JP5738410B2 - ファセットミラーデバイス - Google Patents
ファセットミラーデバイス Download PDFInfo
- Publication number
- JP5738410B2 JP5738410B2 JP2013520975A JP2013520975A JP5738410B2 JP 5738410 B2 JP5738410 B2 JP 5738410B2 JP 2013520975 A JP2013520975 A JP 2013520975A JP 2013520975 A JP2013520975 A JP 2013520975A JP 5738410 B2 JP5738410 B2 JP 5738410B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- support
- facet
- ridge
- section
- facet element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/0891—Ultraviolet [UV] mirrors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/09—Multifaceted or polygonal mirrors, e.g. polygonal scanning mirrors; Fresnel mirrors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/12—Reflex reflectors
- G02B5/126—Reflex reflectors including curved refracting surface
- G02B5/132—Reflex reflectors including curved refracting surface with individual reflector mounting means
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/18—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
- G02B7/181—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors with means for compensating for changes in temperature or for controlling the temperature; thermal stabilisation
- G02B7/1815—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors with means for compensating for changes in temperature or for controlling the temperature; thermal stabilisation with cooling or heating systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/18—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
- G02B7/182—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70075—Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49826—Assembling or joining
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
以下では、本発明による光学結像装置101の第1の好ましい実施形態を図1から図10を参照して説明する。以下に提供する説明を容易にするために、図内にx,y,z座標系を挿入しており、以下の説明を通してこの座標系を使用する。以下では、z方向は、垂直方向を表している。しかし、本発明の他の実施形態において、このx,y,z座標系及び光学結像装置の構成要素それぞれの空間内のあらゆる他の向きを選択する場合があることが分かるであろう。
以下では、本発明によるファセットミラーデバイスの第2の実施形態206.1を図11から図13を参照して説明する。ファセットミラーデバイス206.1は、その基本的な設計及び機能においてファセットミラーデバイス106.1に殆ど対応し、図1の光学結像デバイス101内のファセットミラーデバイス106.1と置き換えることができる。特に、第1の実施形態に関して上述したファセット要素を支持する方法及びファセットミラーデバイスを製造する方法(図10)をこのファセットミラーデバイス206.1の関連においても実施することができる。従って、ここでは主に上記に提供した説明を参照し、ファセットミラーデバイス106.1に対する相違点のみをより詳細に以下に説明する。特に、類似の部分には、同じ参照番号に数量100を増加させたものを与えており、これらの部分に関しては(以下で明示的に説明しない限り)、第1の実施形態との関連で上記に提供した説明を参照する。
Claims (21)
- ファセットミラーデバイスであって、
ファセット要素と、
支持要素と、
を含み、
前記支持要素は、前記ファセット要素を支持し、
前記ファセット要素は、湾曲した第1の支持区画を含み、
前記支持要素は、第2の支持区画を含み、
前記第2の支持区画は、前記第1の支持区画に接触して前記ファセット要素を支持する支持稜部を形成し、
前記第1の支持区画は第1の曲率を有し、前記第2の支持区画は、前記支持稜部と前記ファセット要素の間にほぼ線接触が存在するように該第1の曲率に対応する第2の曲率を有する、
ことを特徴とするファセットミラーデバイス。 - 前記支持稜部は、少なくとも1つの稜部セグメントによって形成されること、
前記支持稜部は、連続するリング形の稜部であること、
前記支持稜部は、前記支持要素内に凹部を閉じ込める壁の端部に形成されること、及び 前記第1の支持区画は、前記支持稜部と前記第1の支持区画の間の接触領域内に球面を有すること、
のうちの少なくとも1つを特徴とする請求項1に記載のファセットミラーデバイス。 - 前記ファセット要素は、接着剤結合によって前記支持要素に接続されること、
前記ファセット要素は、前記支持稜部に隣接して位置した結合材料を通じて前記支持要素に接続されること、
前記ファセット要素は、前記支持稜部と前記第1の支持区画の間の接触領域内で前記支持要素に接着的に接続されること、及び
前記ファセット要素は、接着、半田付け、レーザ半田付け、溶接、レーザ溶接、拡散接合からなる結合技術の群から選択される少なくとも1つの結合技術によって前記支持要素に接続されること、
のうちの少なくとも1つを特徴とする請求項1に記載のファセットミラーデバイス。 - 前記支持稜部は、前記支持要素内に凹部を閉じ込める壁の端部に形成され、前記結合材料の少なくとも大部分が、該支持稜部の、該凹部から離れる方向に向く側に位置付けられること、及び
前記結合材料は、前記ファセット要素と前記支持要素の間の間隙を密封すること、
のうちの少なくとも1つを特徴とする請求項3に記載のファセットミラーデバイス。 - 前記支持稜部は、0.5mm未満から3mmまでの最小稜部曲率半径を形成する鋭い稜部であること、及び
前記支持稜部及び前記ファセット要素は、該支持稜部のあらゆる稜部点において該支持稜部と該ファセット要素の間の製造公差関連間隙の幅が0.5μm未満から10μmまでであるように選択される製造精度で製造されること、
のうちの少なくとも1つを特徴とする請求項1に記載のファセットミラーデバイス。 - 前記ファセット要素は、少なくとも部分的に反射性を有する前面及び後面を含み、前記第1の支持区画は、該後面の一部である、
ことを特徴とし、
前記後面は、突出部が実質的にないこと、
前記第1の支持区画は、前記ファセット要素の後面の一部であり、該第1の支持区画は、連続的に湾曲したシェル、特に、球面シェルを形成し、該後面には、該後面から該球面シェルを超えて突出する突出部が実質的にないこと、
前記ファセット要素の少なくとも前記後面は、レンズ製造工程において製造されること、
前記ファセット要素の前記前面は、前記支持要素への該ファセット要素の装着中に向き調節作業に使用されるようにされた反射面区域を含むこと、及び
前記ファセット要素の前記前面は、少なくとも区画毎に湾曲したもの及び少なくとも区画毎に多角形のものうちの少なくとも一方である外側輪郭を有すること、
のうちの少なくとも1つを特徴とする、
請求項1に記載のファセットミラーデバイス。 - 前記ファセット要素は、シリコン(Si)、シリコンカーバイド(SiC)、石英(SiO2)、ニッケルメッキの銅、及び鋼鉄からなる第1の材料群から選択される第1の材料で作られること、及び
前記支持要素は、シリコンカーバイド(SiC)、シリコン浸潤シリコンカーバイド(SiSiC)、及びタングステンカーバイド(WC)からなる第2の材料群から選択される第2の材料で作られること、
のうちの少なくとも1つを特徴とする請求項1に記載のファセットミラーデバイス。 - 前記支持稜部は、前記支持要素内に凹部を閉じ込める壁の端部に形成され、該壁には、該凹部内に負圧を発生させる吸引手段を該凹部に接続するようにされたコネクタ区画が設けられ、該負圧は、該支持要素への前記ファセット要素の装着中に該ファセット要素を該支持要素に対して調節可能に固定すること、
前記支持要素は、ファセットミラーデバイスの作動中に冷却媒質を受け取るようにされた少なくとも1つの冷却ダクトを含むこと、及び
前記支持稜部は、前記支持要素内に凹部を閉じ込める壁の端部に形成され、該凹部には、冷却媒質及び熱伝達媒質の一方が充填され、該熱伝達媒質は、前記ファセット要素から該支持要素への熱伝達を改善すること、
のうちの少なくとも1つを特徴とする請求項1に記載のファセットミラーデバイス。 - 前記支持要素は、更に別のファセット要素を各々が支持する複数の更に別の第2の支持区画を含むこと、及び
前記支持要素は、少なくとも1000個のファセット要素を支持すること、
のうちの少なくとも1つを特徴とする請求項1に記載のファセットミラーデバイス。 - 光学結像装置であって、
パターンを収容するようにされたマスクユニットと、
基板を収容するようにされた基板ユニットと、
前記パターンを照明するようにされた照明ユニットと、
前記パターンの像を前記基板上に転写するようにされた光学投影ユニットと、
を含み、
前記照明ユニット及び前記光学投影ユニットのうちの少なくとも一方が、ファセットミラーデバイスを含み、
前記ファセットミラーデバイスは、ファセット要素及び支持要素を含み、
前記支持要素は、前記ファセット要素を支持し、
前記ファセット要素は、湾曲した第1の支持区画を含み、
前記支持要素は、第2の支持区画を含み、
前記第2の支持区画は、前記第1の支持区画に接触して前記ファセット要素を支持する支持稜部を形成し、
前記第1の支持区画は第1の曲率を有し、前記第2の支持区画は、前記支持稜部と前記ファセット要素の間にほぼ線接触が存在するように該第1の曲率に対応する第2の曲率を有する、
ことを特徴とする光学結像装置。 - ファセットミラーデバイスのファセット要素を支持する方法であって、
ファセット要素及び支持要素を準備する段階と、
前記ファセット要素を該ファセット要素の湾曲した第1の支持区画で前記支持要素の第2の支持区画を通じて支持する段階と、
を含み、
前記第2の支持区画は、前記第1の支持区画に接触して前記ファセット要素を支持する支持稜部を形成し、
