JP5742042B2 - 表面被覆窒化硼素焼結体工具 - Google Patents
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- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 title claims description 43
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 43
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 98
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 97
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 23
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 14
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 473
- 239000000463 material Substances 0.000 description 52
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 48
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 47
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 40
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 40
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 37
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 33
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 29
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 24
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 21
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 21
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 20
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 14
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 14
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 13
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 13
- 229910000760 Hardened steel Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000011161 development Methods 0.000 description 12
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 12
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 10
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 229910021480 group 4 element Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021478 group 5 element Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021476 group 6 element Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000001883 metal evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 aluminum compound Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002775 capsule Substances 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 239000010730 cutting oil Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 230000000116 mitigating effect Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0641—Nitrides
- C23C14/0647—Boron nitride
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/89—Coating or impregnation for obtaining at least two superposed coatings having different compositions
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23B—TURNING; BORING
- B23B27/00—Tools for turning or boring machines; Tools of a similar kind in general; Accessories therefor
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- B23B27/148—Composition of the cutting inserts
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/515—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
- C04B35/58—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides
- C04B35/58007—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on refractory metal nitrides
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- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/515—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
- C04B35/58—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides
- C04B35/58007—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on refractory metal nitrides
- C04B35/58014—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on refractory metal nitrides based on titanium nitrides, e.g. TiAlON
- C04B35/58021—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on refractory metal nitrides based on titanium nitrides, e.g. TiAlON based on titanium carbonitrides
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- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/515—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
- C04B35/58—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides
- C04B35/583—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on boron nitride
- C04B35/5831—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on boron nitride based on cubic boron nitrides or Wurtzitic boron nitrides, including crystal structure transformation of powder
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- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- C23C14/24—Vacuum evaporation
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- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Description
まず、本願発明の実施形態(以下「本実施形態」とも記す)の概要を以下の(1)〜(11)に列記して説明する。
以下、本実施形態に係る表面被覆窒化硼素焼結体工具についてより詳細に説明するが、本実施形態はこれらに限定されるものではない。
<表面被覆窒化硼素焼結体工具>
図1は第1の実施形態に係る表面被覆窒化硼素焼結体工具(以下「被覆cBN工具」と記す)の構成の一例を示す模式的な断面図である。図1に示すように被覆cBN工具101は、cBN焼結体から構成される基材1とその上に形成された被膜100とを備えている。被膜100はA層10とC層30とを含んでいる。被膜100は最表面S1を有し、C層30は上面S2を有する。
<被膜>
被膜100は、A層10とC層30とを含んでいる。被膜100はA層10とC層30とを含む限り、他の層を含んでいてもよい。たとえば、図1に示すようにA層10とC層30との間に後述するB層20(密着層)等を含んでいてもよいし、C層30と基材1との間に後述するD層40を含んでいてもよい。
A層10は、Ti1-xaMaxaC1-yaNya(ただし、MaはCr、NbおよびWの1種以上であり、xaは0≦xa≦0.7であり、yaは0≦ya≦1である)から構成される。これによりA層は耐クレータ摩耗性および耐逃げ面摩耗性を有し、クレータ摩耗および逃げ面摩耗の進行によるうねりの発生を抑え、被削材の仕上がり面粗さを良好に保つことができる。
A層10(Ti1-xaMaxaC1-yaNya)は、yaの値がA層の厚さ方向(たとえば図1等の縦方向)において傾斜状またはステップ状に変化する領域を含むことが好ましい。たとえば、A層10の基材1側においてyaが大きい場合、耐欠損性および耐剥離性が向上する傾向にある。またたとえば、A層の上面側においてyaの値が小さい場合は、摩耗時におけるA層10の剥離、割れ、チッピング等を防止することができる。
C層30は、Al1-(xc+yc)CrxcMcycN(ただし、McはTi、VおよびSiの1種以上であり、xcは0.2≦xc≦0.8であり、ycは0≦yc≦0.6であり、かつxc+ycは0.2≦xc+yc≦0.8である)から構成される。これによりC層は耐境界摩耗性を有する。
図1に示す被膜100はA層10とC層30との間に密着層としてB層20を有している。これによりA層10とC層30との間での剥離が防止される。B層20は、Al、CrおよびTiからなる群より選ばれる1種以上の元素と、Nとから構成される1種以上の化合物を含むことが好ましい。このような化合物はA層10およびC層30のいずれとも親和性が高く、双方に強く密着することができる。B層20の厚さは、好ましくは0.005μm以上0.7μm以下であり、より好ましくは0.1μm以上0.6μm以下であり、さらに好ましくは0.1μm以上0.4μm以下である。
図1に示すように被膜100は、C層30と基材1との間にD層40を含んでいてもよい。D層40は、たとえばMdLdzd(Mdは周期表の第4族元素、第5族元素および第6族元素、AlならびにSiの1種以上であり、LdはB(硼素)、C、NおよびO(酸素)の1種以上であり、zdは0≦zd≦1.0である)から構成することができる。このようなD層40を形成することにより被膜100と基材1との密着性を向上させるとともに、被膜100が薄いことに起因する工具寿命の低下を防止することができる。D層40の厚さは、たとえば0.5μm以上3.0μm以下であり、好ましくは1.0μm以上2.0μm以下である。
本実施形態のcBN焼結体は、被覆cBN工具101の切れ刃部分のうち当該工具の基材1を構成するものである。cBN焼結体は被覆cBN工具101の切れ刃部分に設けられていればよい。すなわち被覆cBN工具の基材はcBN焼結体からなる切れ刃部分と、cBN焼結体とは異なる材料(たとえば超硬合金)からなる基材本体とを含んでいてもよい。この場合、cBN焼結体からなる切れ刃部分はろう材等を介して基材本体に接着されていることが好ましい。ろう材は接合強度や融点を考慮し適宜選択すればよい。cBN焼結体は被覆cBN工具101の基材全体を構成していてもよい。
以下、本実施形態のうち第2の実施形態について説明する。図2は第2の実施形態に係る被覆cBN工具の構成の一例を示す模式的な断面図である。図2に示すように第2の実施形態に係る被覆cBN工具201は、cBN焼結体からなる基材1とその上に形成された被膜200とを備えている、そして被膜200は、複数のA層(第1のA層11、第2のA層12、第3のA層13および第4のA層14)と複数のC層(第1のC層31、第2のC層32、第3のC層33および第4のC層34)とを含んでいる。そして被膜200はC層の上にA層を有する積層単位を4つ含んでいる。
上記に説明した本実施形態の被覆cBN工具は、以下のようにして製造することができる。
本実施形態の基材は、基材本体とcBN焼結体からなる基材とを接合することにより製造することができる。基材本体の材料としては、たとえば超硬合金を用いることができる。このような基材本体は、たとえば従来公知の焼結法および成形法により製造することができる。またcBN焼結体からなる基材は、たとえばcBN粒子と結合相の原料粉末とからなる混合物を高温高圧下で焼結させることにより製造することができる。そして基材本体の適切な部位に、cBN焼結体からなる基材を従来公知のろう材で接合し、所定の形状に研削加工することにより基材を製造することができる。なお基材全体をcBN焼結体から構成することも当然可能である。
上記のようにして得られた基材に被膜を形成することにより被覆cBN工具を製造することができる。ここで被膜は、AIP法(真空アーク放電を利用して固体材料を蒸発させるイオンプレーティング法)またはスパッタリング法により形成されることが好ましい。AIP法では、被膜を構成することになる金属種を含む金属蒸発源とCH4、N2またはO2等の反応ガスとを用いて被膜を形成することができる。なお被膜を形成する条件としては、従来公知の条件を採用することができる。またスパッタリング法では、被膜を構成することになる金属種を含む金属蒸発源と、CH4、N2またはO2等の反応ガスと、Ar、Kr、Xe等のスパッタガスとを用いて被膜を形成することができる。なおこの場合も被膜を形成する条件としては従来公知の条件を採用することができる。
(cBN焼結体の製造)
以下のようにして表1に示す組成を有するcBN焼結体A〜Hを製造した。表1中「X線検出化合物」の欄に示す化合物は、cBN焼結体の断面または表面をX線回折(XRD:X‐ray diffraction)装置によって定性分析した際に検出された化合物である。
まず、原子比でTi:N=1:0.6となるように平均粒径1μmのTiN粉末と平均粒径が3μmのTi粉末とを混合することにより混合物を得た。該混合物を真空中1200℃で30分間熱処理してから粉砕した。これによりTiN0.6からなる金属間化合物粉末を得た。
表1に示すようにcBN粒子の体積含有率および平均粒径を変更する以外は、cBN焼結体Aと同様にしてcBN焼結体B〜Fを得た。
まず、原子比でTi:C=1:0.6となるように平均粒径1μmのTiC粉末と平均粒径が3μmのTi粉末とを混合することにより混合物を得た。該混合物を真空中1200℃で30分間熱処理してから粉砕した。これによりTiC0.6からなる金属間化合物粉末を得た。
まず、原子比でTi:C:N=1:0.3:0.5となるように平均粒径1μmのTiCN粉末と平均粒径が3μmのTi粉末とを混合することにより混合物を得た。該混合物を真空中1200℃で30分間熱処理してから粉砕した。これによりTiC0.3N0.5からなる金属間化合物粉末を得た。
以下のようにして試料No.1に係る被覆cBN工具を製造した。
形状がISO規格のDNGA150408であり、超硬合金材料(K10相当)からなる基材本体を準備した。該基材本体の刃先(コーナ部分)に上記のcBN焼結体A(形状:頂角が55°であり当該頂角を挟む両辺がそれぞれ2mmである二等辺三角形を底面とし、厚さが2mmの三角柱状のもの)を接合した。なお接合にはTi−Zr−Cuからなるろう材を用いた。次いで該接合体の外周面、上面および下面を研削し、刃先にネガランド形状(ネガランド幅が150μmであり、ネガランド角が25°)を形成した。このようにして切れ刃部分がcBN焼結体Aからなる基材を得た。
(成膜装置)
まずここで、以降の工程において被膜の形成に用いる成膜装置について説明する。当該成膜装置には真空ポンプが接続されており、装置内部に真空引き可能な真空チャンバーを有している。真空チャンバー内には、回転テーブルが設置されており、該回転テーブルは治具を介して基材がセットできるように構成されている。真空チャンバー内にセットされた基材は、真空チャンバー内に設置されているヒーターにより加熱することができる。また真空チャンバーにはエッチングおよび成膜用のガスを導入するためのガス配管が、流量制御用のマスフローコントローラ(MFC:Mass Flow Controller)を介して接続されている。さらに真空チャンバー内には、エッチング用のArイオンを発生させるためのタングステンフィラメント、必要な電源が接続された成膜用のアーク蒸発源もしくはスパッタ源が配置されている。そしてアーク蒸発源もしくはスパッタ源には、成膜に必要な蒸発源原料(ターゲット)がセットされている。
上記のようにして得られた基材を、成膜装置の真空チャンバー内にセットし、チャンバー内の真空引きを行なった。その後、回転テーブルを3rpmで回転させながら基材を500℃に加熱した。次いで、真空チャンバー内にArガスを導入し、タングステンフィラメントを放電させてArイオンを発生させ、基材にバイアス電圧を印加し、Arイオンにより基材のエッチングを行なった。なお、このときのエッチング条件は次のとおりである
Arガスの圧力 :1Pa
基板バイアス電圧:−500V。
次に上記の成膜装置内でA層を基材上に形成した。具体的には次に示す条件で厚さ1.7μmのA層を形成した。このとき導入ガス(N2およびCH4)の流量は、A層においてC:N=2:8となるように調整した
ターゲット :Ti
導入ガス :N2、CH4
成膜圧力 :2Pa
アーク放電電流 :180A
基板バイアス電圧:−350V
テーブル回転数 :3rpm。
A層に続いて、上記の成膜装置内でA層の上にB層を形成した。具体的には、以下に示す条件で、TiNからなるB1層(図示せず)とAlCrNからなるB2層(図示せず)とをそれぞれ交互に5層ずつ繰り返して形成することにより、合計層数が10層であり、合計厚さ0.1μmのB層を形成した。B層の形成においては、B1層の厚さを10nm、B2層の厚さを10nmとなるように蒸着時間を調整した。なお試料No.1において、B層の最上層(C層側)はB2層であり、最下層(A層側)はB1層である。以下これと同様の構成を有するB層を「B0層」とも記す。またB層がB1層(TiN層)とB2層(AlCrN層)とからなる多層構造を有する場合は、A層側をB1層、C層側をB2層として積層されるものとする。
B1層は次に示す条件で形成した
ターゲット :Ti
導入ガス :N2
成膜圧力 :3Pa
アーク放電電流 :150A
基板バイアス電圧:−40V。
B2層は次に示す条件で形成した
ターゲット :Al(50原子%)、Cr(50原子%)
導入ガス :N2
成膜圧力 :3Pa
アーク放電電流 :150A
基板バイアス電圧:−50V。
次にB層上にC層を形成した。具体的には次に示す条件で厚さ0.2μmとなるように蒸着時間を調整してC層を形成した
ターゲット :Al(70原子%)、Cr(30原子%)
導入ガス :N2
成膜圧力 :4Pa
アーク放電電流 :150A
基板バイアス電圧:−35V
テーブル回転数 :3rpm。
試料No.1と同様にして基材上にA層、B層、C層をこの順で積層した。
続いてC層上に、上記と同様にして厚さ0.1μmのB層を形成した。
さらにB層上に、厚さを0.1μmとすることを除いては上記と同様してA層を形成した。以上のようにして、試料No.2に係る被覆cBN工具を得た。試料No.2の構成を表2および表3に記す。試料No.2において被膜の最表面S1にはA層が形成されており、最表面S1とC層の上面S2との距離dは0.2μmである。
蒸着時間を調整して最表面S1に形成されたA層の厚さを表3に示すように変更する以外は、試料No.2と同様にして試料No.3〜No.6に係る被覆cBN工具を得た。表2および表3中「No.」に「*」が付された試料が実施例に相当する(以下の実施例の説明についても同様とする。)。
以上のようにして得られた試料No.1〜No.6に係る被覆cBN工具の切削性能と仕上げ面粗さを焼入鋼の連続切削により評価した。
各試料の工具を用いて、次に示す切削条件に従って切削距離3kmの切削加工を行なった。そして光学顕微鏡を使用して工具の逃げ面摩耗量VBを測定した。また、「JIS B 0601」に準拠して、加工後の被削材の「十点平均粗さ(Rzjis)」を測定した。結果を表3に示す。表3中、逃げ面摩耗量VBが小さいほど耐摩耗性に優れる。またRzが小さいほど加工精度に優れることを示している。
被削材 :焼入鋼SCM415H(HRC60)、φ35mm×10mm
切削速度:150m/min
送り量 :f=0.1mm/rev
切込み :ap=0.1mm
切削油 :エマルジョン((株)日本フルードシステム製造の商品名「システムカット96」)を20倍に希釈したもの(wet状態)。
試料No.1は、Rzは小さいもののVBが大きい結果となった。この理由は、試料No.1はC層の上にA層を有しておらず、距離dが0.1μm未満であったためであると考えられる。また試料No.6は、VBは小さく良好であったがRzが大きい結果となった。これは距離dが1.0μmを超過したため境界摩耗の発達が大きくなったためであると考えられる。
(試料No.7の製造)
以下のようにして試料No.7に係る被覆cBN工具を製造した。
cBN焼結体Aの代わりにcBN焼結体Cを用いる以外は実施例1と同様にして基材1を得た。
以下のように図1を参照して、基材1上に被膜100を形成した。
実施例1と同様にして基材1のエッチングを行なった後、基材1上にD層40を形成した。具体的には次に示す条件で厚さ2.0μmとなるように蒸着時間を調整してD層40を形成した
ターゲット :Ti(30原子%)、Al(70原子%)
導入ガス :N2
成膜圧力 :4Pa
アーク放電電流 :150A
基板バイアス電圧:−35V
テーブル回転数 :3rpm。
次にD層40上にC層30を形成した。具体的には次に示す条件で厚さ0.2μmとなるように蒸着時間を調整してC層30を形成した
ターゲット :Al(70原子%)、Cr(30原子%)
導入ガス :N2
成膜圧力 :4Pa
アーク放電電流 :150A
基板バイアス電圧:−35V
テーブル回転数 :3rpm。
C層30を形成した後、実施例1におけるB層と同様にして、B1層とB2層とからなる多層構造を有し、厚さが0.1μmであるB層20を形成した。
B層20に続いてその上にA層10を形成した。具体的には次に示す条件で厚さ0.5μmのA層10を形成した。このとき導入ガス(N2およびCH4)の流量は、A層10においてC:N=1:1となるように調整した
ターゲット :Ti
導入ガス :N2、CH4
成膜圧力 :2Pa
アーク放電電流 :180A
基板バイアス電圧:−350V
テーブル回転数 :3rpm。
表4に示す組成のA層10が形成されるようにターゲット材料ならびに導入ガスの組成および流量を変更する以外は、試料No.7と同様にして試料No.8〜No.10およびNo.17に係る被覆cBN工具を得た。
試料No.11では、上記と同様にして基材1上にD層40、C層30およびB層20を形成した後、式Ti1-xaMaxaC1-yaNyaにおけるyaが被膜の厚さ方向において傾斜状またはステップ状に変化する領域を含むA層10を形成した。表4中、当該A層10の組成を便宜上「TiCN*01」と記している。当該A層は具体的には次のようにして形成した。
まず、導入ガスとしてN2のみを使用し(すなわちya=1.0に固定し)、TiN層を0.05μm形成した。次に、導入ガス中のCH4の流量を徐々に増加させながら、ya(N組成)が傾斜状に減少する(1−ya(C組成)は傾斜状に増加する)TiCN層を0.2μm形成した。当該TiCN層の組成は最終的にTiC0.5N0.5であった(すなわちya=0.5)。その後、N2とCH4の流量比を固定してTiC0.5N0.5層を0.05μm形成した。このようにして、B層20の上に、Ti1-xaMaxaC1-yaNyaにおけるyaがA層10の厚さ方向に傾斜状に変化するA層10(TiCN*01)を形成した。これにより試料No.11に係る被覆cBN工具を得た。当該A層の構成を表5に示す。表5中、「Ti1-xaMaxaC1-yaNyaにおけるyaの値」の欄において、たとえば「1→0.5」はyaの値が1から0.5へと連続して減少することを示している。
