JP5513636B2 - 露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
露光装置及びデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5513636B2 JP5513636B2 JP2013007826A JP2013007826A JP5513636B2 JP 5513636 B2 JP5513636 B2 JP 5513636B2 JP 2013007826 A JP2013007826 A JP 2013007826A JP 2013007826 A JP2013007826 A JP 2013007826A JP 5513636 B2 JP5513636 B2 JP 5513636B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- filter
- plate
- members
- incident
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
図1に基づいて第1実施形態のフィルタ10について説明する。フィルタ10は、複数の板状部材11を赤外光の波長より小さくEUV光の波長より大きな一定の間隙をおいて平行に並べて配置した構造を有し、正面から見るとスリット状の開口が並んでいる。フィルタ10は、入射光12に対して板状部材11の内壁11aが平行となり、入射光12の入射側の端面11bによって形成される包絡面11cが、入射光の進行方向(第2方向)と非平行な平面をなすように配置されている。つまり、包絡面11cが入射光の進行方向に垂直な面に対して傾くようにフィルタ10が設置されている。複数の板状部材11はホルダ14により支持されている。
h*tanθ/(d−t)・・・(1)
h*tanθ/(d−t)≦0.2・・・(2)
θ≦tan-1{0.2*(d−t)/h}・・・(3)
x=a/tan(2φ)・・・(4)
図4に基づいて第2実施形態のフィルタ40について説明する。ここでは第1実施形態との差異についてのみ記述する。図4は第2実施形態におけるフィルタ40の正面図及び断面図である。第2実施形態におけるフィルタ40は、複数の開口を有し入射光の進行方向(第2方向)に沿って延びる部材41の入射光の入射側における端面41cが平面をなすように複数の板状部材が2次元に配置した構造を有している。開口の形状は正四角形とされている。フィルタ40の開口が2次元に配置されているので赤外光の両偏光を同時に除去することができる。開口の形状は、円形、六角形でも同様の効果が得られる。入射光の入射側における部材41の端面41cにおける法線42と各開口の軸44とは斜めに交わっている。フィルタ40は例えばSiの異方性エッチングで製作する。Siの異方性エッチングでフィルタを製作し、赤外光を反射するための金属膜を部材41の表面全体に成膜する。複数の板状部材はホルダ43により支持されている。
図5に基づいて第3実施形態のフィルタ50について説明する。図5は第3実施形態におけるフィルタ50の正面図及び断面図である。フィルタ50は、板状部材51を階段状に並べて配置した構造を有している。各板状部材51は棒状の支持部材52で固定されている。板状部材51の壁面51aと、板状部材51の端面が形成する包絡面51cにおける法線53とが斜めに交わるような形状となっている。第3実施形態のフィルタ50は板状部材の壁面51aが入射光と平行になるように設置される。
図6に基づいて第4実施形態のフィルタ60について説明する。第4実施形態におけるフィルタ60は、複数の開口を持つ部材61を、その第1端面61cが平面をなし、かつ、光路に沿って収束するように配置した形状を有している。図6に示すように、フィルタ60の各開口の軸64と複数の部材61の第1端面61cにおける法線62とはいずれも斜めに交わっている。第1端面61cにおける隣接する板状部材の間隙は、第1端面61cの反対側の第2端面における隣接する板状部材の間隙より大きい。
第5実施形態のフィルタについて説明する。第5実施形態において図6で示される部材61は複数の板状部材から構成されており、フィルタ60は、板状部材61を階段状に並べて配置した構造を有している。フィルタ60の板状部材の壁面61aと、板状部材61の端面の包絡面61cにおける法線62とはいずれも斜めに交わっており、壁面61aと法線62とのなす角度は場所により異なっている。
図9に基づいて第6実施形態のフィルタ90について説明する。図9に示すように、フィルタ90の板状部材91の端面91cは曲面であり、その曲率中心の第1方向における位置は、複数の開口の全てを含む1つの領域の第1方向における範囲の外側にある。すなわち、端面の法線92とフィルタの内壁91aとはいずれの場所においても斜めに交わっている。このフィルタ90を図10に示すように入射光103が平行化されている照明系の光路中に挿入する。反射された赤外光101はフィルタ90により集光され、吸収部材102で吸収される。反射された赤外光101は集光されているため、吸収部材102のサイズを小さくすることができる。吸収部材102のサイズを小さくすることにより照明系内の設置自由度が上がるため、照明系の設計が容易となる。なお、第6実施形態における複数の板状部材91の替わりに複数の棒状部材を配置し、複数の開口が一方の端面にのみ存在するようにしてもよい。
図11に基づいて第7実施形態のフィルタ110について説明する。図11に示すように、複数の開口が2次元に沿って配列された部材111の端面111cは曲率を持ち、端面111cにおける法線112とフィルタの内壁111aとはいずれの場所においても斜めに交わっている。
図12に基づいて第8実施形態のフィルタ120について説明する。第6実施形態において複数の板状部材はホルダに固定されていたが、第8実施形態においては、複数の板状部材は棒状の支持部材で固定されている。図12に示すように、フィルタ120の各板状部材の端面の包絡面121cは曲率を持ち、包絡面121cにおける法線とフィルタの内壁とはいずれの場所においても斜めに交わっている。
本発明の一実施形態のデバイス(半導体デバイス、液晶表示デバイス等)の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハ(基板)に集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、前記工程で露光されたウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)と、パッケージング工程(封入)を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。
Claims (5)
- 第1波長を有する第1の光と前記第1波長より短い第2波長を有する第2の光とを含む光を出射する光源からの前記第1の光を反射し前記第2の光を透過させる、第1フィルタ及び第2フィルタを備える露光装置であって、
前記第1フィルタは、前記光が入射する側からみて複数のスリット状の開口を形成する複数の第1板状部材を含み、
前記複数の第1板状部材は、前記第2の光を透過させる方向と直交する方向に互いに間隙をおいて配列され、
前記複数の第1板状部材の壁面は、前記第2の光を透過させる方向に平行であり、
前記複数の第1板状部材によって形成される光入射側の端面は、前記第2の光を透過させる方向に垂直な面に対して傾けてあり、
前記第2フィルタは、前記光が入射する側からみて複数のスリット状の開口を形成する複数の第2板状部材を含み、
前記複数の第2板状部材は、前記第2の光を透過させる方向及び前記複数の第1板状部材が配列された方向と直交する方向に互いに間隙をおいて配列され、
前記複数の第2板状部材の壁面は、前記第2の光を透過させる方向に平行であり、
前記複数の第2板状部材によって形成される光入射側の端面は、前記第2の光を透過させる方向に垂直な面に対して傾けてあり、
前記第1フィルタを透過した光は前記第2フィルタに入射し、前記第2フィルタを透過した前記第2の光により基板を露光することを特徴とする露光装置。 - 前記複数の第1板状部材によって形成される光入射側の前記端面は平面であることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記複数の第1板状部材によって形成される光入射側の前記端面は曲面であることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記第2の光はEUV光であり、前記第1の光は赤外光であることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 請求項1乃至4のいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を含むデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013007826A JP5513636B2 (ja) | 2013-01-18 | 2013-01-18 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013007826A JP5513636B2 (ja) | 2013-01-18 | 2013-01-18 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011000006A Division JP5419900B2 (ja) | 2011-01-01 | 2011-01-01 | フィルタ、露光装置及びデバイス製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013065917A JP2013065917A (ja) | 2013-04-11 |
JP5513636B2 true JP5513636B2 (ja) | 2014-06-04 |
Family
ID=48189059
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013007826A Active JP5513636B2 (ja) | 2013-01-18 | 2013-01-18 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5513636B2 (ja) |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006107933A (ja) * | 2004-10-06 | 2006-04-20 | Canon Inc | デブリ除去装置、及びそれを有するx線発生装置並びに露光装置 |
US7453645B2 (en) * | 2004-12-30 | 2008-11-18 | Asml Netherlands B.V. | Spectral purity filter, lithographic apparatus including such a spectral purity filter, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
US20110024651A1 (en) * | 2007-11-08 | 2011-02-03 | Asml Netherlands B.V. | Radiation system and method, and a spectral purity filter |
NL1036891A1 (nl) * | 2008-05-02 | 2009-11-03 | Asml Netherlands Bv | Dichroic mirror, method for manufacturing a dichroic mirror, lithographic apparatus, semiconductor device and method of manufacturing therefor. |
US8536551B2 (en) * | 2008-06-12 | 2013-09-17 | Gigaphoton Inc. | Extreme ultra violet light source apparatus |
CN102132213B (zh) * | 2008-08-29 | 2014-04-16 | Asml荷兰有限公司 | 光谱纯度滤光片、包括这样的光谱纯度滤光片的光刻设备以及器件制造方法 |
CN102165372B (zh) * | 2008-09-26 | 2014-01-22 | Asml荷兰有限公司 | 光谱纯度滤光片、光刻设备以及用于制造光谱纯度滤光片的方法 |
JP2010087388A (ja) * | 2008-10-02 | 2010-04-15 | Ushio Inc | 露光装置 |
US8445876B2 (en) * | 2008-10-24 | 2013-05-21 | Gigaphoton Inc. | Extreme ultraviolet light source apparatus |
NL2005111A (en) * | 2009-08-21 | 2011-02-22 | Asml Netherlands Bv | Spectral purity filters for use in a lithographic apparatus. |
-
2013
- 2013-01-18 JP JP2013007826A patent/JP5513636B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013065917A (ja) | 2013-04-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9195144B2 (en) | Spectral purity filter, radiation source, lithographic apparatus, and device manufacturing method | |
US9097982B2 (en) | Radiation system, radiation collector, radiation beam conditioning system, spectral purity filter for radiation system and method for forming a spectral purity filter | |
JP6420864B2 (ja) | スペクトル純度フィルタ、放射システム、及びコレクタ | |
US20120147349A1 (en) | Euv radiation system and lithographic apparatus | |
JP5637702B2 (ja) | 露光装置およびデバイス製造方法 | |
US9366967B2 (en) | Radiation source | |
US20100259744A1 (en) | Spectral filter, lithographic apparatus including such a spectral filter, device manufacturing method, and device manufactured thereby | |
KR20100106352A (ko) | 방사선 시스템 및 방법, 및 스펙트럼 퓨리티 필터 | |
US9632419B2 (en) | Radiation source | |
JP5528449B2 (ja) | スペクトル純度フィルタ、このスペクトル純度フィルタを備えたリソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 | |
JP4202996B2 (ja) | リトグラフ装置、および、デバイスの製造方法 | |
JP5419900B2 (ja) | フィルタ、露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP5513636B2 (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP2007088237A (ja) | 多層膜反射鏡及びeuv露光装置 | |
KR20160091979A (ko) | 장치, 디바이스 및 디바이스 제조 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130118 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130412 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130611 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130830 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131202 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20131210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140127 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140204 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140228 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140327 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5513636 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |