JP5676279B2 - 粒子の固着方法及び粒子固着体の製造方法 - Google Patents
粒子の固着方法及び粒子固着体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5676279B2 JP5676279B2 JP2010548461A JP2010548461A JP5676279B2 JP 5676279 B2 JP5676279 B2 JP 5676279B2 JP 2010548461 A JP2010548461 A JP 2010548461A JP 2010548461 A JP2010548461 A JP 2010548461A JP 5676279 B2 JP5676279 B2 JP 5676279B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- particles
- particle
- substrate
- fixing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims description 234
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 59
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 26
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 79
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 26
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 25
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 claims 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 84
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 33
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 30
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 24
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 24
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 14
- 239000010408 film Substances 0.000 description 12
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 12
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 12
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 12
- 206010040844 Skin exfoliation Diseases 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 11
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 11
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 10
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 10
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 9
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 8
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 8
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- -1 aniline and phenol Chemical compound 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 6
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 5
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 229910020923 Sn-O Inorganic materials 0.000 description 3
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 3
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- QLSWIGRIBOSFMV-UHFFFAOYSA-N 1h-pyrrol-2-amine Chemical compound NC1=CC=CN1 QLSWIGRIBOSFMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229940058905 antimony compound for treatment of leishmaniasis and trypanosomiasis Drugs 0.000 description 2
- 150000001463 antimony compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003636 chemical group Chemical group 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 2
