JP5721416B2 - 熱伝導性接着剤 - Google Patents
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Description
近年、電子部品の薄型化及び小型化が加速していることから、電子部品にはますます反りが生じやすくなっており、重大な問題となっている。また、例えば、自動車に搭載される電子部品は−30℃程度から100℃程度までの温度範囲に曝されるため、このような電子部品に対して用いられる絶縁性放熱材料には、温度変化の少ない環境で用いられる場合と比較して熱伝導性に優れ、充分な信頼性を確保できることが必要とされる。
本発明者は、特定の構造を有するエポキシ化合物と、エポキシ基含有アクリルポリマーと、特定量のエピスルフィド化合物と、硬化剤と、特定量の熱伝導性フィラーとを配合することにより、優れた熱伝導性を達成しつつ、冷熱サイクル下等で生じる不良の原因となる応力を緩和することができ、半導体装置の信頼性を高めることができることを見出し、本発明を完成させるに至った。
なお、本明細書において電子部品には、半導体素子、基板、放熱体等を含む。
上記一般式(1)においてmが2未満であると、上記エポキシ化合物(A)は、高温時に揮発してしまったり、エーテル結合が増えることで吸水率が上昇したりする。上記一般式(1)においてmが4を超えると、上記エポキシ化合物(A)は、粘度が高くなり、熱伝導性接着剤も粘度が高くなって塗布性、作業性等が低下する。
また、上記一般式(1)においてnが9未満であると、上記エポキシ化合物(A)は、高温時に揮発してしまう。上記一般式(1)においてnが11を超えると、上記エポキシ化合物(A)は、粘度が高くなり、熱伝導性接着剤も粘度が高くなって塗布性、作業性等が低下する。
上記一般式(1)中、mの好ましい下限は3であり、nの好ましい下限は10である。
なかでも、熱伝導性接着剤の硬化物の柔軟性をより一層高めることができることから、ポリテトラメチレングリコールジグリシジルエーテル(一般式(1)においてm=4かつn=10)、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル(一般式(1)においてm=3かつn=11)が好適である。
上記エポキシ化合物(A)の数平均分子量のより好ましい下限は850、より好ましい上限は2000であり、更に好ましい下限は900、更に好ましい上限は1500である。
上記エポキシ基含有アクリルポリマーは、エポキシ基が上記エポキシ化合物(A)と反応するとともに、アクリルポリマー骨格が熱伝導性接着剤の硬化物の破断強度を高め、凝集力を高めることができる。従って、上記エポキシ基含有アクリルポリマーを含有することにより、本発明の熱伝導性接着剤は、冷熱サイクル下等で応力が生じた場合にも凝集剥離が抑制される。
上記エポキシ基含有アクリルポリマーのエポキシ当量のより好ましい下限は400、より好ましい上限は800である。
上記エポキシ基含有アクリルポリマーの数平均分子量のより好ましい下限は7000、より好ましい上限は20000である。
上記エポキシ基含有アクリルポリマーの含有量は、上記エポキシ化合物(A)100重量部に対するより好ましい下限が10重量部、より好ましい上限が30重量部である。
上記エピスルフィド化合物は、エポキシ化合物に比べて電子部品に対する接着力が高い。従って、上記エピスルフィド化合物を含有することにより、本発明の熱伝導性接着剤は、冷熱サイクル下等で応力が生じた場合にも電子部品に対する界面剥離が抑制される。ただし、上記エピスルフィド化合物は、エポキシ化合物に比べて反応性が高く、熱伝導性接着剤の硬化物の架橋密度を上げて弾性率を高くする効果をも有することから、冷熱サイクル下等で生じる不良の原因となる応力を充分に緩和することができる程度に、配合量を調整することが重要である。
上記エピスルフィド化合物として、例えば、ビスフェノール型エピスルフィド化合物(ビスフェノール型エポキシ樹脂のエポキシ基の酸素原子を硫黄原子に置換した化合物)、水添ビスフェノール型エピスルフィド化合物、レゾルシノール型エピスルフィド化合物、ナフタレン型エピスルフィド化合物等が挙げられる。なかでも、液状で作業性に優れることから、水添ビスフェノール型エピスルフィド化合物が好適である。
上記エピスルフィド化合物の含有量は、上記エポキシ化合物(A)100重量部に対し好ましい下限が5重量部、好ましい上限が20重量部である。
上記エポキシ化合物(B)は、熱伝導性接着剤の硬化物の高温での弾性率を高め、接着信頼性を高めることができる。また、上記エポキシ化合物(B)を含有することにより、得られる熱伝導性接着剤は硬化速度も速くなることから、電子部品の反りをより一層抑制することができる。
上記エポキシ化合物(B)の分子量のより好ましい下限は200、より好ましい上限は300である。
