JP5708581B2 - 割断形成永久磁石及びその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、割断形成永久磁石及びその製造方法に係り、特に、保磁力性能の高い金属を内部に拡散する割断形成永久磁石及びその製造方法に関する。

永久磁石の性能を示すものとして、保磁力（Ｈｃ）と残留磁化（Ｂｒ）が用いられる。保磁力は、磁化された磁性体を磁化されていない状態に戻すために必要な反対向きの外部磁場の強さをいう。残留磁化は、外部磁場がゼロになったとき、残っている磁化である。

回転電機のロータに永久磁石が配置されると、ステータからの磁界をうけるが、ステータからの磁場の方向がロータに配置された永久磁石の磁化の方向と反対向きとなるときに、保磁力が小さいと永久磁石の減磁が生じる。そこで、外部磁場を受ける永久磁石の表面の保磁力を高くするため、保磁力性能の高い金属を永久磁石の表面から内部に向かって拡散させることが行われる。

例えば、特許文献１には、永久磁石の保磁力性能を向上させる製造方法として、ネオジム（Ｎｄ）−鉄（Ｆｅ）−ホウ素（Ｂ）系焼結磁石に保磁力性能の高いジスプロシウム（Ｄｙ）やテルビウム（Ｔｂ）を粒界拡散させて添加し、ネオジムと置換することが述べられている。

特許文献２にも、ネオジム−鉄−ホウ素系焼結磁石に保磁力性能の高いジスプロシウムやテルビウムの金属粒を粒界拡散させて保磁力性能を向上させることが述べられている。ここでは、永久磁石の内部まで完全にジスプロシウム等が浸透してしまうと永久磁石の磁化特性をかえって低下させてしまうので、金属粒の拡散浸透を表層の数１０μｍから数ｍｍ程度の深度まで実施するのがよい、とされている。

特許文献３にも、ネオジム−鉄−ホウ素系焼結磁石に保磁力性能の高いジスプロシウムやテルビウムの金属粒を粒界拡散させて保磁力性能を向上させることが述べられている。ここでは、酸化物の生成エネルギがネオジムおよびジスプロシウムのいずれよりも小さいイットリウム（Ｙ）をジスプロシウムの拡散前に存在させておくことで、ジスプロシウムが焼結体の内部深くまで拡散することが述べられている。

なお、本発明とは磁石分割の方向が異なるが、特許文献４には、界磁極用永久磁石を複数の磁石片に分割することが述べられている。ここでは、界磁用永久磁石の渦電流による発熱を抑制するため、長方形の板状の界磁極用永久磁石母材をその長手方向に沿って複数に分割して磁石片とする。そして、この複数の磁石片の間を絶縁性部材で分離しながら結合して、元の永久磁石と同じ形状に戻すことが述べられている。

特開２０１２−３９１００号公報 特開２０１１−１０８７７６号公報 特開２０１２−４３９６８号公報 特開２０１０−２５９２３１号公報

従来技術によれば、永久磁石の表面から内部に向かって保磁力性能の高い金属を拡散させることで、永久磁石の表面の保磁力を高めることができる。ここで、特許文献２で述べられているように、保磁力性能の高い金属の拡散は所定の深さまでに留められる。そこで、表面の保磁力を高めた永久磁石母材を特許文献４で述べられているように複数の磁石片に分割すると、分割面の表面において保磁力性能の高い金属が拡散されていない内部の部位が露出する。保磁力が高められていない露出面が強い交番磁界の磁場に曝されると、減磁が生じる恐れがある。

本発明の目的は、永久磁石母材を複数に分割して形成されるときでも、減磁が生じ難い割断形成永久磁石及びその製造方法を提供することである。

本発明に係る割断形成永久磁石は、母材よりも保磁力性能が高い金属を内部に拡散させた永久磁石母材を複数に分割して形成される割断形成永久磁石であって、保磁力性能が高い金属を内部へ拡散する切欠部を備え、該切欠部で母材を複数に分割するときに、該切欠部で分割された分割面には母材よりも保磁力性能が高い金属の拡散層が全面に存在し、母材層が露出していないことを特徴とする。

