JP5691372B2 - 触媒燃焼装置および触媒再生方法 - Google Patents
触媒燃焼装置および触媒再生方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5691372B2 JP5691372B2 JP2010231364A JP2010231364A JP5691372B2 JP 5691372 B2 JP5691372 B2 JP 5691372B2 JP 2010231364 A JP2010231364 A JP 2010231364A JP 2010231364 A JP2010231364 A JP 2010231364A JP 5691372 B2 JP5691372 B2 JP 5691372B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- organic solvent
- organic
- combustion apparatus
- catalytic combustion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
1.有機溶剤を含有したガスを酸化分解して浄化する触媒燃焼装置であって、有機シリコンまたは有機リンの触媒毒で性能が低下した触媒に、該触媒毒を含有しない有機シリコンおよび有機リンを溶解できる有機溶剤を含有するガスを供給する手段を有する触媒燃焼装置。
2.前記触媒毒を含有しない有機シリコンおよび有機リンを溶解できる有機溶剤を含有するガスの供給温度が、100〜600℃である上記1記載の触媒燃焼装置。
3.前記触媒が貴金属触媒である上記1または2記載の触媒燃焼装置。
4.前記貴金属触媒がPtまたはPdである上記3記載の触媒燃焼装置。
5.前記有機シリコンおよび有機リンを溶解できる有機溶剤がトルエン、ヘキサン、アセトンのいずれかを少なくとも含む有機溶剤である上記1〜4のいずれかに記載の触媒燃焼装置。
6.有機溶剤を含有したガスを酸化分解して浄化する触媒の再生方法であって、有機シリコンまたは有機リンの触媒毒で性能が低下した触媒に、該触媒毒を含有しない有機シリコンおよび有機リンを溶解できる有機溶剤を含有するガスを供給する触媒の再生方法。
7.前記触媒毒を含有しない有機シリコンおよび有機リンを溶解できる有機溶剤含有ガスの供給温度が、100〜600℃である上記6記載の触媒再生方法。
8.前記触媒が貴金属触媒である上記6または7記載の触媒再生方法。
9.前記貴金属触媒がPtまたはPdである上記8記載の触媒再生方法。
10.前記有機シリコンおよび有機リンを溶解できる有機溶剤がトルエン、ヘキサン、アセトンのいずれかを少なくとも含む有機溶剤である上記6〜9のいずれかに記載の触媒再生方法。
また、断続的に有機シリコンや有機リンなどの触媒毒含有有機溶剤排ガスが排出される工程であれば、該排ガスが排出されていない時に触媒の再生に用いる有機溶剤含有ガスを、有機溶剤排ガス供給口4を廃し、触媒毒含有有機溶剤排ガス供給口1より供給しても良い。この場合の再生に用いる有機溶剤含有ガスは前記と同様である。
図1に示される本発明の触媒燃焼装置において、以下に示す条件で有機シリコン含有有機溶剤ガスの清浄化処理及び触媒再生を行った。
図1に示す触媒燃焼炉内に有機溶剤の一つであるトルエン1,000ppmと環状有機シリコンの一つであるオクタメチルシクロテトラヘキサン10ppmを混合したガスを導入し、触媒燃焼炉内温度を300℃とし、空間速度50,000Hr−1にてPt触媒を使用して処理を行った。その結果、約70分にて触媒によるトルエン除去率が7%まで低下し、Pt触媒の劣化が確認された。
Pt触媒の劣化が確認された後に、触媒燃焼炉内温度を300℃に保持したまま、トルエン1,000ppmガスのみを触媒燃焼炉内に導入したところ、当初のトルエン除去率は7%程度であったが、20分の再生処理を行うことでトルエン除去率が97%まで回復した。
実施例1の環状有機シリコンを直鎖状有機シリコンの一つであるヘキサメチルジシラザン10ppmに変更し同様の処理を行ったところ、74分にて触媒によるトルエン除去率が50%まで低下し、Pt触媒の劣化が確認された。
Pt触媒の劣化が確認された後に、トルエン1,000ppmのみを触媒燃焼炉内に導入したところ、64分の再生処理を行うことでトルエン除去率が97%まで回復した。
実施例1の処理する有機溶剤をイソプロピルアルコール1,000ppmに変更し同様の処理を行ったところ、74分にて触媒によるイソプロピルアルコール除去率が14%まで低下し、Pt触媒の劣化が確認された。
Pt触媒の劣化が確認された後に、イソプロピルアルコール1,000ppmのみを触媒燃焼炉内に導入したところ167分の再生処理を行うことでイソプロピルアルコール除去率が87%まで回復した。
実施例1と同様の処理を行い、Pt触媒の劣化が確認された後に、触媒燃焼炉内温度を300℃に保持したまま、外気のみを触媒燃焼炉内に導入した。その結果、200分の処理を実施してもPt触媒の性能回復は確認されなかった。
2 触媒毒含有有機溶剤排ガス供給口
3 有機溶剤排ガス
4 有機溶剤排ガス供給口
5 補助燃料
6 補助燃料供給口
7 ヒーター
8 触媒燃焼炉内排ガス経路
9 触媒燃焼炉
10 触媒
11 清浄空気排出口
12 清浄空気
13 触媒
14 触媒活性点
15 有機シリコン
Claims (10)
- 有機溶剤を含有したガスを酸化分解して浄化する触媒燃焼装置であって、有機シリコンまたは有機リンの触媒毒で性能が低下した触媒に、該触媒毒を含有しない有機シリコンおよび有機リンを溶解できる有機溶剤を含有するガスを供給する手段を有することで、触媒燃焼装置内に該触媒を充填したままで該触媒の再生が可能な触媒燃焼装置。
- 前記触媒毒を含有しない有機シリコンおよび有機リンを溶解できる有機溶剤を含有するガスの供給温度が、100〜600℃である請求項1記載の触媒燃焼装置。
- 前記触媒が貴金属触媒である請求項1または2記載の触媒燃焼装置。
- 前記貴金属触媒がPtまたはPdである請求項3記載の触媒燃焼装置。
- 前記有機シリコンおよび有機リンを溶解できる有機溶剤がトルエン、ヘキサン、アセトンのいずれかを少なくとも含む有機溶剤である請求項1〜4のいずれかに記載の触媒燃焼装置。
- 有機溶剤を含有したガスを酸化分解して浄化する触媒の再生方法であって、有機シリコンまたは有機リンの触媒毒で性能が低下した触媒に、該触媒毒を含有しない有機シリコンおよび有機リンを溶解できる有機溶剤を含有するガスを供給することで、触媒燃焼装置内に該触媒を充填したまま該触媒を再生する方法。
- 前記触媒毒を含有しない有機シリコンおよび有機リンを溶解できる有機溶剤含有ガスの供給温度が、100〜600℃である請求項6記載の触媒を再生する方法。
- 前記触媒が貴金属触媒である請求項6または7記載の触媒を再生する方法。
- 前記貴金属触媒がPtまたはPdである請求項8記載の触媒を再生する方法。
- 前記有機シリコンおよび有機リンを溶解できる有機溶剤がトルエン、ヘキサン、アセトンのいずれかを少なくとも含む有機溶剤である請求項6〜9のいずれかに記載の触媒を再生する方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010231364A JP5691372B2 (ja) | 2010-10-14 | 2010-10-14 | 触媒燃焼装置および触媒再生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010231364A JP5691372B2 (ja) | 2010-10-14 | 2010-10-14 | 触媒燃焼装置および触媒再生方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012081444A JP2012081444A (ja) | 2012-04-26 |
JP5691372B2 true JP5691372B2 (ja) | 2015-04-01 |
Family
ID=46240887
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010231364A Active JP5691372B2 (ja) | 2010-10-14 | 2010-10-14 | 触媒燃焼装置および触媒再生方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5691372B2 (ja) |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62266120A (ja) * | 1986-05-12 | 1987-11-18 | Asahi Glass Co Ltd | 塗装乾燥炉の排ガス処理装置 |
JPH05123529A (ja) * | 1991-11-08 | 1993-05-21 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 溶剤含有ガスの触媒燃焼装置 |
JPH11228994A (ja) * | 1998-02-17 | 1999-08-24 | Sony Corp | 磁気記録ヘッド用クリーニング液、磁気記録ヘッド用クリーニングテープ、および磁気記録ヘッド用クリーナ |
ES2209846T3 (es) * | 1999-03-31 | 2004-07-01 | Kuraray Co., Ltd. | Compuestos organofosforados para composiciones dentales polimerizables. |
JP4141722B2 (ja) * | 2002-04-01 | 2008-08-27 | バブコック日立株式会社 | シリコン含有排ガスの浄化方法 |
JP2004041989A (ja) * | 2002-07-15 | 2004-02-12 | Babcock Hitachi Kk | シリコン含有排ガスの浄化方法 |
JP2005298485A (ja) * | 2004-03-18 | 2005-10-27 | Sharp Corp | 有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
JP2006102613A (ja) * | 2004-10-04 | 2006-04-20 | Matsushita Electric Works Ltd | 脱臭装置及びそれを用いた生ごみ処理装置 |
JP4840064B2 (ja) * | 2006-10-06 | 2011-12-21 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、画像形成装置及びプロセスカートリッジ |
-
2010
- 2010-10-14 JP JP2010231364A patent/JP5691372B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012081444A (ja) | 2012-04-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5350935B2 (ja) | Co2回収装置排ガスの処理方法 | |
JP4642814B2 (ja) | 塗装乾燥炉の排気ガス脱臭処理システム | |
CA2497604A1 (en) | Method for regenerating nox removal catalyst | |
JPH1085682A (ja) | 被汚染物体の洗浄方法及び装置 | |
JP7055556B2 (ja) | 活性炭の性能回復可能性判断方法及び活性炭再生方法並びに活性炭リユースシステム | |
JP2005230627A (ja) | 低温プラズマを用いる排ガスの浄化方法及びその浄化装置 | |
JP2012143754A5 (ja) | ||
JP6332599B2 (ja) | 水処理システム | |
JP2008188492A (ja) | 水処理システム | |
JP2011189262A (ja) | 二酸化炭素回収装置からの排ガスの処理方法及び装置 | |
JP5691372B2 (ja) | 触媒燃焼装置および触媒再生方法 | |
KR101439806B1 (ko) | 배기가스 정화 촉매의 재생방법 | |
JP6332586B2 (ja) | 水処理装置および水処理システム | |
JP2006055713A (ja) | 水処理システム | |
JP2012050900A (ja) | 排ガス処理設備 | |
KR20130048236A (ko) | 촉매 활성의 회복 방법 | |
JP2006055712A (ja) | 水処理装置 | |
JP2017039072A (ja) | 排ガス浄化装置及び方法、並びに作物生産用施設への二酸化炭素含有ガスと熱の供給装置 | |
JP3922449B2 (ja) | 有機溶剤回収システム | |
JP2001235124A (ja) | 廃液晶表示基板処理方法 | |
NL2037495A (en) | Oil fume purification apparatus | |
JP2009142753A (ja) | 光触媒部材の再生方法 | |
JPH0710334B2 (ja) | Nf3 排ガス処理方法および装置 | |
JP2000167395A (ja) | 排ガス中の有害物質除去用吸着剤の再生方法およびその装置 | |
JPS5881428A (ja) | 触媒の失活防止方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130917 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140205 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140218 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140418 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150106 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150119 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5691372 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |