JP5694029B2 - 基板処理装置および搬送ローラ - Google Patents

Description

この発明は、ＬＣＤ（液晶表示装置）やＰＤＰ（プラズマディスプレイ）等のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）用ガラス基板、有機ＥＬ用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、太陽電池パネル用基板、光ディスク用基板等の基板を、フッ酸等の処理液により処理する基板処理装置、および、この基板処理装置に使用される搬送ローラに関する。

例えば、ＬＣＤの製造時には、アモルファスシリコン層をガラス基板上に形成し、このシリコン層表面の自然酸化膜をエッチング処理し、洗浄および乾燥処理をした後に、レーザーを照射してアモルファスシリコン層を溶融再結晶化している。このとき、例えば、特許文献１に記載されたように、エッチング工程後の洗浄工程においては、基板を低速回転させながら洗浄液を供給し、基板全面にその表面張力で洗浄液の液膜を形成した状態で洗浄処理を施し、しかる後、基板を高速回転させて洗浄液を除去する構成が採用されている。

しかしながら、近年の基板の大型化により、特許文献１に記載された発明のように、基板を回転させながら洗浄処理を行うことは困難となっている。このため、基板を水平方向に搬送しながら、基板の表面に対して洗浄液を供給して、基板を洗浄処理することが提案されている。

すなわち、特許文献２には、処理工程が洗浄工程ではなく剥離工程ではあるが、基板を複数の搬送ローラにより水平方向に向けて搬送しながら、基板の表面と対向配置されたスプレーノズルから基板の表面に剥離液を供給することにより、基板を剥離液により処理する基板処理装置が開示されている。

図９は、このような従来の基板処理装置における搬送機構を模式的に示す説明図である。

この搬送機構においては、駆動軸５３と、この駆動軸５３に固定されたローラ部５２とから成る搬送ローラ５１によりガラス基板１００の下面を支持するとともに、搬送ローラ５１を回転駆動することによりガラス基板１００を水平方向に移動させる構成となっている。

特開２００３−１７４６１号公報 特開２００４−１４６４１４号公報

このような搬送機構を有する従来の基板処理装置においては、ガラス基板１００に供給された処理液がガラス基板１００の裏面側に回り込み、搬送ローラ５１におけるローラ部５２の表面とガラス基板１００の裏面との間に浸入する場合がある。このような場合においては、搬送ローラ５１の回転によるガラス基板１００の移動に伴ってローラ部５２の表面とガラス基板１００の裏面との間に浸入した処理液も移動し、この処理液は図９において符号１０１で示すように、ガラス基板１００の裏面側に筋状に残存することになる。

このガラス基板１００の処理工程が、例えば、シリコン酸化膜をフッ酸で洗浄処理する洗浄処理工程の場合においては、このように筋状に残存した処理液によりガラス基板１００の裏面側がエッチングされるという問題がある。このような現象が発生した場合においては、基板を均一に洗浄処理することができない。さらに、その他の処理液を使用した場合においも、このような筋状の処理液により、処理を均一に行い得ないという問題が生ずる。このような問題は、搬送ローラ５１によりガラス基板１００を処理室内で一定時間だけ往復移動させて処理を行う場合において、特に、問題となる。

この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、基板を均一に処理することが可能な基板処理装置および搬送ローラを提供することを目的とする。

請求項１に記載の発明は、基板を搬送ローラにより水平方向に搬送するとともに、当該基板に対して処理液を供給して基板を処理する基板処理装置において、前記搬送ローラは、駆動軸と、前記駆動軸の軸心方向に所定の厚さを有するとともに、前記駆動軸の軸心方向から観察した場合に、その表面が前記駆動軸を中心とする円上に配置された基板との当接領域と、その表面が前記円より前記駆動軸の軸心側に配置された基板との非当接領域とが形成され、前記駆動軸に固定されることにより前記駆動軸の軸心を中心として回転する、前記駆動軸の軸心方向に対して互いに近接配置された複数個のローラ部材とを備えることを特徴とする。

請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記複数個のローラ部材は、前記複数個のローラ部材における各当接領域が全体として前記円の円周全域に配置されるように、互いに当接領域を補完する形状を有する。