また、本発明に係る割断形成永久磁石において、切欠部は、直線状に配置された複数の凹部であることが好ましい。

また、本発明に係る割断形成永久磁石において、切欠部は、直線状の切欠溝であることが好ましい。

また、本発明に係る割断形成永久磁石において、永久磁石母材は、２つの割断形成永久磁石に分割され、２つの割断形成永久磁石は、回転電機の複数の界磁のそれぞれの界磁を形成する１対の永久磁石であることが好ましい。

また、本発明に係る永久磁石の製造方法は、永久磁石母材に切欠部を直線状に設ける工程と、永久磁石母材よりも保磁力性能が高い金属を永久磁石母材の切欠部の表面を含む表面から内部に拡散させる工程と、直線状の切欠部に沿って永久磁石母材を複数の永久磁石に分割する工程と、を含むことを特徴とする。

上記構成の少なくとも１つにより、割断形成永久磁石は、母材よりも保磁力性能が高い金属を内部へ拡散する切欠部を備え、該切欠部で母材を複数に分割して形成される。保磁力性能が高い金属は、切欠部の表面から所定の深さまで拡散できるので、分割された割断面では、切欠部のない場合に比較して、切欠部の深さ分だけ深く保磁力性能の高い金属が拡散している。これによって、割断面が交番磁界の磁場に曝されても、切欠部のない場合に比較して、減磁が生じ難くなる。

また、切欠部は、直線状に配置された複数の凹部であるので、容易に切欠部を形成することができる。また、切欠部が、直線状の切欠溝であっても、容易に切欠部を形成することができる。

また、永久磁石母材を２つの割断形成永久磁石に分割して、回転電機の複数の界磁のそれぞれの界磁を形成する１対の永久磁石として用いられる。この１対の永久磁石のそれぞれは、外部からの交番磁界の磁場に曝されても、切欠部のない場合に比較して、減磁が生じ難い。これによって、回転電機の性能を長期に渡って維持できる。

また、上記構成の少なくとも１つにより、割断形成永久磁石の製造方法は、永久磁石母材に切欠部を直線状に設け、永久磁石母材よりも保磁力性能が高い金属を永久磁石母材の切欠部の表面を含む表面から内部に拡散させ、直線状の切欠部に沿って永久磁石母材を複数の永久磁石に分割する。このように、切欠部を、保磁力性能の高い金属の拡散導入のためのくぼみの機能と、分割しやすくする切欠の機能とに用いるので、割断形成永久磁石の製造工程を簡略化することができる。

本発明に係る実施の形態において、永久磁石母材を２つに分割して形成された割断形成永久磁石を示す図である。 本発明に係る実施の形態において、割断形成永久磁石の製造方法の手順を示すフローチャートである。 図２の手順において、準備された永久磁石母材を示す図である。 図２の手順において、切欠部が形成された永久磁石母材を示す図である。 図２の手順において、保磁力性能の高い金属が拡散された永久磁石母材について、一部断面図を用いて示す図である。 図２の手順において、永久磁石母材について切欠部を用いて２つに分割して形成された割断形成永久磁石を示す図である。 本発明に係る実施の形態において、他の切欠部の例を示す図である。 本発明に係る実施の形態の割断形成永久磁石を、切欠部のない従来技術と比較して示す図である。 本発明に係る実施の形態の割断形成永久磁石を回転電機のロータの界磁用磁石として用いる例を示す図である。

以下に図面を用いて本発明に係る実施の形態につき、詳細に説明する。以下では、永久磁石母材を直方体として示すが、これ以外の形状であってもよい。例えば、円弧形状を含む平板形状、円形断面や楕円断面等を有する棒状形状等、予め定められた立体形状の永久磁石母材でも構わない。また、以下では、１つの永久磁石母材が２つの割断形成永久磁石に分割されることを述べるが、これは説明のための例示であって、１つの永久磁石母材から分割される割断形成永久磁石の数は、３以上であってもよい。

また、永久磁石母材をＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系の希土類磁石として述べるが、これ以外の希土類磁石、例えば、サマリウムコバルト系磁石、サマリウム鉄窒素系磁石等であってもよい。また、希土類磁石の他、フェライト磁石、アルニコ磁石であってもよい。永久磁石母材よりも保磁力性能が高い金属としてジスプロシウム（Ｄｙ）を述べるが、テルビウム（Ｔｂ）であってもよい。

以下では、全ての図面において同様の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。また、本文中の説明においては、必要に応じそれ以前に述べた符号を用いるものとする。

