JP5748205B2 - ウィンドウユニット、ウィンドウ装置、レーザ装置及び極端紫外光生成装置 - Google Patents

ウィンドウユニット、ウィンドウ装置、レーザ装置及び極端紫外光生成装置 Download PDF

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Description

本開示は、ウィンドウユニット、ウィンドウ装置、レーザ装置及び極端紫外光生成装置に関する。
近年、半導体プロセスの微細化に伴って光リソグラフィにおける微細化が急速に進展しており、次世代においては、６０ｎｍ〜４５ｎｍの微細加工、さらには３２ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。そのため、例えば、３２ｎｍ以下の微細加工の要求に応えるべく、波長１３ｎｍ程度のＥＵＶ光を発生させるＥＵＶ光生成装置と縮小投影反射光学系とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。
ＥＵＶ光生成装置としては、ターゲットにレーザ光を照射することによって生成されるプラズマを用いたＬＰＰ（Laser Produced Plasma）方式装置、放電によって生成されるプラズマを用いたＤＰＰ（Discharge Produced Plasma）方式装置、及び軌道放射光を用いたＳＲ（Synchrotron Radiation）方式装置の３種類が知られている。
特表２００７−５１７７５９号公報 特表２００３−５２９７８１号公報
概要
本開示の一態様によるウィンドウユニットは、レーザ光を透過可能なウィンドウと、前記ウィンドウの外縁を保持し、内部に前記ウィンドウの前記外縁部分近傍に液体が内部を流れる流路が設けられたホルダと、を備え、前記ホルダは、前記ウィンドウの一方の面の外縁と接するベース及び該ウィンドウの他方の面の外縁と接するカバーを含み、前記カバーは、前記ベースと接触する面に第１溝を備え、前記ベースは、前記カバーと接触する面に前記第１溝と位置整合する第２溝を備え、前記流路は、前記第１及び第２溝から構成されてもよい。
また、本開示の他の態様によるウィンドウ装置は、レーザ光を透過可能なウィンドウと、前記ウィンドウの外縁を保持するホルダと、前記ホルダ内に前記流入口を介して冷却媒体を流入する冷却部と、を備え、前記ホルダには、該ホルダの内部に前記ウィンドウの前記外縁部分近傍に液体が流れる流路が設けられており、該流路に液体が流入する流入口及び該流路から液体が流出する流出口が設けられており、前記ホルダは、前記ウィンドウの一方の面の外縁と接するベース及び該ウィンドウの他方の面の外縁と接するカバーを含み、前記カバーは、前記ベースと接触する面に第１溝を備え、前記ベースは、前記カバーと接触する面に前記第１溝と位置整合する第２溝を備え、前記流路は、前記第１及び第２溝から構成されてもよい。
また、本開示の他の態様によるレーザ装置は、レーザ光を出力する出力部と、前記レーザ光を増幅する増幅部と、ウィンドウユニットと、を備え、前記ウィンドウユニットは、ウィンドウとホルダとを含み、前記ウィンドウは、前記増幅部におけるレーザ光の入射側及び出射側の少なくとも一方に設けられ、レーザ光を透過可能であり、前記ホルダは、前記ウィンドウの外縁を保持し、該ホルダの内部に前記ウィンドウの前記外縁部分近傍に液体が流れる流路が設けられており、前記ホルダは、前記ウィンドウの一方の面の外縁と接するベース及び該ウィンドウの他方の面の外縁と接するカバーを含み、前記カバーは、前記ベースと接触する面に第１溝を備え、前記ベースは、前記カバーと接触する面に前記第１溝と位置整合する第２溝を備え、前記流路は、前記第１及び第２溝から構成されてもよい。
また、本開示の他の態様による極端紫外光生成装置は、レーザ光を透過するウィンドウと、前記ウィンドウの外縁を保持し、その内部に前記ウィンドウの前記外縁部分近傍に液体が流れる流路と、該流路に液体が流入する流入口及び該流路から液体が流出する流出口と、が設けられたホルダと、前記ホルダ内に前記流入口を介して冷却媒体を流入させる冷却部と、前記ホルダが設けられたチャンバと、前記チャンバ内にターゲット物質を供給するターゲット供給部と、前記レーザ光が前記ターゲット物質に照射されることで発生したプラズマから放射された光を集光する集光ミラーと、を備え、前記ホルダは、前記ウィンドウの一方の面の外縁と接するベース及び該ウィンドウの他方の面の外縁と接するカバーを含み、前記カバーは、前記ベースと接触する面に第１溝を備え、前記ベースは、前記カバーと接触する面に前記第１溝と位置整合する第２溝を備え、前記流路は、前記第１及び第２溝から構成されてもよい。
以上述べたことと、本開示のその他の目的、特徴、利点、及び技術的かつ産業的意義については、以下の本開示を添付図面と照らし合わせて読めば、より一層理解できよう。
図１は、本開示の実施の形態１によるＥＵＶ光生成装置の概略構成を示す。 図２は、実施の形態１によるウィンドウホルダの概略構成を示す斜視図である。 図３は、実施の形態１によるウィンドウの概略構成を示す斜視図である。 図４は、実施の形態１によるウィンドウ及びウィンドウホルダの組立体を備えたウィンドウ装置の概略構成を示す斜視図である。 図５は、実施の形態１によるウィンドウホルダをウィンドウ面と垂直な面で切断した際の概略構成を示す断面図である。 図６は、図５に示すウィンドウホルダをＶＩ−ＶＩ面で切断した際の概略構成を示す断面図である。 図７は、実施の形態１によるウィンドウユニットとレーザ光のビーム断面形状及び入射位置との関係を示す模式図である。 図８Ａは、実施の形態１におけるレーザ光のビーム軸と垂直なビーム断面における強度分布を示す２次元分布図である。 図８Ｂは、実施の形態１におけるレーザ光のビーム軸と垂直なビーム断面における強度分布を示す図である。 図９は、図７、図８Ａ及び図８Ｂに示すレーザ光が入射した状態のウィンドウの温度分布のシミュレーション結果を示す模式図である。 図１０は、図７、図８Ａ及び図８Ｂに示すレーザ光が入射した状態のウィンドウの中心部からの距離に対する温度を示すグラフである。 図１１は、本開示の実施の形態２によるウィンドウユニットの概略構成を示す斜視図である。 図１２は、図１１に示すウィンドウユニットの分解図である。 図１３は、実施の形態２によるウィンドウホルダをウィンドウ面と平行な面で切断した際の概略構成を示す断面図である。 図１４は、図１３に示すウィンドウホルダをＸＩＶ−ＸＩＶ面で切断した際の概略構成を示す断面図である。 図１５は、本開示の実施の形態３によるウィンドウユニットの概略構成を示す分解図である。 図１６は、図１５に示すウィンドウホルダをウィンドウ面と垂直な面で切断した際の概略構成を示す断面図である。 図１７は、本開示の実施の形態４によるウィンドウホルダをウィンドウ面と垂直な面で切断した際の概略構成を示す断面図である。 図１８は、本開示の実施の形態５によるウィンドウホルダをウィンドウ面と垂直な面で切断した際の概略構成を示す断面図である。 図１９は、本開示の実施の形態６によるＥＵＶ光生成装置の概略構成を示す。 図２０は、実施の形態６による波面補正器の概略構成を示す。 図２１は、実施の形態６による波面補正器の概略構成を示す。 図２２は、実施の形態６による波面補正器の概略構成を示す。 図２３は、実施の形態６の変形例１による波面補正器の概略構成を示す。 図２４は、実施の形態６の変形例１による波面補正器の概略構成を示す。 図２５は、実施の形態６の変形例１による波面補正器の概略構成を示す。 