JP5703641B2 - 記憶素子及びメモリ - Google Patents
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Description
また、本発明の記憶素子は、Fe、Co及びNiから選ばれた少なくとも1種類の元素と炭素とを含み、炭素の含有量がFe、Co及びNiの総量に対して3原子%以上、70原子%未満であり、膜面に垂直方向の磁気異方性を有し、磁化反転可能な磁性層と、塩化ナトリウム構造又はスピネル構造の酸化物からなり、磁性層と接して形成されている酸化物層と、磁性層の酸化物層が形成されている面の反対面に形成されている、炭素を吸着する元素を含む層と、炭素を吸着する元素を含む層と磁性層との間に設けられている非磁性層と、を備える。
また、本発明のメモリは、上記いずれかの記憶素子と、この記憶素子に電流を供給する配線とを備える。
なお、説明は以下の順序で行う。
1.本発明の記憶素子の実施の形態
2.本実施の形態の記憶素子の実験例
[メモリの構成例]
本発明の実施の形態のメモリの概略構成図(断面図)を図1に示す。
このメモリは、互いに直交する2種類のアドレス配線(例えばワード線とビット線)の交点付近に、磁化状態で情報を保持することができる記憶素子が配置されて成る。
即ち、シリコン基板等の半導体基体10の素子分離層により分離された部分に、各メモリセルを選択するための選択用トランジスタとして、ドレイン領域8、ソース領域7、及びゲート電極1が、それぞれ形成されている。このうち、ゲート電極1は、図中前後方向に延びる一方のアドレス配線(例えばワード線)を兼ねている。
ドレイン領域8は、基板上に複数形成される選択用トランジスタに共通して設けられ、このドレイン領域8には配線が接続される。
また、この記憶素子3は、一方のアドレス配線(ゲート電極)1と、もう一方のアドレス配線6の交点付近に配置されている。
この記憶素子3は、ビット線(アドレス配線)6と、コンタクト層4を介してソース領域7とに接続されている。
これにより、2種類のアドレス配線1、6を通じて記憶素子3に電流を供給することができる。そして、記憶素子3に上下方向(記憶素子3の積層方向)の電流を流すことで、スピン注入により記憶層の磁化の向きを反転させることができる。
次に、本実施の形態の記憶素子3について説明する。
図1に示すように、この記憶素子3は、コンタクト層4上に、下地層12、磁化固定層(参照層)14、酸化物層15、磁性層16、及び、炭素吸着層17が順次積層された積層構造を有する。そして、炭素吸着層17上に図示しない上部電極が設けられ、下地層12の底部に図示しない下部電極が設けられる。さらに、上部電極にビット線と接続される配線が設けられて記憶素子3が構成される。
スピン注入により磁化M1の向きが反転する磁性層16に対して、下層に磁化固定層14が設けられている。磁性層16と磁化固定層14との間には、酸化物層15が設けられ、磁性層16と磁化固定層14とにより、MTJ素子が構成されている。
磁化固定層14は、強磁性層のみにより形成されていてもよく、或いは、反強磁性層と強磁性層の反強磁性結合を利用することにより、その磁化の向きが固定された構成としてもよい。また、磁化固定層14は、単層の強磁性層から成る構成、或いは、複数層の強磁性層が非磁性層を介して積層した積層フェリ構造である。
磁化固定層14を積層フェリ構造としたときは、磁化固定層の外部磁界に対する感度を低下させることができるため、外部磁界による磁化固定層の不要な磁化変動を抑制し、記憶素子を安定して動作させることができる。さらに、各強磁性層の厚さを調整することができ、磁化固定層からの漏洩磁界を抑えることができる。