図１は、永久磁石母材を２つに分割して形成された割断形成永久磁石３０，３２を示す図である。割断形成永久磁石３０，３２は、元々は、割断形成永久磁石３０のＳ１面と割断形成永久磁石３２のＳ２面が一体となって、永久磁石母材を形成していたものを２つに分割したものである。Ｓ１面とＳ２面は、分割の際の割断面である。割断形成永久磁石３０，３２は、それぞれがＬ×Ｗ×Ｈの寸法を有している。したがって、分割前の状態である永久磁石母材は、２Ｌ×Ｗ×Ｈの寸法を有している。

割断形成永久磁石３０，３２は、ネオジム（Ｎｄ）−鉄（Ｆｅ）−ホウ素（Ｂ）系の希土類焼結磁石で、その表面からジスプロシウム（Ｄｙ）が予め定めた所定深さに拡散されたものである。この磁石は、ＦｅにＮｄ，Ｂが添加されて焼結された磁石であるが、Ｎｄ，Ｂ以外の元素が微小量添加されていてもよい。ジスプロシウム（Ｄｙ）は、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石が有する保磁力よりも高い保磁力性能を有する金属で、これを表面から拡散させることで、割断形成永久磁石３０，３２の表面の保磁力を内部よりも高くしている。図１では、ジスプロシウム（Ｄｙ）が拡散された部分２０を斜線で示した。ジスプロシウム（Ｄｙ）の拡散深さは、割断形成永久磁石３０，３２の仕様によって定めることができるが、一例を示すと、数μｍから数ｍｍの間の適切な値に設定される。ジスプロシウム（Ｄｙ）の拡散深さは、Ｌ，Ｗ，Ｈのいずれよりも十分に小さい値に設定される。

このように、割断形成永久磁石３０，３２は、永久磁石母材であるＮｄ−Ｆｅ−Ｂよりも保磁力性能が高い金属であるジスプロシウム（Ｄｙ）を内部に拡散させたものを、２つに分割して形成された永久磁石である。ジスプロシウム（Ｄｙ）の拡散深さは、Ｗよりも十分に小さいので、ジスプロシウム（Ｄｙ）が表面から内部に拡散させた例えば直方体の永久磁石母材を単純に２つに分割すると、割断面には、ジスプロシウム（Ｄｙ）が拡散されていない面が露出する。

そこで、本発明においては、永久磁石母材には、ジスプロシウム（Ｄｙ）が内部に拡散するために、複数の凹部１２，１４，１６である切欠部が直線状に設けられる。この切欠部である凹部１２，１４，１６は、永久磁石母材の長さである２Ｌのちょうど中間の位置に設けられる。そして、この切欠部である凹部１２，１４，１６の位置で、永久磁石母材が２つに分割される。

このように、割断形成永久磁石３０，３２は、保磁力性能が高い金属であるジスプロシウム（Ｄｙ）を内部に拡散するために設けられた切欠部で複数に分割して形成されたものである。凹部１２，１４，１６は、ジスプロシウム（Ｄｙ）が内部に拡散するくぼみとしての機能と、永久磁石母材を２つに分割しやすくする切り欠きとしての機能とを有する。

本発明においても、ジスプロシウム（Ｄｙ）が内部に拡散し易くする凹部１２，１４，１６の位置で永久磁石母材が２つに分割されると、分割された割断形成永久磁石３０，３２の割断面であるＳ１面とＳ２面には、ジスプロシウム（Ｄｙ）が拡散されていない面２２が現れる場合がある。このジスプロシウム（Ｄｙ）が拡散されていない面２２のＷ方向の幅寸法は、およそ［Ｗ−｛（凹部１２，１４，１６の深さ）＋（ジスプロシウム（Ｄｙ）の拡散深さ）｝×２］となる。したがって、（凹部１２，１４，１６の深さ）を適切に設定することで、割断面におけるジスプロシウム（Ｄｙ）が拡散されていない面２２のＷ方向の幅寸法を所望の小さい値にすることができる。例えば、（凹部１２，１４，１６の深さ）を［Ｗ／２−（凹部１２，１４，１６の深さ）以上とすることで、割断面におけるジスプロシウム（Ｄｙ）が拡散されていない面２２が現れないようにできる。