なお、本明細書においてエポキシ化合物(B)の分子量とは、エポキシ化合物(B)の構造式が特定できる場合には当該構造式から算出できる分子量を意味し、エポキシ化合物(B)が重合体であって構造式が特定できない場合には数平均分子量を意味する。
上記レゾルシノール型エポキシ化合物は特に限定されず、例えば、m−レゾルシノールジグリシジルエーテル、o−レゾルシノールジグリシジルエーテル等が挙げられる。上記レゾルシノール型エポキシ化合物の市販品として、例えば、EX−201、EX−203(いずれもナガセケムテックス社製)等が挙げられる。
上記エポキシ化合物(B)の含有量は、上記エポキシ化合物(A)100重量部に対するより好ましい下限が3重量部、より好ましい上限が10重量部である。
上記硬化剤は特に限定されず、従来公知の硬化剤を用いることができる。上記硬化剤として、例えば、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、コハク酸無水物等の酸無水物硬化剤、フェノール系硬化剤、アミン系硬化剤、ジシアンジアミド等の潜在性硬化剤、カチオン系触媒型硬化剤等が挙げられる。これらの硬化剤は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。なかでも、熱伝導性接着剤の接着信頼性を高めることができることから、酸無水物硬化剤が好適である。
上記二重結合を有する酸無水物は特に限定されず、例えば、ドデセニル無水コハク酸、テトラプロペニル無水コハク酸、メチルブテニルテトラヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。上記二重結合を有する酸無水物の市販品として、例えば、DDSA(新日本理化社製、ドデセニル無水コハク酸)、YH−306(ジャパンエポキシレジン社製、メチルブテニルテトラヒドロ無水フタル酸)等が挙げられる。
なお、本明細書において全ての硬化性成分とは、エポキシ化合物(A)と、エポキシ基含有アクリルポリマーと、エピスルフィド化合物と、必要に応じて配合するエポキシ化合物(B)とを意味する。
上記硬化促進剤を用いることにより、熱伝導性接着剤の硬化速度又は接合信頼性等の物性を更に高めることができる。
上記硬化促進剤として、例えば、イミダゾール系硬化促進剤、3級アミン系硬化促進剤等が挙げられる。これらの硬化促進剤は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。なかでも、熱伝導性接着剤の硬化速度又は硬化物の物性等の調整をするための反応系の制御をしやすいことから、イミダゾール系硬化促進剤が好適である。
上記熱伝導性フィラーの材質は特に限定されず、例えば、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、酸化アルミニウム、ダイヤモンド、アルミニウム、窒化珪素、ジルコニア等が挙げられる。なかでも、高温時でも絶縁性及び耐熱性を保ち、熱伝導性の高い熱伝導性接着剤が得られることから、酸化アルミニウムが特に好ましい。
上記熱伝導性フィラーの平均粒子径のより好ましい下限は1μm、より好ましい上限は5μmである。
上記熱伝導性フィラーのアスペクト比は特に限定されないが、好ましい下限が2、好ましい上限が80であり、より好ましい下限が10、より好ましい上限が50である。
なお、本明細書においてアスペクト比とは、粒子の短径の長さに対する粒子の長径の長さの比(長径の長さ/短径の長さ)を意味する。アスペクト比の値が1に近いほど熱伝導性フィラーの形状は真球に近くなる。
本発明の熱伝導性接着剤における上記熱伝導性フィラーの含有量の好ましい下限は50重量部、好ましい上限は77重量部であり、より好ましい下限は60重量部である。
上記シリカ粒子を用いることにより、熱伝導性接着剤の硬化物の熱膨張を抑制して、不良の原因となる応力を緩和することができる。
上記フェニル基を有するシランカップリング剤として、例えば、フェニルトリメトキシシラン、3−(N−フェニル)アミノプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
また、上記フェニル基を有するシランカップリング剤でシリカ粒子を表面処理する方法として、例えば、シリカ粒子のスラリー中にシランカップリング剤を添加するスラリー法、シリカ粒子を乾燥させた後にシランカップリング剤をスプレー付与するスプレー法等の直接処理法、熱伝導性接着剤を調製する際のシリカ粒子と他の成分との混合時にシランカップリング剤を直接添加するインテグレルブレンド法等も挙げられる。
上記シリカ粒子の含有量は、上記エポキシ化合物(A)100重量部に対するより好ましい下限が100重量部、より好ましい上限が200重量部である。
上記スペーサー粒子を用いることにより、熱伝導性接着剤を用いて電子部品を接合する際に電子部品間の間隔を一定に保つことができる。
なお、本明細書においてアスペクト比とは、粒子の短径の長さに対する粒子の長径の長さの比(長径の長さ/短径の長さ)を意味する。アスペクト比の値が1に近いほどスペーサー粒子の形状は真球に近くなる。
上記スペーサー粒子の平均粒子径のより好ましい下限は9μm、より好ましい上限は50μmである。
なお、本明細書において粒子径のCV値とは、下記式により求められる値を意味する。
CV値(%)=(σ2/Dn2)×100
上記式中、σ2は粒子径の標準偏差を表し、Dn2は数平均粒子径を表す。
上記樹脂粒子を構成する樹脂は、非架橋樹脂であってもよく、架橋樹脂であってもよい。上記非架橋樹脂として、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタラート、ポリブチレンテレフタラート、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリフェニレンオキサイド、ポリアセタール等が挙げられる。上記架橋樹脂として、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジビニルベンゼン重合体、ジビニルベンゼン−スチレン共重合体、ジビニルベンゼン−アクリル酸エステル共重合体、ジアリルフタレート重合体、トリアリルイソシアヌレート重合体、ベンゾグアナミン重合体等が挙げられる。なかでも、スペーサー粒子の硬さと圧縮回復率とを調整しやすく、熱伝導性接着剤の硬化物の耐熱性を向上させることができることから、架橋樹脂が好ましい。
上記スペーサー粒子を表面処理する方法として、例えば、熱伝導性接着剤が全体として疎水性を示す場合には、上記スペーサー粒子の表面に親水基を付与する方法が挙げられる。上記スペーサー粒子の表面に親水基を付与する方法として、例えば、上記スペーサー粒子として上記樹脂粒子を用いる場合、上記樹脂粒子の表面を親水基を有するカップリング剤で処理する方法等が挙げられる。
上記無機イオン交換体を用いることにより、熱伝導性接着剤中のイオン不純物をトラップし、電子部品の電極の腐食を防止することができる。上記無機イオン交換体の市販品として、例えば、IXEシリーズ(東亞合成社製)等が挙げられる。
上記増粘剤として、例えば、シリカ粒子、エチルセルロース、炭化カルシウム等が挙げられる。なお、上記増粘剤としてシリカ粒子を用いる場合、シリカ粒子の平均粒子径の好ましい下限は5nm、好ましい上限は50nmである。
上記増粘剤の含有量は、全ての硬化性成分の総和100重量部に対して、好ましい下限が1重量部、好ましい上限が20重量部である。
本発明の熱伝導性接着剤は、E型粘度計を用いて25℃、10rpmの条件で測定された粘度のより好ましい下限が8Pa・s、より好ましい上限が45Pa・sである。
上記チクソ値が5を超えると、熱伝導性接着剤を用いて電子部品を接合する際、電子部品間に熱伝導性接着剤の未充填部分がある場合、室温にて、熱伝導性接着剤が表面張力によって未充填部分に広がることが困難となることがある。
本発明の熱伝導性接着剤は、硬化物のリフロー温度での弾性率のより好ましい下限が7MPa、より好ましい上限が25MPaであり、更に好ましい上限が23MPaである。
本発明の熱伝導性接着剤は、硬化物のガラス転移温度のより好ましい下限が−10℃、より好ましい上限が20℃であり、更に好ましい下限が−5℃、更に好ましい上限が15℃であり、特に好ましい下限が0℃、特に好ましい上限が12℃である。
上記各成分を混合する方法として、例えば、ホモディスパー、万能ミキサー、バンバリーミキサー、ニーダー等を用いる方法が挙げられる。
本発明の熱伝導性接着剤の用途は特に限定されないが、車載用の半導体装置において特に好適に用いられる。
上記車載用の半導体装置は特に限定されないが、例えば、パワーデバイス半導体素子を支持部材に接合した接合体を、支持部材ごとモールド樹脂で封止した車載用の半導体装置等が挙げられる。このような半導体装置において、本発明の熱伝導性接着剤を用いてパワーデバイス半導体素子と支持部材とを接合すると、パワーデバイス半導体素子で発する熱を効率的に支持部材に伝達して放熱させることができ、かつ、冷熱サイクル下等で生じる応力を緩和することができる結果、クラックの発生、パワーデバイス半導体素子と支持部材との反り及び剥離、モールド樹脂と熱伝導性接着剤との界面での剥離等を抑制することができる。
下記に示した材料を表1及び2に示した配合割合にて配合し、ホモディスパーを用いて攪拌混合することにより、熱伝導性接着剤を調製した。
エポゴーセーPT(ポリテトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、一般式(1)においてm=4かつn=10、四日市合成社製、数平均分子量900)
EXA−4850−150(ポリプロピレングリコール骨格含有エポキシ、一般式(1)においてm=3、DIC社製、数平均分子量900)
EXA−4850−1000(ポリプロピレングリコール骨格含有エポキシ、一般式(1)においてm=3、DIC社製、数平均分子量700)
EX−931(ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、一般式(1)においてm=3かつn=11、ナガセケムテックス社製、数平均分子量770)
CP−15(日油社製、数平均分子量11000、エポキシ当量1000)
CP−30(日油社製、数平均分子量9000、エポキシ当量530)
CP−50M(日油社製、数平均分子量10000、エポキシ当量310)
CP−50S(日油社製、数平均分子量20000、エポキシ当量310)
CP−20SAP(日油社製、数平均分子量8000、エポキシ当量750)
YL−7007(水添ビスフェノール型エピスルフィド化合物、ジャパンエポキシレジン社製)
EXA−830−CRP(ビスフェノールF型エポキシ化合物、DIC社製、分子量324)
AX−3(アルミナ、マイクロン社製、平均粒子径3μm)
SE−4050―SPE(フェニル基を有するシランカップリング剤で表面処理されたシリカ粒子、平均粒子径1μm、アドマテックス社製)
YH−306(メチルブテニルテトラヒドロ無水フタル酸、ジャパンエポキシレジン社製)
P−0505(エポキシアダクト型イミダゾール化合物、四国化成工業社製)
SP−210(平均粒子径10μm、積水化学工業社製)
SP−1000(イミダゾールシラン、日鉱金属社製)
PM−20L(表面シリコーンオイル処理ヒュームドシリカ、トクヤマ社製)
実施例及び比較例で得られた熱伝導性接着剤について、以下の評価を行った。結果を表1及び2に示した。
得られた熱伝導性接着剤の10mm×10mmにカットしたフィルム状のサンプルについて、熱伝導率測定装置(LFA447ナノフラッシュ、NETZSCH社製)を用いて熱伝導率の測定を行った。熱伝導率が1.0W/m・K以上であった場合を○、1.0W/m・K未満であった場合を×とした。
熱伝導性接着剤を10mLシリンジ(武蔵エンジニアリング社製)に充填し、シリンジの先端に精密ノズル(武蔵エンジニアリング社製、ノズル先端径0.3mm)を取り付けた。ディスペンサ装置(SHOT MASTER300、武蔵エンジニアリング社製)を用いて、吐出圧0.4MPa、支持部材とニードルとのギャップ200μm、塗布量5mgの条件で、支持部材としての表面Niメッキ無酸素銅(厚さ0.25mm)上に熱伝導性接着剤を塗布し、接着剤層を形成した。接着剤層が形成された支持部材上にアルミナ基板(厚さ0.8mm)を常温で0.1MPaの圧力で5秒間押圧することにより積層し、110℃40分、150℃15分間加熱し、接着剤層を硬化させることにより接合体を作製した。
上記(2)の電子部品の反りの評価と同様にして得られた接合体をモールド封止した後、−40〜150℃(30分/1サイクル)、500サイクルの冷熱サイクル試験を行った。その後、超音波測定装置(日立建機社製)による剥離検査と断面研磨によるクラック検査とを行った。クラックもボイドも確認できなかった場合を○、クラック及び/又はボイドが確認できた場合を×とした。
Claims (7)
- 下記一般式(1)で表される構造を有するエポキシ化合物と、エポキシ基含有アクリルポリマーと、エピスルフィド化合物と、硬化剤と、熱伝導性フィラーとを含有し、
前記一般式(1)で表されるエポキシ化合物100重量部に対する前記エピスルフィド化合物の含有量が1重量部以上、30重量部未満であり、
前記熱伝導性フィラーは、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、酸化アルミニウム、ダイヤモンド、アルミニウム、窒化珪素又はジルコニアからなり、
熱伝導性接着剤100重量部中、前記熱伝導性フィラーの含有量が40〜85重量部である
ことを特徴とする熱伝導性接着剤。
- 更に、芳香族骨格を有し、かつ、分子量が150〜500であるエポキシ化合物を、一般式(1)で表される構造を有するエポキシ化合物100重量部に対して1〜20重量部含有することを特徴とする請求項1記載の熱伝導性接着剤。
- エピスルフィド化合物は、水添ビスフェノール型エピスルフィド化合物であることを特徴とする請求項1又は2記載の熱伝導性接着剤。
- 一般式(1)で表される構造を有するエポキシ化合物は、数平均分子量が800〜10000であることを特徴とする請求項1、2又は3記載の熱伝導性接着剤。
- エポキシ基含有アクリルポリマーは、エポキシ当量が300〜1000であることを特徴とする請求項1、2、3又は4記載の熱伝導性接着剤。
- エポキシ基含有アクリルポリマーは、数平均分子量が5000〜50000であることを特徴とする請求項1、2、3、4又は5記載の熱伝導性接着剤。
- 硬化剤は、酸無水物硬化剤であることを特徴とする請求項1、2、3、4、5又は6記載の熱伝導性接着剤。
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