JP5750951B2 - エッチングする方法及びエッチング装置 - Google Patents
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Description
被エッチング層の形成材料として、酸化アルミニウムを用いた。被エッチング層は、直径3インチのシリコン基板上に、40nmの厚みで形成された。被エッチング層上にレジスト層は形成されていない。エッチング水溶液として、濃度が10質量%のフッ酸水溶液を用いた。放射線源として、波長が172nmの紫外線ランプを用いた。エッチング装置の放射線窓の外面の位置における紫外線の放射照度は、10mW/cm2であった。触媒層16aと被エッチング層30との間の距離は2mmであった。エッチング時間は、5分であった。この被エッチング層を、エッチング装置を用いてエッチングして実施例1とした。
エッチング水溶液として、濃度が6質量%の水酸化カリウム水溶液を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、実施例2とした。
エッチング水溶液として、濃度が2.38質量%のTMAH水溶液を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、実施例3とした。
被エッチング層の形成材料として、酸化ハフニウムを用いたこと以外は、実施例1と同様にして、実施例4とした。
紫外線をエッチング水溶液に照射しないこと以外は、実施例1と同様にして、比較例1とした。
紫外線をエッチング水溶液に照射しないこと以外は、実施例2と同様にして、比較例2とした。
紫外線をエッチング水溶液に照射しないこと以外は、実施例3と同様にして、比較例3とした。
紫外線をエッチング水溶液に照射しないこと以外は、実施例4と同様にして、比較例4とした。
被エッチング層の形成材料として、酸化アルミニウムを用いた。被エッチング層は、直径3インチのシリコン基板上に、40nmの厚みで形成された。液供給管の内径は4cmであった。エッチング水溶液として、濃度が10質量%のフッ酸水溶液を用いた。放射線源として、波長が172nmの紫外線ランプを用いた。エッチング装置の液供給管の外面の位置における紫外線の放射照度は、10mW/cm2であった。液供給管の下方の端部と被エッチング層の表面との間の距離は2mmであった。エッチング時間は、5分であった。この被エッチング層を、エッチング装置を用いてエッチングして実施例1とした。
エッチング水溶液として、濃度が6質量%の水酸化カリウム水溶液を用いたこと以外は、実施例5と同様にして、実施例6とした。
エッチング水溶液として、濃度が2.38質量%のTMAH水溶液を用いたこと以外は、実施例5と同様にして、実施例7とした。
被エッチング層の形成材料として、酸化ハフニウムを用いたこと以外は、実施例5と同様にして、実施例8とした。
紫外線をエッチング水溶液に照射しないこと以外は、実施例5と同様にして、比較例5とした。
紫外線をエッチング水溶液に照射しないこと以外は、実施例6と同様にして、比較例6とした。
紫外線をエッチング水溶液に照射しないこと以外は、実施例7と同様にして、比較例7とした。
紫外線をエッチング水溶液に照射しないこと以外は、実施例8と同様にして、比較例8とした。
放射線をエッチング水溶液に照射し、
前記放射線が照射された前記エッチング水溶液を用いて、被エッチング物をエッチングする方法。
前記放射線を前記エッチング水溶液に照射して、前記エッチング水溶液から被エッチング物の表面を水酸基によって官能化する活性種を生成する付記1に記載の方法。
前記放射線を、触媒と共に、前記エッチング水溶液に照射する付記2に記載の方法。
前記放射線を、前記触媒により形成された触媒層に透過させて、前記エッチング水溶液に照射する付記3に記載の方法。
前記触媒は、酸化チタン、又は、アンチモン及びクロム及びニッケルの内の何れか一つ又は複数が添加された酸化チタンである付記3又は4に記載の方法。
前記触媒は、チタン酸ストロンチウム、又は、アンチモン及びクロム及びニッケルの内の何れか一つ又は複数が添加されたチタン酸ストロンチウムである付記3又は4に記載の方法。
前記放射線が照射された前記エッチング水溶液を被エッチング物に供給する付記1〜6の何れか一項に記載の方法。
前記エッチング水溶液に前記放射線を吸収させる付記7に記載の方法。
前記放射線を前記エッチング水溶液に照射すると共に、被エッチング物にも照射する付記1〜6の何れか一項に記載の方法。
放射線をエッチング水溶液に照射し、
前記放射線が照射された前記エッチング水溶液を用いて、基板上の被エッチング層をエッチングする半導体装置の製造方法。
放射線をエッチング水溶液に照射する放射線源と、
前記放射線が照射されるエッチング水溶液を収容するエッチング槽と、
を備えるエッチング装置。
前記放射線源から照射される前記放射線を反射して、前記放射線をエッチング水溶液に照射する反射部を備える付記11に記載のエッチング装置。
前記エッチング槽は、前記放射線を透過する放射線窓を有する付記11又は12に記載のエッチング装置。
前記放射線窓の内側には、触媒層が配置される付記13に記載のエッチング装置。
前記放射線を透過し、エッチング水溶液を前記エッチング槽に供給する液供給管を備えており、
前記放射線源は、前記放射線を前記液供給管に透過させてエッチング水溶液に照射する付記11又は12に記載のエッチング装置。
11 放射線
12 放射線源
13 エッチング槽
14 反射部
15 放射線窓
16a、16b 触媒層
17 ステージ
18 液供給管
19 液排出管
20 エッチング水溶液
30 被エッチング層(被エッチング物)
31 半導体基板
Claims (2)
- 放射線をエッチング水溶液に照射し、前記放射線が照射された前記エッチング水溶液を用いて、被エッチング物をエッチングする方法であって、
前記放射線を、前記放射線が照射された前記エッチング水溶液から被エッチング物の表面を水酸基によって官能化する活性種の生成を促進する触媒層を透過させて、前記エッチング水溶液に照射し、
前記触媒層と被エッチング物との間の距離は、前記放射線がエッチング水溶液に吸収されて、被エッチング物に前記放射線が照射されないように決定される方法。 - 放射線をエッチング水溶液に照射する放射線源と、
放射線が照射されるエッチング水溶液、及びエッチング水溶液によってエッチングされる被エッチング物を収容するエッチング槽と、
前記放射線源と被エッチング物との間に配置され、放射線を透過する触媒層であって、放射線が照射されたエッチング水溶液から被エッチング物の表面を水酸基によって官能化する活性種の生成を促進する触媒層と、
を備え、
前記触媒層と被エッチング物との間の距離は、放射線がエッチング水溶液に吸収されて、被エッチング物に放射線が照射されないように決定されるエッチング装置。
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