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UXDOVWDLXFKBOV-UHFFFAOYSA-M sodium;2-ethylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].CCC1=CC=CC=C1S([O-])(=O)=O UXDOVWDLXFKBOV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KVCGISUBCHHTDD-UHFFFAOYSA-M sodium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 KVCGISUBCHHTDD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 150000003577 thiophenes Chemical class 0.000 description 2
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-pyrazole-3-carboxylic acid Chemical compound CC1=CC(C(O)=O)=NN1 WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000873 Beta-alumina solid electrolyte Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000927 Ge alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000126211 Hericium coralloides Species 0.000 description 1
- 238000012695 Interfacial polymerization Methods 0.000 description 1
- 229910013641 LiNbO 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000978 Pb alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001215 Te alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910007611 Zn—In—O Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PSHMSSXLYVAENJ-UHFFFAOYSA-N dilithium;[oxido(oxoboranyloxy)boranyl]oxy-oxoboranyloxyborinate Chemical compound [Li+].[Li+].O=BOB([O-])OB([O-])OB=O PSHMSSXLYVAENJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001962 electrophoresis Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229920005570 flexible polymer Polymers 0.000 description 1
- UQSQSQZYBQSBJZ-UHFFFAOYSA-N fluorosulfonic acid Chemical compound OS(F)(=O)=O UQSQSQZYBQSBJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 1
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 1
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005501 phase interface Effects 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 150000005838 radical anions Chemical class 0.000 description 1
- 150000005839 radical cations Chemical class 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003115 supporting electrolyte Substances 0.000 description 1
- 150000003498 tellurium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/44—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for electrophoretic applications
- C09D5/4476—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for electrophoretic applications comprising polymerisation in situ
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/44—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for electrophoretic applications
- C09D5/448—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for electrophoretic applications characterised by the additives used
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/40—Glass
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
- Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Description
基体上に形成された第1電極上に粒子を固着させる固着方法であって、
少なくとも前記第1電極上に粒子層を形成する形成工程と、
前記第1電極上に粒子層を形成させ対向電極を前記第1電極に対向させた状態で、電解重合する化学物質を含む溶液に前記基体を浸漬し、前記第1電極と前記対向電極との間に電位差を設けて前記化学物質を前記第1電極で電解重合させ前記粒子層を固着する固着工程と、を含むものである。