図２６は、実施の形態６の変形例２による波面補正器の概略構成を示す。 図２７は、実施の形態６の変形例３による波面計測機構の概略構成を示す。 図２８は、実施の形態６の変形例３による波面計測部の概略構成を示す。 図２９は、実施の形態６の変形例３による波面計測部の他の概略構成を示す。 図３０は、実施の形態６の変形例３による波面計測部の他の概略構成を示す。 図３１は、実施の形態６の変形例３による波面計測部の他の概略構成を示す。 図３２は、本開示の各実施の形態におけるウィンドウユニットの形状及びレーザ光のビーム断面形状の変形例１を示す模式図である。 図３３は、本開示の各実施の形態におけるウィンドウユニットの形状及びレーザ光のビーム断面形状の変形例２を示す模式図である。 図３４は、本開示の各実施の形態におけるウィンドウユニットの形状及びレーザ光のビーム断面形状の変形例３を示す模式図である。 図３５は、本開示の各実施の形態におけるウィンドウユニットの形状及びレーザ光のビーム断面形状の変形例４を示す模式図である。 図３６は、本開示の各実施の形態におけるウィンドウユニットの形状及びレーザ光のビーム断面形状の変形例５を示す模式図である。 図３７は、本開示の各実施の形態におけるウィンドウユニットの形状及びレーザ光のビーム断面形状の変形例６を示す模式図である。 図３８は、本開示の各実施の形態におけるウィンドウユニットの形状及びレーザ光のビーム断面形状の変形例７を示す模式図である。 図３９は、本開示の各実施の形態におけるウィンドウユニットの形状及びレーザ光のビーム断面形状の変形例８を示す模式図である。
実施の形態
以下、本開示を実施するための形態を図面を参照に詳細に説明する。なお、以下の説明において、各図は本開示の内容を理解できる程度に形状、大きさ、及び位置関係を概略的に示してあるに過ぎず、従って、本開示は各図で例示された形状、大きさ、及び位置関係に限定されるものではない。また、各図では、構成の明瞭化のため、断面におけるハッチングの一部が省略されている。さらに、後述において例示する数値は、本開示の好適な例に過ぎず、従って、本開示は例示された数値に限定されるものではない。
（実施の形態１）
実施の形態１によるウィンドウユニット、ウィンドウ装置、レーザ装置及びＥＵＶ光生成装置について、図面を参照に詳細に説明する。以下の説明では、ＬＰＰ方式によるＥＵＶ光生成装置を例に挙げるが、これに限定されるものではなく、ＤＰＰ方式やＳＲ方式のＥＵＶ光生成装置などが採用されてもよい。また、本実施の形態１では、１段階のレーザ照射によってターゲット物質をプラズマ化する場合を例に挙げるが、これに限定されるものではなく、たとえば２段階以上のレーザ照射によってターゲット物質をプラズマ化してもよい。さらに、レーザ装置やレーザ加工装置などが採用されてもよい。
図１は、本実施の形態１によるＥＵＶ光生成装置の概略構成を示す。図１に示すように、ＥＵＶ光生成装置１は、ターゲット物質をプラズマ化するためのレーザ光Ｌ１を出力するドライバレーザ１０、ＥＵＶ光の生成空間を画定するチャンバ２０、及びドライバレーザ１０から出力されるレーザ光Ｌ１をチャンバ２０内に導く伝送光学系Ｍ１等を備えてもよい。
この構成において、ドライバレーザ１０は、種光を出力するマスタオシレータＭＯ、マスタオシレータＭＯから出力された種光をビームエキスパンドするリレー光学系Ｒ１、ビームエキスパンドされたレーザ光を増幅するプリアンプＰＡ、増幅されたレーザ光をコリメートするリレー光学系Ｒ２、コリメートされたレーザ光を透過させる可飽和吸収セルＣＥ、レーザ光をビーム整形するリレー光学系Ｒ３、ビーム整形されたレーザ光を増幅するメインアンプＭＡ、増幅されたレーザ光Ｌ１をコリメートするリレー光学系Ｒ４等備えてもよい。ここで、可飽和吸収セルＣＥは、自励発振を抑制したり、チャンバからの戻り光を吸収するために配置されてもよい。
ドライバレーザ１０からのレーザ光Ｌ１をチャンバ２０内に導く伝送光学系Ｍ１には、たとえば、チャンバ２０外に配置され、ドライバレーザ１０から出力されたレーザ光Ｌ１をチャンバ２０内へ導く少なくとも１つの高反射ミラーが含まれてもよい。
チャンバ２０には、レーザ光Ｌ１を取り込むためのウィンドウＷ１５の他、チャンバ２０内に導かれたレーザ光Ｌ１をＥＵＶ集光ミラーＭ３の背面側からこれに形成された貫通孔Ａ３を介してプラズマ生成領域Ｐ１に集光する軸外放物面ミラーＭ２、プラズマ生成領域Ｐ１にターゲット物質をドロップレットＤの形態で供給するためのターゲット供給部２２、プラズマ生成領域Ｐ１を通過したターゲット物質を回収するためのターゲット回収部２４、レーザ光Ｌ１の照射によってプラズマ生成領域Ｐ１で生成されたプラズマから放射された光のうち所望する波長λ（＝１３．５ｎｍ）のＥＵＶ光Ｌ２を露光装置接続部３０内の中間集光点ＩＦに集光するように選択的に反射するＥＵＶ集光ミラーＭ３等を備えてもよい。また、たとえば、チャンバ２０と露光装置接続部３０との間は、ゲートバルブＧ１によって気密性を保ちつつ連結されていてもよい。露光装置接続部３０内の中間集光点ＩＦに一旦集光されたＥＵＶ光Ｌ２は、この中間集光点ＩＦ近傍に設けられたアパーチャ３２を介して露光装置１００へ導かれてもよい。露光装置１００へ導かれたＥＵＶ光Ｌ２は、たとえば半導体露光に使用されてもよい。露光装置１００に代えて、ＥＵＶ光が利用される加工装置などへＥＵＶ光Ｌ２を導いてもよい。
ＥＵＶ光生成装置に用いられるウィンドウのような高出力のレーザ光が透過する光学ウィンドウは、入射したレーザ光によって加熱され、これにより、光学特性が変化してしまう場合がある。このような熱負荷による光学特性の変化は、レーザ光の集光性能を悪化させる可能性がある。
そこで、たとえば、可飽和吸収セルＣＥの光入力ウィンドウＷ１１及び光出力ウィンドウＷ１２、メインアンプＭＡの光入力ウィンドウＷ１３及び光出力ウィンドウＷ１４、並びにチャンバ２０のウィンドウＷ１５は、たとえば冷却機構を備えたウィンドウホルダＨ１１〜Ｈ１５によってそれぞれ保持されているのが好ましい。本実施の形態１によるウィンドウ、ウィンドウホルダ、及びそれらを備えたウィンドウユニットの一例を、図面を参照に詳細に説明する。ただし、各ウィンドウ及びウィンドウホルダの概略構成は、同一であってもよいため、以下では、ウィンドウＷ１及びウィンドウホルダＨ１、それらを備えたウィンドウユニットＵ１、並びにウィンドウユニットＵ１を備えたウィンドウ装置Ｄ１を例に挙げて説明する。
図２は、本実施の形態１によるウィンドウホルダの概略構成を示す斜視図である。図３は、本実施の形態１によるウィンドウの概略構成を示す斜視図である。図４は、本実施の形態１によるウィンドウ及びウィンドウホルダの組立体（ウィンドウユニット）を備えたウィンドウ装置の概略構成を示す斜視図である。
図２に示すように、ウィンドウホルダＨ１は、たとえば、中央に開口Ａ１が形成されたリング状の形状であってもよい。開口Ａ１は、円形に限らず、楕円形や四角形など、種々変形されてもよい。環状のウィンドウホルダＨ１の内径側面には、その側面に沿って環状の溝ｈ１が設けられてもよい。この溝ｈ１には、たとえば図３に示すような、開口Ａ１の形状に応じた（たとえば円盤状）ウィンドウＷ１が、たとえば図４に示すように嵌め込まれてもよい。これにより、ウィンドウＷ１がウィンドウホルダＨ１によって保持され得る。ウィンドウＷ１は、ウィンドウホルダＨ１の焼成前に嵌め込まれてもよい。