表5に示す「TiCN*02」〜「Ti0.9Nb0.1CN*06」の組成および構成を有するA層10を形成する以外は、試料No.11と同様にして試料No.12〜No.16に係る被覆cBN工具を得た。
以上のようにして得られた試料No.7〜17係る被覆cBN工具の切削性能と仕上げ面粗さを実施例1と同様にして焼入鋼の連続切削により評価した。結果を表4に示す。なお表4に示すように試料No.7〜17ではA層10の構成がそれぞれ異なっている。
試料No.7とNo.8を比較するとyaの値が0.9、0.5と変化するにつれて耐摩耗性および加工精度が向上していることが分かる。したがって、yaは0≦ya≦0.9が好ましく、0≦ya≦0.5がより好ましいといえる。
(試料No.18〜22の製造)
cBN焼結体Aの代わりにcBN焼結体Dを用いる以外は実施例1と同様にして基材1を得、表6に示す組成および構成のD層40、C層30、B層20およびA層10をこの順に積層して被膜100を形成する以外は、実施例2と同様にして試料No.18〜22に係る被覆cBN工具を得た。
以上のようにして得られた試料No.18〜No.22係る被覆cBN工具の切削性能と仕上げ面粗さを実施例1と同様にして焼入鋼の連続切削により評価した。結果を表6に示す。表6に示すように、試料No.18〜No.22ではC層30の組成がそれぞれ異なっている。
No.18〜No.22を比較するとC層30の組成を除いてはいずれも同様の構成を有するにも関わらず、試料No.19のみが加工精度において劣る結果となった。この理由は、試料No.19におけるC層はCrを含んでいないため(すなわちxcが0.2未満)、C層が境界摩耗の発達を十分に阻止できなかったからであると考えられる。
(試料No.23の製造)
(基材の形成)
cBN焼結体Aの代わりにcBN焼結体Eを用いる以外は実施例1と同様にして基材1を得た。
以下のように図2を参照して、基材1上にC層の上にA層を有する積層単位を2つ含む被膜200を形成した。
表7に示すように第1の積層単位51および第2の積層単位52においてC層の厚さを変更する以外は、試料No.23と同様して試料No.24〜27に係る被覆cBN工具を得た。
以上のようにして得られた試料No.23〜27に係る被覆cBN工具の切削性能と仕上げ面粗さを実施例1と同様にして焼入鋼の連続切削により評価した。結果を表7に示す。
試料No.23は、C層の厚さ以外は同様の被膜構成を有する試料No.24〜No.26と比較して加工精度にやや劣る結果となった。この理由はC層の厚さがやや薄いため、境界摩耗の発達がその他に比して大きくなったと考えられる。また試料No.27はその他と比較して摩耗量がやや多い結果となった。この理由はC層の厚さがやや厚いため、逃げ面摩耗の進行が早まったためと考えられる。したがってこれらの結果から、C層は0.1μm以上1.0μm以下の厚さを有することが好ましく、0.11μm以上0.9μm以下の厚さを有することがより好ましいといえる。
(試料No.29〜33の製造)
cBN焼結体Aの代わりにcBN焼結体Hを用いる以外は実施例1と同様にして基材1を得、表8に示す組成および構成のD層40、C層30、B層20およびA層10をこの順に積層して被膜100を形成する以外は、実施例2と同様にして試料No.29〜No.33に係る被覆cBN工具を得た。表8に示すように、試料No.29〜No.33ではB層20において、B層の厚さ、B1層およびB2層の厚さならびに層数がそれぞれ異なっている。
B層20を形成せず、C層30上に直接A層10を形成する以外は、試料No.29〜No.33と同様にして、試料No.28に係る被覆cBN工具を得た。
以上のようにして得られた試料No.28〜33に係る被覆cBN工具の切削性能と仕上げ面粗さを実施例1と同様にして焼入鋼の連続切削により評価した。結果を表8に示す。
(試料No.34の製造)
cBN焼結体Aの代わりにcBN焼結体Hを用いる以外は実施例1と同様にして基材1を得、基材1上に、表9に示す組成および構成の第1のC層31、第1のB層21および第1のA層11をこの順に積層して被膜200を形成することにより、試料No.34に係る被覆cBN工具を得た。試料No.34においてC層の上にA層を有する積層単位は1つである。
試料No.34と同様にして第1のA層11を形成した後、第1のA層11上に、密着層としてB0層(厚さ0.1μm)を形成し、さらにその上に表10に示す第2の積層単位52を形成することにより、試料No.35に係る被覆cBN工具を得た。試料No.35においてC層の上にA層を有する積層単位は1つである。
表9〜表11に示すように、基材1上に第1の積層単位51、第2の積層単位52および第3の積層単位53をこの順に形成することにより、試料No.36に係る被覆cBN工具を得た。なお各積層単位の間にはB0層(厚さ0.1μm)を形成し、A層とC層とを密着させた。
以上のようにして得られた試料No.34〜36に係る被覆cBN工具の切削性能と仕上げ面粗さを実施例1と同様にして焼入鋼の連続切削により評価した。結果を表11に示す。
(面粗度寿命の測定)
寿命判定基準をRz=3.2μmとして、高精度加工における面粗度寿命を測定した。すなわち上記の切削条件で切削距離500mの加工を1セットとして繰り返し加工を行ない、1セットの加工が終了する度に表面粗さ計を使用して被削材の面粗さRzjisを測定し、Rzjisが3.2μmを超えた時点で試験終了とした。そして500m×セット回数から総切削距離(km)を算出した。さらに、Rzjisを縦軸、切削距離を横軸とする散布図を作成し、該散布図上において終了点と終了直前の点との2点を結ぶ直線上で、Rzが3.2μmに達する切削距離を面粗度寿命とした。その結果を表11に示す。
表9〜表11に示すように、試料No.34〜No.36において被膜の最表面から最も被膜の最表面側に位置するC層までの構成は同一である。そのため3km切削した時点での耐摩耗性および加工精度はほぼ同等であった。
(試料No.37〜No.40の製造)
cBN焼結体Aの代わりにcBN焼結体Cを用いる以外は実施例1と同様にして基材1を得、基材1上に表12〜表15に示す各積層単位をこの順で積層することにより、試料No.37〜No.40に係る被覆cBN工具を得た。なお各積層単位の間には密着層としてB0層(厚さ0.1μm)を形成した。なおまた、表15では試料No.37の積層単位数を1つとしている。これは、試料No.37は第1の積層単位においてC層を有していないため(表12)、C層の上にA層を有する積層単位としては1つであることを示している。
以上のようにして得られた試料No.37〜No.40に係る被覆cBN工具の切削性能、仕上げ面粗さおよび面粗度寿命を実施例6と同様にして焼入鋼の連続切削により評価した。結果を表15に示す。