前記第1の支持区画は第1の曲率を有し、前記第2の支持区画は、前記支持稜部と前記ファセット要素の間にほぼ線接触が存在するように該第1の曲率に対応する第2の曲率を有する、
ことを特徴とする方法。 - 前記ファセット要素は、接着剤結合によって前記支持要素に接続されること、
前記ファセット要素は、前記支持稜部に隣接して位置した結合材料を通じて前記支持要素に接続されること、
前記ファセット要素は、前記支持稜部と前記第1の支持区画との間の接触領域内で前記支持要素に接着的に接続されること、及び
前記ファセット要素は、接着、半田付け、レーザ半田付け、溶接、レーザ溶接、拡散接合からなる結合技術の群から選択される少なくとも1つの結合技術によって前記支持要素に接続されること、
のうちの少なくとも1つを特徴とする請求項11に記載の方法。 - 前記支持稜部は、前記支持要素内に凹部を閉じ込める壁の端部に形成され、前記結合材料の大部分が、該支持稜部の、該凹部から離れる方向に向く側に位置付けられること、
前記結合材料は、前記ファセット要素と前記支持要素の間の間隙を密封すること、及び 前記支持稜部は、前記支持要素内に凹部を閉じ込める壁の端部に形成され、該凹部には、冷却媒質及び熱伝達媒質の一方が充填され、該熱伝達媒質は、前記ファセット要素から該支持要素への熱伝達を改善すること、
のうちの少なくとも1つを特徴とする請求項12に記載の方法。 - ファセットミラーデバイスを製造する方法であって、
準備段階において、ファセットミラーデバイスの作動中に光学的に使用される前面と湾曲した第1の支持区画を含む後面とを有するファセット要素と、支持稜部を形成する第2の支持区画を有する支持要素とを準備する段階と、
支持する段階において、前記ファセット要素を前記湾曲した支持稜部が前記第1の支持区画に接触して該ファセット要素を支持するように前記支持要素上に置く段階と、
を含み、
前記第1の支持区画は第1の曲率を有し、前記第2の支持区画は、前記支持稜部と前記ファセット要素の間にほぼ線接触が存在するように該第1の曲率に対応する第2の曲率を有する、
ことを特徴とする方法。 - 前記支持する段階の接触させる段階において、前記ファセット要素の前記後面の一部上に前記第1の支持区画が前記支持稜部に対して加圧されるように作用する負圧が発生されること、
前記支持する段階のファセット調節段階において、前記支持要素に対する前記ファセット要素の位置及び向きのうちの少なくとも一方の調節が、前記ファセットミラーデバイスの作動中に光学的必要性に従って実行されること、及び
前記支持する段階のファセット固定段階において、前記支持要素に対する前記ファセット要素の固定が実行されること、
のうちの少なくとも1つを特徴とする請求項14に記載の方法。 - 前記接触させる段階において、前記負圧は、前記支持稜部を形成する壁によって閉じ込められた前記支持要素内の凹部に発生されること、
前記ファセット調節段階において、前記調節が、前記支持稜部と前記ファセット要素の間の接触荷重から生じる抵抗に対して実行されなければならないように、少なくともわずかな前記負圧が維持されること、
前記ファセット調節段階において、前記負圧は、前記支持要素に対する相対運動に対して前記ファセット要素を固定するために前記調節の完了時に少なくとも一時的に増加させられること、
前記ファセット固定段階において、接着剤結合が、前記ファセット要素と前記支持要素の間に発生すること、
前記ファセット固定段階において、前記ファセット要素は、接着、半田付け、レーザ半田付け、溶接、レーザ溶接、拡散接合からなる結合技術の群から選択される少なくとも1つの結合技術によって前記支持要素に接続されること、及び
前記ファセット固定段階の後に、前記支持稜部を形成する壁によって閉じ込められた凹部には、冷却媒質及び熱伝達媒質の一方が充填され、該熱伝達媒質は、前記ファセット要素から前記支持要素への熱伝達を改善すること、
のうちの少なくとも1つを特徴とする請求項15に記載の方法。 - 前記接触させる段階、前記ファセット調節段階、及び前記ファセット固定段階のうちの1つにおいて、結合材料が、前記支持稜部に隣接して位置付けられる、
ことを特徴とし、
前記結合材料は、前記ファセット要素と前記支持要素に接触すること、及び該ファセット要素と該支持要素との間の間隙を密封することのうちの少なくとも一方を行うこと、及び
前記支持稜部は、前記支持要素内に凹部を閉じ込める壁の端部に形成され、前記結合材料の大部分が、該支持稜部の、該凹部から離れる方向に向く側に位置付けられること、
のうちの少なくとも1つを特徴とする
請求項16に記載の方法。 - 前記調節段階において、
前記ファセット要素の前記前面及び外側面のうちの少なくとも一方と相互作用するマニピュレータが、前記調節をもたらすために使用されること、
触覚マニピュレータ、片持ちバネマニピュレータ、非接触音響マニピュレータ、及び非接触空気圧マニピュレータからなるマニピュレータ群から選択されるマニピュレータが、前記調節をもたらすために使用されること、及び
前記ファセット要素の面に接触する触覚測定ユニット、該ファセット要素と協働する非接触測定ユニット、及び該ファセット要素の反射面区画と協働する光学測定器からなる測定ユニット群から選択される測定ユニットが、該ファセット要素の実際の調節を表す信号を供給するのに使用されること、
のうちの少なくとも1つを特徴とする、
請求項15に記載の方法。 - 前記準備段階において、
前記ファセット要素の少なくとも前記後面は、レンズ製造工程において製造されること、
前記ファセット要素は、シリコン(Si)、シリコンカーバイド(SiC)、石英(SiO2)、ニッケルメッキの銅、及び鋼鉄からなる第1の材料群から選択される第1の材料で作られること、
前記支持要素は、シリコンカーバイド(SiC)、シリコン浸潤シリコンカーバイド(SiSiC)、及びタングステンカーバイド(WC)からなる第2の材料群から選択される第2の材料で作られること、
前記支持稜部は、前記支持要素内に凹部を閉じ込める壁の端部に形成されること、
前記支持稜部は、研磨、化学機械研磨(CMP)、ピッチ研磨、磁気粘性流体研磨(MRFP)、及びロボット研磨からなる加工技術の群から選択される加工技術を用いて形成されること、
前記支持稜部は、0.5mm未満から3mmまでの最小稜部曲率半径を形成する鋭い稜部として形成されること、及び
前記支持稜部及び前記ファセット要素は、該支持稜部のあらゆる稜部点において該支持稜部と該ファセット要素の間の製造公差関連間隙の幅が0.5μm未満から10μmまでであるように選択される製造精度で製造されること、
のうちの少なくとも1つを特徴とする、
請求項14に記載の方法。 - 少なくとも1つの更に別の支持段階において、少なくとも1つの更に別のファセット要素が、前記支持要素の更に別の第2の支持区画上に支持されること、及び
前記支持段階の前の分解段階において、前記支持要素に装着された先行ファセット要素が、該先行ファセット要素と該支持要素の間の接着剤接続の分解をもたらすのに十分な該先行ファセット要素の熱膨張をもたらす該先行使用ファセット要素上に加えられる設定可能な熱負荷を用いて前記支持稜部との接触から解除されること、
のうちの少なくとも1つを特徴とする請求項14に記載の方法。 - ファセットミラーデバイスを製造する方法であって、
準備段階において、ファセットミラーデバイスの作動中に光学的に使用される前面と湾曲した第1の支持区画を含む後面とを有するファセット要素と、支持稜部を形成する第2の支持区画を有する支持要素とを準備する段階と、
支持する段階において、前記ファセット要素を前記第2の支持区画が前記第1の支持区画に接触して該ファセット要素を支持するように前記支持要素上に置く段階と、
前記支持する段階の接触させる段階において、前記第1の支持区画が前記第2の支持区画に対して加圧されるように前記ファセット要素の前記後面の一部上に作用する負圧を発生させる段階と、
を含み、
前記第1の支持区画は第1の曲率を有し、前記第2の支持区画は、前記支持稜部と前記ファセット要素の間にほぼ線接触が存在するように該第1の曲率に対応する第2の曲率を有する、
ことを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/EP2010/060955 WO2012013227A1 (en) | 2010-07-28 | 2010-07-28 | Facet mirror device |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013533632A JP2013533632A (ja) | 2013-08-22 |
JP2013533632A5 JP2013533632A5 (ja) | 2013-10-03 |
JP5738410B2 true JP5738410B2 (ja) | 2015-06-24 |
Family
ID=42671938
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013520975A Expired - Fee Related JP5738410B2 (ja) | 2010-07-28 | 2010-07-28 | ファセットミラーデバイス |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9599910B2 (ja) |
JP (1) | JP5738410B2 (ja) |
CN (1) | CN103140782B (ja) |
TW (1) | TWI459047B (ja) |
WO (1) | WO2012013227A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102012204273B4 (de) * | 2012-03-19 | 2015-08-13 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithografie |
DE102013203035A1 (de) | 2013-02-25 | 2014-08-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches modul |
DE102015208514A1 (de) * | 2015-05-07 | 2016-11-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Facettenspiegel für die EUV-Projektionslithografie sowie Beleuchtungsoptik mit einem derartigen Facettenspiegel |
DE102016205624B4 (de) * | 2016-04-05 | 2017-12-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithografie, Beleuchtungssystem, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Projektionsbelichtung |
DE102019201509A1 (de) * | 2019-02-06 | 2020-08-06 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abstützung eines optischen Elements |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4268123A (en) * | 1979-02-26 | 1981-05-19 | Hughes Aircraft Company | Kinematic mount |
NL8100164A (nl) | 1981-01-15 | 1982-08-02 | Datawell Nv | Drijver voor het meten van golfhellingen. |
JPS57146107U (ja) * | 1981-03-06 | 1982-09-14 | ||
EP0598950B1 (en) * | 1992-11-26 | 1998-03-04 | Océ-Technologies B.V. | Rotary mirror system |
US6043863A (en) * | 1996-11-14 | 2000-03-28 | Nikon Corporation | Holder for reflecting member and exposure apparatus having the same |
SE9800665D0 (sv) * | 1998-03-02 | 1998-03-02 | Micronic Laser Systems Ab | Improved method for projection printing using a micromirror SLM |
TW538256B (en) * | 2000-01-14 | 2003-06-21 | Zeiss Stiftung | Microlithographic reduction projection catadioptric objective |
US7843632B2 (en) * | 2006-08-16 | 2010-11-30 | Cymer, Inc. | EUV optics |
DE10134387A1 (de) * | 2001-07-14 | 2003-01-23 | Zeiss Carl | Optisches System mit mehreren optischen Elementen |
DE10205425A1 (de) | 2001-11-09 | 2003-05-22 | Zeiss Carl Smt Ag | Facettenspiegel mit mehreren Spiegelfacetten |
WO2003067304A1 (de) * | 2002-02-09 | 2003-08-14 | Carl Zeiss Smt Ag | Facettenspiegel mit mehreren spiegelfacetten |
DE10324796A1 (de) | 2003-05-31 | 2004-12-16 | Carl Zeiss Smt Ag | Facettenspiegel mit Spiegelfacetten |
JP2004361624A (ja) * | 2003-06-04 | 2004-12-24 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光モジュール、及び光モジュールの製造方法 |
US7136214B2 (en) * | 2004-11-12 | 2006-11-14 | Asml Holding N.V. | Active faceted mirror system for lithography |
JP2006142388A (ja) * | 2004-11-16 | 2006-06-08 | Nihon Micro Coating Co Ltd | 研磨テープ及び方法 |
WO2007039641A1 (de) * | 2005-10-06 | 2007-04-12 | Gutehoffnungshütte Radsatz Gmbh | Verfahren zur berührungslosen dynamischen erfassung des profils eines festkörpers |
DE102007008448A1 (de) * | 2007-02-19 | 2008-08-21 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zur Herstellung von Spiegelfacetten für einen Facettenspiegel |
KR101769157B1 (ko) * | 2008-10-20 | 2017-08-17 | 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 | 방사선 빔 안내를 위한 광학 모듈 |
-
2010
- 2010-07-28 WO PCT/EP2010/060955 patent/WO2012013227A1/en active Application Filing
- 2010-07-28 CN CN201080069330.6A patent/CN103140782B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2010-07-28 JP JP2013520975A patent/JP5738410B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-07-08 TW TW100124197A patent/TWI459047B/zh not_active IP Right Cessation
-
2013
- 2013-01-18 US US13/744,943 patent/US9599910B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2012013227A1 (en) | 2012-02-02 |
TWI459047B (zh) | 2014-11-01 |
US9599910B2 (en) | 2017-03-21 |