請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、前記円の円周全域の１／３を越える当接領域と、前記当接領域以外の非当接領域とが形成された３個のローラ部材を、前記駆動軸の軸心に対して均等な角度位置で固定した。

請求項４に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、前記円の円周全域の１／４を越える当接領域と、前記当接領域以外の非当接領域とが形成された４個のローラ部材を、前記駆動軸の軸心に対して均等な角度位置で固定した。

請求項５に記載の発明は、請求項２に記載の基板処理装置において、前記円の円周全域の１／２を越える当接領域と、前記当接領域以外の非当接領域とが形成された２個のローラ部材を、前記駆動軸の軸心に対して均等な角度位置で固定した。

請求項６に記載の発明は、請求項１から請求項５のいずれかに記載の発明において、前記処理液はフッ酸である基板処理装置。

請求項７に記載の発明は、基板を水平方向に搬送するとともに、当該基板に対して処理液を供給して基板を処理する基板処理装置に使用される搬送ローラであって、駆動軸と、前記駆動軸の軸心方向に所定の厚さを有するとともに、ｎを２以上の整数としたときに、前記駆動軸の軸心方向から観察した場合に、その表面が前記駆動軸を中心とする円上に配置された前記円の円周全域の１／ｎを越える基板との当接領域と、その表面が前記円より前記駆動軸の軸心側に配置された前記当接領域以外の基板との非当接領域とが形成されたｎ個のローラ部材を、前記駆動軸の軸心に対して均等な角度位置で前記駆動軸の軸心方向に対して互いに近接配置した状態で、前記駆動軸に固定したことを特徴とする。

請求項１から請求項７に記載の発明によれば、基板の裏面側へ回り込んだ処理液が筋状に残存する現象を防止して、基板を均一に処理することが可能となる。

請求項２から請求項５に記載の発明によれば、複数個のローラ部材が互いに当接領域を補完することから、基板を滑らかに搬送することが可能となる。

請求項６に記載の発明によれば、基板の裏面が筋状にエッチングされる現象を防止することが可能となる。

この発明に係る基板処理措置の概要図である。 ガラス基板１００を搬送ローラ１により搬送する状態を示す斜視図である。 この発明の第１実施形態に係る搬送ローラ１の斜視図である。 この発明の第１実施形態に係る搬送ローラ１を、駆動軸３の軸心方向から観察した状態を模式的に示す説明図である。 搬送ローラ１における各ローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃの配置を示す模式図である。 この発明の第２実施形態に係る搬送ローラ１を、駆動軸３の軸心方向から観察した状態を模式的に示す説明図である。 この発明の第３実施形態に係る搬送ローラ１を、駆動軸３の軸心方向から観察した状態を模式的に示す説明図である。 この発明のさらに他の実施形態に係るローラ部材２ｊおよび２ｋを駆動軸３とともに示す説明図である。 従来の基板処理装置における搬送機構を模式的に示す説明図である。

以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１は、この発明に係る基板処理装置の概要図である。また、図２は、ガラス基板１００を搬送ローラ１により搬送する状態を示す斜視図である。

この基板洗浄装置は、アモルファスシリコン層がその表面に形成されたガラス基板１００に対してレーザーアニールを行う前に、アモルファスシリコン層表面に形成された酸化膜の洗浄処理を行うためのものである。この洗浄処理に使用される処理液(洗浄液)は、フッ酸（フッ化水素水／ＨＦ）が使用される。

この基板処理装置は、ガラス基板１００を水平方向に搬送する複数の搬送ローラ１と、処理液を貯留する貯留槽１３と、この貯留槽１３に貯留された処理液を、管路１６を介して搬送ローラ１により搬送されるガラス基板１００の表面に供給するためのスプレーノズル１１と、管路１６に配設されたポンプ１４およびフィルター１５と、スプレーノズル１１からガラス基板１００に供給された処理液を貯留槽１３に回収する回収槽１２とを備える。なお、搬送ローラ１は、後述する複数のローラ部２および駆動軸３から構成されている。

