水導入通路522eを介して冷却水流通路522dに流入し、冷却水排出通路522fを介して排出せしめられる。この結果、冷却部材522が冷却されるとともに、該冷却部材522に支持されている保持テーブル521が冷却されるため、保持テーブル521の熱膨張が抑制される。このようにして冷却部材522に流入され冷却部材522を冷却した冷却水は、冷却水排出通路522fから冷却水流入管532および連通路541を介して冷却水流入口531bからシャワーノズル53に流入し、シャワーノズル53を構成する環状のノズル部材531に設けられた複数の噴射口531aから保持テーブル521に向けて噴射せしめられる。この結果、保持テーブル521が冷却されるため、保持テーブル521および該保持テーブル521に保持された半導体ウエーハ10の熱膨張が抑制される。   In the turning process, the electromagnetic on-off valve 525c of the cooling water supply means 525 shown in FIG. 4 is energized (ON) to open the circuit. When the electromagnetic opening / closing valve 525c is opened, as described above, the cooling water flows from the cooling water supply source 525a into the cooling water flow passage 522d via the supply pipe 525b, the communication passage 523c, and the cooling water introduction passage 522e, and the cooling water discharge passage 522f. It is discharged through. As a result, the cooling member 522 is cooled and the holding table 521 supported by the cooling member 522 is cooled, so that the thermal expansion of the holding table 521 is suppressed. The cooling water that has flowed into the cooling member 522 and cooled the cooling member 522 in this way flows into the shower nozzle 53 from the cooling water inlet 531b through the cooling water inflow pipe 532 and the communication path 541 from the cooling water discharge passage 522f. A plurality of ejection ports 531 a provided in an annular nozzle member 531 constituting the nozzle 53 are ejected toward the holding table 521. As a result, since the holding table 521 is cooled, thermal expansion of the holding table 521 and the semiconductor wafer 10 held on the holding table 521 is suppressed.

上述したように半導体ウエーハ10の表面に被覆されたアンダーフィル材130を旋削し、デバイス110の表面に形成された複数個のスタッドバンプ(電極)120をアンダーフィル材130の表面に露出させる旋削工程が終了したら、旋削ユニット3を上昇せしめる。次に、チャックテーブル52を図1において矢印23bで示す方向に移動して被加工物搬入・搬出域24に位置付け、チャックテーブル52を構成する保持テーブル521上の旋削加工された半導体ウエーハ10の吸引保持を解除する。そして、保持テーブル521による吸引保持が解除された半導体ウエーハ10は、被加工物搬出手段17により搬出されて洗浄手段14に搬送される。洗浄手段14に搬送された半導体ウエーハ10は、ここで洗浄される。洗浄手段14で洗浄された半導体ウエーハ10は、被加工物搬送手段15よって第2のカセット12の所定位置に収納される。   As described above, the turning process of turning the underfill material 130 coated on the surface of the semiconductor wafer 10 and exposing the plurality of stud bumps (electrodes) 120 formed on the surface of the device 110 to the surface of the underfill material 130. When is finished, the turning unit 3 is raised. Next, the chuck table 52 is moved in the direction indicated by the arrow 23 b in FIG. 1 to be positioned in the workpiece loading / unloading area 24, and the semiconductor wafer 10 that has been turned on the holding table 521 constituting the chuck table 52 is sucked. Release the hold. Then, the semiconductor wafer 10 released from the suction and holding by the holding table 521 is unloaded by the workpiece unloading means 17 and transferred to the cleaning means 14. The semiconductor wafer 10 conveyed to the cleaning means 14 is cleaned here. The semiconductor wafer 10 cleaned by the cleaning unit 14 is stored in a predetermined position of the second cassette 12 by the workpiece transfer unit 15.

2:装置ハウジング
3:旋削ユニット
31:移動基台
32:スピンドルユニット
321:スピンドルハウジング
322:回転スピンドル
323:サーボモータ
324:バイト工具装着部材
33:バイト工具
331:バイト本体
332:切れ刃
4:旋削ユニット送り機構
5:被加工物保持機構
51:支持基台
52:チャックテーブル
521:保持テーブル
522:冷却部材
523:基台
524:吸引手段
525:冷却水供給手段
53:シャワーノズル
56:被加工物保持機構移動手段
11:第1のカセット
12:第2のカセット
13:被加工物仮置き手段
14:洗浄手段
15:被加工物搬送手段
16:被加工物搬入手段
17:被加工物搬出手段
10:半導体ウエーハ
110:デバイス
120:スタッドバンプ(電極)
130:アンダーフィル材
2: Device housing 3: Turning unit 31: Moving base 32: Spindle unit 321: Spindle housing 322: Rotating spindle 323: Servo motor 324: Tool tool mounting member 33: Tool tool 331: Tool body 332: Cutting blade 4: Turning Unit feed mechanism 5: Workpiece holding mechanism 51: Support base 52: Chuck table 521: Holding table 522: Cooling member 523: Base 524: Suction means 525: Cooling water supply means 53: Shower nozzle 56: Workpiece Holding mechanism moving means 11: First cassette 12: Second cassette 13: Temporary workpiece placing means 14: Cleaning means 15: Workpiece conveying means 16: Workpiece carrying means 17: Workpiece carrying means 10 : Semiconductor wafer 110: Device 120: Stud bump (electrode)
130: Underfill material

Claims (2)

被加工物を保持する被加工物保持機構と、該被加工物保持機構に保持された被加工物を旋削するためのバイト工具を備えた旋削手段と、を具備するバイト工具を備えた加工装置において、
該被加工物保持機構は、被加工物を吸引保持する保持テーブルと、該保持テーブルを支持する冷却部材と、該冷却部材を支持する基台と、該冷却部材に冷却水を供給する冷却水供給手段と、該冷却部材に供給された冷却水を保持テーブルに向けて噴射するシャワーノズルと、を具備している、
ことを特徴とするバイト工具を備えた加工装置。
A processing apparatus provided with a bite tool comprising: a workpiece holding mechanism for holding a workpiece; and a turning means provided with a bite tool for turning the workpiece held by the workpiece holding mechanism. In
The workpiece holding mechanism includes a holding table that holds the workpiece by suction, a cooling member that supports the holding table, a base that supports the cooling member, and cooling water that supplies cooling water to the cooling member. A supply means, and a shower nozzle for injecting the cooling water supplied to the cooling member toward the holding table,
A processing apparatus having a bite tool characterized by the above.
該シャワーノズルは、該保持テーブルを囲繞して設けられた環状のノズル部材からなり、環状のノズル部材の内周壁に複数の噴出口が設けられている、請求項1記載のバイト工具を備えた加工装置。   The bite tool according to claim 1, wherein the shower nozzle includes an annular nozzle member provided so as to surround the holding table, and a plurality of jet nozzles are provided on an inner peripheral wall of the annular nozzle member. Processing equipment.
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