JP5704519B2 - 光源装置、光学装置、露光装置、デバイス製造方法、照明方法、露光方法、および光学装置の製造方法 - Google Patents
光源装置、光学装置、露光装置、デバイス製造方法、照明方法、露光方法、および光学装置の製造方法 Download PDFInfo
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 484
- 238000005286 illumination Methods 0.000 title claims description 83
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 39
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 29
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 12
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 9
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 24
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 24
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 24
- 239000010408 film Substances 0.000 description 10
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 9
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000001900 extreme ultraviolet lithography Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 description 2
- 241000276498 Pollachius virens Species 0.000 description 1
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70075—Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0004—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
- G02B19/0019—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having reflective surfaces only (e.g. louvre systems, systems with multiple planar reflectors)
- G02B19/0023—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having reflective surfaces only (e.g. louvre systems, systems with multiple planar reflectors) at least one surface having optical power
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0033—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
- G02B19/0047—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/7015—Details of optical elements
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/702—Reflective illumination, i.e. reflective optical elements other than folding mirrors, e.g. extreme ultraviolet [EUV] illumination systems
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
- H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
- H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
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- Physics & Mathematics (AREA)
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Description
前記光源と前記第1領域との間の光路中に配置されて、前記光源からの光を集光して、第3方向の長さよりも前記第3方向と交差する第4方向の長さが長い第2領域を所定面に形成するコレクター光学部材と、
前記第2領域を含む所定面内に設けられ、前記コレクター光学部材の光を前記第1領域に導く複数の第1光学要素を有する第1フライアイ光学部材と、
を備えることを特徴とする光学装置を提供する。
前記光源と前記第1領域との間の光路中に設けられ、第3方向の長さより前記第3方向と交差する第4方向の長さが長い外形形状を有する第1光学要素を、所定面に複数配列するとともに、配列された前記第1光学要素の集合体の前記第3方向と前記第4方向の長さが互いに異なる第1フライアイ光学部材と、