ウィンドウＷ１の材料は、ウィンドウＷ１を透過するレーザ光の波長に対して十分な透過率を備えるのが好ましい。特に高出力レーザ光が透過するウィンドウＷ１においては、熱による変形が光学特性の変化を引き起こすため、ウィンドウＷ１の材料は熱膨張係数が低いことが重要である。ウィンドウＷ１の材料の他の性質としては、硬く、熱安定性に優れ、且つ、放熱性に富むことが好ましい。このような材料には、たとえばダイヤモンド（人工ダイヤモンドを含む）等が含まれ得る。また、この他にも、たとえば以下の表１に例示するような、熱膨張係数が比較的低い透過系の光学素子材料を使用することが可能である。
ウィンドウホルダＨ１の材料には、たとえば炭化珪素（ＳｉＣ）や窒化アルミニウム（ＡｌＮ）など、硬度が高く、熱膨張係数が低く、且つ、熱伝導率が高い材料を用いることが好ましい。以下の表２に、ウィンドウホルダＨ１に好適な材料の一部を例示する。以下の表２に列挙された材料以外にも、たとえばモリブデンなどの金属材料を用いてもよい。ここで列挙する材料以外であっても、本実施の形態１によるウィンドウホルダＨ１としての機能を実現できる材料であれば、種々の材料を適用することが可能である。
温度変化に対するウィンドウＷ１の膨張量とウィンドウホルダＨ１の膨張量との差は、小さい方が好ましい。そこで、ウィンドウＷ１とウィンドウホルダＨ１とには、互いに熱膨張係数が近い材料をそれぞれ使用することが好ましい。たとえば、ウィンドウＷ１の熱膨張係数とウィンドウホルダＨ１の熱膨張係数との差Δε［ｐｐｍ］の絶対値は、ウィンドウＨ１の外径をＤ［ｍｍ］とした場合、以下の式１を満足するのが好ましい。
｜Δε｜≦１／２Ｄ×１０−３・・・（式１）
ウィンドウホルダＨ１には、内部にたとえば水や油や液体金属などの冷却媒体ＣＬを流入させる流入口ＦＩ、及び使用後の冷却媒体ＣＬを冷却廃液ＷＣＬとして外部に流出させる流出口ＦＯが設けられてもよい。図４に示すように、ウィンドウホルダＨ１内には、冷却装置４０から供給された冷却媒体ＣＬが流入口ＦＩに接続された供給管ＳＴを介して流入してもよい。流出口ＦＯからは、ウィンドウホルダＨ１内を循環した冷却媒体ＣＬが冷却廃液ＷＣＬとして流出してもよい。流出口ＦＯから流出した冷却廃液ＷＣＬは、流出口ＦＯに接続されたドレイン管ＤＴを介して冷却装置４０に戻されてもよい。冷却装置４０は、たとえばドレイン管ＤＴから流入した冷却廃液ＷＣＬを冷却し、冷却媒体ＣＬとして再び供給管ＳＴへ供給してもよい。
つづいて、本実施の形態１によるウィンドウホルダの内部構成を、図面を参照に詳細に説明する。図５は、本実施の形態１によるウィンドウホルダＨ１をウィンドウ面と平行な面で切断した際の概略構成を示す断面図である。図６は、図５に示すウィンドウホルダＨ１をＶＩ−ＶＩ面で切断した際の概略構成を示す断面図である。ウィンドウ面とは、ウィンドウＷ１において光が入射する面と平行な面である。また、以下の説明において、上方とは、ウィンドウ面に対する光の入射側を意味し、下方とは、ウィンドウ面に対する光の出射側を意味するものとする。
図５に示すように、環状のウィンドウホルダＨ１内には、少なくともその内径側面近傍を略均一に冷却可能なように冷却媒体ＣＬが流れる環状の流路Ｆ１が形成されてもよい。この流路Ｆ１は、ウィンドウホルダＨ１の外表で開口する流入口ＦＩ及び流出口ＦＯとそれぞれ連通している。流出口ＦＯは、たとえば図６に示すように、流入口ＦＩに対してウィンドウホルダＨ１の中心軸を挟んで反対側の位置に設けられてもよい。ただし、流路Ｆ１、流入口ＦＩ及び流出口ＦＯの構成は、前述の構成に限定されず、ウィンドウホルダＨ１の内径側面を略均一に冷却できるように流路Ｆ１内に冷却媒体ＣＬを流すことが可能であれば種々変形可能である。
つぎに、ドライバレーザ１０を稼働している最中のウィンドウＷ１における温度分布について、図面を参照に詳細に説明する。図７は、本実施の形態１によるウィンドウユニットとレーザ光のビーム断面形状及び入射位置との関係を示す模式図である。図８Ａ及び図８Ｂは、本実施の形態１におけるレーザ光のビーム軸と垂直なビーム断面における強度分布を示す図である。図７に示すように、この例では、ウィンドウユニットＵ１におけるウィンドウＷ１のウィンドウ面に対して略垂直にレーザ光Ｌ１が入射してもよい。レーザ光Ｌ１のビーム軸ＡＸ（ビーム断面の中心）は、たとえばウィンドウホルダＨ１の開口Ａ１から露出するウィンドウＷ１のウィンドウ面の略中心に一致するのが好ましい。図８Ａ に示すように、レーザ光Ｌ１のビーム断面における強度分布は、たとえばビーム軸ＡＸをピークとし、中心から外れるにしたがって減衰する形状を有してもよい。また、図８Ｂに示すように、レーザ光Ｌ１のビーム断面の強度は、ビーム軸ＡＸを中心として等方的に減衰してもよい。なお、図８Ａ及び図８Ｂにおいて、破線Ｌｈ１は、強度がピーク強度の半値以上である領域の輪郭を示し、破線Ｌｅ１は、強度がピーク強度の１／ｅ２（ｅは自然対数）以上となる領域の輪郭を示す。破線Ｌｈ１及びＬｅ１で示すように、それぞれの領域の輪郭は、レーザ光Ｌ１の外縁に対してビーム軸ＡＸを中心とした同心円となるのが好ましい。一例として、これら破線Ｌｈ１及びＬｅ１によって示される形状をレーザ光Ｌ１のウィンドウ面に対する照射領域の輪郭又はビーム断面形状と定義してもよい。あるいは、このような定義によらずとも、レーザ光によるウィンドウへの入熱分布を反映した形状であれば、レーザ光Ｌ１のウィンドウ面に対する照射領域の輪郭又はビーム断面形状と定義されてもよい。
ウィンドウホルダＨ１の開口Ａ１の形状、ウィンドウホルダＨ１内に設けられた流路Ｆ１の形状、及び、ウィンドウホルダＨ１の外周の形状のうち、少なくとも１つは、ウィンドウＷ１のウィンドウ面の形状またはレーザ光Ｌ１のビーム断面形状に略相似であってもよい。あるいは、各形状は、その外周が、ウィンドウＷ１のウィンドウ面の輪郭またはレーザ光Ｌ１のウィンドウ面に対する照射領域の輪郭に対して実質的に一定の距離を保つように離間した形状であってもよい。言い換えれば、それぞれの形状におけるウィンドウＷ１の外縁（またはウィンドウ面の中心）に面する側の各位置が、ウィンドウＷ１またはレーザ光Ｌ１のウィンドウＷ１に対する照射領域に対して実質的に一定の距離を保つような形状であってもよい。本例では、図７に示すように、円形のビーム断面形状に対し、ウィンドウホルダＨ１の開口Ａ１の形状、ウィンドウホルダＨ１内に設けられた流路Ｆ１の形状、及び、ウィンドウホルダＨ１の外周の形状が、それぞれ円形である場合を例に挙げている。
つづいて、図７、図８Ａ及び図８Ｂに示す例を用いて、シミュレーションした結果を、図面を参照に詳細に説明する。図９は、図７、図８Ａ及び図８Ｂに示す場合のウィンドウＷ１における温度分布のシミュレーション結果を示す模式図である。図１０は、図７、図８Ａ及び図８Ｂに示す場合のウィンドウＷ１の中心部からの距離に対する温度を示すグラフである。図９に示すように、ＥＵＶ光生成装置１を稼働している最中にウィンドウホルダＨ１に、ウィンドウの外縁に沿って、外縁から実質的に一定の距離離間する位置に冷却媒体ＣＬを流してもよい。これにより、ウィンドウホルダＨ１の熱が均一に拡散され、結果として、ウィンドウＷ１における温度分布は中心部Ｃに対してほぼ軸対称となる。この際、図１０に示すように、ウィンドウＷ１における温度分布は、中心部ＣからウィンドウＷ１の外縁に近づくに連れて徐々に温度が低下する分布となる。このことから、温度分布の偏りによるウィンドウＷ１の歪みまたは屈折率分布の偏りを低減できることがシミュレーション計算より分かる。
以上のように、ウィンドウＷ１は、所望の波長（たとえば１０．６μｍ程度）のレーザ光Ｌ１を透過可能であればよい。ウィンドウホルダＨ１は、ウィンドウＷ１の外縁を保持してもよく、また、その内部でウィンドウＷ１の外縁部分近傍に液体である冷却媒体ＣＬを流す流路Ｆ１が設けられてもよい。
また、ウィンドウＷ１は、ウィンドウＷ１の一方の面または両面で、ウィンドウホルダＨ１に溶着、融着または接着されていてもよい。
（実施の形態２）
つぎに、実施の形態２によるウィンドウユニット、ウィンドウ装置、レーザ装置及びＥＵＶ光生成装置について、図面を参照に詳細に説明する。以下の説明において、実施の形態１と同様の構成については、それを引用することで、その詳細な説明を省略する。
本実施の形態２によるＥＵＶ光生成装置は、実施の形態１において例示したＥＵＶ光生成装置１と同様の構成を備えてもよい。ただし、本実施の形態２では、たとえばウィンドウホルダＨ１１〜Ｈ１５に、以下に例示するような構成のウィンドウホルダＨ２が用いられる場合を例示する。図１１は、本実施の形態２によるウィンドウ及びウィンドウホルダの組立体（ウィンドウユニット）の概略構成を示す斜視図である。図１２は、図１１に示すウィンドウホルダの概略構成を示す分解図である。
図１１に示すように、ウィンドウホルダＨ２は、たとえばカバーホルダＨ２１及びベースホルダＨ２２を含む組立体であってもよい。ウィンドウＷ１は、たとえば、カバーホルダＨ２１とベースホルダＨ２２との間に挟まれた状態で保持される。ウィンドウＷ１とカバーホルダＨ２１及びベースホルダＨ２２との互いの対向面は、たとえば溶着や融着、ロウ付け、接着などで固着されてもよい。溶着には、たとえば超音波、振動、誘導、高周波、熱などの他、レーザビームやイオンビームなどを用いた溶着技術を用いることができる。また、接着には、無機系接着剤や有機系接着剤など、種々の接着剤を用いることができる。この際、熱伝導率が高く、また、気密性に優れた接着剤が用いられるのが好ましい。このように、ウィンドウＷ１とウィンドウホルダＨ２との接触部分を接合することで、ウィンドウホルダＨ２からウィンドウＷ１への伝熱面積の拡大や伝熱経路のムラの低減などが可能な場合がある。したがって、より効率的且つ均等なウィンドウＷ１の冷却が期待できる。
つづいて、ウィンドウユニットＵ２の構成をより具体的に説明する。図１２に示すように、カバーホルダＨ２１は、たとえば、中央に開口Ａ２１が形成された環状の形状でもよい。この形状において、ベースホルダＨ２２と対向する面には、たとえば、開口Ａ２１に対してウィンドウＷ１を位置決めするための溝Ｔ２１が形成されてもよい。ベースホルダＨ２２は、カバーホルダＨ２１と組み合わされた際にカバーホルダＨ２１の開口Ａ２１と連続する位置に開口Ａ２２が形成された環状の形状を有してもよい。この形状において、カバーホルダＨ２１と対向する面には、たとえば、ウィンドウＷ１を位置決めするための溝Ｔ２２が形成されてもよい。溝Ｔ２１と溝Ｔ２２とは、たとえば、カバーホルダＨ２１とベースホルダＨ２２とを組み合わせた際にウィンドウＷ１をその外周部で保持する溝を形成してもよい。
また、カバーホルダＨ２１及びベースホルダＨ２２には、これらを組み合わせた際に連通する少なくとも１つのボルト穴Ｊ２１及びＪ２２がそれぞれ形成されてもよい。このボルト穴Ｊ２１及びＪ２２には、たとえば、カバーホルダＨ２１側からカバーホルダＨ２１及びベースホルダＨ２２と係止するボルトＪ２が挿入される。ボルトＪ２の先端部に設けられるねじ部分は、たとえばチャンバ２０などの取付け箇所に設けられるねじ穴に嵌め込まれてもよい。これにより、組立体であるウィンドウホルダＨ２がチャンバ２０などに固定されてもよい。また、組立体であるウィンドウホルダＨ２は、図示しないメタルシールまたはＯリングシールを介して可飽和吸収セルＣＥやメインアンプＭＡやチャンバ２０等に固定されてもよい。
つづいて、本実施の形態２によるウィンドウホルダの内部構成を、図面を参照に詳細に説明する。図１３は、本実施の形態２によるウィンドウホルダをウィンドウ面と垂直な面で切断した際の概略構成を示す断面図である。図１４は、図１３に示すウィンドウホルダをＸＩＶ−ＸＩＶ面で切断した際の概略構成を示す断面図である。
図１３に示すように、リング状のカバーホルダＨ２１内には、ウィンドウホルダＨ１と同様、ウィンドウホルダＨ１の内径側面を略均一に冷却可能なように、冷却媒体ＣＬが流れる略環状の流路Ｆ２が形成されてもよい。流路Ｆ２は、たとえばカバーホルダＨ２１の外表で開口する流入口ＦＩ及び流出口ＦＯとそれぞれ連通してもよい。また、流路Ｆ２は、ベースホルダＨ２２と対向する面でたとえば環状に開口していてもよい。この場合は、図１４に示すように、ベースホルダＨ２２によってこの開口部分が液密に封止されることが好ましい。流路Ｆ２は、必ずしも環状でなくてもよく、図１３に示すように、その一部が途切れていてもよい。この場合、流入口ＦＩ及び流出口ＦＯは、この途切れた部分の近傍でそれぞれ流路Ｆ２と連通しているのが好ましい。これにより、流路Ｆ２の略全体に冷却媒体ＣＬを循環させることが可能となる。この結果、ウィンドウホルダＨ２に保持されたウィンドウＷ１をその外縁から冷却することができる。
以上のように、ウィンドウＷ１の形状は、円盤形状であってもよい。この場合、ウィンドウホルダＨ２内の流路Ｆ２は、上述したように、ウィンドウＷ１の外縁に対して外側または内側の周辺に環状に位置してもよい。この構成において、ウィンドウホルダＨ２内の環状の流路Ｆ２は、一部で途切れていてもよい。この場合、途切れた部分の一方の端近傍及び他方の端近傍がウィンドウホルダＨ２の外表に開口する流入口ＦＩ及び流出口ＦＯにそれぞれ連結されていてもよい。
ウィンドウホルダＨ２は、ウィンドウＷ１の一方の面の外縁と接するベースホルダＨ２２、及びウィンドウＷ１の他方の面の外縁と接するカバーホルダＨ２１を含んでもよい。この構成において、カバーホルダＨ２１は、ベースホルダＨ２２と接触する面に第１溝としての流路Ｆ２を備えてもよく、ベースホルダＨ２２は、カバーホルダＨ２１と接触する面に流路Ｆ２と位置整合する第２溝としての流路を備えてもよい。この場合、流路Ｆ２と第２溝による流路とから、冷却媒体ＣＬが流れる流路が構成されてもよい。
（実施の形態３）
つぎに、実施の形態３によるウィンドウユニット、ウィンドウ装置、レーザ装置及びＥＵＶ光生成装置について、図面を参照に詳細に説明する。以下の説明において、実施の形態１または２と同様の箇所については、それを引用することで、その詳細な説明を省略する。本実施の形態３によるＥＵＶ光生成装置は、実施の形態１で例示したＥＵＶ光生成装置１と同様の構成を備えてもよい。ただし、本実施の形態３では、たとえばウィンドウホルダＨ１１〜Ｈ１５に、以下に例示するような構成のウィンドウホルダＨ３が用いられる場合を例示する。図１５は、本実施の形態３によるウィンドウユニットの概略構成を示す分解図である。図１６は、図１５に示すウィンドウホルダをウィンドウ面と垂直な面で切断した際の概略構成を示す断面図である。
図１５と図１２、及び、図１６と図１４とを比較すると明らかなように、本実施の形態３によるウィンドウユニットＵ３は、実施の形態２によるウィンドウユニットＵ２と同様の構成において、ベースホルダＨ２２がベースホルダＨ３２に置き換えられてもよい。
ベースホルダＨ３２には、ベースホルダＨ２２と同様の構成において、カバーホルダＨ２１と対向する面で環状に開口する流路Ｆ３１が形成されてもよい。流路Ｆ３１は、カバーホルダＨ２１とベースホルダＨ３２とを組み合せた際に断面が連続する１つの流路Ｆ３を形成してもよい。すなわち、本実施の形態３では、組み立てられたウィンドウホルダＨ３内に、断面がカバーホルダＨ２１からベースホルダＨ３２まで延在する流路Ｆ３が形成されてもよい。これにより、流路Ｆ３に冷却媒体ＣＬを流すことで、ウィンドウホルダＨ３に保持されたウィンドウＷ１を外縁から冷却することができる。
