JP5727152B2 - 誘電体層を用いたリフレクタ、および、発光装置 - Google Patents
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- 出射光に主軸を有する光源と、前記光源からの出射光を反射する凹面の曲面を有するリフレクタと、を備え、前記リフレクタの前記光源に近い側の端部である前記リフレクタの下端と前記光源の前記出射光の出射面とはほぼ水平に配置され、前記光源は、前記リフレクタの前記凹面の曲面に向かって光を出射する発光装置の前記リフレクタにおいて、
前記リフレクタは、前記凹面の曲面に形成された金属反射面と、前記金属反射面上に積層された複数層からなる誘電体層とを備え、
前記誘電体層は、膜が成長する方向を前記光源の出射光の主軸方向に一致させて、気相成長法により前記金属反射面上に成膜された、前記光源の出射光の主軸に平行な方向についての膜厚が一定な層であることを特徴とするリフレクタ。 - 出射光に主軸を有する光源と、前記光源からの出射光を反射する凹面の曲面を有するリフレクタと、を備え、前記リフレクタの前記光源に近い側の端部である前記リフレクタの下端と前記光源の前記出射光の出射面とはほぼ水平に配置され、前記光源は、前記リフレクタの前記凹面の曲面に向かって光を出射する発光装置の前記リフレクタにおいて、
前記リフレクタは、凹型の曲面に備えられた金属反射面と、前記金属反射面上に積層された複数層からなる誘電体層とを備え、
前記誘電体層は、前記光源から前記リフレクタへ入射する光線の入射角に応じて膜厚が分布しており、前記入射角が大きい領域は膜厚が厚く、前記入射角が小さい領域は膜厚が薄く、
前記誘電体層は、膜が成長する方向を前記光源の出射光の主軸方向に一致させて、気相成長法により前記金属反射面上に成膜された層であることを特徴とするリフレクタ。 - 請求項1または2に記載のリフレクタにおいて、前記誘電体層は、増反射膜であることを特徴とするリフレクタ。
- 請求項1ないし3のいずれか1項に記載のリフレクタにおいて、前記金属反射面が形成された前記リフレクタの前記曲面形状は、前記光源から出射される光を前記光源の出射光の主軸に対してほぼ直角方向に反射させる形状であることを特徴とするリフレクタ。
- 出射光に主軸を有する光源と、前記光源からの出射光を反射する凹面の曲面を有するリフレクタと、を備え、前記リフレクタの前記光源に近い側の端部である前記リフレクタの下端と前記光源の前記出射光の出射面とはほぼ水平に配置され、前記光源は、前記リフレクタの前記凹面の曲面に向かって光を出射する発光装置であって、
前記リフレクタは、前記凹面の曲面に形成された金属反射面と、前記金属反射面上に積層された複数層からなる誘電体層とを備え、
前記誘電体層は、膜が成長する方向を前記光源の出射光の主軸方向に一致させて、気相成長法により前記金属反射面上に成膜された、前記光源の出射光の主軸に平行な方向についての膜厚が一定な層であることを特徴とする発光装置。
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