JP5699523B2 - ガス生成量制御方法及びガス生成量制御装置 - Google Patents
ガス生成量制御方法及びガス生成量制御装置 Download PDFInfo
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Description
前記ガス化炉に供給する原料とガス化剤の供給比率を固定し、前記加熱炉に供給する一次空気の供給量を固定することにより前記循環媒体の循環量を固定した状態において、前記加熱炉に供給する二次空気の供給量を制御することで、前記循環媒体によって加熱する前記ガス化炉の温度を一定に維持することを特徴とするガス生成量制御方法、に係るものである。
原料とガス化剤の供給比率を固定するための第1の制御手段と、前記循環媒体の循環量を固定する第2の制御手段と、前記ガス化炉の温度を一定に維持する第3の制御手段とを備え、
前記第1の制御手段は、前記ガス化炉に供給する原料の供給量と前記ガス化炉に供給するガス化剤の供給量を調節することで前記原料と前記ガス化剤の供給比率を固定し、
前記第2の制御手段は、ガス化炉と前記加熱炉の間を循環する循前記環媒体の検出循環量に基づいて前記加熱炉に供給する一次空気の供給量を調節することで前記循環媒体の循環量を固定し、
前記第3の制御手段は、ガス化炉の検出温度に基づいて前記加熱炉に供給する二次空気の供給量を調節することで前記ガス化炉の温度を一定に維持することを特徴とするガス生成量制御装置、に係るものである。
2 加熱炉
3 給炭機
4 降下管
6 水蒸気供給管
8 生成ガス管
11 一次空気供給管
12 二次空気供給管
31 第1の制御手段
32 第2の制御手段
33 第3の制御手段
Claims (2)
- ガス化炉に供給する原料とガス化剤を加熱炉で加熱された循環媒体で加熱することにより原料をガス化剤と反応させてガス化し、ガス化炉でガス化されなかった未反応のチャーはガス化炉内の循環媒体と共に、一次空気と二次空気が供給された加熱炉に導入して燃焼することにより前記循環媒体を加熱するガス化システムにおけるガス生成量制御方法であって、
前記ガス化炉に供給する原料とガス化剤の供給比率を固定し、前記加熱炉に供給する一次空気の供給量を固定することにより前記循環媒体の循環量を固定した状態において、前記加熱炉に供給する二次空気の供給量を制御することで、前記循環媒体によって加熱する前記ガス化炉の温度を一定に維持することを特徴とするガス生成量制御方法。 - 原料とガス化剤が供給されると共に加熱された循環媒体を導入し、前記原料をガス化剤と反応させてガス化するガス化炉と、一次空気と二次空気が供給され前記ガス化炉でガス化されなかった未反応のチャーを導入して燃焼することにより前記循環媒体を加熱する加熱炉とを備えたガス化システムにおけるガス生成量制御装置であって、
原料とガス化剤の供給比率を固定するための第1の制御手段と、前記循環媒体の循環量を固定する第2の制御手段と、前記ガス化炉の温度を一定に維持する第3の制御手段とを備え、
前記第1の制御手段は、前記ガス化炉に供給する原料の供給量と前記ガス化炉に供給するガス化剤の供給量を調節することで前記原料と前記ガス化剤の供給比率を固定し、
前記第2の制御手段は、ガス化炉と前記加熱炉の間を循環する循前記環媒体の検出循環量に基づいて前記加熱炉に供給する一次空気の供給量を調節することで前記循環媒体の循環量を固定し、
前記第3の制御手段は、ガス化炉の検出温度に基づいて前記加熱炉に供給する二次空気の供給量を調節することで前記ガス化炉の温度を一定に維持することを特徴とするガス生成量制御装置。
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