（実施の形態４）
つぎに、実施の形態４によるウィンドウユニット、ウィンドウ装置、レーザ装置及びＥＵＶ光生成装置について、図面を参照に詳細に説明する。以下の説明において、実施の形態１〜３のいずれかと同様の箇所については、それを引用することで、その詳細な説明を省略する。本実施の形態４によるＥＵＶ光生成装置は、実施の形態１で例示したＥＵＶ光生成装置１と同様の構成を備えてもよい。ただし、本実施の形態４では、たとえばウィンドウホルダＨ１１〜Ｈ１５に、以下に例示するような構成のウィンドウホルダＨ４が用いられる場合を例示する。図１７は、本実施の形態４によるウィンドウホルダをウィンドウ面と垂直な面で切断した際の概略構成を示す断面図である。
図１７と図１４とを比較すると明らかなように、本実施の形態４によるウィンドウホルダＨ４は、実施の形態２によるウィンドウホルダＨ２と同様の構成において、カバーホルダＨ２１がカバーホルダＨ４１に置き換えられてもよい。
ベースホルダＨ４１は、ベースホルダＨ２１と同様の構成において、流路Ｆ２が流路Ｆ４に置き換えられてもよい。流路Ｆ４は、流路Ｆ２と同様、略環状の形状でよい。流路Ｆ４の断面は、円形に限らず、種々の形状でもよい。略環状の流路Ｆ４の少なくとも内径側は、上方から見て、環状の溝Ｔ２１の外縁、言い換えればウィンドウＷ１の外縁よりも内側に位置してもよい。この場合、ウィンドウＷ１の中心により近い箇所からウィンドウＷ１を効率的に冷却できる場合がある。ただし、流路Ｆ４は、少なくともベースホルダＨ２２と対向する面において開口していないのが好ましい。これにより、ウィンドウＷ１との接触部からの液漏れを防止できる。
（実施の形態５）
つぎに、実施の形態５によるウィンドウユニット、ウィンドウ装置、レーザ装置及びＥＵＶ光生成装置について、図面を参照に詳細に説明する。以下の説明において、実施の形態１〜４のいずれかと同様の箇所については、それを引用することで、その詳細な説明を省略する。本実施の形態５によるＥＵＶ光生成装置は、実施の形態１で例示したＥＵＶ光生成装置１と同様の構成を備えてもよい。ただし、本実施の形態５では、たとえばウィンドウホルダＨ１１〜Ｈ１５に、以下に例示するような構成のウィンドウホルダＨ５が用いられる場合を例示する。図１８は、本実施の形態５によるウィンドウホルダをウィンドウ面と垂直な面で切断した際の概略構成を示す断面図である。
図１８に示すように、本実施の形態５によるウィンドウホルダＨ５は、ドライバレーザ１０から出力されてウィンドウホルダＨ５に入射するレーザ光Ｌ１のビーム軸ＡＸに対してウィンドウ面の垂線ＡＲが傾くように、ウィンドウＷ１を保持してもよい。本実施の形態５では、たとえばウィンドウＷ１を保持する溝Ｔ２２がビーム軸ＡＸと垂直な面に対して傾くように、ベースホルダＨ５２におけるカバーホルダＨ５１との接触面Ｓ５２がビーム軸ＡＸと垂直な面に対して傾いている。これに合わせ、たとえばウィンドウＷ１を保持する溝Ｔ２１がビーム軸ＡＸと垂直な面に対して傾くように、カバーホルダＨ５１におけるベースホルダＨ５２との接触面Ｓ５２がビーム軸ＡＸと垂直な面に対して傾いていてもよい。このように、レーザ光Ｌ１のビーム軸ＡＸに対してウィンドウＷ１のウィンドウ面を傾かせることで、ウィンドウＷ１で反射されたレーザ光Ｌ１の一部がドライバレーザ１０へ戻ることを防止できる。
本実施の形態５において、ウィンドウホルダＨ５は、光学系（たとえば可飽和吸収セルＣＥやメインアンプＭＡなど）において、レーザ光Ｌ１の入出力部のいずれか一方または両方に用いられてもよい。
以上のように、ウィンドウホルダＨ５は、ウィンドウホルダＨ５がプリアンプＰＡやメインアンプＭＡや可飽和吸収セルＣＥやチャンバ２０などの他の部材に搭載される面に対してウィンドウＷ１においてレーザ光が入射する面が傾くようにウィンドウＷ１を保持してもよい。
（実施の形態６）
つぎに、実施の形態６によるウィンドウユニット、ウィンドウ装置、レーザ装置及びＥＵＶ光生成装置について、図面を参照に詳細に説明する。以下の説明において、実施の形態１〜５のいずれかと同様の箇所については、それを引用することで、その詳細な説明を省略する。
上述した各実施の形態によれば、ウィンドウＷ１をその外縁から略均等に冷却できる。そこで、レーザ光Ｌ１の強度分布をビーム軸ＡＸを中心として軸対称な分布とし且つビーム軸ＡＸがウィンドウＷ１の中心を通るようにアレンジすれば、ウィンドウＷ１における熱分布をその中心に対して略点対称の分布とすることができるであろう。この場合、ミラーなどの簡易な光学素子による波面補正器によってレーザ光Ｌ１の波面を容易に補正できると考えられる。そこで、本実施の形態６では、上述の実施の形態１〜５におけるレーザ光Ｌ１の波面を波面補正器にて補正してもよい。以下の説明では、説明の簡略化のため、実施の形態１におけるレーザ光Ｌ１の波面を波面補正器にて補正する場合を例に挙げる。
図１９は、本実施の形態６によるＥＵＶ光生成装置の概略構成を示す。図１９と図１とを比較すると明らかなように、本実施の形態６によるＥＵＶ光生成装置６は、図１に示すＥＵＶ光生成装置１と同様の構成において、レーザ光Ｌ１の波面を補正する波面補正器６１及び６２、並びにレーザ光Ｌ１の波面形状（断面の大きさを含んでもよい）を検出する波面センサＳ１及びＳ２を備えてもよい。波面補正器６１及び６２並びに波面センサＳ１及びＳ２は、ドライバレーザ１０Ｆの一部であっても、ドライバレーザ１０Ｆ以とは別途の要素として構成であってもよい。
波面補正器６１は、たとえばリレー光学系Ｒ３を挟んでメインアンプＭＡの上流側に配置されてもよい。波面補正器６１には、たとえばリレー光学系Ｒ４を介してメインアンプＭＡの下流側に設けられる波面センサＳ１による波面検出結果が入力されてもよい。波面補正器６１は、リレー光学系Ｒ４によってコリメート化されたメインアンプＭＡから出力されるレーザ光Ｌ１の波面形状に基づいて、メインアンプＭＡに入力するレーザ光Ｌ１の波面形状を補正してもよい。
また、波面補正器６２は、たとえばドライバレーザ１０Ｆから出力されるレーザ光Ｌ１をチャンバ２０へ導く伝送光学系Ｍ１の上流側に配置されてもよい。波面補正器６２には、たとえばチャンバ２０内に導かれたレーザ光Ｌ１をプラズマ生成領域Ｐ１に集光する軸外放物面ミラーＭ２の上流側に設けられた波面センサＳ２による波面検出結果が入力されてもよい。波面補正器６２は、軸外放物面ミラーＭ２に入射するレーザ光Ｌ１の波面形状に基づいて、プラズマ生成領域Ｐ１に集光されるレーザ光Ｌ１の波面形状を補正してもよい。
なお、波面センサＳ２は、チャンバ２０内に配置されても、チャンバ２０外に配置されてもよい。言い換えれば、波面センサＳ２は、ウィンドウＷ１５の上流側に配置されても、下流側に配置されてもよい。本実施の形態６による波面補正器及び波面センサは、メインアンプＭＡや伝送光学系Ｍ１の上下流側に限らず、プリアンプＰＡや可飽和吸収セルＣＥやリレー光学系Ｒ１〜Ｒ４の状下流側にそれぞれ設けられてもよい。さらに、波面補正器及び波面センサは、プリアンプＰＡやメインアンプＭＡなどの光学系それぞれに対して１組設けられても、複数の光学系に対して１組設けられてもよい。
つづいて、本実施の形態６による波面補正器の一例を、図面を参照に詳細に説明する。本実施の形態６における波面補正器（たとえば図１９に示す波面補正器６１及び６２）は、同様の構成であってもよいため、以下では、波面補正器６０Ａを例に挙げて説明する。図２０〜図２２は、本実施の形態６による波面補正器の概略構成を示す。図２０は、波面補正器６０Ａに入射するレーザ光Ｌ１が平面波である場合を示し、図２１は、波面補正器６０Ａに入射するレーザ光Ｌ１が凸面波である場合を示し、図２２は、波面補正器６０Ａに入射するレーザ光Ｌ１が凹面波である場合を示している。なお、本説明において、波面補正器６０Ａは、レーザ光Ｌ１の入射軸（ビーム軸ＡＸ）に対して４５°傾いて配置されてもよい。