磁化固定層14は、磁性層16よりも磁化反転電流が大きい必要があるため、磁性層16よりも厚さを大きくする必要がある。磁化固定層14は、磁性層16との反転電流差が充分に大きな差となる、例えば1nm〜40nmで構成される。
酸化物層15は、塩化ナトリウム(NaCl)構造又はスピネル構造の酸化物から構成される。
塩化ナトリウム構造の酸化物としては、例えば、MgO、CoO、NiO、及び、TiO等が利用可能である。特に、MgOを用いた場合に、安定した垂直磁気異方性が得られると同時にトンネルバリア層として用いると大きな磁気抵抗(MR)比が得られるため、磁気メモリに用いるには好適である。
スピネル構造の酸化物層としては、例えば、MgAl2O4、FeAl2O4、CoAl2O4、MgCr2O4、及び、MgGa2O4等が利用可能である。特に、MgAl2O4を用いると大きな垂直磁気異方性と大きなMR比が得られ好適である。
磁性層16は、Fe、Co、Niから選ばれた少なくとも1種類の元素、及び、炭素を含んで構成される。
磁性層16に含まれる炭素量は、Fe、Co及びNiの総量に対して、3原子%以上70原子%未満である。磁性層16における炭素量をこの範囲とすることにより、安定した垂直磁気異方性が得られる。また、磁性層16は、酸化物層15に接する部分に多くのFeが含まれている方が、垂直磁気異方性やMR比を大きくすることができる。
また、磁性層16の特性改善のために、Fe、Co、Ni及び炭素以外の元素を添加してもよい。
炭素吸着層17は、炭素を吸着する元素(炭素吸着元素)を含む層であり、上述の炭素を含む磁性層16内の炭素量を調整するために形成される。炭素吸着層17は、Ti、V、Nb、Zr、Ta、Hf及びYから選ばれる少なくとも1つ以上の元素を炭素吸着元素として含む。炭素吸着層17を磁性層16上に配置し、適当な熱処理を行うことにより、磁性層16中の炭素が炭素吸着層17の元素と化学的に結合し原子の再配列が促進される。このため、磁性層16により大きな垂直磁気異方性が得られる。また、炭素吸着層17は、上述の材料を用いることにより保護層としも機能する。
このため、記憶素子の記憶層を上述の磁性層から構成し、さらに上述の酸化物層及び炭素吸着層を用いることにより、スピントルクを効率的に作用させられるような垂直磁化膜をすることができる。従って、スピントルクを利用した磁気メモリにおいて、磁気制動定数が小さく、低い電流で高速に動作可能な磁気メモリ素子を実現することができる。
非磁性層としては、例えば、Pd、Au、Cr、Cu、Mo、Ag、Ru、W、Ir、及び、Ptを用いることができる。非磁性層を挿入することにより、記憶素子の磁歪を変化させることができる。このため、記憶素子の磁歪を調整する際などに、上記非磁性層を挿入して使用することができる。
また、磁性層16と炭素吸着層17との間に、薄い非磁性層を形成した場合には、熱処理により磁性層中の炭素が炭素吸着層側へ、非磁性層を通過して拡散する。このため、非磁性層を形成した場合にも、磁性層の保磁力は大きく変化しない。
本発明を適用した記憶素子の実験例について説明する。なお、以下の実験例では、実際のST−MRAMの作製は行わず、磁気特性測定用の試料のみを作製して試験を行った。
(実験例1)
酸化被膜付きシリコン基板上に、酸化物層として2nmのMgOをrfマグネトロンスパッタで成膜した。そして、酸化物層上に磁性層としてFe65Co15C20の厚さを0.4nm〜1.6nmの範囲で変化させ、dcマグネトロンスパッタで成膜した。そして、磁性層上に炭素吸着層として5nmのZrをdcマグネトロンスパッタで成膜した。炭素吸着層を形成後、300℃で1時間熱処理を行い、実験例1の試料を作製した。
酸化被膜付きシリコン基板上に、酸化物層として2nmのMgOをrfマグネトロンスパッタで成膜した。そして、酸化物層上に磁性層としてFe40Ni35C25の厚さを0.6nm〜2.2nmの範囲で変化させ、dcマグネトロンスパッタで成膜した。そして、磁性層上に炭素吸着層として5nmのZrをdcマグネトロンスパッタで成膜した。炭素吸着層を形成後、300℃で1時間熱処理を行い、実験例1の試料を作製した。
なお、実験例1及び実験例2において、磁性層の組成Fe65Co15C20及びFe40Ni35C25は熱処理前の単体膜での組成である。
この結果から、磁性層の厚さを0.5nm以上2nm以下とすることにより、垂直磁化を有する素子を形成することができる。
(実験例3)
次に、実験例1と同様の試料において、磁性層として0.8nmのFeCoC膜をdcマグネトロンスパッタで成膜した。このとき、FeCoCの炭素量を変化させて磁性層を作製した。炭素量は、FeとCoの総量に対して5.3〜100原子%の間で変化させた。そして、磁性層上に炭素吸着層として5nmのZrをdcマグネトロンスパッタで成膜した。炭素吸着層を形成後、300℃1時間熱処理を行い、実験例3の試料を作製した。
(実験例4)
次に、磁性層上の炭素吸着層の材料を変えて磁気特性を調べた。実験例1と同様の試料において、磁性層を0.8nmのFeCoC膜で形成した後、炭素吸着層として表2に示す各材料を5nmの厚さで形成した。そして、200℃〜400℃で1時間熱処理を行い、実験例4の試料を作製した。
図3に、各元素により炭素吸着層を形成した実験例4の試料について、熱処理前(a)と300℃熱処理後(b)の極カー効果の測定結果を示す。
熱処理前、或いは、200℃、300℃及び400℃のいずれかの熱処理後において、垂直磁化が得られた試料の炭素吸着層の材料と、何れの熱処理でも垂直磁化が得られなかった試料の炭素吸着層の材料を表2に示す。
(実験例5)
実験例4と同様に、磁性層と接する下地層(酸化物層)の材料を変えて磁気特性を調べた。実験例1と同様の試料において、下地層を表3に示す各材料を2nmの厚さで形成した後、下地層上に磁性層として0.8nmのFeCoCを形成した。そして、磁性層上に5nmのZrを形成した後、300℃で1時間熱処理を行い、実験例5の試料を作製した。
熱処理後において、垂直磁化が得られた試料の炭素吸着層の材料と、何れの熱処理でも垂直磁化が得られなかった試料の炭素吸着層の材料を表3に示す。
次に、磁性層の保磁力について、FeとCo及びNiの組成比に対する依存性を調べた。
(実験例6)
実験例1と同様の試料において、磁性層として0.8nmの(Fe100−xCox)C膜を、xを変化させて形成した。xは、0〜80の間で変化させた。そして、磁性層上に炭素吸着層として5nmのZrを形成した後、300℃1時間熱処理を行い、実験例6の試料を作製した。
実験例1と同様の試料において、磁性層として0.8nmの(Fe100−xNix)C膜を、xを変化させて形成した。xは、0〜80の間で変化させた。そして、磁性層上に炭素吸着層として5nmのZrを形成した後、300℃1時間熱処理を行い、実験例7の試料を作製した。
図4に示す結果から、磁性層として、FeとともにCo及びNiを含む方が、Feのみの場合よりも保磁力が大きく垂直磁化膜としては優れているが、CoおよびNiが過剰になると垂直磁化が失われる。この結果から、磁性層として、Feに添加するCoの組成は1原子%を超えて30原子%以下が好ましく、また、Feに添加するNiの組成は1原子%を超えて70原子%以下とすることが好ましい。
次に、酸化物層と接する部分にFe層を挿入して磁性層を形成した場合の結果を示す。
(実験例8)
酸化物層として2nmのMgOを形成した後、酸化物層上に磁性層として厚さtのFe層と1nmのNi60Fe20C20とを形成した。厚さtは、0〜0.5nmの間で変化させた。さらに、磁性層上に炭素吸着層として5nmのTaを形成した後、300℃で1時間の熱処理を行い、実験例8の試料を作製した。
