JP5749818B2 - 半導体装置の製造方法、及び、半導体装置 - Google Patents
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Description
シリコン基板上に平面状シリコン層を形成し、
前記平面状シリコン層上に第1の柱状シリコン層と第2の柱状シリコン層とを形成する第1の工程と、
前記第1の工程の後、
前記第1の柱状シリコン層と前記第2の柱状シリコン層の周囲にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜の周囲に金属膜及びポリシリコン膜を成膜し、
前記ポリシリコン膜の膜厚は前記第1の柱状シリコン層と前記第2の柱状シリコン層との間の間隔の半分より薄いのであって、
ゲート配線を形成するための第3のレジストを形成し、
異方性エッチングを行うことにより前記ゲート配線を形成する第2の工程と、
前記第2の工程の後、
第4のレジストを堆積し、前記第1の柱状シリコン層と前記第2の柱状シリコン層上部側壁の前記ポリシリコン膜を露出し、露出した前記ポリシリコン膜をエッチングにより除去し、前記第4のレジストを剥離し、前記金属膜をエッチングにより除去し、前記ゲート配線に接続する第1のゲート電極と第2のゲート電極を形成する第3の工程と、
を有することを特徴とする。
前記第1の柱状シリコン層の下部と前記平面状シリコン層の上部に第2のn型拡散層を形成し、
前記第2の柱状シリコン層の上部に第1のp型拡散層を形成し、
前記第2の柱状シリコン層の下部と前記平面状シリコン層の上部に第2のp型拡散層を形成する第4の工程をさらに含むことを特徴とする。
シリコン基板上に形成された平面状シリコン層と、
前記平面状シリコン層上に形成された第1及び第2の柱状シリコン層と、
前記第1の柱状シリコン層の周囲に形成されたゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜の周囲に形成された金属膜及びポリシリコン膜の積層構造からなる第1のゲート電極と、
前記第2の柱状シリコン層の周囲に形成されたゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜の周囲に形成された金属膜及びポリシリコン膜の積層構造からなる第2のゲート電極と、
前記ポリシリコン膜の膜厚は前記第1の柱状シリコン層と前記第2の柱状シリコン層との間の間隔の半分より薄いのであって、
前記第1及び前記第2のゲート電極に接続されたゲート配線と、
前記ゲート配線の上面の高さは前記第1及び第2のゲート電極の上面の高さより低いことであって、
前記第1の柱状シリコン層の上部に形成された第1のn型拡散層と、
前記第1の柱状シリコン層の下部と前記平面状シリコン層の上部とに形成された第2のn型拡散層と、
前記第2の柱状シリコン層の上部に形成された第1のp型拡散層と、
前記第2の柱状シリコン層の下部と前記平面状シリコン層の上部とに形成された第2のp型拡散層と、
を有することを特徴とする。
第1の柱状シリコン層と第2の柱状シリコン層の高さは、所望の柱状シリコン層高さと、後にゲート配線エッチング中に削られる分の高さとの和とすることにより自己整合プロセスを実現している。
前記ゲート絶縁膜の周囲に金属膜及びポリシリコン膜を成膜し、
前記ポリシリコン膜の膜厚は前記第1の柱状シリコン層と前記第2の柱状シリコン層との間の間隔の半分より薄いのであって、
ゲート配線を形成するための第3のレジストを形成し、
異方性エッチングを行うことにより前記ゲート配線を形成する第2の工程と、
前記第2の工程の後、
第4のレジストを堆積し、前記第1の柱状シリコン層と前記第2の柱状シリコン層上部側壁の前記ポリシリコン膜を露出し、露出した前記ポリシリコン膜をエッチングにより除去し、前記第4のレジストを剥離し、前記金属膜をエッチングにより除去し、前記ゲート配線に接続する第1のゲート電極と第2のゲート電極を形成する第3の工程と、
により自己整合プロセスを実現している。
自己整合プロセスであるから、高集積化が可能となる。
コンタクト孔形成のためのレジストがずれて、かつコンタクト孔エッチングがオーバーエッチとなったとき、コンタクトとゲート電極との短絡を防ぐことができる。
金属膜110は、窒化チタンといった、半導体工程に用いられ、トランジスタのしきい値電圧を設定する金属であればよい。
ゲート絶縁膜109は、酸化膜、酸窒化膜、高誘電体膜といった、半導体工程に用いられるものであればよい。
第2のn型拡散層と、第2のp型拡散層とを接続するシリサイドを形成しやすい。従って、高集積化をおこなうことができる。
以上により、シリコン基板101上に平面状シリコン層107と、平面状シリコン層107上に、第1の柱状シリコン層104と第2の柱状シリコン層105と、を形成する第1の工程が示された。