図２０〜図２２に示すように、波面補正器６０Ａは、たとえば、反射面を備えたミラー部Ｍ６１、及び波面センサＳ６１で検出されたレーザ光Ｌ１の波面形状に基づいてミラー部Ｍ６１の反射面の曲率を変化させるミラーアクチュエータ６１ａを備えてもよい。レーザ光Ｌ１の波面が平面である場合、図２０に示すように、ミラーアクチュエータ６１ａは、ミラー部Ｍ６１の反射面が平面を維持するように、波面センサＳ６１からの波面検出結果に基づいてミラー部Ｍ６１の凹凸形状を制御してもよい。レーザ光Ｌ１の波面が凸面である場合、図２１に示すように、ミラーアクチュエータ６１ａは、波面センサＳ６１で検出されるレーザ光Ｌ１の波面形状が平面となるように、ミラー部Ｍ６１の反射面をレーザ光Ｌ１に対して凹面形状に変化させてもよい。レーザ光Ｌ１の波面が凹面である場合、図２２に示すように、ミラーアクチュエータ６１ａは、波面センサＳ６１で検出されるレーザ光Ｌ１の波面形状が平面となるように、ミラー部Ｍ６１の反射面をレーザ光Ｌ１に対して凸面形状に変化させてもよい。
つづいて、本実施の形態６による波面補正器の他の例を、図面を参照に詳細に説明する。図２３〜図２５は、本実施の形態６の変形例１による波面補正器の概略構成を示す。図２３に示すように、本変形例１では、レーザ光のビーム軸をＺ字状に折り返すＺ型アダプティブミラーを用いた波面補正器６０Ｂを例に挙げる。図２３は、波面補正器６０Ｂに入射するレーザ光Ｌ１が平面波である場合を示し、図２４は、波面補正器６０Ｂに入射するレーザ光Ｌ１が凸面波である場合を示し、図２５は、波面補正器６０Ｂに入射するレーザ光Ｌ１が凹面波である場合を示している。
図２３に示すように、波面補正器６０Ｂは、波面補正器６０Ａと同様に、反射面を備えたミラー部Ｍ６１、及び波面センサＳ６１で検出されたレーザ光Ｌ１の波面形状に基づいてミラー部Ｍ６１の反射面の曲率を変化させるミラーアクチュエータ６１ａを備えてもよい。また、波面補正器６０Ｂは、ミラー部Ｍ６１で波面補正されつつ反射されたレーザ光Ｌ１を反射させるミラー部Ｍ６２をさらに備えてもよい。波面補正機能を備えたミラー部Ｍ６１は、レーザ光Ｌ１の入射軸（ビーム軸ＡＸ）に対して、たとえば２．５°傾いて配置されてもよい。たとえば平面ミラーであるミラー部Ｍ６２は、ミラー部Ｍ６２で反射されるレーザ光Ｌ１のビーム軸ＡＸがミラー部Ｍ６１に入射するレーザ光Ｌ１のビーム軸ＡＸと略平行となるように、ミラー部Ｍ６１で反射されたレーザ光Ｌ１のビーム軸ＡＸに対して、たとえば２．５°傾いて配置されてもよい。
また、本実施の形態６における波面補正器には、図２６に示す波面補正器６０Ｃを使用することも可能である。図２６は、本実施の形態６の変形例２による波面補正器の概略構成を示す。図２６に示すように、波面補正器６０Ｃは、レーザ光Ｌ１のビーム径を拡大する凸面ミラーＭ６３、ビーム径が拡大されたレーザ光Ｌ１をコリメート化する凹面ミラーＭ６４、並びにコリメート化されたレーザ光Ｌ１のビーム軸ＡＸを波面補正器６０Ｃに入射したレーザ光Ｌ１のビーム軸ＡＸの延長上に戻すための平面ミラーＭ６５及びＭ６６を備えてもよい。この構成において、凹面ミラーＭ６４と平面ミラーＭ６５とは、たとえば共通の可動プレート６１ｂに搭載されてもよい。可動プレート６１ｂは、たとえば不図示の移動機構を備えてもよい。移動機構は、波面センサＳ６１で検出されたレーザ光Ｌ１の波面形状に基づいて、凸面ミラーＭ６３と凹面ミラーＭ６４との間の距離を変化させてもよい。これにより、レーザ光Ｌ１の波面が補正され得る。
上述では、波面センサＳ６１によってレーザ光Ｌ１の波面形状を計測していた。しかし、レーザ光Ｌ１の波面形状を計測する波面計測機構は、波面センサＳ６１に限定されず、種々変形可能である。以下に、本実施の形態６による波面計測機構の他の例を、図面を参照に詳細に説明する。図２７は、本実施の形態６の変形例３による波面計測機構の概略構成を示す。図２７に示すように、本変形例３による波面計測機構は、２つの波面計測部６７及び６８を含んでもよい。波面計測部６７は、波面補正器６０から出力されたレーザ光Ｌ１の一部を反射し、一部を透過させるハーフミラーＭ６７、レーザ光Ｌ１の断面の強度分布及びサイズを計測するビームプロファイラＳ６７、並びにハーフミラーＭ６７を透過したレーザ光Ｌ１の像をビームプロファイラＳ６７の受光面に結像するレンズＲ６７を備えてもよい。同様に、波面計測部６８は、ハーフミラーＭ６７で反射されたレーザ光Ｌ１の一部を反射し、一部を透過させるハーフミラーＭ６８、レーザ光Ｌ１の断面の強度分布及びサイズを計測するビームプロファイラＳ６８、並びにハーフミラーＭ６８を透過したレーザ光Ｌ１の像をビームプロファイラＳ６８の受光面に結像するレンズＲ６８を備えてもよい。波面補正器６０は、上述した波面補正器６０Ａ〜６０Ｃのいずれであってもよい。また、波面補正器６０に入射するレーザ光Ｌ１は、平面波、凸面波及び凹面波のいずれであってもよい。
以上の構成において、２つのビームプロファイラＳ６７及びＳ６８による計測結果は、波面補正器コントローラ６０ａに入力されてもよい。波面補正器コントローラ６０ａは、入力された２つの計測結果の少なくともいずれか一方に基づいて、レーザ光Ｌ１が、所定の波面形状、強度分布、ビームサイズを有するように、波面補正器６０を制御してもよい。
この例において、ハーフミラーＭ６７には、このハーフミラーＭ６７のレーザ光Ｌ１のビーム軸ＡＸに対する傾斜角を制御するミラーアクチュエータＡ６７が設けられてもよい。波面補正器コントローラ６０ａは、入力された２つの計測結果の少なくともいずれか一方に基づいて、上流の波面計測部６７から出力されるレーザ光Ｌ１がより適切に下流の波面径側部６８に入射するように、ミラーアクチュエータＡ６７を駆動してもよい。
波面計測部６７及び６８は、それぞれ図２８に示すような構成であってもよい。図２８は、本実施の形態６の変形例３による波面計測部の概略構成を示す。波面計測部６７と６８とには、ミラーアクチュエータＡ６７以外、同様の構成を用いることが可能であるため、以下では、波面計測部６７に着目して説明する。また、以下の説明では、簡略化のため、ミラーアクチュエータＡ６７を省略する。
図２８に示すように、波面計測部６７におけるハーフミラーＭ６７においてレーザ光Ｌ１が入射する面には、レーザ光Ｌ１の一部を反射し、一部を透過させるハーフミラーコートＨ６７が設けられてもよい。また、たとえばレンズＲ６７は、微小な集光レンズが２次元配列されて構成されるマイクロレンズアレイＲ６７ａであってもよい。さらに、ビームプロファイラＳ６７は、たとえば、マイクロレンズアレイＲ６７ａによって集光されたレーザ光Ｌ１の２次元像を取得可能な赤外線カメラＳ６７ａであってもよい。このように、波面計測部６７（及び６８）は、いわゆるシャックハルトマン波面センサであってもよい。
また、図２８に示す波面計測部６７は、図２９に示す波面計測部６７Ａに置き換えることも可能である。図２９は、本実施の形態６の変形例３による波面計測部の他の概略構成を示す。図２８と図２９とを比較すると明らかなように、波面計測部６７Ａは、図２８に示す波面計測部６７と同様の構成において、マイクロレンズアレイＲ６７ａが、集光レンズＲ６７ｂに置き換えられてもよい。レーザ光Ｌ１は、集光レンズＲ６７ｂを透過することによって、赤外線カメラＳ６７ａの受光面に結像され得る。この構成によれば、レーザ光Ｌ１のビームサイズを計測することが可能である。したがって、この検出結果に基づいて波面補正器６０を制御することで、レーザ光Ｌ１のビームサイズを調整することが可能である。
図２９に示す波面計測部６７Ａは、図３０に示す波面計測部６７Ｂのように変形することも可能である。図３０は、本実施の形態６の変形例３による波面計測部の他の概略構成を示す。図２９と図３０とを比較すると明らかなように、本変形例３では、集光レンズＲ６７ｂはその焦点が赤外線カメラＳ６７ａの受光面上に位置するように配置されてもよい。この構成によれば、レーザ光Ｌ１のビームウエストを計測することが可能である。したがって、この検出結果に基づいて波面補正器６０を制御することで、レーザ光Ｌ１のビームウエストのサイズを調整することが可能である。
さらにまた、本変形例３による波面計測部６７は、図３１に示す波面計測部６７Ｃに置き換えることも可能である。図３１は、本実施の形態６の変形例３による波面計測部の他の概略構成を示す。図３１に示すように、波面計測部６７Ｃは、図２９に示す波面計測部６７Ａと図３０に示す波面計測部６７Ｂとを組み合わせた構成を備えてもよい。波面計測部６７Ａの計測系に相当する集光レンズＲ６７ｂ及び赤外線カメラＳ６７ａ、並びに波面計測部６７Ｂの計測系に相当する集光レンズＲ６７ｃ及び赤外線カメラＳ６７ｃには、それぞれハーフミラーＭ６７を透過したレーザ光Ｌ１がハーフミラーＭ６９によって分岐されて入射してもよい。この構成によれば、レーザ光Ｌ１の波面の大きさとビームウエストとの両方を計測することが可能である。したがって、この検出結果に基づいて波面補正器６０を制御することで、レーザ光Ｌ１の波面のビームサイズとビームウエストのサイズとの両方を調整することが可能である。
（変形例１）
上述した実施の形態またはその変形例では、レーザ光Ｌ１のビーム断面形状、ウィンドウホルダＨ１の開口Ａ１の形状、ウィンドウホルダＨ１内に設けられた流路Ｆ１の形状、及び、ウィンドウホルダＨ１の外周の形状が、それぞれ円形である場合を例に挙げている。しかし、上述したように、ウィンドウホルダＨ１の開口Ａ１の形状、ウィンドウホルダＨ１内に設けられた流路Ｆ１の形状、及び、ウィンドウホルダＨ１の外周の形状のうち、少なくとも１つが、ウィンドウＷ１のウィンドウ面の形状またはレーザ光Ｌ１のビーム断面形状に略相似であってもよい。あるいは、各形状は、その外周が、ウィンドウＷ１のウィンドウ面の輪郭またはレーザ光Ｌ１のウィンドウ面に対する照射領域の輪郭に対して実質的に一定の距離を保つように離間した形状であってもよい。そこで以下に、それぞれの形状の他の例を、図面を参照して詳細に説明する。
図３２は、本開示の実施の形態におけるウィンドウユニットの形状及びレーザ光のビーム断面の形状の変形例１を示す模式図である。図３２に示すように、本変形例１によるレーザ光Ｌ１の断面の形状は、上述の実施の形態と同様に、円形であってもよい。これに対し、ウィンドウユニットＵ１Ａのうち、ウィンドウホルダＨ１Ａは、その外周の形状が、四角形（たとえば正方形）でもよい。このような構成であっても、上述において、図９を用いて説明したように、ウィンドウＷ１の温度分布を中心部Ｃに対してほぼ軸対称にできる。また、上述において図１０を用いて説明したように、ウィンドウＷ１の温度分布を中心部ＣからウィンドウＷ１の外縁に近づくに連れて徐々に温度が低下する分布にできる。
（変形例２）
ウィンドウホルダの外周の形状は、図３３に示すようにも変形することができる。図３３は、本開示の各実施の形態における流路の形状及びビーム断面の形状の変形例２を示す模式図である。図３３に示すように、本変形例２によるウィンドウユニットＵ１Ｂでは、ウィンドウホルダＨ１Ｂの外周の形状が、たとえば正八角形などの多角形であってもよい。このような構成であっても、上述と同様の効果を得ることができる。
（変形例３）
レーザ光のビーム断面形状は、図３４に示すようにも変形することができる。図３４は、本開示の実施の形態における流路の形状及びビーム断面の形状の変形例３を示す模式図である。図３４に示すように、本変形例３では、レーザ光Ｌ１ｃのビーム断面形状が楕円形であってもよい。これに対し、ウィンドウユニットＵ１ＣにおけるウィンドウホルダＨ１Ｃの開口Ａ１ｃの形状、ウィンドウホルダＨ１Ｃ内に設けられた流路Ｆ１ｃの形状、及び、ウィンドウホルダＨ１Ｃの外周の形状のうち、少なくとも１つは、ウィンドウ面が楕円形状のウィンドウＷ１ｃのウィンドウ面の形状またはレーザ光Ｌ１ｃのビーム断面の形状に略相似であってもよい。このような構成であっても、上述と同様の効果を得ることができる。
（変形例４）
図３４に示す変形例３におけるウィンドウホルダの外周の形状は、図３５に示すようにも変形することができる。図３５は、本開示の実施の形態における流路の形状及びビーム断面の形状の変形例４を示す模式図である。図３５に示すように、本変形例４によるウィンドウユニットＵ１Ｄでは、ウィンドウホルダＨ１Ｄの外周の形状が、四角形（たとえば正方形）であってもよい。このような構成であっても、上述と同様の効果を得ることができる。
（変形例５）
レーザ光のビーム断面の形状は、図３６に示すようにも変形することができる。図３６は、本開示の実施の形態における流路の形状及びビーム断面の形状の変形例５を示す模式図である。図３６に示すように、本変形例５では、レーザ光Ｌ１ｅのビーム断面の形状が正方形や長方形などを含む四角形であってもよい。これに対し、ウィンドウユニットＵ１ＥにおけるウィンドウホルダＨ１Ｅの開口Ａ１ｅの形状、ウィンドウホルダＨ１Ｅ内に設けられた流路Ｆ１ｅの形状、及び、ウィンドウホルダＨ１Ｅの外周の形状のうち、少なくとも１つは、ウィンドウ面が正方形や長方形などを含む四角形のウィンドウＷ１ｅのウィンドウ面の形状またはレーザ光Ｌ１ｅのビーム断面形状に略相似であってもよい。このような構成であっても、上述と同様の効果を得ることができる。
（変形例６）
図３６に示す変形例５におけるウィンドウホルダの外周の形状は、図３７に示すようにも変形することができる。図３７は、本開示の実施の形態における流路の形状及びビーム断面の形状の変形例６を示す模式図である。図３７に示すように、本変形例６によるウィンドウユニットＵ１Ｆでは、ウィンドウホルダＨ１Ｆの外周の形状が、たとえば円形や楕円形などであってもよい。このような構成であっても、上述と同様の効果を得ることができる。
（変形例７）
レーザ光のビーム断面の形状は、図３８に示すようにも変形することができる。図３８は、本開示の実施の形態における流路の形状及びビーム断面の形状の変形例７を示す模式図である。図３８に示すように、本変形例７では、レーザ光Ｌ１ｇのビーム断面の形状が正方形や長方形などを含む四角形であってもよい。これに対し、ウィンドウユニットＵ１ＧにおけるウィンドウホルダＨ１Ｇの開口Ａ１ｇの形状、ウィンドウホルダＨ１ｇ内に設けられた流路Ｆ１ｇの形状、及び、ウィンドウホルダＨ１Ｇの外周の形状のうち、少なくとも１つは、ウィンドウ面が正方形や長方形などを含む四角形のウィンドウＷ１ｇのウィンドウ面の形状またはレーザ光Ｌ１ｇのビーム断面の形状に略相似であってもよい。このような構成であっても、上述と同様の効果を得ることができる。
（変形例８）
レーザ光のビーム断面の形状は、図３９に示すようにも変形することができる。図３９は、本開示の実施の形態における流路の形状及びビーム断面の形状の変形例８を示す模式図である。図３９に示すように、本変形例８では、レーザ光Ｌ１ｈのビーム断面の形状が五角形以上の多角形であってもよい。これに対し、ウィンドウユニットＵ１ＨにおけるウィンドウホルダＨ１Ｈの開口Ａ１ｈの形状、ウィンドウホルダＨ１Ｈ内に設けられた流路Ｆ１ｈの形状、及び、ウィンドウホルダＨ１Ｈの外周の形状のうち、少なくとも１つは、ウィンドウ面が多角形のウィンドウＷ１ｈのウィンドウ面の形状またはレーザ光Ｌ１ｈのビーム断面の形状に略相似であってもよい。このような構成であっても、上述と同様の効果を得ることができる。