CN103140782A (zh) | 2013-06-05 |
CN103140782B (zh) | 2018-11-27 |
TW201229572A (en) | 2012-07-16 |
US20130120730A1 (en) | 2013-05-16 |
JP2013533632A (ja) | 2013-08-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5960806B2 (ja) | ファセットミラーデバイス | |
JP5337714B2 (ja) | Euv投影露光装置 | |
JP5738410B2 (ja) | ファセットミラーデバイス | |
US8854602B2 (en) | Holding device for an optical element in an objective | |
US9175948B2 (en) | Optical module with a measuring device | |
JP2013533632A5 (ja) | ||
JP2006113414A (ja) | 光学素子保持装置、鏡筒、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 | |
US20150055112A1 (en) | Lithography apparatus and method for producing a mirror arrangement | |
JP2006100315A (ja) | 保持機構、光学装置、及びデバイス製造方法 | |
US7643150B2 (en) | Optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
US9645388B2 (en) | Facet mirror device | |
JP4921699B2 (ja) | 投影露光方法と投影露光システム | |
TW200947151A (en) | Apparatus for supporting an optical element, and method of making same | |
JP7061666B2 (ja) | 半導体フォトリソグラフィで使用するためのアセンブリ及び同一のものを製造する方法 | |
KR102193387B1 (ko) | 보유 지지 장치, 투영 광학계, 노광 장치 및 물품 제조 방법 | |
CN110476125B (zh) | 光学系统及方法 | |
CN117120881A (zh) | 用于生产微光刻投射曝光装置的反射镜的方法 | |
JP6625120B2 (ja) | セラミックコンポーネント間の圧力嵌め接続用の接続機構 | |
JP6357505B2 (ja) | ファセットミラーデバイス | |
CN113424105A (zh) | 光学元件的支撑 | |
US20040257681A1 (en) | Bearing arrangement comprising an optical element and a mount | |
JPH11162807A (ja) | X線露光装置の倍率補正方法及びその装置 | |
CN117099051A (zh) | 用于生产光刻系统的反射镜的方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A524 | Written submission of copy of amendment under article 19 pct |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524 Effective date: 20130723 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130723 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140623 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140625 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20140925 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20141002 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20141027 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20141104 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20141121 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20141201 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141225 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150304 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20150403 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150421 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5738410 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |