JP5753191B2 - 有機ｅｌパネル、それを用いた表示装置および有機ｅｌパネルの製造方法 - Google Patents

有機ｅｌパネル、それを用いた表示装置および有機ｅｌパネルの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5753191B2
JP5753191B2 JP2012545533A JP2012545533A JP5753191B2 JP 5753191 B2 JP5753191 B2 JP 5753191B2 JP 2012545533 A JP2012545533 A JP 2012545533A JP 2012545533 A JP2012545533 A JP 2012545533A JP 5753191 B2 JP5753191 B2 JP 5753191B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
organic
light emitting
film thickness
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2012545533A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2012070085A1 (ja
Inventor
恵子 倉田
恵子 倉田
哲征 松末
哲征 松末
米田　和弘
和弘 米田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Joled Inc
Original Assignee
Joled Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Joled Inc filed Critical Joled Inc
Publication of JPWO2012070085A1 publication Critical patent/JPWO2012070085A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5753191B2 publication Critical patent/JP5753191B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/805—Electrodes
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/12—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
    • H05B33/14—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of the electroluminescent material, or by the simultaneous addition of the electroluminescent material in or onto the light source
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/85—Arrangements for extracting light from the devices
    • H10K50/852—Arrangements for extracting light from the devices comprising a resonant cavity structure, e.g. Bragg reflector pair
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/805—Electrodes
    • H10K59/8051—Anodes
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/875—Arrangements for extracting light from the devices
    • H10K59/876—Arrangements for extracting light from the devices comprising a resonant cavity structure, e.g. Bragg reflector pair
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H10K2102/301—Details of OLEDs
    • H10K2102/351—Thickness
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
    • H10K59/35—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising red-green-blue [RGB] subpixels

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Description

本発明は、有機材料の電界発光現象を利用した有機ＥＬパネル、それを用いた表示装置および有機ＥＬパネルの製造方法に関し、特に、Ｒ（レッド），Ｇ（グリーン），Ｂ（ブルー）各色の光取り出し効率を高めるための光学設計に関する。
近年、デジタルテレビ等の表示装置に用いられる表示パネルとして、有機材料の電界発光現象を利用した有機ＥＬ（Electro Luminescence）パネルの採用が提案されている。有機ＥＬパネルは、基板上にＲ，Ｇ，Ｂの各色の有機ＥＬ素子が配列された構成を有している。
有機ＥＬパネルでは、消費電力低減や長寿命化などの観点から、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の有機ＥＬ素子の光取り出し効率を向上させることが重要である。そこで、有機ＥＬ素子の光学設計の工夫により光取り出し効率を向上させる技術が多数提案されている（特許文献１〜６参照）。例えば、特許文献１には、光を反射する第１の電極と光を透過する第２の電極との間に、正孔を発生する第１の層、各発光色の発光層を含む第２の層、電子を発生する第３の層を有し、第１の層の膜厚が発光色毎に異なる発光素子が開示されている（段落００２２〜００２５）。同文献には、第１の電極と第２の層との間の光学距離を発光波長の（２ｍ−１）／４倍（ｍは任意の正の整数）としたときに光の干渉効果により光取り出し効率が高くなると記載されている（段落００２６，００２７）。
特開２００６−１５６３４４号公報 特開２００５−３１７２５５号公報 特開２００５−３２２４３５号公報 特開２００５−１００９４６号公報 特開２００８−４１９２５号公報 特開２００６−１７９７８０号公報
しかしながら、上記従来技術では、正孔を発生する第１の層の膜厚をＲ，Ｇ，Ｂの色毎に調整する必要があり、そのために製造工程が煩雑になるという問題がある。
そこで、本発明は、光の干渉効果を利用することにより光取り出し効率を高め、かつ、従来技術よりも製造工程を簡便にすることができる有機ＥＬパネル、それを用いた表示装置および有機ＥＬパネルの製造方法を提供することを目的とする。
本発明の一態様である有機ＥＬパネルは、Ｒ（レッド），Ｇ（グリーン），Ｂ（ブルー）の色毎に設けられ、入射された光を反射する第１電極と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の第１電極に対向して配置され、入射された光を透過する第２電極と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂの色毎に設けられ、前記第１電極と前記第２電極との間に配置された、前記第１電極と前記第２電極との間に電圧が印加されることにより前記Ｒ、Ｇ，Ｂのうちの対応する色の光を出射する有機発光層と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂの色毎に設けられ、前記第１電極と前記有機発光層との間に配置された、１または２以上の層からなる第１の機能層と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂの色毎に設けられ、前記第２電極と前記有機発光層との間に配置された、１または２以上の層からなる第２の機能層と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂの色毎に設けられ、前記第２電極を挟んで前記有機発光層の反対側に配置された、色度を補正するためのカラーフィルタであって、少なくとも一色において、設けた場合と設けない場合とで、外部に出射される光の光取り出し効率が極大値を示す有機発光層の膜厚の範囲がずれる特性を有するカラーフィルタと、を備え、前記有機発光層から出射された光の一部が、前記第１の機能層を通じて前記第１電極に入射されて前記第１電極により反射された後、前記第１の機能層、前記有機発光層、前記第２の機能層、前記第２電極および前記カラーフィルタを通じて外部に出射される第１光路と、前記有機発光層から出射された光の残りの一部が、前記第１電極側に進行することなく、前記第２の機能層を通じて前記第２電極側に進行し、前記第２電極および前記カラーフィルタを通じて外部に出射される第２光路と、が形成され、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色では、前記第１の機能層の膜厚が同一であって、かつ、前記有機発光層から前記第１電極までの光学的な距離が同一であり、前記第２の機能層の膜厚が同一であって、かつ、前記有機発光層から前記第２電極までの光学的な距離が同一であり、前記有機発光層の膜厚が互いに相違し、前記少なくとも一色の有機発光層の膜厚は、前記カラーフィルタを設けない場合の外部に出射される光の光取り出し効率が極大値を示す膜厚からずれており、且つ、前記少なくとも一色を含むＲ，Ｇ，Ｂ各色の有機発光層の膜厚は、前記カラーフィルタを設けた場合の外部に出射される光の光取り出し効率が極大値を示す。
通常、有機発光層は、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色で材料が異なるので、膜厚が同一であるか否かにかかわらず色毎に作り分ける必要がある。これに対し、第１および第２の機能層は、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色で材料が同一なので、膜厚が同一であれば色毎に作り分ける必要がない。本発明の一態様である有機ＥＬパネルによれば、第１および第２の機能層の膜厚がＲ，Ｇ，Ｂ各色で同一であり、有機発光層の膜厚がＲ，Ｇ，Ｂで相違する。すなわち、本来、色毎に作り分けを必要とする有機発光層のみで色毎の膜厚が調整されている。したがって、光の干渉効果を利用することにより光取り出し効率を高め、かつ、従来技術よりも製造工程を簡便にすることができる。
本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネルの画素構造を模式的に示す断面図 青色の有機ＥＬ素子における共振器構造を例示する図 シミュレーションで用いたＲ，Ｇ，Ｂ各色のカラーフィルタの透過スペクトルを示す図 正孔輸送層の膜厚を変化させたときの光取り出し効率の変化を示す図であり、（ａ）は実施例１のＣＦ無しの場合、（ｂ）は実施例１のＣＦ有りの場合、（ｃ）は比較例１のＣＦ無しの場合、（ｄ）は比較例１のＣＦ有りの場合を示す図 各層の膜厚を変化させたときの光取り出し効率の変化を示し、（ａ）は正孔輸送層でＣＦ無しの場合、（ｂ）は正孔輸送層でＣＦ有りの場合、（ｃ）は有機発光層でＣＦ無しの場合、（ｄ）は有機発光層でＣＦ有りの場合を示す図 正孔輸送層の膜厚を最適値に設定した場合の光取り出し効率等を示す図であり、（ａ）は実施例１、（ｂ）は比較例１を示す図 各種許容範囲を示す図 実施例１の有機ＥＬ素子の各層の膜厚の最小値（ｍｉｎ）、中間値（ａｖｅ）、最大値（ｍａｘ）を示す図 正孔輸送層の膜厚を変化させたときの光取り出し効率の変化を示す図であり、（ａ）は実施例２のＣＦ無しの場合、（ｂ）は実施例２のＣＦ有りの場合、（ｃ）は比較例２のＣＦ無しの場合、（ｄ）は比較例２のＣＦ有りの場合を示す図 は、正孔輸送層の膜厚を最適値に設定した場合の光取り出し効率等を示す図であり、（ａ）は実施例２、（ｂ）は比較例２を示す図 実施例２の有機ＥＬ素子の各層の膜厚の最小値（ｍｉｎ）、中間値（ａｖｅ）、最大値（ｍａｘ）を示す図 正孔輸送層の膜厚を変化させたときの光取り出し効率の変化を示す図であり、（ａ）は実施例３のＣＦ無しの場合、（ｂ）は実施例３のＣＦ有りの場合、（ｃ）は比較例３のＣＦ無しの場合、（ｄ）は比較例３のＣＦ有りの場合を示す図 正孔輸送層の膜厚を変化させたときの色度（ｘ，ｙ）の変化を示す図であり、（ａ）はＲ、（ｂ）はＧ、（ｃ）はＢの各色を示す図 本発明の実施形態に係る有機表示装置の機能ブロックを示す図 本発明の実施形態に係る有機表示装置の外観を例示する図 本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネルの製造方法を説明するための図 本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネルの製造方法を説明するための図
［本発明の一態様の概要］
本発明の一態様に係る有機ELパネルは、Ｒ（レッド），Ｇ（グリーン），Ｂ（ブルー）の色毎に設けられ、入射された光を反射する第１電極と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の第１電極に対向して配置され、入射された光を透過する第２電極と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂの色毎に設けられ、前記第１電極と前記第２電極との間に配置された、前記第１電極と前記第２電極との間に電圧が印加されることにより前記Ｒ、Ｇ，Ｂのうちの対応する色の光を出射する有機発光層と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂの色毎に設けられ、前記第１電極と前記有機発光層との間に配置された、１または２以上の層からなる第１の機能層と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂの色毎に設けられ、前記第２電極と前記有機発光層との間に配置された、１または２以上の層からなる第２の機能層と、を備え、前記有機発光層から出射された光の一部が、前記第１の機能層を通じて前記第１電極に入射されて前記第１電極により反射された後、前記第１の機能層、前記有機発光層、前記第２の機能層および前記第２電極を通じて外部に出射される第１光路と、前記有機発光層から出射された光の残りの一部が、前記第１電極側に進行することなく、前記第２の機能層を通じて前記第２電極側に進行し、前記第２電極を通じて外部に出射される第２光路と、が形成され、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色では、前記第１の機能層の膜厚が同一であって、かつ、前記有機発光層から前記第１電極までの光学的な距離が同一であり、前記第２の機能層の膜厚が同一であって、かつ、前記有機発光層から前記第２電極までの光学的な距離が同一であり、前記有機発光層の膜厚が互いに相違する。
通常、有機発光層は、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色で材料が異なるので、膜厚が同一であるか否かにかかわらず色毎に作り分ける必要がある。これに対し、第１および第２の機能層は、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色で材料が同一なので、膜厚が同一であれば色毎に作り分ける必要がない。本発明の一態様である有機ＥＬパネルによれば、第１および第２の機能層の膜厚がＲ，Ｇ，Ｂ各色で同一であり、有機発光層の膜厚がＲ，Ｇ，Ｂで相違する。すなわち、本来、色毎に作り分けを必要とする有機発光層のみで色毎の膜厚が調整されている。したがって、光の干渉効果を利用することにより光取り出し効率を高め、かつ、従来技術よりも製造工程を簡便にすることができる。
また、さらに、前記Ｒ，Ｇ，Ｂの色毎に設けられ、前記第２電極を挟んで前記有機発光層の反対側に配置されるカラーフィルタを備え、前記カラーフィルタ通過後の光の光取り出し効率が極大値を示すように、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の有機発光層の膜厚が調整されていることとしてもよい。
発明者らの研究により、各層の膜厚を変化させたときに、光取り出し効率が変化すると共に色度も変化すること、さらに、光取り出し効率が極大値のときに色度が目標色度に近いとは限らないことが判明した。
色度が目標色度から遠ければ、その分だけカラーフィルタ（ＣＦ）により色度補正をする必要があり、その結果、色度補正前では光取り出し効率が極大値であっても、色度補正後には光取り出し効率が極大値ではなくなる場合がある。本発明の一態様によれば、カラーフィルタ通過後の光の光取り出し効率が極大値を示すように有機発光層の膜厚が設定されているので、色度を目標色度に近づけつつ、光取り出し効率を高めることができる。
また、前記第１の機能層の膜厚が、前記カラーフィルタ通過後の光の光取り出し効率が１次の極大値を示す膜厚に調整されていることとしてもよい。
第１の機能層の膜厚を変化させると、光取り出し効率が周期的に変化し、光取り出し効率の極大値が周期的に現れる。これらの極大値を、第１の機能層の膜厚の薄い順に、１次、２次、３次・・・と称する。発明者らの研究により、極大値の次数が小さいほど、極大値が大きくなり、しかも、極大値を示す膜厚がＲ，Ｇ，Ｂ各色でほぼ等しくなることが判明した。本発明の一態様により、第１の機能層の膜厚が１次の極大値を示す膜厚なので、別の次数の極大値を示す膜厚とする場合に比べて、光取り出し効率を高めることができ、しかも、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色で同一の膜厚に設定することができる。
また、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の少なくとも一色の有機発光層の膜厚が、前記カラーフィルタ通過前の光の光取り出し効率が極大値を示す膜厚からずれていることとしてもよい。
このような場合であっても、カラーフィルタ通過後の光の光取り出し効率では極大値を示すので、光取り出し効率を高めることができる。
また、前記第１の機能層の膜厚が、３１．５ｎｍ以上３８．５ｎｍ以下であって、かつ、前記有機発光層から前記第１電極までの光学的な距離が５７．６ｎｍ以上７０．４ｎｍ以下であり、前記有機発光層の膜厚が、Ｒでは８１ｎｍ以上９９ｎｍ以下、Ｇでは６３ｎｍ以上７７ｎｍ以下、Ｂでは４９．５ｎｍ以上６０．５ｎｍ以下であることとしてもよい。
また、前記第１の機能層は、前記第１の電極である陽極上に形成された透明導電層と、前記透明導電層上に形成された正孔注入層と、前記正孔注入層上に形成された正孔輸送層とを含み、前記透明導電層の膜厚が、１３．５ｎｍ以上１６．５ｎｍ以下であり、前記正孔注入層の膜厚が、４．５ｎｍ以上５．５ｎｍ以下であり、前記正孔輸送層の膜厚が、１３．５ｎｍ以上１６．５ｎｍ以下であることとしてもよい。
また、前記第２の機能層の膜厚が、２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下であって、かつ、前記有機発光層から前記第２電極までの光学的な距離が４８．６ｎｍ以上５９．４ｎｍ以下であることとしてもよい。
また、前記第２の機能層は、電子輸送層を含み、前記電子輸送層の膜厚が、２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下であることとしてもよい。
また、前記第１の機能層の膜厚が、４５ｎｍ以上５５ｎｍ以下であって、かつ、前記有機発光層から前記第１電極までの光学的な距離が８１．５ｎｍ以上９９．６ｎｍ以下であり、前記有機発光層の膜厚が、Ｒでは７２ｎｍ以上８８ｎｍ以下、Ｇでは５４ｎｍ以上６６ｎｍ以下、Ｂでは１８ｎｍ以上２２ｎｍ以下であることとしてもよい。
また、前記第１の機能層は、前記第１の電極である陽極上に形成された透明導電層と、前記透明導電層上に形成された正孔注入層と、前記正孔注入層上に形成された正孔輸送層とを含み、前記透明導電層の膜厚が、１８ｎｍ以上２２ｎｍ以下であり、前記正孔注入層の膜厚が、４．５ｎｍ以上５．５ｎｍ以下であり、前記正孔輸送層の膜厚が、２２．５ｎｍ以上２７．５ｎｍ以下であることとしてもよい。
また、前記第２の機能層の膜厚が、２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下であって、かつ、前記有機発光層から前記第２電極までの光学的な距離が４８．６ｎｍ以上５９．４ｎｍ以下であることとしてもよい。
また、前記第２の機能層は、電子輸送層を含み、前記電子輸送層の膜厚が、２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下であることとしてもよい。
また、前記有機発光層は、有機材料を含み、印刷法を用いて形成されることとしてもよい。
本発明の一態様に係る表示装置は、上記有機ＥＬパネルを備える。
本発明の一態様に係る有機ＥＬパネルの製造方法は、入射された光を反射する第１電極を、Ｒ（レッド），Ｇ（グリーン），Ｂ（ブルー）の色毎に準備する第１工程と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の第１電極上に、１または２以上の層からなる第１の機能層を設ける第２工程と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の第１の機能層上に、それぞれＲ，Ｇ，Ｂのうちの対応する色の光を出射する有機発光層を設ける第３工程と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の有機発光層上に、１または２以上の層からなる第２の機能層を設ける第４工程と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の第２の機能層上に、前記第１の電極と対向して配置され、入射された光を透過する第２電極を設ける第５工程と、を備え、前記第２工程では、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の第１の機能層の膜厚が同一であって、かつ、前記有機発光層から前記第１電極までの光学的な距離が同一になるように、前記第１の機能層を設け、前記第３工程では、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の有機発光層の膜厚が互いに相違するように、前記有機発光層を設け、前記第４工程では、前記第２の機能層の膜厚が同一であって、かつ、前記有機発光層から前記第２電極までの光学的な距離が同一になるように、前記第２の機能層を設ける。
なお、本明細書において、「膜厚が同一」とは、実測値が一致している場合のほか、実測値が一致していなくても製造誤差を考慮して実測値が±１０％の範囲内でずれている場合も含むものとする。
［有機ＥＬパネルの画素構造］
図１は、本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネルの画素構造を模式的に示す断面図である。
有機ＥＬパネルでは、Ｒ（レッド），Ｇ（グリーン），Ｂ（ブルー）各色の画素が行方向及び列方向にマトリックス状に規則的に配置されている。各画素は有機材料を用いた有機ＥＬ素子で構成されている。
青色の有機ＥＬ素子は、基板１、反射電極２、透明導電層３、正孔注入層４、正孔輸送層５、有機発光層６ｂ、電子輸送層７、透明電極８、薄膜封止層９、樹脂封止層１０、基板１１およびカラーフィルタ１３ｂを備える。以下、反射電極２と有機発光層６ｂとの間に配置された、透明導電層３、正孔注入層４および正孔輸送層５を「第１機能層」と称し、有機発光層６ｂと透明電極８との間に配置された電子輸送層７を「第２機能層」と称することがある。
緑色の有機ＥＬ素子は、有機発光層６ｇおよびカラーフィルタ１３ｇを除き、青色の有機ＥＬ素子と同様の構成を有する。赤色の有機ＥＬ素子も、有機発光層６ｒおよびカラーフィルタ（ＣＦ）１３ｒを除き、青色の有機ＥＬ素子と同様の構成を有する。この例では、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の有機ＥＬ素子において、基板１、電子輸送層７、透明電極８、薄膜封止層９、樹脂封止層１０および基板１１が共通であり、それ以外の層はバンク１２で区分されている。
各色の有機ＥＬ素子では、反射電極２の存在により光の干渉効果を利用した共振器構造が実現されている。図２に青色の有機ＥＬ素子における共振器構造を例示する。有機ＥＬ素子には、有機発光層６ｂから出射された光の一部が、第１機能層を通じて反射電極２に入射され、反射電極２により反射された後、第１機能層、有機発光層６ｂ、第２機能層および透明電極８を通じて外部に出射される第１光路Ｃ１と、有機発光層６ｂから出射された光の残りの一部が、反射電極２側に進行することなく、第２機能層を通じて透明電極８に進行し、透明電極８を通じて外部に出射される第２光路Ｃ２とが形成される。第１機能層の膜厚を適切に設定することにより、第１光路Ｃ１を通過する光と第２光路Ｃ２を通過する光とが強め合い、光取り出し効率を高めることができる。
本実施形態では、第１機能層の構造、材料および膜厚が、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色で同一である。第１機能層の構造、材料および膜厚がＲ，Ｇ，Ｂ各色で同一なので、有機発光層から反射電極までの光学的な距離がＲ，Ｇ，Ｂ各色で同一となる。光学的な距離は、単層構造の場合には膜厚と屈折率の積により求められ、２以上の多層構造の場合には、層毎に膜厚と屈折率の積をとり、得られた積を合計することにより求められる。
また、第２機能層の構造、材料および膜厚が、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色で同一である。第２機能層の構造、材料および膜厚がＲ，Ｇ，Ｂ各色で同一なので、有機発光層から透明電極までの光学的な距離がＲ，Ｇ，Ｂ各色で同一となる。
これに対し、有機発光層の材料および膜厚は、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色で互いに相違する。具体的には、有機発光層の膜厚は、カラーフィルタ通過後の光の取り出し効率が極大値を示すように調整されている。
通常、第１機能層の材料および第２機能層の材料はＲ，Ｇ，Ｂ各色で同一なので、色毎に作り分ける必要がない。一方、有機発光層の材料はＲ，Ｇ，Ｂ各色で異なるので、色毎に作り分ける必要がある。このように、色毎に作り分ける必要がない第１機能層および第２機能層では色毎の膜厚を同一とし、本来、色毎に作り分ける必要がある有機発光層で色毎の膜厚を異ならせているので、製造工程を簡便にすることができる。
以下、有機ＥＬ素子の各層の膜厚について詳細に説明する。
［第１のシミュレーション］
発明者らは、実施例１と比較例１とを用意し、これらの各層の最適膜厚をシミュレーションにより求め、光取り出し効率および製造工程の簡便性について評価した。
第１のシミュレーションでは、反射電極の材料をＡｇ合金、透明導電層の材料をＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の有機発光層の材料を、サメイション（SUMATION）社製のＲＰ１５８、ＧＰ１２００、ＢＰ１０５とした。図３に、本シミュレーションで用いたＲ，Ｇ，Ｂ各色のカラーフィルタの透過スペクトルを示す。本シミュレーションで用いたカラーフィルタ特性は、公知技術を元に、本実施形態における光学特性などの観点から適宜調整して作成した。例えば、Ｒｅｄ，ＧｒｅｅｎのＣＦ特性は、特開２００５−１１６５１６（図５）を参考にし、ＢｌｕｅのＣＦ特性は、Ｂ４４０（株式会社オプトライン）を参考にしている。
図４は、正孔輸送層の膜厚を変化させたときの光取り出し効率の変化を示す図であり、（ａ）は実施例１のＣＦ無しの場合、（ｂ）は実施例１のＣＦ有りの場合、（ｃ）は比較例１のＣＦ無しの場合、（ｄ）は比較例１のＣＦ有りの場合である。
実施例１では、電子輸送層の膜厚を３０ｎｍ、正孔注入層の膜厚を５ｎｍ、透明導電層の膜厚を１５ｎｍ、有機発光層の膜厚をＲ，Ｇ，Ｂ各色でそれぞれ９０ｎｍ、７０ｎｍ、５５ｎｍに固定し、正孔輸送層の膜厚のみを変化させている。
比較例１では、電子輸送層の膜厚を３０ｎｍ、正孔注入層の膜厚を５ｎｍ、透明導電層の膜厚を１５ｎｍ、有機発光層の膜厚をＲ，Ｇ，Ｂ各色でそれぞれ８０ｎｍ、８０ｎｍ、６０ｎｍに固定し、正孔輸送層の膜厚のみを変化させている。
ＣＦ有りの場合は、任意の膜厚を選択し、その膜厚でのＣＦ無しの場合の色度を求め、得られた色度を目標色度に近づけるためのＣＦ特性を求め、そのＣＦ特性を有するＣＦを設けた場合の光取り出し効率を求めるという一連の作業を、調査範囲の全ての膜厚に対して行うことにより得られる。
図４（ａ）、（ｃ）を見ると、以下のことが分かる。
（１）正孔輸送層の膜厚を変化させると、光取り出し効率が周期的に変化し、光取り出し効率の極大値が周期的に現れる。
（２）極大値が現れる周期は、Ｒ，Ｇ，Ｂの順、即ち、光の波長が短くなるほど短くなる。
（３）周期的に現れる極大値を、正孔輸送層の膜厚の薄い順に１次（1st）、２次（2nd）と名付けた場合、次数が小さいほど極大値が大きくなる。
上記（１）、（２）は、第１光路Ｃ１を通過する光と第２光路Ｃ２を通過する光とで干渉が生じていることを示している。また、上記（３）は、次数が小さな極大値をとるように正孔輸送層の膜厚を設定することにより光取り出し効率を高められることを示している。
また、図４（ｂ）から、実施例１では、光取り出し効率を高めるためには、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の正孔輸送層の膜厚を１５ｎｍ、１５ｎｍ、１５ｎｍにするのが最適である。一方、図４（ｄ）から、比較例１では、光取り出し効率を高めるためには、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の正孔輸送層の膜厚を２０ｎｍ、９ｎｍ、５ｎｍにするのが最適である。このように、実施例１では、光取り出し効率を高めるのに最適な正孔輸送層の膜厚がＲ，Ｇ，Ｂ各色で一致しているのに対し、比較例１では一致していない。これらの相違は、有機発光層の膜厚調整に起因している。実は、実施例１では、ＣＦ有りの場合に光取り出し効率が１次極大値を示す正孔輸送層の膜厚がＲ，Ｇ，Ｂ各色で一致するように、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の有機発光層の膜厚が設定されている。具体的には、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色で膜厚が９０ｎｍ、７０ｎｍ、５５ｎｍである。これに対し、比較例１では、そのような設計思想はなく、単に、発光に支障が無い範囲でＲ，Ｇ，Ｂ各色の有機発光層の膜厚を揃えるように設定されている。具体的には、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色で膜厚が８０ｎｍ、８０ｎｍ、６０ｎｍである。このような設計思想の相違に起因して、実施例１と比較例１とで異なる結果が現れている。
なお、図４（ｃ）に示すように、比較例１でも、ＣＦ無しの場合には、光取り出し効率が１次極大値を示す正孔輸送層の膜厚がＲ，Ｇ，Ｂ各色で一致している。しかしながら、図４（ｄ）に示すように、ＣＦ有りの場合にはそれらがＲ，Ｇ，Ｂ各色で不一致となる。これは、ＣＦ有りの場合には、Ｒ，Ｇ，Ｂそれぞれの目標色度への色度補正の度合いがＲ，Ｇ，Ｂ各色で異なるからである。色度補正が大きい場合、光取り出し効率が１次極大値を示す正孔輸送層の膜厚が大きく変化してしまう（図４（ｄ）を見ると、Ｂ＞Ｇ＞Ｒの順で１次極大値が変化している）。このことは、ＣＦ無しを前提として各層の膜厚を最適に設計したとしても、それにＣＦを設けた場合には必ずしも最適にはならないことを示唆している。つまり、ＣＦ有りを前提とする場合には、目標色度への各色の補正の度合いを考慮の上、ＣＦ特性を絡めて各層の膜厚を検討する必要がある。実施例１は、ＣＦ特性を絡めて各層の膜厚を検討した結果得られたものであり、ＣＦ有りの場合に最適な設計になっている。
なお、実施例１では、正孔輸送層の膜厚、ひいては第１機能層の膜厚がＲ，Ｇ，Ｂ各色で同一であり、有機発光層の膜厚がＲ，Ｇ，Ｂ各色で異なる。以下に示すように、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の膜厚を調整することで、第１機能層の膜厚を調整するよりも、光取り出し効率を高められる場合が多くなる。
図５は、各層の膜厚を変化させたときの光取り出し効率の変化を示し、（ａ）は正孔輸送層でＣＦ無しの場合、（ｂ）は正孔輸送層でＣＦ有りの場合、（ｃ）は有機発光層でＣＦ無しの場合、（ｄ）は有機発光層でＣＦ有りの場合である。
図５（ｂ）、（ｄ）を比較すると、正孔輸送層と有機発光層とで、光取り出し効率の変化の周期はほぼ同じであるが、光取り出し効率の変化幅ｈ１、ｈ２が異なる。即ち、膜厚変化に対する光取り出し効率の変化の割合が、有機発光層のほうが正孔輸送層よりも小さい。
有機ＥＬ素子の各層をインクジェット法で作製する場合、インクの滴下数で膜厚が調整されることになる。このとき、インク一滴の量が膜厚調整の最小単位となる。そのため、膜厚の調整は、連続的ではなく離散的にしかすることができない。このような場合、膜厚変化に対する光取り出し効率の変化の割合が小さな層で膜厚を調整したほうが、光取り出し効率を最も高めることができる膜厚に合わせ込むのに有利である。
実施例１では、有機発光層でＲ，Ｇ，Ｂ各色の膜厚を調整しているので、光取り出し効率を最も高めることができる膜厚に合わせ込みやすい。
図６は、正孔輸送層の膜厚を最適値に設定した場合の光取り出し効率等を示す図であり、（ａ）は実施例１、（ｂ）は比較例１である。
上述のように、実施例１では、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の正孔輸送層の膜厚の最適値は、１５ｎｍ、１５ｎｍ、１５ｎｍである。このとき、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の光取り出し効率は、それぞれ２．１ｃｄ／Ａ、５．０ｃｄ／Ａ、０．５１ｃｄ／Ａとなり、色度は、それぞれ（0.66,0.34）、（0.28,0.68）、（0.13,0.06）となる。また、第１機能層におけるＲ，Ｇ，Ｂ各色の膜厚誤差の許容範囲は、−１０〜＋１０ｎｍ、−９〜＋１１ｎｍ、−１５〜＋１１ｎｍとなり、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の膜厚誤差の許容幅は、２０ｎｍ、２０ｎｍ、２６ｎｍとなる。
「膜厚誤差の許容範囲」とは、図７に示す許容範囲を満たすことを条件として、各層の膜厚を最適値からずらすことができる限度を示している。図７では、次の許容範囲が示されている。
（１）有機ＥＬパネルの面内での光取り出し効率のばらつきが２０［％］以内
（２）有機ＥＬパネルの面内での色度のばらつきがｘ，ｙともに０．０４以内
（３）視野角３０°における輝度が視野角０°における輝度に対して９０［％］以上、かつ、視野角４５°における輝度が視野角０°における輝度に対して８０［％］以上
（４）視野角５０°における色度と視野角０°における色度との差がｘ，ｙともに０．０４以内
膜厚誤差の許容範囲が広いほど、製造工程において各層の膜厚調整が容易となることを意味する。「膜厚誤差の許容幅」とは、許容範囲の上限と下限の差である（例えば、実施例１のＲでは、上限が＋１０、下限が−１０なので、差が２０となる）。
一方、比較例１では、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の正孔輸送層の膜厚の最適値は、２０ｎｍ、９ｎｍ、５ｎｍである。このとき、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の光取り出し効率は、それぞれ２．１ｃｄ／Ａ、５．０ｃｄ／Ａ、０．５１ｃｄ／Ａとなり、色度は、それぞれ（0.66,0.34）、（0.28,0.68）、（0.13,0.06）となる。また、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の膜厚誤差の許容範囲は、−１１〜＋９ｎｍ、−７〜＋１１ｎｍ、−７〜＋１１ｎｍとなり、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の膜厚誤差の許容幅は、２０ｎｍ、１８ｎｍ、１８ｎｍとなる。
このように、実施例１は、比較例１と同程度の光取り出し効率および色度を実現しつつ、第１機能層の膜厚をＲ，Ｇ，Ｂ各色で一致させることができる。したがって、光取り出し効率を高めながら、製造工程を簡便にすることができる。
また、より詳細には、有機ＥＬ素子の各層の膜厚は、製造誤差を考慮して、シミュレーションにより得られた膜厚から±１０％のずれの範囲内であればよいものとする。図８に、実施例１の有機ＥＬ素子の各層の膜厚の最小値（ｍｉｎ）、中間値（ａｖｅ）、最大値（ｍａｘ）を示す。即ち、Ｒ，Ｇ，Ｂ共通に、透明導電層は１３．５ｎｍ以上１６．５ｎｍ以下、正孔注入層は４．５ｎｍ以上５．５ｎｍ以下、正孔輸送層は１３．５ｎｍ以上１６．５ｎｍ以下、電子輸送層は２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下であればよい。このとき、有機発光層から反射電極までの光学的な距離が５７．６ｎｍ以上７０．４ｎｍ以下となり、有機発光層から透明電極までの光学的な距離が４８．６ｎｍ以上５９．４ｎｍ以下となる。また、Ｒの有機発光層は８１ｎｍ以上９９ｎｍ以下、Ｇの有機発光層は６３ｎｍ以上７７ｎｍ以下、Ｂの有機発光層は４９．５ｎｍ以上６０．５ｎｍ以下であればよい。
［第２のシミュレーション］
発明者らは、さらに、実施例２と比較例２とを用意し、これらの各層の最適膜厚をシミュレーションにより求めた。第２のシミュレーションが第１のシミュレーションと異なるのは、反射電極の材料をＡｌ合金、透明導電層の材料をＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）としたことである。
図９は、正孔輸送層の膜厚を変化させたときの光取り出し効率の変化を示す図であり、（ａ）は実施例２のＣＦ無しの場合、（ｂ）は実施例２のＣＦ有りの場合、（ｃ）は比較例２のＣＦ無しの場合、（ｄ）は比較例２のＣＦ有りの場合である。
実施例２では、電子輸送層の膜厚を３０ｎｍ、正孔注入層の膜厚を５ｎｍ、透明導電層の膜厚を２０ｎｍ、有機発光層の膜厚をＲ，Ｇ，Ｂ各色でそれぞれ８０ｎｍ、６０ｎｍ、２０ｎｍに固定し、正孔輸送層の膜厚のみを変化させている。
比較例２では、電子輸送層の膜厚を３０ｎｍ、正孔注入層の膜厚を５ｎｍ、透明導電層の膜厚を２０ｎｍ、有機発光層の膜厚をＲ，Ｇ，Ｂ各色でそれぞれ８０ｎｍ、８０ｎｍ、６０ｎｍに固定し、正孔輸送層の膜厚のみを変化させている。
第２のシミュレーションと第１のシミュレーションとで第１機能層の膜厚が異なるのは、反射電極および透明導電層の材料が異なることによる。
図９（ｂ）から、実施例２では、光取り出し効率を高めるためには、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の正孔輸送層の膜厚を２５ｎｍ、２５ｎｍ、２５ｎｍにするのが最適である。一方、図９（ｄ）から、比較例２では、光取り出し効率を高めるためには、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の正孔輸送層の膜厚を２５ｎｍ、１６ｎｍ、９ｎｍにするのが最適である。このように、実施例２では、光取り出し効率を高めるのに最適な正孔輸送層の膜厚がＲ，Ｇ，Ｂ各色で一致しているのに対し、比較例２では一致していない。この理由は、第１のシミュレーションで説明した通りである。実施例２では、ＣＦ有りの場合に光取り出し効率の１次極大値を示す正孔輸送層の膜厚がＲ，Ｇ，Ｂ各色で一致するように、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の有機発光層の膜厚が、８０ｎｍ、６０ｎｍ、２０ｎｍに設定されている。これに対し、比較例２では、第１のシミュレーションと同様、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の有機発光層の膜厚が、８０ｎｍ、８０ｎｍ、６０ｎｍに設定されている。
なお、図９（ａ）に示すように、実施例２では、ＣＦ無しの場合には、光取り出し効率が１次極大値を示す正孔輸送層の膜厚がＲ，Ｇ，Ｂ各色で僅かに不一致である。しかしながら、図９（ｂ）に示すように、ＣＦ有りの場合には、それらがＲ，Ｇ，Ｂ各色で一致する。このように、実施例２は、ＣＦ有りの場合に最適な設計になっている。

図１０は、正孔輸送層の膜厚を最適値に設定した場合の光取り出し効率等を示す図であり、（ａ）は実施例２、（ｂ）は比較例２である。
上述のように、実施例２では、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の正孔輸送層の膜厚の最適値は、２５ｎｍ、２５ｎｍ、２５ｎｍである。このとき、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の光取り出し効率は、それぞれ１．９ｃｄ／Ａ、４．８ｃｄ／Ａ、０．５１ｃｄ／Ａとなり、色度は、それぞれ（0.66,0.34）、（0.28,0.67）、（0.13.0.06）となる。また、第１機能層におけるＲ，Ｇ，Ｂ各色の膜厚誤差の許容範囲は、−１３〜＋１３ｎｍ、−１８〜＋１０ｎｍ、−１４〜＋１１ｎｍとなり、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の膜厚誤差の許容幅は、２６ｎｍ、２８ｎｍ、２５ｎｍとなる。
一方、比較例２では、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の正孔輸送層の膜厚の最適値は、２５ｎｍ、１６ｎｍ、９ｎｍである。このとき、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の光取り出し効率は、それぞれ１．９ｃｄ／Ａ、４．７ｃｄ／Ａ、０．４９ｃｄ／Ａとなり、色度は、それぞれ（0.66,0.34）、（0.28,0.67）、（0.13,0.06）となる。また、第１機能層におけるＲ，Ｇ，Ｂ各色の膜厚誤差の許容範囲は、−１３〜＋１３ｎｍ、−１７〜＋１１ｎｍ、−９〜＋１１ｎｍとなり、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の膜厚誤差の許容幅は、２６ｎｍ、２８ｎｍ、２０ｎｍとなる。
このように、実施例２は、比較例２と同程度の光取り出し効率および色度を実現しつつ、第１機能層の膜厚をＲ，Ｇ，Ｂ各色で一致させることができる。したがって、光取り出し効率を高めながら、製造工程を簡便にすることができる。
また、より詳細には、有機ＥＬ素子の各層の膜厚は、製造誤差を考慮して、シミュレーションにより得られた膜厚から±１０％のずれの範囲内であればよいものとする。図１１に、実施例２の有機ＥＬ素子の各層の膜厚の最小値（ｍｉｎ）、中間値（ａｖｅ）、最大値（ｍａｘ）を示す。即ち、Ｒ，Ｇ，Ｂ共通に、透明導電層は１８ｎｍ以上２２ｎｍ以下、正孔注入層は４．５ｎｍ以上５．５ｎｍ以下、正孔輸送層は２２．５ｎｍ以上２７．５ｎｍ以下、電子輸送層は２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下であればよい。このとき、有機発光層から反射電極までの光学的な距離が８１．５ｎｍ以上９９．６ｎｍ以下となり、有機発光層から透明電極までの光学的な距離が４８．６ｎｍ以上５９．４ｎｍ以下となる。また、Ｒの有機発光層は７２ｎｍ以上８８ｎｍ以下、Ｇの有機発光層は５４ｎｍ以上６６ｎｍ以下、Ｂの有機発光層は１８ｎｍ以上２２ｎｍ以下であればよい。
［補足説明］
既に、ＣＦ有りの場合にはＣＦ特性を絡めて各層の膜厚を検討すべきことを説明した。これについてもう少し詳細に説明する。
図１２は、正孔輸送層の膜厚を変化させたときの光取り出し効率の変化を示す図であり、（ａ）は実施例３のＣＦ無しの場合、（ｂ）は実施例３のＣＦ有りの場合、（ｃ）は比較例３のＣＦ無しの場合、（ｄ）は比較例３のＣＦ有りの場合である。図１３は、正孔輸送層の膜厚を変化させたときの色度（ｘ，ｙ）の変化を示す図であり、（ａ）はＲ、（ｂ）はＧ、（ｃ）はＢの各色である。
図１２から、正孔輸送層の膜厚を変化させたときに光取り出し効率が変化すること、図１３から、正孔輸送層の膜厚を変化させたときに色度が変化することが分かる。また、図１２および図１３から、光取り出し効率が極大値のときに色度が目標色度に近いとは限らないことが分かる。ここで、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の目標色度は、それぞれ（0.66,0.34）、（0.28,0.68）、（0.13,0.06）である。
ＣＦ無しの場合の色度が目標色度から遠ければ、その分だけカラーフィルタにより色度補正をする必要がある。そのため、ＣＦ無しの場合（ＣＦ通過前）では光取り出し効率が極大値であっても、ＣＦ有りの場合（ＣＦ通過後）には光取り出し効率が極大値ではなくなる場合がある。図１２（ｂ）、（ｄ）には、その様子が現れている。
以上より、ＣＦ有りの場合には、ＣＦ特性を絡めて各層の膜厚を検討する必要があると言える。
［各層の具体例］
＜基板＞
基板１は、例えば、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）基板である。基板１の材料は、例えば、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラスなどのガラス板及び石英板、並びに、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、シリコーン系樹脂などのプラスチック板又はプラスチックフィルム、並びに、アルミナなどの金属板又は金属ホイルなどである。
＜バンク＞
バンク１２は、絶縁性材料により形成されていれば良く、有機溶剤耐性を有することが好ましい。また、バンク１２はエッチング処理、ベーク処理などされることがあるので、それらの処理に対する耐性の高い材料で形成されることが好ましい。バンク１２の材料は、樹脂などの有機材料であっても、ガラスなどの無機材料であっても良い。有機材料として、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂などを使用することができ、無機材料として、シリコンオキサイド（ＳｉＯ２）、シリコンナイトライド（Ｓｉ３Ｎ４）などを使用することができる。
＜反射電極＞
反射電極２は、基板１に配されたＴＦＴに電気的に接続されており、有機発光素子の正極として機能すると共に、有機発光層６ｂ，６ｇ，６ｒから反射電極２に向けて出射された光を反射する機能を有する。反射機能は、反射電極２の構成材料により発揮されるものでもよいし、反射電極２の表面部分に反射コーティングを施すことにより発揮されるものでもよい。反射電極２は、例えば、Ａｇ（銀）、ＡＰＣ（銀、パラジウム、銅の合金）、ＡＲＡ（銀、ルビジウム、金の合金）、ＭｏＣｒ（モリブデンとクロムの合金）、ＮｉＣｒ（ニッケルとクロムの合金）等で形成されている。
＜透明導電層＞
透明導電層３は、製造過程において反射電極２が自然酸化するのを防止する保護層として機能する。透明導電層３の材料は、有機発光層６ｂ，６ｇ，６ｒで発生した光に対して十分な透光性を有する導電性材料により形成されればよく、例えば、ＩＴＯやＩＺＯなどが好ましい。室温で成膜しても良好な導電性を得ることができるからである。
＜正孔注入層＞
正孔注入層４は、正孔を有機発光層６ｂ，６ｇ，６ｒに注入する機能を有する。例えば、酸化タングステン（ＷＯｘ）、酸化モリブデン（ＭｏＯｘ）、酸化モリブデンタングステン（ＭｏｘＷｙＯｚ）などの遷移金属の酸化物で形成される。遷移金属の酸化物で形成することで、電圧−電流密度特性を向上させ、また、電流密度を高めて発光強度を高めることができる。なお、これ以外に、遷移金属の窒化物などの金属化合物も適用できる。
＜正孔輸送層＞
正孔輸送層５の材料は、例えば、特開平５−１６３４８８号に記載のトリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合物、ブタジエン化合物、ポリスチレン誘導体、ヒドラゾン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、テトラフェニルベンジン誘導体である。特に好ましくは、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合物である。
＜有機発光層＞
有機発光層６ｂ，６ｇ，６ｒの材料は、例えば、特開平５−１６３４８８号公報に記載のオキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、アンスラセン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、８−ヒドロキシキノリン化合物の金属鎖体、２−ビピリジン化合物の金属鎖体、シッフ塩とＩＩＩ族金属との鎖体、オキシン金属鎖体、希土類鎖体等の蛍光物質である。
＜電子輸送層＞
電子輸送層７の材料は、例えば、特開平５−１６３４８８号公報のニトロ置換フルオレノン誘導体、チオピランジオキサイド誘導体、ジフェキノン誘導体、ペリレンテトラカルボキシル誘導体、アントラキノジメタン誘導体、フレオレニリデンメタン誘導体、アントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ペリノン誘導体、キノリン錯体誘導体である。
なお、電子注入性を更に向上させる点から、上記電子輸送層を構成する材料に、Ｎａ，Ｂａ，Ｃａなどのアルカリ金属またはアルカリ土類金属をドーピングしてもよい。
＜透明電極＞
透明電極８は、有機ＥＬ素子の負極として機能する。透明電極８の材料は、有機発光層６ｂ，６ｇ，６ｒで発生した光に対して十分な透光性を有する導電性材料により形成されればよく、例えば、ＩＴＯやＩＺＯなどが好ましい。
＜薄膜封止層＞
薄膜封止層９は、基板１との間に挟まれた各層が水分や空気に晒されることを防止する機能を有する。薄膜封止層９の材料は、例えば、窒化シリコン（ＳｉＮ）、酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）や樹脂等である。
＜樹脂封止層＞
樹脂封止層１０は、基板１から薄膜封止層９までの各層からなる背面パネルと、カラーフィルタ１３ｂ，１３ｇ，１３ｒが形成された基板１１とを貼り合わせるとともに、各層が水分や空気に晒されることを防止する機能を有する。樹脂封止層１０の材料は、例えば、樹脂接着剤等である。
＜カラーフィルタ＞
カラーフィルタ１３ｂ，１３ｇ，１３ｒは、有機発光層から出射された光の色度を矯正する機能を有する。
［有機表示装置］
図１４は、本発明の実施形態に係る有機表示装置の機能ブロックを示す図である。図１５は、本発明の実施形態に係る有機表示装置の外観を例示する図である。有機表示装置１５は、有機表示パネル１６と、これに電気的に接続された駆動制御部１７とを備える。有機表示パネル１６は、図１に示す画素構造を有するものである。駆動制御部１７は、各有機ＥＬ素子の反射電極２と透明電極８との間に電圧を印加する駆動回路１８〜２１と、駆動回路１８〜２１の動作を制御する制御回路２２とからなる。
［有機ＥＬパネルの製造方法］
次に、有機ＥＬパネルの製造方法を説明する。図１６、図１７は、本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネルの製造方法を説明するための図である。
まず、基板１上に反射電極２を蒸着法やスパッタ法によって形成する（図１６（ａ））。次に、反射電極２上に、蒸着法やスパッタ法により透明導電層３を形成する（図１６（ｂ））。このとき、透明導電層３の膜厚をＲ，Ｇ，Ｂ各色で同一にする。
次に、透明導電層３上に、例えば、蒸着法やスパッタ法により正孔注入層４を形成し、バンク１２を形成し、さらに、正孔注入層４上に、例えば、インクジェット法などの印刷法により正孔輸送層５を形成する（図１６（ｃ））。このとき、正孔注入層４および正孔輸送層５の膜厚をＲ，Ｇ，Ｂ各色で同一にする。
次に、正孔輸送層５上に、例えば、インクジェット法などの印刷法により有機発光層６ｂ，６ｇ，６ｒを形成する（図１６（ｄ））。このとき、有機発光層６ｂ，６ｇ，６ｒの膜厚をＲ，Ｇ，Ｂ各色で適宜異ならせる。
次に、有機発光層６ｂ，６ｇ，６ｒ上に蒸着法やスパッタ法により電子輸送層７を形成する（図１７（ａ））。このとき、電子輸送層７の膜厚をＲ，Ｇ，Ｂ各色で同一にする。
次に、電子輸送層７上に、蒸着法やスパッタ法により透明電極８を形成する（図１７（ｂ））。透明電極８の膜厚は、例えば、９０ｎｍ以上１１０ｎｍ以下とする。
次に、透明電極８上に蒸着法やスパッタ法により薄膜封止層９を形成し、カラーフィルタ１３ｂ，１３ｇ，１３ｒが形成された基板１１を、樹脂封止層１０を用いて貼り合わせる（図１７（ｃ））。これらの封止層の膜厚は、例えば、９００ｎｍ以上１１００ｎｍ以下とする。
以上、本発明を実施形態に基づいて説明したが、本発明は上記実施形態に限られない。例えば、以下のような変形例がある。
（１）実施例１では、第１機能層の膜厚を３１．５ｎｍ以上３８．５以下としているが、本発明は、これに限らない。光取り出し効率を高める効果は、第１光路Ｃ１を通過する光と第２光路Ｃ２を通過する光の干渉効果により得られるものと考えられる。そうすると、第１機能層の膜厚が重要ではなく、有機発光層から反射電極までの光学的な距離が重要であると言える。したがって、有機発光層から反射電極までの光学的な距離が５７．６ｎｍ以上７０．４ｎｍ以下であればよく、この条件を満たす限り、第１機能層の膜厚を変えても同一の効果を得ることができる。
同様に、実施例２では、第１機能層の膜厚を４５ｎｍ以上５５ｎｍ以下としているが、本発明は、これに限らない。有機発光層から反射電極までの光学的な距離が８１．５ｎｍ以上９９．６ｎｍ以下であればよく、この条件を満たす限り、第１機能層の膜厚を変えても同一の効果を得ることができる。
同様に、第２機能層についても膜厚を２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下としているが、本発明はこれに限らない。有機発光層から透明電極までの光学的な距離が４８．６ｎｍ以上５９．４ｎｍ以下であればよく、この条件を満たす限り、第２機能層の膜厚を変えても同一の効果を得ることができる。
（２）実施形態では、第１機能層が透明導電層、正孔注入層および正孔輸送層から構成されているが、本発明は、これに限らない。これらの何れかが無くてもよいし、これ以外の機能層が含まれていてもよい。
（３）実施形態では、第２機能層が電子輸送層から構成されているが、本発明は、これに限らない。例えば、電子注入層が含まれていてもよい。
本発明は、有機ＥＬディスプレイ等に利用可能である。
１ 基板
２ 反射電極
３ 透明導電層
４ 正孔注入層
５ 正孔輸送層
６ｂ，６ｇ，６ｒ 有機発光層
７ 電子輸送層
８ 透明電極
９ 薄膜封止層
１０ 樹脂封止層
１１ 基板
１２ バンク
１３ｂ，１３ｇ，１３ｒ カラーフィルタ
１５ 有機表示装置
１６ 有機表示パネル
１７ 駆動制御部
１８〜２１ 駆動回路
２２ 制御回路

Claims (23)

  1. Ｒ（レッド），Ｇ（グリーン），Ｂ（ブルー）の色毎に設けられ、入射された光を反射する第１電極と、
    前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の第１電極に対向して配置され、入射された光を透過する第２電極と、
    前記Ｒ，Ｇ，Ｂの色毎に設けられ、前記第１電極と前記第２電極との間に配置された、前記第１電極と前記第２電極との間に電圧が印加されることにより前記Ｒ、Ｇ，Ｂのうちの対応する色の光を出射する有機発光層と、
    前記Ｒ，Ｇ，Ｂの色毎に設けられ、前記第１電極と前記有機発光層との間に配置された、１または２以上の層からなる第１の機能層と、
    前記Ｒ，Ｇ，Ｂの色毎に設けられ、前記第２電極と前記有機発光層との間に配置された、１または２以上の層からなる第２の機能層と、
    前記Ｒ，Ｇ，Ｂの色毎に設けられ、前記第２電極を挟んで前記有機発光層の反対側に配置された、色度を補正するためのカラーフィルタであって、少なくとも一色において、設けた場合と設けない場合とで、外部に出射される光の光取り出し効率が極大値を示す有機発光層の膜厚の範囲がずれる特性を有するカラーフィルタと、を備え、
    前記有機発光層から出射された光の一部が、前記第１の機能層を通じて前記第１電極に入射されて前記第１電極により反射された後、前記第１の機能層、前記有機発光層、前記第２の機能層、前記第２電極および前記カラーフィルタを通じて外部に出射される第１光路と、
    前記有機発光層から出射された光の残りの一部が、前記第１電極側に進行することなく、前記第２の機能層を通じて前記第２電極側に進行し、前記第２電極および前記カラーフィルタを通じて外部に出射される第２光路と、が形成され、
    前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色では、
    前記第１の機能層の膜厚が同一であって、かつ、前記有機発光層から前記第１電極までの光学的な距離が同一であり、
    前記第２の機能層の膜厚が同一であって、かつ、前記有機発光層から前記第２電極までの光学的な距離が同一であり、
    前記有機発光層の膜厚が互いに相違し、
    前記少なくとも一色の有機発光層の膜厚は、前記カラーフィルタを設けない場合の外部に出射される光の光取り出し効率が極大値を示す有機発光層の膜厚からずれており、且つ、前記少なくとも一色を含むＲ，Ｇ，Ｂ各色の有機発光層の膜厚は、前記カラーフィルタを設けた場合の外部に出射される光の光取り出し効率が極大値を示すこと
    を特徴とする有機ＥＬパネル。
  2. 前記第１の機能層の膜厚が、前記カラーフィルタを設けた場合の外部に出射される光の光取り出し効率が１次の極大値を示す第１の機能層の膜厚に調整されていること
    を特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネル。
  3. 前記第１の機能層の膜厚が、３１．５ｎｍ以上３８．５ｎｍ以下であって、かつ、前記有機発光層から前記第１電極までの光学的な距離が５７．６ｎｍ以上７０．４ｎｍ以下であり、
    前記有機発光層の膜厚が、Ｒでは８１ｎｍ以上９９ｎｍ以下、Ｇでは６３ｎｍ以上７７ｎｍ以下、Ｂでは４９．５ｎｍ以上６０．５ｎｍ以下であること
    を特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネル。
  4. 前記第１の機能層は、前記第１電極である陽極上に形成された透明導電層と、前記透明導電層上に形成された正孔注入層と、前記正孔注入層上に形成された正孔輸送層とを含み、
    前記透明導電層の膜厚が、１３．５ｎｍ以上１６．５ｎｍ以下であり、
    前記正孔注入層の膜厚が、４．５ｎｍ以上５．５ｎｍ以下であり、
    前記正孔輸送層の膜厚が、１３．５ｎｍ以上１６．５ｎｍ以下であること
    を特徴とする請求項３に記載の有機ＥＬパネル。
  5. 前記第２の機能層の膜厚が、２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下であって、かつ、前記有機発光層から前記第２電極までの光学的な距離が４８．６ｎｍ以上５９．４ｎｍ以下であること
    を特徴とする請求項３に記載の有機ＥＬパネル。
  6. 前記第２の機能層は、電子輸送層を含み、
    前記電子輸送層の膜厚が、２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下であること
    を特徴とする請求項５に記載の有機ＥＬパネル。
  7. 前記第１の機能層の膜厚が、４５ｎｍ以上５５ｎｍ以下であって、かつ、前記有機発光層から前記第１電極までの光学的な距離が８１．５ｎｍ以上９９．６ｎｍ以下であり、
    前記有機発光層の膜厚が、Ｒでは７２ｎｍ以上８８ｎｍ以下、Ｇでは５４ｎｍ以上６６ｎｍ以下、Ｂでは１８ｎｍ以上２２ｎｍ以下であること
    を特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネル。
  8. 前記第１の機能層は、前記第１電極である陽極上に形成された透明導電層と、前記透明導電層上に形成された正孔注入層と、前記正孔注入層上に形成された正孔輸送層とを含み、
    前記透明導電層の膜厚が、１８ｎｍ以上２２ｎｍ以下であり、
    前記正孔注入層の膜厚が、４．５ｎｍ以上５．５ｎｍ以下であり、
    前記正孔輸送層の膜厚が、２２．５ｎｍ以上２７．５ｎｍ以下であること
    を特徴とする請求項７に記載の有機ＥＬパネル。
  9. 前記第２の機能層の膜厚が、２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下であって、かつ、前記有機発光層から前記第２電極までの光学的な距離が４８．６ｎｍ以上５９．４ｎｍ以下であること
    を特徴とする請求項７に記載の有機ＥＬパネル。
  10. 前記第２の機能層は、電子輸送層を含み、
    前記電子輸送層の膜厚が、２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下であること
    を特徴とする請求項９に記載の有機ＥＬパネル。
  11. 前記有機発光層は、有機材料を含み、印刷法を用いて形成されること
    を特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネル。
  12. 請求項１に記載の有機ＥＬパネルを用いた表示装置。
  13. 入射された光を反射する第１電極を、Ｒ（レッド），Ｇ（グリーン），Ｂ（ブルー）の色毎に準備する第１工程と、
    前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の第１電極上に、１または２以上の層からなる第１の機能層を設ける第２工程と、
    前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の第１の機能層上に、それぞれＲ，Ｇ，Ｂのうちの対応する色の光を出射する有機発光層を設ける第３工程と、
    前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の有機発光層上に、１または２以上の層からなる第２の機能層を設ける第４工程と、
    前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の第２の機能層上に、前記第１電極と対向して配置され、入射された光を透過する第２電極を設ける第５工程と、
    前記Ｒ，Ｇ，Ｂの色毎に、前記第２電極を挟んで前記有機発光層の反対側に配置された、色度を補正するためのカラーフィルタであって、少なくとも一色において、設けた場合と設けない場合とで、外部に出射される光の光取り出し効率が極大値を示す有機発光層の膜厚の範囲がずれる特性を有するカラーフィルタを設ける第６工程と、を備え、
    前記第２工程では、
    前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の第１の機能層の膜厚が同一であって、かつ、前記有機発光層から前記第１電極までの光学的な距離が同一になるように、前記第１の機能層を設け、
    前記第３工程では、
    前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の有機発光層の膜厚が互いに相違するように、前記有機発光層を設け、
    さらに、前記少なくとも一色の有機発光層の膜厚は、前記カラーフィルタを設けない場合の外部に出射される光の光取り出し効率が極大値を示す有機発光層の膜厚からずれるように調整され、且つ、前記少なくとも一色を含むＲ，Ｇ，Ｂ各色の有機発光層の膜厚は、前記カラーフィルタを設けた場合の外部に出射される光の光取り出し効率が極大値を示すように調整され、
    前記第４工程では、
    前記第２の機能層の膜厚が同一であって、かつ、前記有機発光層から前記第２電極までの光学的な距離が同一になるように、前記第２の機能層を設けること
    を特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
  14. 前記第２工程では、
    前記第１の機能層の膜厚が、前記カラーフィルタを設けた場合の外部に出射される光の光取り出し効率が１次の極大値を示す第１の機能層の膜厚に調整されること
    を特徴とする請求項１３に記載の有機ＥＬパネルの製造方法。
  15. 前記第２工程では、
    前記第１の機能層の膜厚が、３１．５ｎｍ以上３８．５ｎｍ以下であって、かつ、前記有機発光層から前記第１電極までの光学的な距離が５７．６ｎｍ以上７０．４ｎｍ以下に調整され、
    前記第３工程では、
    前記有機発光層の膜厚が、Ｒでは８１ｎｍ以上９９ｎｍ以下、Ｇでは６３ｎｍ以上７７ｎｍ以下、Ｂでは４９．５ｎｍ以上６０．５ｎｍ以下に調整されること
    を特徴とする請求項１３に記載の有機ＥＬパネルの製造方法。
  16. 前記第１の機能層は、前記第１電極である陽極上に形成された透明導電層と、前記透明導電層上に形成された正孔注入層と、前記正孔注入層上に形成された正孔輸送層とを含み、
    前記第２工程では、
    前記透明導電層の膜厚が、１３．５ｎｍ以上１６．５ｎｍ以下に調整され、
    前記正孔注入層の膜厚が、４．５ｎｍ以上５．５ｎｍ以下に調整され、
    前記正孔輸送層の膜厚が、１３．５ｎｍ以上１６．５ｎｍ以下に調整されること
    を特徴とする請求項１５に記載の有機ＥＬパネルの製造方法。
  17. 前記第４工程では、
    前記第２の機能層の膜厚が、２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下であって、かつ、前記有機発光層から前記第２電極までの光学的な距離が４８．６ｎｍ以上５９．４ｎｍ以下に調整されること
    を特徴とする請求項１５に記載の有機ＥＬパネルの製造方法。
  18. 前記第２の機能層は、電子輸送層を含み、
    前記第４工程では、
    前記電子輸送層の膜厚が、２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下に調整されること
    を特徴とする請求項１７に記載の有機ＥＬパネルの製造方法。
  19. 前記第２工程では、
    前記第１の機能層の膜厚が、４５ｎｍ以上５５ｎｍ以下であって、かつ、前記有機発光層から前記第１電極までの光学的な距離が８１．５ｎｍ以上９９．６ｎｍ以下に調整され、
    前記第３工程では、
    前記有機発光層の膜厚が、Ｒでは７２ｎｍ以上８８ｎｍ以下、Ｇでは５４ｎｍ以上６６ｎｍ以下、Ｂでは１８ｎｍ以上２２ｎｍ以下に調整されること
    を特徴とする請求項１３に記載の有機ＥＬパネルの製造方法。
  20. 前記第１の機能層は、前記第１電極である陽極上に形成された透明導電層と、前記透明導電層上に形成された正孔注入層と、前記正孔注入層上に形成された正孔輸送層とを含み、
    前記第２工程では、
    前記透明導電層の膜厚が、１８ｎｍ以上２２ｎｍ以下に調整され、
    前記正孔注入層の膜厚が、４．５ｎｍ以上５．５ｎｍ以下に調整され、
    前記正孔輸送層の膜厚が、２２．５ｎｍ以上２７．５ｎｍ以下に調整されること
    を特徴とする請求項１９に記載の有機ＥＬパネルの製造方法。
  21. 前記第４工程では、
    前記第２の機能層の膜厚が、２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下であって、かつ、前記有機発光層から前記第２電極までの光学的な距離が４８．６ｎｍ以上５９．４ｎｍ以下に調整されること
    を特徴とする請求項１９に記載の有機ＥＬパネルの製造方法。
  22. 前記第２の機能層は、電子輸送層を含み、
    前記第４工程では、
    前記電子輸送層の膜厚が、２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下に調整されること
    を特徴とする請求項２１に記載の有機ＥＬパネルの製造方法。
  23. 前記有機発光層は、有機材料を含み、印刷法を用いて形成されること
    を特徴とする請求項１３に記載の有機ＥＬパネルの製造方法。
JP2012545533A 2010-11-24 2010-11-24 有機ｅｌパネル、それを用いた表示装置および有機ｅｌパネルの製造方法 Active JP5753191B2 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2010/006859 WO2012070085A1 (ja) 2010-11-24 2010-11-24 有機ｅｌパネル、それを用いた表示装置および有機ｅｌパネルの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2012070085A1 JPWO2012070085A1 (ja) 2014-05-19
JP5753191B2 true JP5753191B2 (ja) 2015-07-22

Family

ID=46145464

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012545533A Active JP5753191B2 (ja) 2010-11-24 2010-11-24 有機ｅｌパネル、それを用いた表示装置および有機ｅｌパネルの製造方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US8916862B2 (ja)
JP (1) JP5753191B2 (ja)
WO (1) WO2012070085A1 (ja)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6140970B2 (ja) 2012-10-12 2017-06-07 三菱電機株式会社 表示装置およびその製造方法
KR101429725B1 (ko) * 2012-10-31 2014-08-12 엘지디스플레이 주식회사 유기전계발광표시장치 및 이의 제조방법
JP6111643B2 (ja) * 2012-12-17 2017-04-12 セイコーエプソン株式会社 有機エレクトロルミネッセンス装置、及び電子機器
KR20160060170A (ko) * 2014-10-21 2016-05-30 엘지디스플레이 주식회사 유기전계 발광소자
KR20180095154A (ko) * 2017-02-16 2018-08-27 삼성디스플레이 주식회사 발광 표시 장치
CN108565350B (zh) 2018-04-13 2019-06-28 京东方科技集团股份有限公司 Oled器件及其制造方法和显示面板
KR102597673B1 (ko) * 2018-05-16 2023-11-02 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
CN108682681B (zh) * 2018-05-25 2021-03-30 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制作方法以及显示器件
CN109742255B (zh) * 2018-12-29 2021-04-30 武汉天马微电子有限公司 显示面板以及显示装置
CN109713164A (zh) * 2018-12-29 2019-05-03 武汉天马微电子有限公司 显示面板以及显示装置
US11980046B2 (en) * 2020-05-27 2024-05-07 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Method for forming an isolation structure having multiple thicknesses to mitigate damage to a display device

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006179780A (ja) * 2004-12-24 2006-07-06 Canon Inc 有機発光素子及び表示パネル
JP2007157732A (ja) * 2007-01-29 2007-06-21 Sony Corp 発光素子およびこれを用いた表示装置
JP2009272150A (ja) * 2008-05-08 2009-11-19 Seiko Epson Corp 有機ｅｌ装置、電子機器、有機ｅｌ装置の製造方法
JP2010067482A (ja) * 2008-09-11 2010-03-25 Fujifilm Corp 有機ｅｌ表示装置
JP2010251156A (ja) * 2009-04-16 2010-11-04 Panasonic Corp カラー有機エレクトロルミネッセンス表示装置およびその製造方法

Family Cites Families (58)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04137485A (ja) 1990-09-28 1992-05-12 Ricoh Co Ltd 電界発光素子
JP3065704B2 (ja) 1991-04-26 2000-07-17 パイオニア株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子
JPH05163488A (ja) 1991-12-17 1993-06-29 Konica Corp 有機薄膜エレクトロルミネッセンス素子
US5443922A (en) 1991-11-07 1995-08-22 Konica Corporation Organic thin film electroluminescence element
JP4136185B2 (ja) 1999-05-12 2008-08-20 パイオニア株式会社 有機エレクトロルミネッセンス多色ディスプレイ及びその製造方法
JP4046948B2 (ja) 2001-02-26 2008-02-13 株式会社日立製作所 有機発光表示装置
JP3724732B2 (ja) 2002-06-07 2005-12-07 富士電機ホールディングス株式会社 有機ｅｌ発光素子
US6737800B1 (en) 2003-02-18 2004-05-18 Eastman Kodak Company White-emitting organic electroluminescent device with color filters and reflective layer for causing colored light constructive interference
JP4543798B2 (ja) 2003-08-18 2010-09-15 セイコーエプソン株式会社 有機ｅｌ装置および電子機器
KR101079820B1 (ko) 2003-09-19 2011-11-04 소니 가부시키가이샤 유기 발광 장치 및 그 제조 방법과 표시 장치
JP4403399B2 (ja) 2003-09-19 2010-01-27 ソニー株式会社 表示装置および表示装置の製造方法
JP4479250B2 (ja) 2004-01-21 2010-06-09 ソニー株式会社 表示装置の製造方法および表示装置
KR100787425B1 (ko) 2004-11-29 2007-12-26 삼성에스디아이 주식회사 페닐카바졸계 화합물 및 이를 이용한 유기 전계 발광 소자
KR100846586B1 (ko) 2006-05-29 2008-07-16 삼성에스디아이 주식회사 유기 발광 소자 및 이를 구비한 평판 표시 장치
KR100573137B1 (ko) 2004-04-02 2006-04-24 삼성에스디아이 주식회사 플루오렌계 화합물 및 이를 이용한 유기 전계 발광 소자
KR100669716B1 (ko) 2004-07-14 2007-01-16 삼성에스디아이 주식회사 페닐카르바졸 화합물 및 이를 이용한 유기 전계 발광 소자
US8188315B2 (en) 2004-04-02 2012-05-29 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Organic light emitting device and flat panel display device comprising the same
JP2005317255A (ja) 2004-04-27 2005-11-10 Seiko Epson Corp 電界発光素子及び表示素子
JP2005322435A (ja) 2004-05-06 2005-11-17 Seiko Epson Corp 電界発光素子及び表示素子
JP4507718B2 (ja) 2004-06-25 2010-07-21 京セラ株式会社 カラー有機ｅｌディスプレイ及びその製造方法
KR100721554B1 (ko) * 2004-07-22 2007-05-23 삼성에스디아이 주식회사 유기 전계 발광 소자 및 그의 제조 방법
JP4823629B2 (ja) 2004-09-24 2011-11-24 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置
KR101207443B1 (ko) 2004-09-24 2012-12-03 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 발광장치
JP4525536B2 (ja) 2004-11-22 2010-08-18 セイコーエプソン株式会社 Ｅｌ装置および電子機器
US8021765B2 (en) 2004-11-29 2011-09-20 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Phenylcarbazole-based compound and organic electroluminescent device employing the same
KR100721562B1 (ko) 2004-12-03 2007-05-23 삼성에스디아이 주식회사 마그네슘-칼슘 막인 캐소드를 구비하는 유기전계발광소자및 그의 제조방법
JP2006253015A (ja) 2005-03-11 2006-09-21 Idemitsu Kosan Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンスカラー発光装置
JP5072243B2 (ja) 2005-03-25 2012-11-14 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置
US7851989B2 (en) 2005-03-25 2010-12-14 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device
JP4984433B2 (ja) * 2005-05-16 2012-07-25 大日本印刷株式会社 発光層の形成方法およびそれを用いた有機発光デバイスの製造方法
JP2007027042A (ja) 2005-07-21 2007-02-01 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 有機ｅｌ表示装置
US7960908B2 (en) 2005-07-15 2011-06-14 Toshiba Matsushita Display Technology Co., Ltd. Organic EL display
JP4412264B2 (ja) * 2005-09-12 2010-02-10 ソニー株式会社 表示装置および表示装置の製造方法
KR101230316B1 (ko) * 2006-03-21 2013-02-06 삼성디스플레이 주식회사 표시장치와 그 제조방법
JP5207645B2 (ja) * 2006-03-29 2013-06-12 キヤノン株式会社 多色有機発光装置
JP4967423B2 (ja) 2006-04-04 2012-07-04 セイコーエプソン株式会社 発光装置および電子機器
TW200803606A (en) * 2006-06-13 2008-01-01 Itc Inc Ltd The fabrication of full color OLED panel using micro-cavity structure
JP2008027722A (ja) * 2006-07-21 2008-02-07 Sony Corp 表示装置および表示装置の製造方法
JP4658877B2 (ja) 2006-08-07 2011-03-23 株式会社 日立ディスプレイズ 有機発光表示装置
JP2008135373A (ja) 2006-10-24 2008-06-12 Canon Inc 有機発光装置及びその製造方法
KR100823511B1 (ko) 2006-11-10 2008-04-21 삼성에스디아이 주식회사 유기 발광 표시 장치 및 그 제조방법
JP4899929B2 (ja) * 2007-02-28 2012-03-21 セイコーエプソン株式会社 表示装置
JP4858379B2 (ja) * 2007-09-18 2012-01-18 セイコーエプソン株式会社 発光装置および電子機器
US7741770B2 (en) 2007-10-05 2010-06-22 Global Oled Technology Llc LED device having improved light output
US8227978B2 (en) * 2007-10-10 2012-07-24 Samsung Electronics Co., Ltd. White organic light emitting device and color display apparatus employing the same
KR101434361B1 (ko) * 2007-10-16 2014-08-26 삼성디스플레이 주식회사 백색 유기 전계 발광소자 및 이를 이용한 컬러 디스플레이장치
JP5515237B2 (ja) 2008-05-14 2014-06-11 セイコーエプソン株式会社 発光装置及び電子機器
JP2010118163A (ja) 2008-11-11 2010-05-27 Seiko Epson Corp 発光装置及び電子機器
KR101403420B1 (ko) * 2009-06-11 2014-06-03 파이오니아 가부시키가이샤 발광소자 및 표시장치
JP2011009017A (ja) * 2009-06-24 2011-01-13 Panasonic Corp 有機ｅｌディスプレイパネル
JP5685855B2 (ja) * 2009-09-08 2015-03-18 株式会社リコー 表示装置および表示装置の製造方法
CN102474938B (zh) 2009-09-29 2015-09-09 株式会社日本有机雷特显示器 发光元件以及使用该发光元件的显示装置
CN102687592B (zh) 2010-01-08 2016-01-20 株式会社日本有机雷特显示器 有机el面板、使用了该有机el面板的显示装置以及有机el面板的制造方法
KR101707250B1 (ko) 2010-06-28 2017-02-15 가부시키가이샤 제이올레드 유기 발광 소자와 그 제조 방법, 유기 표시 패널, 유기 표시 장치
CN102960069B (zh) 2010-07-27 2015-09-02 株式会社日本有机雷特显示器 有机el显示面板及其制造方法
CN102440073B (zh) 2010-08-10 2014-10-08 松下电器产业株式会社 有机发光元件、有机发光装置、有机显示面板、有机显示装置以及有机发光元件的制造方法
JP5425242B2 (ja) * 2012-01-31 2014-02-26 キヤノン株式会社 有機ｅｌ素子及びこれを用いた表示装置
KR101990116B1 (ko) * 2012-10-22 2019-10-01 삼성디스플레이 주식회사 유기발광장치 및 그것의 제조방법

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006179780A (ja) * 2004-12-24 2006-07-06 Canon Inc 有機発光素子及び表示パネル
JP2007157732A (ja) * 2007-01-29 2007-06-21 Sony Corp 発光素子およびこれを用いた表示装置
JP2009272150A (ja) * 2008-05-08 2009-11-19 Seiko Epson Corp 有機ｅｌ装置、電子機器、有機ｅｌ装置の製造方法
JP2010067482A (ja) * 2008-09-11 2010-03-25 Fujifilm Corp 有機ｅｌ表示装置
JP2010251156A (ja) * 2009-04-16 2010-11-04 Panasonic Corp カラー有機エレクトロルミネッセンス表示装置およびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2012070085A1 (ja) 2014-05-19
US20130285023A1 (en) 2013-10-31
WO2012070085A1 (ja) 2012-05-31
US8916862B2 (en) 2014-12-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5753191B2 (ja) 有機ｅｌパネル、それを用いた表示装置および有機ｅｌパネルの製造方法
JP5574450B2 (ja) 有機発光素子、有機発光装置、有機表示パネル、有機表示装置および有機発光素子の製造方法
JP5600752B2 (ja) 有機ｅｌパネル、それを用いた表示装置および有機ｅｌパネルの製造方法
US8779453B2 (en) Light-emitting element and display device using same
JP5607654B2 (ja) 有機ｅｌパネル、それを用いた表示装置および有機ｅｌパネルの製造方法
JP6019375B2 (ja) 発光素子およびそれを用いた表示装置
WO2012070087A1 (ja) 有機ｅｌパネル、それを用いた表示装置および有機ｅｌパネルの製造方法
WO2012070088A1 (ja) 有機ｅｌパネル、それを用いた表示装置および有機ｅｌパネルの製造方法
JP5879613B2 (ja) 表示装置
JP6111478B2 (ja) 発光素子及び表示装置
WO2012168978A1 (ja) 有機発光パネルおよびその製造方法
JP5778799B2 (ja) 有機発光素子
US11495777B2 (en) Self-luminous element, self-luminous panel, and self-luminous panel manufacturing method

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20140606

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140701

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140827

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20141209

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20150212

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150309

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20150316

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150421

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150521

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5753191

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S303 Written request for registration of pledge or change of pledge

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316303

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S803 Written request for registration of cancellation of provisional registration

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316803

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113