上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書、及び添付の特許請求の範囲に記載される修飾句「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。
１、６ 極端紫外光生成装置
１０、１０Ｆ ドライバレーザ
２０ チャンバ
２２ ターゲット供給部
２２ａ ノズル
２４ ターゲット回収部
３０ 露光装置接続部
３２ 壁
４０ 冷却装置
６０ａ 波面補正器コントローラ
６１、６２、６０、６０Ａ〜６０Ｃ 波面補正器
６１ｂ 可動プレート
６７、６７Ａ、６７Ｂ、６７Ｃ、６８ 波面計測部
１００ 露光装置
Ａ１、Ａ１ｃ、Ａ１ｅ〜Ａ１ｈ、Ａ２１、Ａ２２ 開口
Ａ６７ ミラーアクチュエータ
ＡＸ ビーム軸
ＡＲ 垂線
ＣＥ 可飽和吸収セル
ＣＬ 冷却媒体
Ｄ ドロップレット
Ｄ１ ウィンドウ装置
ＤＴ ドレイン管
Ｆ１〜Ｆ４、Ｆ１ｃ、Ｆ１ｅ〜Ｆ１ｈ、Ｆ３１ 流路
ＦＩ 流入口
ＦＯ 流出口
Ｇ１ ゲートバルブ
Ｈ１〜Ｈ５、Ｈ１Ａ〜Ｈ１Ｈ、Ｈ１１〜Ｈ１５ ウィンドウホルダ
Ｈ２１、Ｈ５１ カバーホルダ
Ｈ２２、Ｈ３２、Ｈ５２ ベースホルダ
Ｈ６７ ハーフミラーコート
ＩＦ 中間集光点
Ｊ２ ボルト
Ｊ２１、Ｊ２２ ボルト穴
Ｌ１ レーザ光
Ｌ２ ＥＵＶ光
Ｍ１ 伝送光学系
Ｍ２ 軸外放物面ミラー
Ｍ３ ＥＵＶ集光ミラー
Ｍ６１、Ｍ６２ ミラー部
Ｍ６３ 凸面ミラー
Ｍ６４ 凹面ミラー
Ｍ６５、Ｍ６６ 平面ミラー
Ｍ６７、Ｍ６８ ハーフミラー
ＭＯ マスタオシレータ
ＭＡ メインアンプ
Ｐ１ プラズマ生成領域
ＰＡ プリアンプ
Ｒ１〜Ｒ４ リレー光学系
Ｒ６７、Ｒ６８ レンズ
Ｒ６７ａ マイクロレンズアレイ
Ｒ６７ｂ、Ｒ６７ｃ 集光レンズ
Ｓ１、Ｓ２、Ｓ６１ 波面センサ
Ｓ５２ 接触面
Ｓ６７、Ｓ６８ ビームプロファイラ
Ｓ６７ａ、Ｓ６７ｃ 赤外線カメラ
ＳＴ 供給管
Ｔ２１、Ｔ２２、ｈ１ 溝
Ｕ１、Ｕ１Ａ〜Ｕ１Ｈ、Ｕ２、Ｕ３ ウィンドウユニット
Ｗ１、Ｗ１ｃ、Ｗ１ｅ〜Ｗ１ｈ、Ｗ１１〜Ｗ１５ ウィンドウ
ＷＣＬ 冷却廃液

Claims (12)

  1. レーザ光を透過可能なウィンドウと、
    前記ウィンドウの外縁を保持し、内部に前記ウィンドウの前記外縁部分近傍に液体が内部を流れる流路が設けられたホルダと、
    を備え、
    前記ホルダは、前記ウィンドウの一方の面の外縁と接するベース及び該ウィンドウの他方の面の外縁と接するカバーを含み、
    前記カバーは、前記ベースと接触する面に第１溝を備え、
    前記ベースは、前記カバーと接触する面に前記第１溝と位置整合する第２溝を備え、
    前記流路は、前記第１及び第２溝から構成される、
    ウィンドウユニット。
  2. 前記ホルダに設けられた前記流路の前記外縁に面する側の各位置は、前記外縁から実質的に一定の距離を離間している、請求項１記載のウィンドウユニット。
  3. 前記流路の形状は、前記レーザ光のビーム形状の輪郭と相似する、請求項１記載のウィンドウユニット。
  4. 前記ウィンドウは、該ウィンドウの少なくとも一方の面で、前記ホルダに溶着、融着、ロウ付け及び接着のいずれかで固定されている、請求項１記載のウィンドウユニット。
  5. 前記ウィンドウの形状は、円盤形状であり、
    前記流路は、前記ウィンドウの前記外縁に対して外側の周辺に位置し、かつ環状である、請求項１記載のウィンドウユニット。
  6. 前記環状の流路は、一部で途切れており、該途切れた部分の一方の端近傍と他方の端近傍とがそれぞれ前記ホルダの外表に開口する穴に連結されている、請求項１記載のウィンドウユニット。
  7. 前記ホルダに保持された前記ウィンドウのレーザ光透過面と、該透過するレーザ光のビーム軸とのなす角度が垂直ではない、請求項１記載のウィンドウユニット。
  8. 前記ウィンドウ材料の熱膨張係数と前記ホルダを構成する少なくとも１つの材料の熱膨張係数との差Δε［ｐｐｍ］の絶対値は、前記ウィンドウの外径をＤ［ｍｍ］とした場合、以下の式１を満たす、請求項１記載のウィンドウユニット。
    ｜Δε｜≦１／２Ｄ×１０−３・・・（式１）
  9. レーザ光を透過可能なウィンドウと、
    前記ウィンドウの外縁を保持するホルダと、
    前記ホルダ内に前記流入口を介して冷却媒体を流入する冷却部と、
    を備え、
    前記ホルダには、該ホルダの内部に前記ウィンドウの前記外縁部分近傍に液体が流れる流路が設けられており、該流路に液体が流入する流入口及び該流路から液体が流出する流出口が設けられており、
    前記ホルダは、前記ウィンドウの一方の面の外縁と接するベース及び該ウィンドウの他方の面の外縁と接するカバーを含み、
    前記カバーは、前記ベースと接触する面に第１溝を備え、
    前記ベースは、前記カバーと接触する面に前記第１溝と位置整合する第２溝を備え、
    前記流路は、前記第１及び第２溝から構成される、
    ウィンドウ装置。
  10. レーザ光を出力する出力部と、
    前記レーザ光を増幅する増幅部と、
    ウィンドウユニットと、
    を備え、
    前記ウィンドウユニットは、ウィンドウとホルダとを含み、
    前記ウィンドウは、前記増幅部におけるレーザ光の入射側及び出射側の少なくとも一方に設けられ、レーザ光を透過可能であり、
    前記ホルダは、前記ウィンドウの外縁を保持し、該ホルダの内部に前記ウィンドウの前記外縁部分近傍に液体が流れる流路が設けられており、
    前記ホルダは、前記ウィンドウの一方の面の外縁と接するベース及び該ウィンドウの他方の面の外縁と接するカバーを含み、
    前記カバーは、前記ベースと接触する面に第１溝を備え、
    前記ベースは、前記カバーと接触する面に前記第１溝と位置整合する第２溝を備え、
    前記流路は、前記第１及び第２溝から構成される、
    レーザ装置。
  11. 前記増幅部で増幅されたレーザ光の波面を補正する波面補正部をさらに備える、請求項１０記載のレーザ装置。
  12. レーザ光を透過するウィンドウと、
    前記ウィンドウの外縁を保持し、その内部に前記ウィンドウの前記外縁部分近傍に液体が流れる流路と、該流路に液体が流入する流入口及び該流路から液体が流出する流出口と、が設けられたホルダと、
    前記ホルダ内に前記流入口を介して冷却媒体を流入させる冷却部と、
    前記ホルダが設けられたチャンバと、
    前記チャンバ内にターゲット物質を供給するターゲット供給部と、
    前記レーザ光が前記ターゲット物質に照射されることで発生したプラズマから放射された光を集光する集光ミラーと、
    を備え、
    前記ホルダは、前記ウィンドウの一方の面の外縁と接するベース及び該ウィンドウの他方の面の外縁と接するカバーを含み、
    前記カバーは、前記ベースと接触する面に第１溝を備え、
    前記ベースは、前記カバーと接触する面に前記第１溝と位置整合する第２溝を備え、
    前記流路は、前記第１及び第２溝から構成される、
    極端紫外光生成装置。
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