かかる割断形成永久磁石３０，３２の製造方法について図２から図６を用いて説明する。図２は、割断形成永久磁石３０，３２の製造方法の手順を示すフローチャートで、図３から図６は、各手順の内容を示す図である。

割断形成永久磁石３０，３２を製造する最初は、永久磁石母材１０の準備工程である（Ｓ１０）。永久磁石母材１０は、最後に２つの割断形成永久磁石３０，３２に分割されるが、分割前までは、１つの永久磁石体である。図３に示すように、永久磁石母材１０は、２Ｌ×Ｗ×Ｈの寸法を有する直方体形状である。永久磁石母材１０は、Ｎｄ₂Ｆｅ₁₄Ｂの希土類焼結磁石である。質量％で組成の１例を示すと、Ｎｄが２５％、Ｂが１％、Ｐｒが３．１％、Ｃｏが１％、Ｓ１ｌが０．１％、Ｃｕが０．１％、Ｏが０．１％、残りがＦｅである。

次は、永久磁石母材１０の表面と裏面にそれぞれ切欠部を形成する工程である（Ｓ１２）。ここで、切欠部は、直線状に配置された複数の凹部１２，１４，１６である。直線状の配置は、永久磁石母材１０の長さ２Ｌのちょうど中間の位置におかれる。図４に示されるように、切欠部としては、永久磁石母材１０の表面に６つの凹部、裏面に６つの凹部がそれぞれ形成される。図４では、これら１２個の凹部のうち、凹部１２，１４，１６の３つに代表させて符号を付してある。

凹部１２，１４，１６は、Ｗ方向に延びるくぼみである。凹部１２，１４，１６の深さは２つの観点から設定される。

凹部１２，１４，１６の深さを決める１つ目の観点は、永久磁石母材１０が２つの割断形成永久磁石に分割されたときに、割断面においてジスプロシウム（Ｄｙ）が拡散されていない面２２のＷ方向の幅寸法を所望の小さい値にする観点である。この観点からは、Ｗの寸法値と、ジスプロシウム（Ｄｙ）の拡散深さに基づいて、凹部１２，１４，１６の深さが計算される。

なお、凹部１２，１４，１６の隣接配置間隔は、ジスプロシウム（Ｄｙ）の拡散深さの２倍以下となるように設定されることが好ましい。このようにすることで、少なくとも凹部１２，１４，１６の深さまでの範囲の内部において、隣接する凹部の間におけるＮｄ−Ｆｅ−Ｂの部分に、凹部１２，１４，１６の表面からジスプロシウム（Ｄｙ）が拡散される。

凹部１２，１４，１６の深さを決める２つ目の観点は、永久磁石母材１０を２つの割断形成永久磁石に分割する際に、無理なく割れるようにする観点である。この観点からは、永久磁石母材１０の割れやすさを示す物性値と、Ｗの寸法値とに基づいて、凹部１２，１４，１６の深さが計算される。

そして、２つの観点からそれぞれ計算される凹部１２，１４，１６の深さの中で、大きな値の方に、凹部１２，１４，１６の深さが設定される。

Ｓ１２の次は、ジスプロシウム（Ｄｙ）の拡散工程である（Ｓ１４）。この工程では、永久磁石母材１０よりも保磁力性能が高い金属であるジスプロシウム（Ｄｙ）を、永久磁石母材１０の切欠部である凹部１２，１４，１６の表面を含む表面から内部に拡散させる。ジスプロシウム（Ｄｙ）を拡散させる方法はいくつかある。

１つは、スパッタリングでジスプロシウム（Ｄｙ）からなる薄膜を永久磁石母材１０の表面に形成し、真空雰囲気または不活性ガス雰囲気で、高温処理を行い、その後室温に戻し、再び高温処理を行うものである。例えば、薄膜形成後、適当な減圧下で８００℃から９００℃で１０時間保持し、その後一旦室温に戻し、次に５００℃で１時間保持する。これによって、ジスプロシウム（Ｄｙ）は、凹部１２，１４，１６の表面を含む全表面から所望の拡散深さに拡散する。なお、これらの温度条件、保持時間は例示であって、これ以外の条件であってもよい。

他の方法の１つは、真空ガラス封入された永久磁石母材１０とジスプロシウム（Ｄｙ）を、高温雰囲気で熱処理し、室温に戻した後、再び高温処理を行うものである。例えば、真空ガラス封入されたものを、８００℃から９００℃で５０時間保持し、その後一旦室温に戻し、次に５００℃で１時間保持する。これによって、ジスプロシウム（Ｄｙ）は、凹部１２，１４，１６の表面を含む全表面から所望の拡散深さに拡散する。なお、これらの温度条件、保持時間は例示であって、これ以外の条件であってもよい。

図５は、ジスプロシウム（Ｄｙ）が拡散された永久磁石母材１０を示す図である。ここでは、一部断面図を用いて、ジスプロシウム（Ｄｙ）の拡散深さｄと、ジスプロシウム（Ｄｙ）が拡散されていない部分２３が示されている。凹部１２，１４が配置されるところでは、ジスプロシウム（Ｄｙ）が拡散されていない部分２３が狭くなっていることが分かる。

再び図２に戻り、次は、永久磁石母材１０を切欠位置で分割する工程である（Ｓ１６）。分割が終わると、２つの割断形成永久磁石３０，３２が得られる（Ｓ１８）。図２では、一般的に、「複数の永久磁石」と示されているが、ここでは、２つの割断形成永久磁石が得られる。Ｓ１２の工程で、Ｎ列の直線状の切欠部を形成すれば、（Ｎ＋１）の割断形成永久磁石を得ることができる。

図６は、分割の様子を示す図である。図６（ａ）には、図５の状態の永久磁石母材１０の表面の切欠部である凹部１２，１４，１６が配置される方向に合わせて、ブレーカ３４が押し付けられる様子が示されている。ブレーカ３４の押付力によって、切欠部である凹部１２，１４，１６が永久磁石母材１０の割断の基点となる。図６の場合、ブレーカ３４が押し付けられる面の反対側の凹部が割断のきっかけとなる。割断は、凹部１２，１４，１６が配置される直線状に沿って生じ、図６（ｂ）に示されるように、２つの割断形成永久磁石３０，３２に分割される。図６（ｂ）は、図１と同じ図である。

図７は、Ｓ１２で形成される切欠部の他の例を示す図である。図７（ａ）は、切欠部として、直線状の切欠溝４０，４２が形成される例である。切欠溝４０，４２は、永久磁石母材１０の表面と裏面に形成される。切欠溝４０，４２の配置位置、溝の深さの設定は、図４で説明した凹部１２，１４，１６の場合と同じである。図４では凹部１２，１４，１６が、図７（ａ）では切欠溝４０，４２が、永久磁石母材１０の表面と裏面に形成されたが、これを表面のみに形成し、または裏面のみに形成してもよい。図７（ｂ）は、永久磁石母材１０の表面のみに凹部１４，１６を形成した例を示す図である。裏面４４には凹部が形成されない。

図８は、切欠部の有無の差を示す図である。図８（ａ）は、図１で説明した割断形成永久磁石３０である。ここでは、切欠部として凹部１２，１４，１６が形成される。ここで、割断面においてジスプロシウム（Ｄｙ）が拡散されていない面２２のＷ方向の幅寸法は、［Ｗ−｛（凹部１２，１４，１６の深さ）＋（ジスプロシウム（Ｄｙ）の拡散深さ）｝×２］である。図８（ｂ）は、切欠部を設けずに直方体の永久磁石母材１０を単純に２つに分割した割断形成永久磁石５０の場合である。この場合、割断面においてジスプロシウム（Ｄｙ）が拡散されていない面５２のＷ方向の幅寸法は、［Ｗ−｛（ジスプロシウム（Ｄｙ）の拡散深さ）｝×２］である。

このように、切欠部を設けることで、割断面においてジスプロシウム（Ｄｙ）が拡散されていない面のＷ方向の幅寸法を、（凹部１２，１４，１６の深さ）×２だけ小さくすることができる。これによって、割断面において、保磁力が高くできていない部分を大幅に減少させ、好ましくは、割断面において、保磁力が高くできない部分をなくすことができる。

図９は、割断形成永久磁石３０，３２を回転電機のロータ６０の界磁用磁石として用いる例を示す図である。図９は、ロータ６０において、１極の界磁を形成するために、１対の界磁用磁石を配置する１対の磁石用スロット６２，６４が示されている。ここで、磁石用スロット６２，６４には、割断形成永久磁石３０のＨ方向（図１参照）がロータ６０の軸方向と一致するように挿入され、磁石用スロット６２，６４と割断形成永久磁石３０，３２との間の隙間に樹脂６６，６８が充填される。割断形成永久磁石３０，３２は、１つの永久磁石母材１０を分割したものであるので、磁気的特性が揃っているので、１対の界磁用磁石として好適に用いることができる。

ロータ６０には、ステータからの交番磁界７０が交差するので、割断形成永久磁石３０，３２は、交番磁界による磁場に曝される。交番磁界の磁場のうち、割断形成永久磁石３０，３２の保磁力が小さいと、磁化の方向と逆方向の逆磁界によって減磁が生じ得る。減磁が生じると回転電機のトルクが低下する。本発明では、割断形成永久磁石３０，３２の割断面を含むほぼ全表面に保磁力性能の高いジスプロシウム（Ｄｙ）が拡散され、逆磁界に耐える割断形成永久磁石３０，３２とすることができる。

割断形成永久磁石３０，３２において、ステータからの交番磁界７０の影響を受けるのは、図９でＡ、Ｂ，Ｃとして示した部位である。部位Ａは、割断面Ｓ１，Ｓ２がある部位である。図１で説明したように、割断面Ｓ１，Ｓ２には切欠部である凹部１２，１４，１６が設けられるので、ジスプロシウム（Ｄｙ）が拡散されていない面２２が小さくされ、保磁力を所望の大きさに維持することができる。これによって、割断形成永久磁石３０，３２の減磁を抑制し、回転電機のトルク特性を維持できる。

上記では、永久磁石母材１０の全表面からジスプロシウム（Ｄｙ）を拡散するものとして説明した。ジスプロシウム（Ｄｙ）は希少資源であり、また高価であるので、割断形成永久磁石３０，３２において保磁力を高める必要がある部位が限定されるときは、その部位のみにジスプロシウム（Ｄｙ）を拡散することが好ましい。図９の例では、部位Ａ，Ｂ，Ｃの周辺の部位のみにジスプロシウム（Ｄｙ）を拡散するものとすることがよい。

本発明に係る割断形成永久磁石は、車両搭載用の回転電機の界磁用磁石として利用できる。

１０ 永久磁石母材、１２，１４，１６ （切欠部である）凹部、２０ ジスプロシウム（Ｄｙ）が拡散された部分、２２，５２ ジスプロシウム（Ｄｙ）が拡散されていない面、２３ ジスプロシウム（Ｄｙ）が拡散されていない部分、３０，３２，５０ 割断形成永久磁石、３４ ブレーカ、４０，４２ （切欠部である）切欠溝、４４ 裏面、６０ ロータ、６２，６４ 磁石用スロット、６６、６８ 樹脂、７０ 交番磁界。

Claims (5)

1. 母材よりも保磁力性能が高い金属を内部に拡散させた永久磁石母材を複数に分割して形成される割断形成永久磁石であって、
   保磁力性能が高い金属を内部へ拡散する切欠部を備え、
   該切欠部で母材を複数に分割するときに、該切欠部で分割された分割面には母材よりも保磁力性能が高い金属の拡散層が全面に存在し、母材層が露出していないことを特徴とする割断形成永久磁石。
2. 請求項１に記載の割断形成永久磁石において、
   切欠部は、直線状に配置された複数の凹部であることを特徴とする割断形成永久磁石。
3. 請求項１に記載の割断形成永久磁石において、
   切欠部は、直線状の切欠溝であることを特徴とする割断形成永久磁石。
4. 請求項１に記載の割断形成永久磁石において、
   永久磁石母材は、２つの割断形成永久磁石に分割され、
   ２つの割断形成永久磁石は、回転電機の複数の界磁のそれぞれの界磁を形成する１対の永久磁石であることを特徴とする割断形成永久磁石。
5. 永久磁石母材に切欠部を直線状に設ける工程と、
   永久磁石母材よりも保磁力性能が高い金属を永久磁石母材の切欠部の表面を含む表面から内部に拡散させる工程と、
   直線状の切欠部に沿って永久磁石母材を複数の永久磁石に分割する工程と、
   を含むことを特徴とする割断形成永久磁石の製造方法。

Images