表12〜表15に示すように、試料No.37〜No.40はいずれも被膜の最表面から最も最表面側のC層までの構成は同じである。そのため3km切削した時点での耐摩耗性および加工精度はほぼ同等であった。また実施例6と同様に積層単位が多くなる程、面粗度寿命が長くなる傾向が確認された。
(試料No.41〜No.46の製造)
表16〜表18に示すように、cBN焼結体Aの代わりにcBN焼結体B〜G用いる以外は実施例1と同様にして基材1を得、基材1上に表16〜表18に示す各積層単位をこの順で積層した被膜200を形成することにより、試料No.41〜No.46に係る被覆cBN工具を得た。なお各積層単位の間には密着層としてB0層(厚さ0.1μm)を形成した。
以上のようにして得られた試料No.41〜No.46に係る被覆cBN工具の切削性能、仕上げ面粗さおよび面粗度寿命を実施例6と同様にして焼入鋼の連続切削により評価した。結果を表18に示す。
表16〜表18に示すように試料No.41〜No.46において被膜200の構成は同一であるため、3km切削した時点での耐摩耗性および加工精度はほぼ同等であった。一方、面粗度寿命については結果に差異が現れた。すなわち、cBN粒子の体積含有率が50体積%以上60体積%以下である焼結体を用いた試料は、その他の試料に比して面粗度寿命が長い結果となった。この結果は基材を構成するcBN焼結体の耐摩耗性および耐欠損性が影響したものと考えることができる。
表19〜21に示すように各積層単位においてA層とC層との間にB層を形成せず、かつ各積層単位の間にB0層を形成しないことを除いては上記試料No.36と同様にして試料No.47に係る被覆cBN工具を得た。
以上のようにして得られた試料No.47に係る被覆cBN工具の切削性能、仕上げ面粗さおよび面粗度寿命を実施例6と同様にして焼入鋼の連続切削により評価した。結果を表21に示す。
表19〜表21に示すように、試料No.47では面粗度寿命の測定の際に剥離が発生した。この結果から各積層単位においてA層とC層との間にはB層を配置することが好ましいことが分かる。
10 A層
11 第1のA層
12 第2のA層
13 第3のA層
14 第4のA層
20 B層
21 第1のB層
22 第2のB層
23 第3のB層
24 第4のB層
30 C層
31 第1のC層
32 第2のC層
33 第3のC層
34 第4のC層
40 D層
51 第1の積層単位
52 第2の積層単位
53 第3の積層単位
54 第4の積層単位
100,200 被膜
101,201 被覆cBN工具
S1 最表面
S2 上面
d 距離
Claims (17)
- 立方晶窒化硼素焼結体と、その上に形成された被膜とを備え、
前記被膜はA層とC層とを含み、
前記A層は、Ti1-xaMaxaC1-yaNya(ただし、MaはCr、NbおよびWの1種以上であり、xaは0≦xa≦0.7であり、yaは0≦ya≦1である)から構成され、
前記C層は、Al1-(xc+yc)CrxcMcycN(ただし、McはTi、VおよびSiの1種以上であり、xcは0.2≦xc≦0.8であり、ycは0≦yc≦0.6であり、かつxc+ycは0.2≦xc+yc≦0.8である)から構成され、
前記A層は、前記被膜の最表面または前記被膜の前記最表面と前記C層との間に形成され、
前記被膜の前記最表面と前記C層の上面との距離は、0.1μm以上1.0μm以下であり、
前記被膜は、前記A層と前記C層との間にB層をさらに含み、
前記B層は、Al、CrおよびTiからなる群より選ばれる1種以上の元素と、Nとから構成される1種以上の化合物を含み、
前記B層は、TiNから構成されるB1層と、AlCrNから構成されるB2層とが交互にそれぞれ1層以上積層されてなる多層構造を含む、表面被覆窒化硼素焼結体工具。 - 前記被膜の前記最表面と前記C層の前記上面との距離は、0.3μm以上0.7μm以下である、請求項1に記載の表面被覆窒化硼素焼結体工具。
- 前記C層は、0.1μm以上1.0μm以下の厚さを有する、請求項1または請求項2に記載の表面被覆窒化硼素焼結体工具。
- 前記被膜は、複数の前記A層と、複数の前記C層とを含み、
前記C層の上に前記A層を有する積層単位を2つ以上含む、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の表面被覆窒化硼素焼結体工具。 - 前記B1層および前記B2層の厚さは、それぞれ0.5nm以上30nm未満である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の表面被覆窒化硼素焼結体工具。
- 前記B層は、AlTiCrNから構成される化合物を含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載の表面被覆窒化硼素焼結体工具。
- 前記A層は、前記yaが前記A層の厚さ方向において傾斜状またはステップ状に変化する領域を含む、請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の表面被覆窒化硼素焼結体工具。
- 前記立方晶窒化硼素焼結体と接する層は、前記C層である、請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載の表面被覆窒化硼素焼結体工具。
- 前記被膜は、0.5μm以上10μm以下の厚さを有する、請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の表面被覆窒化硼素焼結体工具。
- 立方晶窒化硼素焼結体と、その上に形成された被膜とを備え、
前記被膜はA層とC層とを含み、
前記A層は、Ti 1-xa Ma xa C 1-ya N ya (ただし、MaはCr、NbおよびWの1種以上であり、xaは0≦xa≦0.7であり、yaは0≦ya≦1である)から構成され、
前記C層は、Al 1-(xc+yc) Cr xc Mc yc N(ただし、McはTi、VおよびSiの1種以上であり、xcは0.2≦xc≦0.8であり、ycは0≦yc≦0.6であり、かつxc+ycは0.2≦xc+yc≦0.8である)から構成され、
前記A層は、前記被膜の最表面または前記被膜の前記最表面と前記C層との間に形成され、
前記被膜の前記最表面と前記C層の上面との距離は、0.1μm以上1.0μm以下であり、
前記A層は、前記yaが前記A層の厚さ方向において傾斜状またはステップ状に変化する領域を含む、表面被覆窒化硼素焼結体工具。 - 前記被膜の前記最表面と前記C層の前記上面との距離は、0.3μm以上0.7μm以下である、請求項10に記載の表面被覆窒化硼素焼結体工具。
- 前記C層は、0.1μm以上1.0μm以下の厚さを有する、請求項10または請求項11に記載の表面被覆窒化硼素焼結体工具。
- 前記被膜は、複数の前記A層と、複数の前記C層とを含み、
前記C層の上に前記A層を有する積層単位を2つ以上含む、請求項10〜請求項12のいずれか1項に記載の表面被覆窒化硼素焼結体工具。 - 前記被膜は、前記A層と前記C層との間にB層をさらに含み、
前記B層は、Al、CrおよびTiからなる群より選ばれる1種以上の元素と、Nとから構成される1種以上の化合物を含む、請求項10〜請求項13のいずれか1項に記載の表面被覆窒化硼素焼結体工具。 - 前記B層は、AlTiCrNから構成される化合物を含む、請求項14に記載の表面被覆窒化硼素焼結体工具。
- 前記立方晶窒化硼素焼結体と接する層は、前記C層である、請求項10〜請求項15のいずれか1項に記載の表面被覆窒化硼素焼結体工具。
- 前記被膜は、0.5μm以上10μm以下の厚さを有する、請求項10〜請求項16のいずれか1項に記載の表面被覆窒化硼素焼結体工具。
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013227077A JP5742042B2 (ja) | 2013-10-31 | 2013-10-31 | 表面被覆窒化硼素焼結体工具 |
EP14857427.0A EP3064298B1 (en) | 2013-10-31 | 2014-09-19 | Surface-coated boron nitride sintered body tool |
KR1020167011202A KR102269461B1 (ko) | 2013-10-31 | 2014-09-19 | 표면 피복 질화붕소 소결체 공구 |
CN201480059671.3A CN105705280B (zh) | 2013-10-31 | 2014-09-19 | 表面被覆氮化硼烧结体工具 |
MX2016005121A MX2016005121A (es) | 2013-10-31 | 2014-09-19 | Herramienta sinterizada de nitruro de boro de superficie-revestida. |
CA2928761A CA2928761A1 (en) | 2013-10-31 | 2014-09-19 | Surface-coated boron nitride sintered body tool |
PCT/JP2014/074821 WO2015064241A1 (ja) | 2013-10-31 | 2014-09-19 | 表面被覆窒化硼素焼結体工具 |
US15/032,976 US10030299B2 (en) | 2013-10-31 | 2014-09-19 | Surface-coated boron nitride sintered body tool |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013227077A JP5742042B2 (ja) | 2013-10-31 | 2013-10-31 | 表面被覆窒化硼素焼結体工具 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015026370A Division JP6253112B2 (ja) | 2015-02-13 | 2015-02-13 | 表面被覆窒化硼素焼結体工具 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015085465A JP2015085465A (ja) | 2015-05-07 |
JP5742042B2 true JP5742042B2 (ja) | 2015-07-01 |
Family
ID=53003854
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013227077A Active JP5742042B2 (ja) | 2013-10-31 | 2013-10-31 | 表面被覆窒化硼素焼結体工具 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10030299B2 (ja) |
EP (1) | EP3064298B1 (ja) |
JP (1) | JP5742042B2 (ja) |
KR (1) | KR102269461B1 (ja) |
CN (1) | CN105705280B (ja) |
CA (1) | CA2928761A1 (ja) |
MX (1) | MX2016005121A (ja) |
WO (1) | WO2015064241A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
MX2018009605A (es) * | 2016-03-30 | 2018-09-11 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp | Cuerpo sinterizado de nitruro de boro cubico recubierto en la superficie y herramienta de corte que se proporciona con el mismo. |
EP3533899B1 (en) * | 2016-10-25 | 2024-05-01 | OSG Corporation | Hard coating and member coated with hard coating |
JP7083448B2 (ja) * | 2017-01-07 | 2022-06-13 | 株式会社タンガロイ | 被覆切削工具 |
KR102482622B1 (ko) | 2017-04-25 | 2022-12-28 | 스미토모덴키고교가부시키가이샤 | 절삭 공구 및 그 제조 방법 |
US11136672B2 (en) * | 2018-08-30 | 2021-10-05 | Apple Inc. | Electronic devices having corrosion-resistant coatings |
US11247277B2 (en) * | 2019-10-10 | 2022-02-15 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp. | Cutting tool |
JPWO2021140818A1 (ja) * | 2020-01-08 | 2021-07-15 | ||
US12050436B2 (en) | 2020-09-01 | 2024-07-30 | Apple Inc. | Bright color coatings for electronic devices |
US12090557B1 (en) * | 2023-05-17 | 2024-09-17 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Cutting tool |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5330853A (en) * | 1991-03-16 | 1994-07-19 | Leybold Ag | Multilayer Ti-Al-N coating for tools |
JP3452726B2 (ja) * | 1996-06-05 | 2003-09-29 | 日立ツール株式会社 | 多層被覆硬質工具 |
WO2005099945A1 (ja) | 2004-04-13 | 2005-10-27 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp. | 表面被覆切削工具 |
JP2005297141A (ja) * | 2004-04-13 | 2005-10-27 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp | 表面被覆スローアウェイチップ |
JP4672442B2 (ja) * | 2005-05-31 | 2011-04-20 | オーエスジー株式会社 | 硬質積層被膜、および硬質積層被膜被覆工具 |
JP4950499B2 (ja) * | 2006-02-03 | 2012-06-13 | 株式会社神戸製鋼所 | 硬質皮膜およびその成膜方法 |
US20090130434A1 (en) | 2006-03-28 | 2009-05-21 | Kyocera Corporation | Surface Coated Tool |
CN101400465A (zh) | 2006-03-28 | 2009-04-01 | 京瓷株式会社 | 表面被覆工具 |
US8173278B2 (en) * | 2006-04-21 | 2012-05-08 | Cemecon Ag | Coated body |
JP4883477B2 (ja) | 2006-07-14 | 2012-02-22 | 三菱マテリアル株式会社 | 高硬度鋼の高速断続切削加工ですぐれた耐欠損性を発揮する表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具 |
JP2008279563A (ja) | 2007-05-11 | 2008-11-20 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 表面被覆切削工具 |
JP5257750B2 (ja) * | 2008-04-04 | 2013-08-07 | 住友電工ハードメタル株式会社 | 表面被覆切削工具 |
JP5444709B2 (ja) | 2008-12-24 | 2014-03-19 | 新日鐵住金株式会社 | 高炉用コークスの製造方法 |
JPWO2010150335A1 (ja) | 2009-06-22 | 2012-12-06 | 株式会社タンガロイ | 被覆立方晶窒化硼素焼結体工具 |
JP5545646B2 (ja) | 2010-06-18 | 2014-07-09 | ダイハツ工業株式会社 | モータ駆動制御装置 |
JP5392408B2 (ja) * | 2010-07-06 | 2014-01-22 | 株式会社タンガロイ | 被覆cBN焼結体工具 |
JP2012024854A (ja) * | 2010-07-20 | 2012-02-09 | Mitsubishi Materials Corp | 表面被覆切削工具 |
EP2634164B1 (en) | 2010-10-28 | 2017-12-27 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp. | Surface-coated sintered compact |
JP5663814B2 (ja) * | 2013-07-03 | 2015-02-04 | 住友電工ハードメタル株式会社 | 表面被覆窒化硼素焼結体工具 |
-
2013
- 2013-10-31 JP JP2013227077A patent/JP5742042B2/ja active Active
-
2014
- 2014-09-19 EP EP14857427.0A patent/EP3064298B1/en active Active
- 2014-09-19 US US15/032,976 patent/US10030299B2/en active Active
- 2014-09-19 KR KR1020167011202A patent/KR102269461B1/ko active IP Right Grant
- 2014-09-19 CA CA2928761A patent/CA2928761A1/en not_active Abandoned
- 2014-09-19 WO PCT/JP2014/074821 patent/WO2015064241A1/ja active Application Filing
- 2014-09-19 MX MX2016005121A patent/MX2016005121A/es unknown
- 2014-09-19 CN CN201480059671.3A patent/CN105705280B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10030299B2 (en) | 2018-07-24 |
CN105705280A (zh) | 2016-06-22 |
WO2015064241A1 (ja) | 2015-05-07 |
US20160265098A1 (en) | 2016-09-15 |
EP3064298A4 (en) | 2017-05-31 |
CN105705280B (zh) | 2018-07-06 |
EP3064298B1 (en) | 2020-09-02 |
EP3064298A1 (en) | 2016-09-07 |
KR20160078972A (ko) | 2016-07-05 |
KR102269461B1 (ko) | 2021-06-28 |
JP2015085465A (ja) | 2015-05-07 |
CA2928761A1 (en) | 2015-05-07 |
MX2016005121A (es) | 2016-08-03 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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