JP5706212B2 - 固体撮像素子およびその製造方法、電子情報機器 - Google Patents
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η=G・△Vsig/△Qsig=G/CFD
となる。ここで、Gは、増幅器(増幅トランジスタ)のゲインであり、通常、ソースフォロワ回路を用いた場合、1より若干小さい値(〜0.9)を示す。電荷電圧変換効率ηを大きくするには電荷検出部106の容量CFDを小さくする必要がある。この電荷検出部106の容量CFDは、電荷検出部106に接続された電荷転送トランジスタ107のドレイン側接合容量と増幅器(増幅トランジスタ)の入力容量および基板(この場合Pウエル102)とのジャンクション容量、配線間のカップリング容量の総和である。変換電圧信号Vsig=Qsig(信号電荷)/電荷検出部106の容量CFDであるので、電荷検出部106の容量CFDが小さければ小さいほど、変換電圧Vの値が大きくなって電荷電圧変換率ηがよくなる。
図1は、本発明の実施形態1の2次元増幅型固体撮像素子における深部電界緩和層N−のイオン注入平面視パターンを含む要部構成例を模式的に示す平面図である。図2は、図1のAA’線縦断面図である。
図4は、本発明の実施形態2の2次元増幅型固体撮像素子における深部電界緩和層N−のイオン注入平面視パターンを含む要部構成例を模式的に示す平面図である。図5は、図4のBB’線縦断面図である。なお、図4および図5では、図1および図2の構成部材と同一の作用効果を奏する部材には同一の符号を付して説明する。
図6は、本発明の実施形態3の2次元増幅型固体撮像素子における要部構成例を模式的に示す縦断面図である。なお、図6では、図2の構成部材と同一の作用効果を奏する部材には同一の符号を付して説明する。
図9は、本発明の実施形態4として、本発明の実施形態1〜3の固体撮像素子のいずれかを撮像部に用いた電子情報機器の概略構成例を示すブロック図である。
2、2A、2B N型基板
3、3A、3B P型ウェル
4 表面酸化膜
5 表面高濃度拡散層
6 埋め込みフォトダイオード
7 電荷検出部
8 電荷転送トランジスタ
8a、9a ゲート
9 リセットトランジスタ
10 拡散層
11 素子分離酸化膜
12、12A 深部電界緩和層
13 増幅トランジスタを含む増幅器
14,14A 回路用P型ウェル
15 フォトダイオード用P型ウェル
Claims (9)
- 入射光を光電変換して撮像する複数の受光部が2次元状に設けられて複数の画素部が構成された固体撮像素子において、
該画素部毎に、該受光部の第1導電型光電変換部と、該第1導電型光電変換部から電荷転送された信号電荷を信号電圧に変換する第1導電型信号検出部とを有し、
第1導電型基板の上部に第2導電型ウエルが設けられ、該第2導電型ウエル内に該第1導電型光電変換部および該第1導電型信号検出部が設けられており、該第1導電型信号検出部の下方の第2導電型ウエルは完全に空乏化されており、
該第1導電型信号検出部の下方位置で、該第1導電型基板と該第2導電型ウエルの境界部を含む位置に、該第1導電型信号検出部の不純物濃度よりも低濃度の第1導電型拡散層が設けられている固体撮像素子。 - 前記低濃度の第1導電型拡散層は、前記第1導電型信号検出部との間に前記第2導電型ウエルが介在するように、該第1導電型信号検出部下から深さ方向に離れた位置に深部電界緩和層として設けられている請求項1に記載の固体撮像素子。
- 前記第1導電型光電変換部の下方の第2導電型ウエルが完全に空乏化されている請求項1に記載の固体撮像素子。
- 前記第1導電型光電変換部の下方の第2導電型ウエルと前記第1導電型基板の間の境界の深さ位置が、当該第2導電型ウエルにGND電位を持つ中性領域が存在する場合に比べて浅く形成されている請求項3に記載の固体撮像素子。
- 前記第1導電型信号検出部に電荷転送された信号電荷に対応した信号電圧に応じて信号を増幅して出力する増幅器をさらに有する請求項1に記載の固体撮像素子。
- 前記第1導電型はN型であり、前記第2導電型はP型である請求項1に記載の固体撮像素子。
- 前記第1導電型光電変換部は、
該第1導電型光電変換部の表面側に設けられた第2導電型表面高濃度拡散層と、該第1導電型光電変換部の前記第1導電型基板側に設けられた前記第2導電型ウエルとにより囲まれた埋め込み型フォトダイオードで構成されている請求項1に記載の固体撮像素子。 - 請求項1に記載の固体撮像素子の製造方法において、
入射光を光電変換して撮像する第1導電型光電変換部から電荷転送された信号電荷を信号電圧に変換する第1導電型信号検出部となる領域の下方領域に第1導電型不純物をイオン注入して、前記第1導電型基板と前記第2導電型ウエルの境界部を含む位置に該第1導電型信号検出部の不純物濃度よりも低濃度の第1導電型拡散層を形成する第1導電型拡散層形成ステップを有する固体撮像素子の製造方法。 - 請求項1〜7のいずれかに記載の固体撮像素子を画像入力デバイスとして撮像部に用いた電子情報機器。
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