複数の搬送ローラ１は、矩形状のガラス基板１００を、その下面を支持した状態で図１における左右方向に搬送する構成となっている。このとき、搬送ローラ１は、ガラス基板１００の主面を水平方向を向けた状態で搬送する。但し、ガラス基板１００の主面が水平方向に対し交差するように、ガラス基板１００の主面を傾斜させた状態で支持して搬送することにより、ガラス基板１００の表面における処理液の置換性を向上させるようにしてもよい。

貯留槽１３内に貯留された処理液は、管路１６中に配設されたポンプ１４の作用により、フィルター１５および管路１６を介して、搬送ローラ１により搬送されるガラス基板１００の上方に配設されたスプレーノズル１１に送液され、このスプレーノズル１１から搬送ローラ１により搬送されるガラス基板１００の表面の全域に供給される。この状態において、ガラス基板１００は、複数の搬送ローラ１の作用により、回収槽１２の上方において往復移動され、ガラス基板１００におけるアモルファスシリコン層の表面に形成された酸化膜が洗浄除去される。

そして、ガラス基板１００から流下した処理液は、回収槽１２を介して、貯留槽１３に回収され、再度、スプレーノズル１１に送液される。なお、ガラス基板１００の表面のみに処理液を供給するかわりに、ガラス基板１００の両面に処理液を供給するようにしてもよい。

次に、この発明の特徴部分である搬送ローラ１の構成について説明する。図３は、この発明の第１実施形態に係る搬送ローラ１の斜視図である。また、図４は、この発明の第１実施形態に係る搬送ローラ１を、駆動軸３の軸心方向から観察した状態を模式的に示す説明図である。

これらの図に示すように、搬送ローラ１は、駆動軸３と、複数のローラ部２とから成る。そして、複数のローラ部２は、各々、同一形状を成す３個のローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃから構成される。各ローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃは、駆動軸３の軸心方向にガラス基板１００を支持するのに必要な所定の厚さを有する。そして、３個のローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃから成るローラ部２は、駆動軸３に対して一定ピッチで配設されている。

また、これらのローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃには、図４に示すように駆動軸３の軸心方向から観察した場合に、その表面が、図４において仮想線で示す駆動軸３を中心とする円Ｓ上に配置されたガラス基板１００との当接領域２１と、その表面が円Ｓより駆動軸３の軸心側に配置されたガラス基板１００との非当接領域２２とが形成されている。この当接領域２１は、図４において仮想線で示す円Ｓの円周全域の１／３（三分の一）をわずかに越えている。このため、非当接領域２２は、その円Ｓの円周全域の２／３（三分の二）よりわずかに小さな領域に対応して配置されることになる。

そして、これらのローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃは、駆動軸３の軸心に対して均等な角度位置となる状態、すなわち互いに１２０度だけ位相がずれた状態で、駆動軸３に対して固定されている。このため、これらのローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃは、各ローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃの各当接領域２１が全体として図４において仮想線で示す円Ｓの円周全域に配置されるように、互いに当接領域２１を補完する形状を有することになる。そして、これらのローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃは、駆動軸３の軸心を中心として、駆動軸３の回転に伴って回転する。

このような構成を有する搬送ローラ１によりガラス基板１００を搬送した場合においては、ローラ部２を構成する各ローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃの当接領域２１が順次ガラス基板１００の裏面に当接し、ガラス基板１００を搬送する。このとき、各ローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃにおける当接領域２１は、円Ｓの円周全域の１／３をわずかに越えており、各ローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃの各当接領域２１が全体として円Ｓの円周全域に配置されるように、互いに当接領域２１を補完する形状を有することから、ガラス基板１００に振動等を与えることなく、ガラス基板１００を水平方向に安定して搬送することが可能となる。

そして、ローラ部２は、ガラス基板１００の裏面を、３個のローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃにより順次支持して搬送する構成であることから、ガラス基板１００の裏面とローラ部２を構成する３個のローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃとの間に処理液が浸入したとしても、それらの処理液は速やかに滴下し、図９に示すような筋状の処理液１０１がガラス基板１００の裏面に残存する現象を大幅に低減することが可能となる。従って、筋状に残存した処理液１０１によりガラス基板１００の裏面側がエッチングされるという問題が生ずることはない。

なお、この搬送ローラ１においては、ローラ部２を構成する各ローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃの当接領域２１が順次ガラス基板１００の裏面に当接してガラス基板１００を搬送する構成であることから、ガラス基板１００の裏面におけるガラス基板１００の搬送方向に伸びる筋状の領域が常にローラ部２と当接する場合に比べ、ガラス基板１００とローラ部２との当接によるガラス基板１００の温度変化の影響を小さくすることができる。このため、ガラス基板１００をより均一に処理することが可能となる。

図５は、搬送ローラ１における各ローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃの配置を示す模式図である。

上述した実施形態においては、図５(ａ)に示すように、ローラ部２を構成する３個のローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃを、互いに当接させた状態で配置している。しかしながら、図５(ｂ)に示すように、３個のローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃを等間隔に離間させた状態で配置してもよい。この明細書における「近接配置」とは、互いに当接させた状態のみならず、小さな距離だけ離間させた場合をも含む概念である。

次に、この発明に係る搬送ローラ１の他の実施形態について説明する。図６は、この発明の第２実施形態に係る搬送ローラ１を、駆動軸３の軸心方向から観察した状態を模式的に示す説明図である。

上述した第１実施形態においては、当接領域２１が円Ｓの円周全域の１／３をわずかに越える３個のローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃによりローラ部２を構成している。これに対して、この第２実施形態においては、当接領域２１が円Ｓの円周全域の１／４をわずかに越える４個のローラ部材２ｄ、２ｅ、２ｆ、２ｇによりローラ部２を構成している。

すなわち、これらのローラ部材２ｄ、２ｅ、２ｆ、２ｇには、図６に示すように駆動軸３の軸心方向から観察した場合に、その表面が、図６において仮想線で示す駆動軸３を中心とする円Ｓ上に配置されたガラス基板１００との当接領域２１と、その表面が円Ｓより駆動軸３の軸心側に配置されたガラス基板１００との非当接領域２２とが形成されている。この当接領域２１は、図６において仮想線で示す円Ｓの円周全域の１／４（四分の一）をわずかに越えている、。このため、非当接領域２２は、その円Ｓの円周全域の３／４（四分の三）よりわずかに小さな領域に対応して配置されることになる。

そして、これらのローラ部材２ｄ、２ｅ、２ｆ、２ｇは、駆動軸３の軸心に対して均等な角度位置となる状態、すなわち互いに９０度だけ位相がずれた状態で、駆動軸３に対して固定されている。このため、これらのローラ部材２ｄ、２ｅ、２ｆ、２ｇは、各ローラ部材２ｄ、２ｅ、２ｆ、２ｇの各当接領域２１が全体として図６において仮想線で示す円Ｓの円周全域に配置されるように、互いに当接領域２１を補完する形状を有することになる。そして、これらのローラ部材２ｄ、２ｅ、２ｆ、２ｇは、駆動軸３の軸心を中心として、駆動軸３の回転に伴って回転する。

このような構成を有する搬送ローラ１によりガラス基板１００を搬送した場合においても、ローラ部２を構成する各ローラ部材２ｄ、２ｅ、２ｆ、２ｇの当接領域２１が順次ガラス基板１００の裏面に当接し、ガラス基板１００を搬送する。このとき、各ローラ部材２ｄ、２ｅ、２ｆ、２ｇにおける当接領域２１は、円Ｓの円周全域の１／４をわずかに越えており、各ローラ部材２ｄ、２ｅ、２ｆ、２ｇの各当接領域２１が全体として円Ｓの円周全域に配置されるように、互いに当接領域２１を補完する形状を有することから、ガラス基板１００に振動等を与えることなく、ガラス基板１００を水平方向に安定して搬送しながら、ガラス基板１００を均一に処理することが可能となる。

次に、この発明に係る搬送ローラ１のさらに他の実施形態について説明する。図７は、この発明の第３実施形態に係る搬送ローラ１を、駆動軸３の軸心方向から観察した状態を模式的に示す説明図である。

この第３実施形態においては、当接領域２１が円Ｓの円周全域の１／２をわずかに越える２個のローラ部材２ｈ、２ｉによりローラ部２を構成している。すなわち、これらのローラ部材２ｈ、２ｉには、図７に示すように駆動軸３の軸心方向から観察した場合に、その表面が、図７において仮想線で示す駆動軸３を中心とする円Ｓ上に配置されたガラス基板１００との当接領域２１と、その表面が円Ｓより駆動軸３の軸心側に配置されたガラス基板１００との非当接領域２２とが形成されている。この当接領域２１は、図７において仮想線で示す円Ｓの円周全域の１／２（二分の一）をわずかに越えている。このため、非当接領域２２は、その円Ｓの円周全域の１／２（二分の一）よりわずかに小さな領域に対応して配置されることになる。

そして、これらのローラ部材２ｈ、２ｉは、駆動軸３の軸心に対して均等な角度位置となる状態、すなわち互いに１８０度だけ位相がずれた状態で、駆動軸３に対して固定されている。このため、これらのローラ部材２ｈ、２ｉは、各ローラ部材２ｈ、２ｉの各当接領域２１が２つで図７において仮想線で示す円Ｓの円周全域に配置されるように、互いに当接領域２１を補完する形状を有することになる。そして、これらのローラ部材２ｈ、２ｉは、駆動軸３の軸心を中心として、駆動軸３の回転に伴って回転する。

このような構成を有する搬送ローラ１によりガラス基板１００を搬送した場合においても、ローラ部２を構成する各ローラ部材２ｈ、２ｉの当接領域２１が順次ガラス基板１００の裏面に当接し、ガラス基板１００を搬送する。このとき、各ローラ部材２ｈ、２ｉにおける当接領域２１は、円Ｓの円周全域の１／２をわずかに越えており、各ローラ部材２ｈ、２ｉの各当接領域２１が２つで円Ｓの円周全域に配置されるように、互いに当接領域２１を補完する形状を有することから、ガラス基板１００に振動等を与えることなく、ガラス基板１００を水平方向に安定して搬送しながら、ガラス基板１００を均一に処理することが可能となる。

上述した実施形態からも明らかなように、ローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ、２ｅ、２ｆ、２ｇ、２ｈ、２ｉとしては、ｎを２以上の整数としたときに、駆動軸３を中心とする円Ｓ上に配置された円Ｓの円周全域の１／ｎを越えるガラス基板１００との当接領域２１と、その表面が円Ｓより駆動軸３の軸心側に配置されたガラス基板１００との非当接領域２２とが形成されたものをｎ個使用することにより、ガラス基板１００を安定して搬送しながら、ガラス基板１００を均一に処理することが可能となる。また、各ローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ、２ｅ、２ｆ、２ｇ、２ｈ、２ｉを同一形状とすることにより、各ローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ、２ｅ、２ｆ、２ｇ、２ｈ、２ｉの製造コストを低減することが可能となる。

このとき、処理液の滴下作用とガラス基板１００の安定的な搬送作用を得ながら、各ローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ、２ｅ、２ｆ、２ｇ、２ｈ、２ｉの製造コストを低減するためには、上述したように、このｎを２乃至４程度とすることが好ましい。

図８は、この発明のさらに他の実施形態に係るローラ部材２ｊおよび２ｋを駆動軸３とともに示す説明図である。

上述した第１乃至第３実施形態においては、ガラス基板１００との当接領域２１と非当接領域２２とを各々１個有するローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ、２ｅ、２ｆ、２ｇ、２ｈ、２ｉを使用している。しかしながら、この実施形態に係るローラ部材２ｊおよび２ｋにおいては、ガラス基板１００との当接領域２１と非当接領域２２とを各々２個有する構成となっている。このようなローラ部材２ｊおよび２ｋを使用した場合においても、各ローラ部材２ｊ、２ｋの各当接領域２１が全体として円Ｓの円周全域に配置されるように、互いに当接領域２１を補完する形状を有している場合には、ガラス基板１００に振動等を与えることなく、ガラス基板１００を水平方向に安定して搬送しながら、ガラス基板１００を均一に処理することが可能となる。

なお、上述した実施形態においては、複数個のローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ、２ｅ、２ｆ、２ｇ、２ｈ、２ｉ、２ｊ、２ｋにおけるいずれかの当接領域２１が円Ｓの円周全域に配置されるような、互いに当接領域を補完する形状を有するローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ、２ｅ、２ｆ、２ｇ、２ｈ、２ｉ、２ｊ、２ｋを使用している。しかしながら、ローラ部２を構成するローラ部材の数を比較的多数とすることによりガラス基板１００の搬送安定性を向上させた場合には、各ローラ部材のそれぞれの当接領域２１が全体として、必ずしも円Ｓの円周全域に配置される必要はない。

また、上述した実施形態においては、ガラス基板１００に対してスプレーノズル１１から処理液を供給する構成の基板処理装置にこの発明を適用しているが、貯留された処理液中にガラス基板１００を浸漬することによりガラス基板１００に処理液を供給するディップ処理式の基板処理装置や、ガラス基板１００に処理液を盛るパドル処理式の基板処理装置にこの発明を適用することも可能である。

１ 搬送ローラ
２ ローラ部
２ａ ローラ部材
２ｂ ローラ部材
２ｃ ローラ部材
２ｄ ローラ部材
２ｅ ローラ部材
２ｆ ローラ部材
２ｇ ローラ部材
２ｈ ローラ部材
２ｉ ローラ部材
２ｊ ローラ部材
２ｋ ローラ部材
３ 駆動軸
１１ スプレーノズル
１２ 回収槽
１３ 貯留槽
１４ ポンプ
１５ フィルター
１６ 管路
２１ 当接領域
２２ 非当接領域
１００ ガラス基板
Ｓ 円

Claims (7)

1. 基板を搬送ローラにより水平方向に搬送するとともに、当該基板に対して処理液を供給して基板を処理する基板処理装置において、
   前記搬送ローラは、
   駆動軸と、
   前記駆動軸の軸心方向に所定の厚さを有するとともに、前記駆動軸の軸心方向から観察した場合に、その表面が前記駆動軸を中心とする円上に配置された基板との当接領域と、その表面が前記円より前記駆動軸の軸心側に配置された基板との非当接領域とが形成され、前記駆動軸に固定されることにより前記駆動軸の軸心を中心として回転する、前記駆動軸の軸心方向に対して互いに近接配置された複数個のローラ部材と、
   を備えることを特徴とする基板処理装置。
2. 請求項１に記載の基板処理装置において、
   前記複数個のローラ部材は、
   前記複数個のローラ部材における各当接領域が全体として前記円の円周全域に配置されるように、互いに当接領域を補完する形状を有する基板処理装置。
3. 請求項２に記載の基板処理装置において、
   前記円の円周全域の１／３を越える当接領域と、前記当接領域以外の非当接領域とが形成された３個のローラ部材を、前記駆動軸の軸心に対して均等な角度位置で固定した基板処理装置。
4. 請求項２に記載の基板処理装置において、
   前記円の円周全域の１／４を越える当接領域と、前記当接領域以外の非当接領域とが形成された４個のローラ部材を、前記駆動軸の軸心に対して均等な角度位置で固定した基板処理装置。
5. 請求項２に記載の基板処理装置において、
   前記円の円周全域の１／２を越える当接領域と、前記当接領域以外の非当接領域とが形成された２個のローラ部材を、前記駆動軸の軸心に対して均等な角度位置で固定した基板処理装置。
6. 請求項１から請求項５のいずれかに記載の基板処理装置において、
   前記処理液はフッ酸である基板処理装置。
7. 基板を水平方向に搬送するとともに、当該基板に対して処理液を供給して基板を処理する基板処理装置に使用される搬送ローラであって、
   駆動軸と、
   前記駆動軸の軸心方向に所定の厚さを有するとともに、ｎを２以上の整数としたときに、前記駆動軸の軸心方向から観察した場合に、その表面が前記駆動軸を中心とする円上に配置された前記円の円周全域の１／ｎを越える基板との当接領域と、その表面が前記円より前記駆動軸の軸心側に配置された前記当接領域以外の基板との非当接領域とが形成されたｎ個のローラ部材を、前記駆動軸の軸心に対して均等な角度位置で前記駆動軸の軸心方向に対して互いに近接配置した状態で、前記駆動軸に固定したことを特徴とする搬送ローラ。
   

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