酸化物層として2nmのMgOを形成した後、酸化物層上に磁性層として厚さtのFe層と1nmのNi80C20とを形成した。厚さtは、0〜0.5nmの間で変化させた。さらに、磁性層上に炭素吸着層として5nmのTaを形成した後、300℃で1時間の熱処理を行い、実験例9の試料を作製した。
図5に示す結果から、Fe層を挿入しない場合は、つまり、磁性層としてNi60Fe20C20又はNi80C20を単独で用いた場合には、どちらも面内磁化膜であった。
これに対し、実験例8の試料においてFe層を挿入した場合には、0.1〜0.2nmのFe層をMgOとNi60Fe20C20との間に形成することで垂直磁化が現れた。また、実験例9の試料においてFe層を挿入した場合では、0.3nmのFe層をMgOとNi80C20との間に形成することで垂直磁化が現れた。
この結果から、磁性層は、単層膜としてだけではなく、上記Fe層と炭素を含む層と複数層に分かれている場合にも、垂直磁化を得ることができる。
このとき、磁性層は、酸化物層に接する部分にFeが多く含まれる方が、垂直磁気異方性やMR比が大きくなり、Fe量が過剰になると垂直磁気異方性の低下が大きくなる。また、酸化物層から離れた部分に多くのFeが含まれると、垂直磁気異方性の低下が大きくなり、例えば、Fe層をMgOと接する側ではなく、炭素を含む層と炭素吸着層との間に挿入しても垂直磁化は得られない。
磁性層をFe層と炭素を含む層と複数層に分けて形成した場合には、磁性層中のFe量を低減することが可能である。磁性層中のFeを低減することにより、磁性層の磁気モーメントを減少させることが可能である。また、Feは耐食性に劣るため、Fe量を減らすことにより、素子の耐食性を向上させることができる。
次に、磁性層と炭素吸着層の間に非磁性層を挿入した場合について調べた。
(実験例10)
実験例1と同様の方法により、酸化物層として2nmのMgOを形成した後、酸化物層上に磁性層として0.8nmのFe65Co15C20を形成した。そして、磁性層上に、非磁性層として厚さtのPd層を形成した。厚さtは、0.1〜0.8nmの間で変化させた。Pd層上に炭素吸着層として5nmのTaを形成した後、400℃で1時間の熱処理を行い、実験例10の試料を作製した。
実験例1と同様の方法により、酸化物層として2nmのMgOを形成した後、酸化物層上に磁性層として0.8nmのFe65Co15C20を形成した。そして、磁性層上に、非磁性層として厚さtのAu層を形成した。厚さtは、0.1〜0.8nmの間で変化させた。Au層上に炭素吸着層として5nmのTaを形成した後、400℃で1時間の熱処理を行い、実験例11の試料を作製した。
図6に示すように、磁性層と炭素吸着層との間に、非磁性層を挿入した試料では、保磁力の増減は見られるものの、Pd、Au共に0.5nmの膜厚程度までは垂直磁化の著しい低下は見られない。この結果から、非磁性層を挿入した場合にも、熱処理により磁性層中の炭素が炭素吸着層側へ、非磁性層を通過して拡散することがわかる。Pd等の非磁性層を挿入することにより磁歪を変化させることができる。このため、記憶素子の磁歪を調整する際などに、Pd等の非磁性層を挿入して使用することができる。
また、上述の実験例10及び実験例11とどうように、磁性層と炭素吸着層との間に非磁性層を挿入した場合の、非磁性層元素及び厚さと、保磁力との関係を表4に示す。
次に、炭素吸着層の厚さと保磁力との関係について調べた。
(実験例12)