前記ゲート絶縁膜109の周囲に金属膜110及びポリシリコン膜111を成膜し、
前記ポリシリコン膜111の膜厚は前記第1の柱状シリコン層104と前記第2の柱状シリコン層105との間の間隔の半分より薄いのであって、
ゲート配線114cを形成するための第3のレジスト112を形成し、
異方性エッチングを行うことにより前記ゲート配線114cを形成する第2の工程を示す。
前記ゲート絶縁膜109の周囲に金属膜110及びポリシリコン膜111を成膜する。このとき、薄いポリシリコン膜を使用する。従って、ポリシリコン膜中にボイドが形成されることを防ぐことができる。
金属膜110は、窒化チタンといった、半導体工程に用いられ、トランジスタのしきい値電圧を設定する金属であればよい。
ゲート絶縁膜109は、酸化膜、酸窒化膜、高誘電体膜といった、半導体工程に用いられるものであればよい。
レジスト高さが柱状シリコン層より高くなってもよい。
ポリシリコン膜111a、ポリシリコン膜111b、ポリシリコン膜配線111cとが形成される。このとき、柱状シリコン層上部のレジスト厚さが薄く、もしくは、柱状シリコン層上部のポリシリコン膜が露出していると、エッチング中に、柱状シリコン層上部がエッチングされることがある。この場合、柱状シリコン層を形成時に、その高さを、所望の柱状シリコン層高さと、後にゲート配線エッチング中に削られる分の高さとの和としておけばよい。従って、本発明の製造工程は、自己整合プロセスとなる。
また、後に金属膜110をエッチングするため、本工程をポリシリコン膜111のエッチングとしてもよい。
以上により、前記第1の柱状シリコン層104と前記第2の柱状シリコン層105の周囲にゲート絶縁膜109を形成し、
前記ゲート絶縁膜109の周囲に金属膜110及びポリシリコン膜111を成膜し、
前記ポリシリコン膜111の膜厚は前記第1の柱状シリコン層104と前記第2の柱状シリコン層105との間の間隔の半分より薄いのであって、
ゲート配線114cを形成するための第3のレジスト112を形成し、
異方性エッチングを行うことにより前記ゲート配線114cを形成する第2の工程が示された。
金属膜110bとポリシリコン膜111bとで第1のゲート電極114bを形成し、
金属膜110aとポリシリコン膜111aとで第2のゲート電極114aを形成し、
金属膜110cとポリシリコン膜配線111cとでゲート配線114cを形成する。従って、自己整合プロセスとなる。
第1の柱状シリコン層104の下部と平面状シリコン層107の上部に第2のn型拡散層118を形成し、
第2の柱状シリコン層105の上部に第1のp型拡散層120を形成し、
第2の柱状シリコン層105の下部と平面状シリコン層107の上部に第2のp型拡散層121を形成する第4の工程を示す。
以上により、第1の柱状シリコン層104の上部に第1のn型拡散層117を形成し、
第1の柱状シリコン層104の下部と平面状シリコン層107の上部に第2のn型拡散層118を形成し、
第2の柱状シリコン層105の上部に第1のp型拡散層120を形成し、
第2の柱状シリコン層105の下部と平面状シリコン層107の上部に第2のp型拡散層121を形成する第4の工程が示された。
第1のn型拡散層117側壁に形成された絶縁膜サイドウォール129の膜厚が、金属膜110b及びポリシリコン膜111bの膜厚の和より厚いと、コンタクト形成時に、コンタクトとゲート電極114bとの絶縁が容易になる。
以上により、薄いゲート材を用い、金属ゲートであり、自己整合プロセスであるSGTの製造方法が示された。
図1に示すように、半導体装置は、
シリコン基板101上に形成された平面状シリコン層107と、
前記平面状シリコン層107上に形成された第1及び第2の柱状シリコン層104、105と、
前記第1の柱状シリコン層104の周囲に形成されたゲート絶縁膜109と、
前記ゲート絶縁膜109の周囲に形成された金属膜110b及びポリシリコン膜111bの積層構造からなる第1のゲート電極114bと、
前記第2の柱状シリコン層105の周囲に形成されたゲート絶縁膜109と、
前記ゲート絶縁膜109の周囲に形成された金属膜110a及びポリシリコン膜111aの積層構造からなる第2のゲート電極114aと、
前記ポリシリコン膜111b、111aの膜厚は前記第1の柱状シリコン層104と前記第2の柱状シリコン層105との間の間隔の半分より薄いのであって、
前記第1及び前記第2のゲート電極114b、114aに接続されたゲート配線114cと、
前記ゲート配線114cの上面の高さは前記第1及び第2のゲート電極114b、114aの上面の高さより低いことであって、
前記第1の柱状シリコン層104の上部に形成された第1のn型拡散層117と、
前記第1の柱状シリコン層104の下部と前記平面状シリコン層107の上部とに形成された第2のn型拡散層118と、
前記第2の柱状シリコン層105の上部に形成された第1のp型拡散層120と、
前記第2の柱状シリコン層105の下部と前記平面状シリコン層107の上部とに形成された第2のp型拡散層121と、
を有する。
第7のレジストがずれて、かつコンタクト孔エッチングがオーバーエッチとなったとき、コンタクト148とゲート電極114bとの短絡を防ぐことができる。
第2のn型拡散層118と、第2のp型拡散層121とを接続するシリサイド138を形成しやすい。従って、高集積化をおこなうことができる。
102.第1のレジスト
103.第1のレジスト
104.第1の柱状シリコン層
105.第2の柱状シリコン層
106.第2のレジスト
107.平面状シリコン層
108.素子分離膜
109.ゲート絶縁膜
110.金属膜
110a.金属膜
110b.金属膜
110c.金属膜
111.ポリシリコン膜
111a.ポリシリコン膜
111b.ポリシリコン膜
111c.ポリシリコン膜配線
112.第3のレジスト
113.第4のレジスト
114a.第2のゲート電極
114b.第1のゲート電極
114c.ゲート配線
115.酸化膜
116.第5のレジスト
117.第1のn型拡散層
118.第2のn型拡散層
119.第6のレジスト
120.第1のp型拡散層
121.第2のp型拡散層
122.窒化膜
123.窒化膜サイドウォール
124.窒化膜サイドウォール
125.窒化膜サイドウォール
126.酸化膜サイドウォール
127.酸化膜サイドウォール
128.酸化膜サイドウォール
129.絶縁膜サイドウォール
130.絶縁膜サイドウォール
131.絶縁膜サイドウォール
132.絶縁膜サイドウォール
133.シリサイド
134.シリサイド
135.シリサイド
136.シリサイド
137.シリサイド
138.シリサイド
139.コンタクトストッパー
140.層間絶縁膜
141.第7のレジスト
142.コンタクト孔
143.コンタクト孔
144.第8のレジスト
145.コンタクト孔
146.コンタクト孔
147.コンタクト
148.コンタクト
149.コンタクト
150.コンタクト
151.金属
152.第9のレジスト
153.第9のレジスト
154.第9のレジスト
155.第9のレジスト
156.金属配線
157.金属配線
158.金属配線
159.金属配線
Claims (5)
- シリコン基板上に平面状シリコン層を形成し、
前記平面状シリコン層上に第1の柱状シリコン層と第2の柱状シリコン層とを形成する第1の工程と、
前記第1の工程の後、
前記第1の柱状シリコン層と前記第2の柱状シリコン層の周囲にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜の周囲に金属膜及びポリシリコン膜を成膜し、
前記ポリシリコン膜の膜厚は前記第1の柱状シリコン層と前記第2の柱状シリコン層との間の間隔の半分より薄いのであって、
ゲート配線を形成するための第3のレジストを形成し、
異方性エッチングを行うことにより前記ゲート配線を形成する第2の工程と、
前記第2の工程の後、
第4のレジストを堆積し、前記第1の柱状シリコン層と前記第2の柱状シリコン層上部側壁の前記ポリシリコン膜を露出し、露出した前記ポリシリコン膜をエッチングにより除去し、前記第4のレジストを剥離し、前記金属膜をエッチングにより除去し、前記ゲート配線に接続する第1のゲート電極と第2のゲート電極を形成する第3の工程と、
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記異方性エッチングにより、前記第1の柱状シリコン層と前記第2の柱状シリコン層上部がエッチングされることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記ゲート配線を形成するための前記第3のレジストの上面の高さは、前記第1の柱状シリコン層と前記第2の柱状シリコン層上部の前記ポリシリコン膜の上面の高さより低いことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1の柱状シリコン層の上部に第1のn型拡散層を形成し、
前記第1の柱状シリコン層の下部と前記平面状シリコン層の上部に第2のn型拡散層を形成し、
前記第2の柱状シリコン層の上部に第1のp型拡散層を形成し、
前記第2の柱状シリコン層の下部と前記平面状シリコン層の上部に第2のp型拡散層を形成する第4の工程をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第1のn型拡散層上と前記第2のn型拡散層上と前記第1のp型拡散層上と前記第2のp型拡散層上と前記ゲート配線上にシリサイドを形成する第5の工程とをさらに含むことを特徴とする請求項4に記載の半導体装置の製造方法。
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