前記第1フライアイ光学部材と前記第1領域との間の光路中に設けられ、前記第1光学要素に光学的に対応するように設置された複数の第2光学要素を有する第2フライアイ光学部材と、
を備えることを特徴とする光学装置を提供する。
第2領域を含む所定面内に設けられ、複数の第1光学要素を有する第1フライアイ光学部材を備え、
前記複数の第1光学要素のうちの少なくとも一つの光学要素が、前記第2領域と直交する面のうちで、第3方向に沿った面の曲率と、前記第3方向と交差する第4方向に沿った面の曲率とが互いに異なる光学面を有することを特徴とする光学装置を提供する。
前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置を提供する。
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
光を発生する発光部と、
前記発光部で発生した光を集光して、第3方向の長さよりも前記第3方向と交差する第4方向の長さが長い第2領域を前記所定面内に形成するコレクター光学部材と、を備えることを特徴とする光源装置を提供する。
所定面上の第2領域に前記光源からの光を集光して導くことと;
前記所定面上で第3方向の長さより前記第3方向と交差する第4方向の長さが長い外形形状を有する複数の光束に波面分割することと;
該波面分割された複数の光束を前記第1領域へ導くことと;
を含み、
前記第2領域は、前記第3方向の長さよりも前記第4方向の長さが長い形状を有し、
前記所定面上での前記複数の光束は、前記第3方向と前記第4方向とに沿って複数配列されることを特徴とする照明方法を提供する。
前記所定のパターンを感光性基板に露光することと;
を含むことを特徴とする露光方法を提供する。
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと;
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと;
を含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
前記光源からの光を集光して、第3方向の長さよりも前記第3方向と交差する第4方向の長さが長い第2領域を所定面に形成するコレクター光学部材を得ることと;
前記第2領域を含む所定面内に、複数の第1光学要素を有する第1フライアイ光学部材を設置することと;
を備えることを特徴とする光学装置の製造方法を提供する。
第3方向の長さより前記第3方向と交差する第4方向の長さが長い外形形状を有する複数の第1光学要素を準備することと;
前記複数の第1光学要素を前記第3方向と前記第4方向とに配列する前記第1光学要素の集合体が、前記第3方向の長さと前記第4方向の長さとで互いに異なる第1フライアイ光学部材を得ることと;
を備える光学装置の製造方法を提供する。
Wi≒(Df/n)×(Fc/Ff) (1)
NAi≒Dp/(2×Fc) (2)
(Df+Dp)/Ff=I (3)
Dp≒NAi×(2×Fc) (5)
I≒Wi×n/Fc+2×NAi×(Fc/Ff) (6)
Wi≒(Dfx/n)×(Fc/Ff) (1A)
(Dfy+Dp)/Ff=I (3A)
Dfx≒Wi×n×(Ff/Fc) (4A)
I≒(Wi×n/Fc)/m+2×NAi×(Fc/Ff) (6A)
RDY THI RMD GLA
OBJ: INFINITY 0.000000
1: INFINITY 1500.000124
2: -432.83272 -949.999641 REFL
SPS ZRN:
SCO
K: -9.4341E-01 ZP4: -1.8270E-05 ZP5: 4.3276E-04
ZP11: 4.3260E-13 ZP12: -1.9463E-12 ZP13: 1.0935E-11
ZP22: -2.6779E-20 ZP23: -6.7188E-20 ZP24: -7.5913E-20
ZP25: 4.5844E-19 ZP38: -2.9880E-29 ZP39: -3.1230E-27
ZP40: 2.1408E-26 ZP41: 2.6357E-27 ZP56: 1.1351E-33
ZP57: -1.6723E-33 ZP58: -3.4764E-34 ZP59: 7.2244E-34
ZP60: -4.0069E-33 ZP61: 3.9159E-33
STO: INFINITY -500.000000
4: -0.00000 1800.000000 REFL
SPS ZRN:
SCO
K: -1.4290E+33 ZP4: -2.5757E-04 ZP5: -1.9264E-04
ZP11: -3.4980E-11 ZP12: 3.1541E-12 ZP13: 4.8114E-11
ZP22: -8.3924E-17 ZP23: 6.3352E-17 ZP24: 3.2097E-17
ZP25: -5.6027E-17 ZP38: 7.4668E-23 ZP39: -5.3416E-24
ZP40: 1.9365E-23 ZP41: 5.7693E-23 ZP56: 2.3481E-28
ZP57: 3.9143E-29 ZP58: 1.4709E-30 ZP59: 2.1537E-29
ZP60: 8.3116E-30 ZP61: -1.0180E-29
IMG: INFINITY 0.000000
<x4方向のデータ>
RDY THI RMD GLA
OBJ: INFINITY 0.000000
1: INFINITY 150.000000
STO: -256.06602 -874.264069 REFL
ASP:
K : -0.500000
IC : YES CUF: 0.000000
A :0.000000E+00 B :0.000000E+00 C :0.000000E+00 D :0.000000E+00
IMG: INFINITY 0.000000
<y4方向のデータ>
RDY THI RMD GLA
OBJ: INFINITY 0.000000
1: INFINITY 150.000000
STO: -266.18950 -1180.947502 REFL
ASP:
K : -0.600000
IC : YES CUF: 0.000000
A :0.000000E+00 B :0.000000E+00 C :0.000000E+00 D :0.000000E+00
IMG: INFINITY 0.000000
1.0<Cx1/Cy1<1.2または1.0<Cy1/Cx1<1.2 (7)
2 コリメータ光学部材
3 オプティカルインテグレータ
5 コンデンサー光学系
31,32 フライアイ光学部材
LU,LU’ 光源ユニット
M マスク
MS マスクステージ
PL 投影光学系
W ウェハ
WS ウェハステージ
Claims (45)
- 光源からの光により第1方向の長さよりも前記第1方向と交差する第2方向の長さが長い第1領域を照明する光学装置において、
前記光源と前記第1領域との間の光路中に配置されて、前記光源からの光を集光して、第3方向の長さよりも前記第3方向と交差する第4方向の長さが長い第2領域を所定面に形成するコレクター光学部材と、
それぞれの光学面が前記第2領域を含む所定面内に設けられ、前記コレクター光学部材の光を前記第1領域に導く複数の第1光学要素を有する第1フライアイ光学部材と、
を備え、
前記複数の第1光学要素のうちの少なくとも1つの光学要素の前記光学面は、前記第3方向の曲率と前記第4方向の曲率とが互いに異なることを特徴とする光学装置。 - 前記第3方向は前記第1領域上の前記第1方向に対応し、前記第4方向は前記第1領域上の前記第2方向に対応していることを特徴とする請求項1に記載の光学装置。
- 前記コレクター光学部材は、前記第2領域における前記第3方向の長さよりも、前記第4方向の長さが、1.1倍以上長い光を形成することを特徴とする請求項1または2に記載の光学装置。
- 前記コレクター光学部材は、前記第2領域における前記第3方向の長さと前記第4方向の長さとのアスペクト比を1:αとするとき、αが1.1以上の条件を満たす光を形成することを特徴とする請求項1または2に記載の光学装置。
- 前記コレクター光学部材は、前記光源からの光を集光する集光面を備え、
該集光面の曲率は、第1断面と前記第1断面に直交する第2断面とで異なることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の光学装置。 - 前記コレクター光学部材は、前記光源からの光を反射して集光することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の光学装置。
- 前記コレクター光学部材は、前記光源の一次像を形成することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の光学装置。
- 前記コレクター光学部材は、非球面状で且つ凹面状の反射面および貫通孔を有する第1反射鏡と、前記光源と前記第1反射鏡との間の光路中に配置されて、非球面状で且つ凸面状の反射面および貫通孔を有する第2反射鏡と、を備え、前記光源からの光を、前記第2反射鏡の貫通孔、前記第1反射鏡の反射面、前記第2反射鏡の反射面、および前記第1反射鏡の貫通孔を介して、前記第2領域に整形させることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の光学装置。
- 前記第1光学要素は、前記第3方向の長さと前記第4方向の長さとが異なる外形形状を有し、前記所定面内の前記第3方向と前記第4方向とに沿って配列されることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の光学装置。
- 前記第1光学要素は、前記第3方向の長さより前記第4方向の長さが長い外形形状を有し、前記第1光学要素の集合体は、前記第3方向より前記第4方向に長いことを特徴とする請求項9に記載の光学装置。
- 前記第1フライアイ光学部材と前記第1領域との間の光路中に設けられ、前記複数の第1光学要素に光学的に対応するように設置された複数の第2光学要素を有する第2フライアイ光学部材を、さらに備えることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の光学装置。
- 前記光学面の前記第3方向の曲率C1と前記第4方向の曲率C2とは、1.0<C1/C2<1.2または1.0<C2/C1<1.2の条件を満足することを特徴とする請求項1乃至11のいずれか1項に記載の光学装置。
- 光源からの光により第1方向の長さよりも前記第1方向と交差する第2方向の長さが長い第1領域を照明するために用いられる光学装置において、
前記光源からの光を集光するコレクター光学部材と、
前記コレクター光学部材と前記第1領域との間の光路中の配列面に設けられた複数の第1光学要素を備える第1フライアイ光学部材と、
前記第1フライアイ光学部材と前記第1領域との間の光路中に設けられ、前記第1光学要素に光学的に対応するように設置された複数の第2光学要素を有する第2フライアイ光学部材と、を備え、
前記第1フライアイ光学部材の複数の第1光学要素は、第3方向の長さより前記第3方向と交差する第4方向の長さが長い外形形状を有し、且つ前記複数の第1光学要素の集合体の前記第3方向と前記第4方向の長さが互いに異なるように配列され、
前記コレクター光学部材は、前記第3方向の長さよりも前記第4方向の長さが長い照射領域を前記配列面に形成することを特徴とする光学装置。 - 前記第3方向は前記第1方向に対応しており、前記第4方向は前記第2方向に対応していることを特徴とする請求項13に記載の光学装置。
- 前記第1フライアイ光学部材は、前記第3方向に沿って配列される前記第1光学要素の数と、前記第4方向に沿って配列される前記第1光学要素の数が互いに異なるように、配列することを特徴とする請求項13または14に記載の光学装置。
- 前記第1光学要素は円弧状の外形形状を有し、前記第2光学要素は多角形状の外形形状を有することを特徴とする請求項13乃至15のいずれか1項に記載の光学装置。
- 前記第1領域は、円弧状の外形形状を有し、
前記第1方向は、前記円弧状の辺が互いに隣り合うように前記複数の第1光学要素が設置される方向に対応し、
前記第2方向は、前記円弧状の両端が互いに隣り合うように前記複数の第1光学要素が設置される方向に対応していることを特徴とする請求項16に記載の光学装置。 - 前記第1フライアイ光学部材は、配列された前記第1光学要素の集合体の前記第3方向と前記第4方向とのアスペクト比を1:αとするとき、αが1.1以上の条件を満たすことを特徴とする請求項13乃至17のいずれか1項に記載の光学装置。
- 前記第1光学要素の集合体は、前記第3方向に対して前記第4方向に1.1倍以上長いことを特徴とする請求項13乃至18のいずれか1項に記載の光学装置。
- 前記第1光学要素の集合体は、前記第3方向に20列以上、前記第4方向に5列以上配列されることを特徴とする請求項13乃至19のいずれか1項に記載の光学装置。
- 前記複数の第1光学要素および前記複数の第2光学要素は、凹面反射鏡の形態を有することを特徴とする請求項13乃至20のいずれか1項に記載の光学装置。
- 前記複数の第1光学要素のうちの少なくとも1つの光学要素の光学面は、前記第3方向の曲率と、前記第4方向の曲率とが互いに異なることを特徴とする請求項13乃至21のいずれか1項に記載の光学装置。
- 前記光学面の前記第3方向の曲率C1と前記第4方向の曲率C2とは、1.0<C1/C2<1.2または1.0<C2/C1<1.2の条件を満足することを特徴とする請求項22に記載の光学装置。
- 光源からの光により第1方向の長さよりも前記第1方向と交差する第2方向の長さが長い第1領域を照明するために用いられる光学装置において、
前記光源と前記第1領域との間の光路中に配置されて、前記光源からの光を集光して、第3方向の長さよりも前記第3方向と交差する第4方向の長さが長い第2領域を所定面に形成するコレクター光学部材と、
前記所定面内に設けられた光学面をそれぞれ有する複数の第1光学要素を有する第1フライアイ光学部材とを備え、
前記複数の第1光学要素のうちの少なくとも一つの光学要素の前記光学面は、前記第3方向の曲率と前記第4方向の曲率とが互いに異なることを特徴とする光学装置。 - 前記光学面の前記第1方向の曲率C1と前記第2方向の曲率C2とは、1.0<C1/C2<1.2または1.0<C2/C1<1.2の条件を満足することを特徴とする請求項24に記載の光学装置。
- 前記第1フライアイ光学部材と前記第1領域との間の光路中に設けられ、前記第1光学要素に光学的に対応するように設置された複数の第2光学要素を有する第2フライアイ光学部材を、さらに備えることを特徴とする請求項24または25に記載の光学装置。
- 前記第2フライアイ光学部材は、前記複数の第2光学要素を、第3領域の第5方向と前記第5方向と交差する第6方向とに配列しており、
前記複数の第2光学要素のうち少なくとも1つの光学要素は、前記第5方向の曲率と、前記第6方向の曲率とが互いに異なる光学面を有することを特徴とする請求項11乃至26のいずれか1項に記載の光学装置。 - 前記光源から供給される光は、波長が5nm乃至20nmのEUV光であることを特徴とする請求項1乃至27のいずれか1項に記載の光学装置。
- 前記第1領域に形成された所定のパターンを照明するための請求項1乃至28のいずれか1項に記載の光学装置を備え、
前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置。 - 前記所定のパターンの像を前記感光性基板に形成する投影光学系をさらに備え、
該投影光学系に対して前記所定のパターンおよび前記感光性基板を走査方向に沿って相対移動させて、前記所定のパターンを前記感光性基板へ投影露光することを特徴とする請求項29に記載の露光装置。 - 前記走査方向は、前記第1方向に平行な方向であることを特徴とする請求項30に記載の露光装置。
- 請求項29乃至31のいずれか1項に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光する露光工程と、
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。 - 所定面内に設けられるフライアイ光学部材に光を供給する光源装置において、
光を発生する発光部と、
前記発光部で発生した光を集光して、第3方向の長さよりも前記第3方向と交差する第4方向の長さが長い第2領域を前記所定面内に形成するコレクター光学部材と、を備え、
前記コレクター光学部材は、非球面状で且つ凹面状の反射面および貫通孔を有する第1反射鏡と、前記光源と前記第1反射鏡との間の光路中に配置されて、非球面状で且つ凸面状の反射面および貫通孔を有する第2反射鏡と、を備え、前記光源からの光を、前記第2反射鏡の貫通孔、前記第1反射鏡の反射面、前記第2反射鏡の反射面、および前記第1反射鏡の貫通孔を介して、前記第2領域に整形させることを特徴とする光源装置。 - 前記コレクター光学部材は、前記第2領域における前記第3方向の長さよりも、前記第4方向の長さが、1.1倍以上長い光を形成することを特徴とする請求項33に記載の光源装置。
- 前記コレクター光学部材は、前記第2領域における前記第3方向の長さと前記第4方向の長さとのアスペクト比を1:αとするとき、αが1.1以上の条件を満たす光を形成することを特徴とする請求項33または34に記載の光源装置。
- 前記コレクター光学部材は、前記光源からの光を集光する集光面を備え、
該集光面の曲率は、第1断面と前記第1断面に直交する第2断面とで異なることを特徴とする請求項33乃至35のいずれか1項に記載の光源装置。 - 前記コレクター光学部材は、前記光源からの光を反射して集光することを特徴とする請求項33乃至36のいずれか1項に記載の光源装置。
- 前記コレクター光学部材は、前記光源の一次像を形成することを特徴とする請求項33乃至37のいずれか1項に記載の光源装置。
- 光源からの光により第1方向の長さよりも前記第1方向と交差する第2方向の長さが長い第1領域を照明する照明方法において、
所定面上の第2領域に前記光源からの光を集光して導くことと;
前記所定面上で第3方向の長さより前記第3方向と交差する第4方向の長さが長い外形形状を有する複数の光束に波面分割することと;
該波面分割された複数の光束を前記第1領域へ導くことと;を含み、
前記第2領域は、前記第3方向の長さよりも前記第4方向の長さが長い形状を有し、
前記所定面上での前記複数の光束は、前記第3方向と前記第4方向とに沿って複数配列され、
前記波面分割することは、前記第3方向の曲率と前記第4方向の曲率とが互いに異なる複数の光学面を用いて、前記複数の光束に波面分割することを特徴とする照明方法。 - 前記第3方向は前記第1方向に対応しており、前記第4方向は前記第2方向に対応していることを特徴とする請求項39に記載の照明方法。
- 前記複数の光束は、前記第3方向と前記第4方向とにおける長さが互いに異なることを特徴とする請求項39または40に記載の照明方法。
- 前記集光して導くことは、前記光源からの光をコレクター光学部材によって集光することを含み、
該コレクター光学部材は、第1断面の曲率と前記第1断面に直交する第2断面の曲率とが異なる集光面を備えることを特徴とする請求項39乃至41のいずれか1項に記載の照明方法。 - 前記集光して導くことでは、
前記コレクター光学部材の前記第1断面で集光される光によって前記光源の一次像を形成することと;
前記第2断面で集光される光によって前記光源の一次像を形成することと;
を備え、
前記第1断面で集光される光を、前記光源と前記第1領域との間の第1集光位置で集光させ、且つ前記第2断面で集光される光を、前記光源と前記第1集光位置の間の第2集光位置で集光させることを特徴とする請求項42に記載の照明方法。 - 請求項39乃至43のいずれか1項に記載の照明方法を用いて所定のパターン上の前記第1領域を照明することと;前記所定のパターンを感光性基板に露光することと;を含むことを特徴とする露光方法。
- 請求項44に記載の露光方法を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光することと;
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと;
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと;を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US32044310P | 2010-04-02 | 2010-04-02 | |
US32045310P | 2010-04-02 | 2010-04-02 | |
US61/320,453 | 2010-04-02 | ||
US61/320,443 | 2010-04-02 | ||
PCT/JP2011/058189 WO2011125827A1 (ja) | 2010-04-02 | 2011-03-31 | 光源装置、光学装置、露光装置、デバイス製造方法、照明方法、露光方法、および光学装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2011125827A1 JPWO2011125827A1 (ja) | 2013-07-11 |
JP5704519B2 true JP5704519B2 (ja) | 2015-04-22 |
Family
ID=44762765
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012509567A Active JP5704519B2 (ja) | 2010-04-02 | 2011-03-31 | 光源装置、光学装置、露光装置、デバイス製造方法、照明方法、露光方法、および光学装置の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (6) | US9703204B2 (ja) |
EP (2) | EP2555228A4 (ja) |
JP (1) | JP5704519B2 (ja) |
KR (8) | KR102605356B1 (ja) |
WO (1) | WO2011125827A1 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP4372469A2 (en) | 2009-11-24 | 2024-05-22 | Nikon Corporation | Image-forming optical system, exposure apparatus, and device producing method |
KR102605356B1 (ko) * | 2010-04-02 | 2023-11-22 | 가부시키가이샤 니콘 | 조명 광학계, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법 |
JP6135514B2 (ja) | 2012-02-06 | 2017-05-31 | 株式会社ニコン | 反射結像光学系、およびデバイス製造方法 |
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US20140272684A1 (en) | 2013-03-12 | 2014-09-18 | Applied Materials, Inc. | Extreme ultraviolet lithography mask blank manufacturing system and method of operation therefor |
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-
2011
- 2011-03-31 KR KR1020227015373A patent/KR102605356B1/ko active IP Right Grant
- 2011-03-31 EP EP11765727.0A patent/EP2555228A4/en active Pending
- 2011-03-31 WO PCT/JP2011/058189 patent/WO2011125827A1/ja active Application Filing
- 2011-03-31 KR KR1020177029894A patent/KR101944655B1/ko active Application Filing
- 2011-03-31 KR KR1020197034427A patent/KR102160046B1/ko active IP Right Grant
- 2011-03-31 KR KR1020127028634A patent/KR20130083833A/ko active Application Filing
- 2011-03-31 JP JP2012509567A patent/JP5704519B2/ja active Active
- 2011-03-31 US US13/639,037 patent/US9703204B2/en active Active
- 2011-03-31 KR KR1020207024346A patent/KR102277452B1/ko active IP Right Grant
- 2011-03-31 KR KR1020217021477A patent/KR102397041B1/ko active IP Right Grant
- 2011-03-31 KR KR1020197002269A patent/KR102051267B1/ko active IP Right Grant
- 2011-03-31 KR KR1020237039607A patent/KR20230160966A/ko not_active Application Discontinuation
- 2011-03-31 EP EP24150668.2A patent/EP4328647A3/en active Pending
-
2017
- 2017-06-15 US US15/623,749 patent/US10345708B2/en active Active
-
2019
- 2019-06-04 US US16/431,355 patent/US10831106B2/en active Active
-
2020
- 2020-09-28 US US17/034,954 patent/US11353795B2/en active Active
-
2022
- 2022-05-05 US US17/737,610 patent/US11934104B2/en active Active
-
2024
- 2024-02-06 US US18/433,957 patent/US20240176248A1/en active Pending
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2011125827A1 (ja) | 2011-10-13 |
KR20170119732A (ko) | 2017-10-27 |
KR20130083833A (ko) | 2013-07-23 |
KR20220065085A (ko) | 2022-05-19 |
KR102051267B1 (ko) | 2019-12-02 |
KR20230160966A (ko) | 2023-11-24 |
EP2555228A4 (en) | 2018-01-17 |
EP4328647A2 (en) | 2024-02-28 |
KR20190133067A (ko) | 2019-11-29 |
US9703204B2 (en) | 2017-07-11 |
US20210026251A1 (en) | 2021-01-28 |
US20220260923A1 (en) | 2022-08-18 |
EP4328647A3 (en) | 2024-06-19 |
KR20210088765A (ko) | 2021-07-14 |
JPWO2011125827A1 (ja) | 2013-07-11 |
US11934104B2 (en) | 2024-03-19 |
KR20190010743A (ko) | 2019-01-30 |
KR20200103863A (ko) | 2020-09-02 |
KR102160046B1 (ko) | 2020-09-28 |
KR102605356B1 (ko) | 2023-11-22 |
US20170285314A1 (en) | 2017-10-05 |
US10345708B2 (en) | 2019-07-09 |
US11353795B2 (en) | 2022-06-07 |
KR102397041B1 (ko) | 2022-05-12 |
US20190302435A1 (en) | 2019-10-03 |
US20240176248A1 (en) | 2024-05-30 |
US10831106B2 (en) | 2020-11-10 |
KR101944655B1 (ko) | 2019-01-31 |
KR102277452B1 (ko) | 2021-07-14 |
US20130128248A1 (en) | 2013-05-23 |
EP2555228A1 (en) | 2013-02-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140331 |
|
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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