酸化被膜付きシリコン基板上に、炭素吸着層として厚さtのZrをdcマグネトロンスパッタで形成した。厚さtは、0.4nm〜1.6nmの範囲で変化させた。炭素吸着層上に、磁性層として1nmのNi40Fe40C20をdcマグネトロンスパッタで形成した。そして、炭素吸着層上に、酸化物層として2nmのMgO層を形成し、300℃で1時間熱処理を行い、実験例12の試料を作製した。
炭素吸着層を薄くできれば、磁壁移動を用いるメモリなどに磁性層を適用する場合に、磁性層以外に流れる電流を減らすことができるため、動作電流低減に有効となる。
磁性層と炭素吸着層とを、複数の磁性体からなる層により形成した場合について説明する。
(実験例13)
実験例1と同様に、酸化物層として2nmのMgOを形成した。そして、酸化物層上に表5に第1の磁性層として示す各材料を成膜した後、第1の磁性層上に表5に第2の磁性層として示す各材料を成膜した。そして、第2の磁性層上にキャップ層として5nmのRuを形成し、300℃で1時間の熱処理を行い、実験例13の試料を作製した。
実験例13の各試料について、第1の磁性層と第2の磁性層の組み合わせと、垂直保磁力との関係を表5に示す。
次に、上述の本実施の形態の磁性層を用いて実際にスピン注入型の磁化反転磁気記憶素子を構成し、その特性を調べた。
(実験例14)
実験例1と同様の方法により、基板上に下地層として5nmのTaと、5nmのRuを形成した。そして、下地層上に磁化固定層として2nmのCoPt、0.45nmのRu、1nmのCoFeBによりフェリ結合した磁化固定層を形成した。次に、磁化固定層上に酸化物層として0.8nmのMgOを形成した。酸化物層上に記録層として、0.15nmのFeと1nmのNi40Fe40C20とからなる磁性層を積層し、記録層上に炭素吸着層として5nmのTaを形成した。この後、300℃で1時間の熱処理を行い、実験例14の試料を作製した。素子の大きさは直径150nmの円形である。
実験例1と同様の方法により、基板上に下地層として5nmのTaと、5nmのRuを形成した。そして、下地層上に磁化固定層として2nmのCoPt、0.45nmのRu、及び、1nmのCoFeBによりフェリ結合した磁化固定層を形成した。次に、磁化固定層上に酸化物層として0.8nmのMgOを形成した。酸化物層上に記録層として、0.2nmのCoと0.8nmのPdとの積層膜を3周期形成し、記録層上にキャップ層として5nmのTaを形成した。この後、300℃で1時間の熱処理を行い、実験例15(比較例)の試料を作製した。素子の大きさは直径150nmの円形である。
また、熱ゆらぎに対する耐性、及び、MR比も実験例14の試料の方が実験例15の試料よりも大きい。また、素子状態で強磁性共鳴により求めた磁気制動定数は実験例14の試料が0.025であり、実験例15の試料が0.13であった。
上述のように、記録層としてFeとNiFeCとからなる磁性層を用いた実験例14のスピン注入磁化反転磁気メモリは、磁気制動定数が小さく低い電流で磁化反転が可能であるため、省電力磁気メモリとして有効である。
次に、上述の本実施の形態の磁性層を、磁壁移動型の磁気メモリに使用する場合について説明する。
(実験例16)
まず、下地層として炭素吸着層を0.3nmのZrにより形成した。そして、炭素吸着層上に磁性層として1nmのNi40Fe40C20と、酸化物層として2nmのMgOを積層し、300℃で1時間の熱処理を行った。この素子から、幅100nm、長さ30μmの短冊状のパターンを形成して、素子の両端に電極を形成し、実施例16の試料を作製した。
まず、下地層として0.3nmのZrを形成した。そして、下地層上に3nmのRuと、0.5nmのCoと、0.7nmのNiとからなる積層膜を5周期積層した磁性層を形成した。そして、磁性層上に酸化物層として2nmのMgOを積層し、300℃で1時間の熱処理を行った。この素子から、幅100nm、長さ30μmの短冊状のパターンを形成して、素子の両端に電極を形成し、実施例17の試料を作製した。
図8に示すように、実験例16の試料は、実験例17の試料に対して、より小さい電流で大きな磁壁移動速度が得られた。この結果から、本実施の形態の記憶素子の構成を磁壁移動型の磁気メモリに適用した場合に、磁壁移動に必要な電流が大幅に減少することができ、著しい動作電流低減が可能となる。
Claims (9)
- Fe、Co及びNiから選ばれた少なくとも1種類の元素と炭素とを含み、Feに対するCoの比率が1原子%を超えて30原子%以下であり、Feに対するNiの比率が1原子%を超えて70原子%以下であり、炭素の含有量がFe、Co及びNiの総量に対して3原子%以上、70原子%未満であり、膜面に垂直方向の磁気異方性を有し、磁化反転可能な磁性層と、
塩化ナトリウム構造又はスピネル構造の酸化物からなり、前記磁性層と接して形成されている酸化物層と、を備える
記憶素子。 - Fe、Co及びNiから選ばれた少なくとも1種類の元素と炭素とを含み、炭素の含有量がFe、Co及びNiの総量に対して3原子%以上、70原子%未満であり、膜面に垂直方向の磁気異方性を有し、磁化反転可能な磁性層と、
塩化ナトリウム構造又はスピネル構造の酸化物からなり、前記磁性層と接して形成されている酸化物層と、
前記磁性層の前記酸化物層が形成されている面の反対面に形成されている、炭素を吸着する元素を含む層と、
前記炭素を吸着する元素を含む層と前記磁性層との間に設けられている非磁性層と、を備える
記憶素子。 - 前記炭素を吸着する元素を含む層は、前記炭素を吸着する元素としてTi、V、Nb、Zr、Ta、Hf及びYから選ばれる少なくとも1種類以上が含まれている請求項2に記載の記憶素子。
- 前記炭素を吸着する元素を含む層が、Ti、V、Nb、Zr、Ta、Hf及びYから選ばれる少なくとも1種類以上の元素と、Fe、Co及びNiから選ばれる少なくとも1種類以上の元素とからなる合金で形成されている請求項3に記載の記憶素子。
- 前記磁性層と、前記磁性層に記録される情報の基準となる層とが、前記酸化物層を介して積層されている請求項1から4のいずれかに記載の記憶素子。
- 前記磁性層の厚さが0.5nm以上2nm以下である請求項1から5のいずれかに記載の記憶素子。
- 前記酸化物層がMgO、又は、MgAl2O4からなる請求項1から6のいずれかに記載の記憶素子。
- Fe、Co及びNiから選ばれた少なくとも1種類の元素と炭素とを含み、Feに対するCoの比率が1原子%を超えて30原子%以下であり、Feに対するNiの比率が1原子%を超えて70原子%以下であり、炭素の含有量がFe、Co及びNiの総量に対して3原子%以上、70原子%未満であり、膜面に垂直方向の磁気異方性を有し、磁化反転可能な磁性層、及び、塩化ナトリウム構造又はスピネル構造の酸化物からなり、前記磁性層と接して形成されている酸化物層を有する記憶素子と、
前記記憶素子に電流を供給する配線と、を備える
メモリ。 - Fe、Co及びNiから選ばれた少なくとも1種類の元素と炭素とを含み、炭素の含有量がFe、Co及びNiの総量に対して3原子%以上、70原子%未満であり、膜面に垂直方向の磁気異方性を有し、磁化反転可能な磁性層、塩化ナトリウム構造又はスピネル構造の酸化物からなり、前記磁性層と接して形成されている酸化物層、前記磁性層の前記酸化物層が形成されている面の反対面に形成されている、炭素を吸着する元素を含む層、及び、前記炭素を吸着する元素を含む層と前記磁性層との間に設けられている非磁性層を有する記憶素子と、
前記記憶素子に電流を供給する配線と、を備える
メモリ。
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