基体上に形成された第1電極上に粒子が固着した粒子固着体の製造方法であって、
少なくとも前記第1電極上に粒子層を形成する形成工程と、
前記第1電極上に粒子層を形成させ対向電極を前記第1電極に対向させた状態で、電解重合する化学物質を含む溶液に前記基体を浸漬し、前記第1電極と前記対向電極との間に電位差を設けて前記化学物質を前記第1電極で電解重合させ前記粒子層を固着する固着工程と、を含むものである。
まず、基体12上に第1電極14を形成する処理を行う(図1の1段目)。第1電極14を配設する基体12としては、上述したガラスや単結晶、セラミックス、樹脂、予め絶縁コートされた金属などのうちいずれかを適宜用いることができる。第1電極14としては、上述した導電性を有する金属、酸化物などの無機化合物、高分子のいずれか1以上を用いることができる。第1電極14の形成方法としては、例えば、上記電極材料の蒸着やスパッタリング、モノマーの重合反応などにより形成することができる。また、第1電極14は、上記電極材料のペーストを調製し、このペーストを基体12上へドクターブレード法やスクリーン印刷法などにより塗布したり、無電界めっきを行うことなどにより基体12上へ所望のパターンで形成することができる。第1電極14の形状や厚さは適宜選択することができる。
次に、第1電極14を形成した基体12上の少なくとも第1電極14上へ粒子32の層である粒子層30を形成する。用いる粒子32は、上述したガラス、セラミックス、樹脂、予め絶縁コートされた金属などのうちいずれかを用いることができる。また、圧電/電歪特性を有する粒子、強誘電特性を有する粒子、磁気特性を有する粒子、熱電特性を有する粒子、イオン伝導性を有する粒子、光学特性を有する粒子などのうちいずれかを用いることができる。粒子層30の形成方法は、その後の固着工程に供せられる方法であれば特に限定されず、図1の2段目に示すように、基体12を溶液へ浸漬させずに直接粒子層30を形成するものとしてもよいし、図2の2段目に示すように、粒子32を含む溶液(スラリー)に基体12を浸漬させて第1電極上に粒子層30を形成するものとしてもよい。前者の方法としては、例えば、スプレーにより塗布する方法、スピンコート法、ドクターブレイド法などのうち1以上の方法が挙げられる。後者の方法としては、例えば、粒子32が分散したスラリーに基体12を浸漬・静置して粒子32を沈降させる方法や、粒子32を液相界面に整列させ浸漬させた基体12を引き上げるLB法、電気泳動法、ディップ法などのうち1以上の方法が挙げられる。こうすれば、比較的容易に第1電極14上へ粒子層30を形成することができる。このうち、スラリーに基体12を浸漬して粒子32を沈降させる方法は、その後の固着工程(ポリマーの電解重合)に移行しやすいため好適に用いられる。この粒子層30の形成の際に、機械振動、音波、熱、光、磁場などを付加することで、より緻密に充填させることもできる。また、固着工程で粒子層30を溶液に浸漬させることから、粒子層30を形成したのち乾燥や加熱を行い、粒子層30に強度を付与するものとしてもよい。
次に、第1電極14上に粒子層30を形成させ対向電極39を第1電極14に対向させた状態で、電解重合する化学物質(モノマー)を含むモノマー溶液40に基体12を浸漬し、第1電極14と対向電極39との間に電位差を設けてモノマーを第1電極14で電解重合させ粒子層30を固着した固着層34を形成する処理を行う。第1電極14上でモノマーを電解重合させることにより、第1電極14上のみに粒子32を固着することができる。このとき、例えば、図2に示すように、粒子層形成工程では、粒子32と電解重合するモノマーとを含むスラリーモノマー溶液44に基体12を浸漬させて粒子層30を形成したあと、この固着工程では、このスラリーモノマー溶液44中でモノマーを第1電極14で電解重合させ重合した樹脂42により粒子層30を固着するものとしてもよい。こうすれば、粒子層30の形成後、そのまま固着工程を行うことが可能であり、固着処理がより容易であり好ましい。また、例えば、粒子層形成工程では、対向電極39を第1電極14に対向させた状態で、粒子32を溶液表面に膜状に浮かせたスラリーモノマー溶液44に基体12を浸漬させて引き上げることにより第1電極14上に粒子層30を形成し、この固着工程では、基体12を引き上げる際に第1電極14と対向電極39とに電位差を設けてモノマーを第1電極14で電解重合させ、重合した樹脂42により粒子層30を固着するものとしてもよい。こうすれば、粒子層30の形成と粒子32の固着とを略同タイミングで行うことができ、比較的薄い粒子層を得ることができる。ここで、モノマー溶液40は、電解重合によりポリマー化可能なモノマーが溶解および/または分散したものとしてもよい。このモノマーとしては、上述したように、ビニルモノマー類、芳香環化合物、複素環式化合物などを用いることができ、例えば、ピロール、アルキルピロール、アミノピロールや、アニリン、チオフェン、アルキルチオフェン、チオフェン誘導体などを用いるのが好ましい。溶媒としては、モノマーに応じて水や有機溶媒を適宜選択して用いることができる。このうち、水ピロール溶液は溶媒として取り扱い可能であるため好適に用いられる。また電解重合を誘起するために、p−トルエンスルホン酸ナトリウムやエチルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムなどのアルキルベンゼンスルホン酸塩を溶液中にオキシダントとして添加してもよい。電解重合は、モノマー溶液40中に対向となる電極を配置して、固着させたい粒子の径、粒子層の厚み、サイズに応じて電気的条件(電圧、電流)や処理時間などを制御して行えばよい。こうして、電解重合して生成した樹脂42により粒子32を固着した固着層34を第1電極14上へ形成することができる。この固着層34は、粒子32の間に樹脂42が入り込んだ状態で粒子32を機械的に固着するため、より強固に第1電極14上に形成される。
次に、固着層34が形成された基体12の第1電極14以外の表面に形成された粒子層30を除去する処理を行う。電解重合により生成した樹脂42により固着されていない粒子は、流水洗浄や超音波洗浄で除去することができる。こうして、樹脂42により第1電極14上で粒子32が固着した粒子固着体10を、より容易な処理で得ることができる。
ここで、図2の4段目に示すように、固着工程のあと、洗浄工程の前に、粒子32を含まずモノマーを含む溶液へ粒子層30を形成した基体12を浸漬し、第1電極14と対向電極39との間に電位差を設けてモノマーを第1電極14で再度電解重合させる処理を行ってもよい。こうすれば、固着層34に更に重合体が生成することにより、容易に粒子32の上位層を除去可能となり、粒子32の単層が第1電極14上に形成された固着層34を備える粒子固着体10を得ることができる。例えば、サブミクロンから数ミクロンサイズの粒子32を導電性ポリマーで固着した場合などには、導電性モノマー溶液で再度電解重合処理することにより、単層の粒子層である固着層34を得ることができる。なお、この再重合工程のあと上述した洗浄工程を行うものとしてもよいし、この再重合工程の前後で上述した洗浄工程を行うものとしてもよい。
サイズ30mm×30mm、厚さ150μmのジルコニア基板上に幅1mm、長さ40mm、厚さ10μmの白金成形体をスクリーン印刷により形成し、電気炉を用い1350℃で焼付けることにより基板上に白金電極(第1電極)を形成した。また、30mlの純水に0.01mol/lとなるようにドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムとピロールとを添加してピロール水溶液を作製した。作製した水溶液をビーカーに入れ、この水溶液へ水熱合成法で作製した粒径3μmの立方体形状のPZT粒子を1重量%投入し、ホモジナイザーで分散処理した懸濁液(スラリーモノマー溶液)を調製した。次に、この溶液を入れたビーカーの底に上述のジルコニア基板を置き、PZT粒子が沈降堆積するまで10分間静置した。次に、基板に対して平行になるようにSUS製の対向電極を電極間隔1mmで設置し、基板上の白金電極をマイナス極、対向電極をプラス極となるように電源に接続して、ピーク電圧5Vで2Hzの三角波を30回印加してポリピロールを白金電極上に合成した。ポリピロールが成膜された基板を水溶液中で揺動して余分な粒子を粗除去したのち、純水中で超音波洗浄して、白金電極以外に付着したPZT粒子を除去した。こうして、白金電極上のみにPZT粒子を膜状に固着した固着層を有する粒子固着体が得られ、これを実施例1とした。なお、PZT粒子の粒径は、スペクトリス社製動的散乱式粒度分布測定装置ゼータサイザーナノnano−ZSを用い、水を分散媒として測定したメディアン径(D50)である。また、PZT粒子の除去時の超音波洗浄は、超音波洗浄機(シャープ製UT−106)を用い、40kHz、1分間の条件で行った。
実施例1と同様にポリピロールを白金電極上に合成してPZT粒子を固着し、基板を水溶液中で揺動して余分な粒子を粗除去した後、PZT粒子を懸濁していない他のピロール水溶液にこの基板とこの基板上の第1電極に対向する対向電極とを浸漬して、さらにピーク電圧5Vで2Hzの三角波を30回印加して粒子固着体上へ更にポリピロールを合成した。合成後の基板を純水で洗浄して、白金電極以外に付着したPZT粒子と、白金電極上に固着した粒子の上に堆積した粒子を除去することができ、第1電極上にのみPZT粒子を1層だけ膜状に固着した粒子固着体が得られ、これを実施例2とした。
サイズ30mm×30mm、厚さ2mmのガラス基板上に幅1mm、長さ40mm、厚さ150nmの金電極(第1電極)をDCスパッタリングにより形成した。また、30mlの純水に0.01mol/lとなるようにドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムとピロールとを添加してピロール水溶液を作製した。作製した水溶液をビーカーに入れ、この水溶液へ粒径200nmの球状ポリスチレンビーズ(モリテックス製3200A)を1体積%投入して、ホモジナイザーで分散処理した懸濁液(スラリーモノマー溶液)を調製した。次に、この溶液を入れたビーカーの底に上述のガラス基板を置き、ポリスチレン粒子が沈降堆積するまで10分間静置した。基板に対して平行になるようにSUS製の対向電極を電極間隔1mmで設置し、基板上の金電極をマイナス極、対向電極をプラス極となるように電源に接続して、ピーク電圧5Vで2Hzの三角波を30回印加してポリピロールを金電極上に合成した。ポリピロールを成膜した基板を水溶液中で揺動して余分な粒子を粗除去したのち、実施例1と同様に純水中で超音波洗浄して、金電極以外に付着したポリスチレン粒子を除去した。こうして、金電極上のみに球状ポリスチレンビーズを膜状に固着した粒子固着体が得られ、これを実施例3とした。
サイズ30mm×30mm、厚さ2mmのガラス基板上へ櫛歯状に対向した1対の、厚さ150nmの金電極(第1電極、対向電極)をDCスパッタリングにより形成した。30mlの純水に0.01mol/lとなるようにドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムとピロールとを添加してピロール水溶液を作製した。粒径200nmの球状ポリスチレンビーズを1体積%イソプロピルアルコールに分散させ、ピロール水溶液に滴下させた。これにより、イソプロピルアルコールが水溶してポリスチレンビーズをピロール水溶液面に浮かばせることができた。ガラス基板及び対向電極を水溶液に浸漬して斜め方向に引き上げるとポリスチレンビーズが基板と共に引き上げられる(LB法)。基板上の1対の金電極の一方がマイナス極、他方がプラス極となるように電源に接続し、基板を引き上げる際に、ピーク電圧5Vで2Hzの三角波を印加することにより、櫛歯状の金電極上にのみ球状ポリスチレンビーズを膜状に固着した。合成後の基板を純水で洗浄して、金電極以外に付着したPZT粒子と、金電極上に固着した粒子の上に堆積した粒子を除去し、得られた粒子固着体を実施例4とした。
水熱合成法で作製した粒径3μmの立方体形状のPZT粒子の表面にラテックスコーティングを行い、このコーティングしたPZT粒子をイソプロピルアルコールに懸濁したあと、純水に滴下してこのPZT粒子を水面に浮かせた。次に、実施例4と同様に作製した金電極を形成したガラス基板を、水面にPZT粒子が浮かぶ溶液から引き上げ(LB法)、PZT粒子を堆積した基板を得た。得られた基板を比較例1とした。
実施例1〜4及び比較例1について、付着力を評価する試験を行った。試験は剥離率を評価するものであり、剥離処理を行う前の第1電極上の粒子の被覆率に対して、剥離処理後の被覆率がどのように変化するかを求めた。剥離処理として、上記超音波洗浄機を用い、水中で40kHz、1分間の処理を行った。また、被覆率(電極の単位面積あたりに被覆している粒子の割合)は、固着層を形成した第1電極の表面を走査型電子顕微鏡(日本電子製JSM−7000F)で観察し、画像解析により電極面積あたりの粒子の被覆面積を数値化して求めた。また、剥離率は、剥離処理前の第1電極上の粒子の被覆率をA、剥離処理後の被覆率をBとすると、(A−B)/A×100(%)という式を用いて求めた。
実施例1〜4及び比較例1の剥離処理前の第1電極上の粒子の被覆率(%)、剥離処理後の被覆率(%)及び剥離率(%)を表1に示す。表1より明らかであるが、比較例1の剥離が激しく、固着できていないのに対して、実施例ではどのサンプルでも高い被覆率を示すと共に、極めて剥離しにくいことがわかった。また、第1電極上への粒子の形成は、電極上へ粒子を沈降させてもよいし、LB法を用いてもよいし、どのような方法を用いてもよいものと推察された。また、実施例1〜4の電解重合により粒子を電極上へ固着する方法では、粒子、基板及び電極の材質を選ばずに強固に固着することができることが明らかとなった。更に、固着層を形成したのち電解重合を行うと、単層の固着層が容易に得られることがわかった。
Claims (10)
- 基体上に形成された第1電極上に粒子を固着させる固着方法であって、
少なくとも前記第1電極上に無機粒子の粒子層を形成する形成工程と、
前記第1電極上に粒子層を形成させ対向電極を前記第1電極に対向させた状態で、電解重合する化学物質を含む溶液に前記基体を浸漬し、前記第1電極と前記対向電極との間に電位差を設けて前記化学物質を前記第1電極で電解重合させ前記粒子層を固着する固着工程と、
を含む粒子の固着方法。 - 前記形成工程では、前記粒子を含む溶液に前記基体を浸漬させて前記第1電極上に粒子層を形成する、請求項1に記載の粒子の固着方法。
- 前記形成工程では、前記粒子と前記電解重合する化学物質とを含む溶液に前記基体を浸漬させて前記粒子層を形成し、
前記固着工程では、前記粒子と前記電解重合する化学物質とを含む溶液中で該化学物質を前記第1電極で電解重合させ前記粒子層を固着する、請求項1又は2に記載の粒子の固着方法。 - 前記形成工程では、前記対向電極を前記第1電極に対向させた状態で前記粒子及び前記電解重合する化学物質を含む溶液に前記基体を浸漬させて引き上げることにより前記第1電極上に粒子層を形成し、
前記固着工程では、前記基体を引き上げる際に前記第1電極と対向電極とに電位差を設けて前記化学物質を前記第1電極で電解重合させる、
請求項1〜3のいずれか1項に記載の粒子の固着方法。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載の粒子の固着方法であって、
前記固着工程のあと、電解重合する化学物質を含む溶液へ前記粒子が固着した基体を浸漬し、前記第1電極と前記対向電極との間に電位差を設けて前記化学物質を前記第1電極で電解重合させる再重合工程、を含む粒子の固着方法。 - 基体上に形成された第1電極上に粒子が固着した粒子固着体の製造方法であって、
少なくとも前記第1電極上に無機粒子の粒子層を形成する形成工程と、
前記第1電極上に粒子層を形成させ対向電極を前記第1電極に対向させた状態で、電解重合する化学物質を含む溶液に前記基体を浸漬し、前記第1電極と前記対向電極との間に電位差を設けて前記化学物質を前記第1電極で電解重合させ前記粒子層を固着する固着工程と、
を含む粒子固着体の製造方法。 - 前記形成工程では、前記粒子を含む溶液に前記基体を浸漬させて前記第1電極上に粒子層を形成する、請求項6に記載の粒子固着体の製造方法。
- 前記形成工程では、前記粒子と前記電解重合する化学物質とを含む溶液に前記基体を浸漬させて前記粒子層を形成し、
前記固着工程では、前記粒子と前記電解重合する化学物質とを含む溶液中で該化学物質を前記第1電極で電解重合させ前記粒子層を固着する、請求項6又は7に記載の粒子固着体の製造方法。 - 前記形成工程では、前記対向電極を前記第1電極に対向させた状態で前記粒子及び前記電解重合する化学物質を含む溶液に前記基体を浸漬させて引き上げることにより前記第1電極上に粒子層を形成し、
前記固着工程では、前記基体を引き上げる際に前記第1電極と対向電極とに電位差を設けて前記化学物質を前記第1電極で電解重合させる、
請求項6〜8のいずれか1項に記載の粒子固着体の製造方法。 - 請求項6〜9のいずれか1項に記載の粒子固着体の製造方法であって、
前記固着工程のあと、
電解重合する化学物質を含む溶液に前記粒子が固着した基体を浸漬し、前記第1電極と前記対向電極との間に電位差を設けて前記化学物質を前記第1電極で電解重合させる再固着工程、を含む、粒子固着体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010548461A JP5676279B2 (ja) | 2009-02-02 | 2010-01-13 | 粒子の固着方法及び粒子固着体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009021840 | 2009-02-02 | ||
JP2009021840 | 2009-02-02 | ||
JP2010548461A JP5676279B2 (ja) | 2009-02-02 | 2010-01-13 | 粒子の固着方法及び粒子固着体の製造方法 |
PCT/JP2010/050273 WO2010087228A1 (ja) | 2009-02-02 | 2010-01-13 | 粒子の固着方法及び粒子固着体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2010087228A1 JPWO2010087228A1 (ja) | 2012-08-02 |
JP5676279B2 true JP5676279B2 (ja) | 2015-02-25 |
Family
ID=42395490
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010548461A Expired - Fee Related JP5676279B2 (ja) | 2009-02-02 | 2010-01-13 | 粒子の固着方法及び粒子固着体の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20110284387A1 (ja) |
EP (1) | EP2392696B1 (ja) |
JP (1) | JP5676279B2 (ja) |
CN (1) | CN102292474B (ja) |
WO (1) | WO2010087228A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5615591B2 (ja) * | 2009-07-16 | 2014-10-29 | 日本碍子株式会社 | 結晶粒子の製造方法及び結晶配向セラミックスの製造方法 |
JP5615590B2 (ja) * | 2009-07-16 | 2014-10-29 | 日本碍子株式会社 | 結晶配向セラミックスの製造方法 |
US9683306B2 (en) * | 2014-08-25 | 2017-06-20 | Infineon Techologies Ag | Method of forming a composite material and apparatus for forming a composite material |
KR20240060799A (ko) * | 2021-09-17 | 2024-05-08 | 엘지전자 주식회사 | 디스플레이 장치 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5141796A (en) * | 1974-08-13 | 1976-04-08 | Westinghouse Electric Corp | 2 kannomonomaaodenkajugoshitehoriimidooseiseisuruhoho |
JPS61190871A (ja) * | 1985-02-18 | 1986-08-25 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 電池 |
JPH1015819A (ja) * | 1996-06-28 | 1998-01-20 | Asahi Daiyamondo Kogyo Kk | ドレッサ及びその製造方法 |
JPH1112776A (ja) * | 1997-06-25 | 1999-01-19 | Asahi Glass Co Ltd | 修飾電極および該修飾電極を用いた電解酸化方法 |
JP2000273671A (ja) * | 1999-03-19 | 2000-10-03 | Nec Corp | 導電性高分子材料の製造方法及び導電性高分子材料を用いた電極の製造方法 |
JP2006150661A (ja) * | 2004-11-26 | 2006-06-15 | Canon Inc | Lb膜 |
JP4918673B2 (ja) * | 2002-12-19 | 2012-04-18 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 圧電変換シート |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US779639A (en) * | 1903-04-29 | 1905-01-10 | Edson G Case | Method of fastening abrasive material to metal bodies. |
US2360798A (en) * | 1942-12-12 | 1944-10-17 | Seligman | Diamond-containing abrasive substance |
JPH06338432A (ja) | 1993-05-28 | 1994-12-06 | Ricoh Co Ltd | 磁性薄膜の製造方法 |
US6803097B2 (en) * | 2002-12-19 | 2004-10-12 | Agilent Technologies, Inc. | Composite film made of particles embedded in a polymer matrix |
JP5049679B2 (ja) | 2007-07-12 | 2012-10-17 | アルパイン株式会社 | オーディオ増幅装置およびこれを備えたオーディオシステム |
CN101532148B (zh) * | 2009-03-13 | 2011-08-17 | 昆明理工大学 | Zn-Fe-SiO2/纳米镍复合镀层电极材料及其制备方法 |
-
2010
- 2010-01-13 WO PCT/JP2010/050273 patent/WO2010087228A1/ja active Application Filing
- 2010-01-13 EP EP10735698.2A patent/EP2392696B1/en not_active Not-in-force
- 2010-01-13 JP JP2010548461A patent/JP5676279B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-01-13 CN CN201080005483.4A patent/CN102292474B/zh not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-08-01 US US13/195,240 patent/US20110284387A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5141796A (en) * | 1974-08-13 | 1976-04-08 | Westinghouse Electric Corp | 2 kannomonomaaodenkajugoshitehoriimidooseiseisuruhoho |
JPS61190871A (ja) * | 1985-02-18 | 1986-08-25 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 電池 |
JPH1015819A (ja) * | 1996-06-28 | 1998-01-20 | Asahi Daiyamondo Kogyo Kk | ドレッサ及びその製造方法 |
JPH1112776A (ja) * | 1997-06-25 | 1999-01-19 | Asahi Glass Co Ltd | 修飾電極および該修飾電極を用いた電解酸化方法 |
JP2000273671A (ja) * | 1999-03-19 | 2000-10-03 | Nec Corp | 導電性高分子材料の製造方法及び導電性高分子材料を用いた電極の製造方法 |
JP4918673B2 (ja) * | 2002-12-19 | 2012-04-18 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 圧電変換シート |
JP2006150661A (ja) * | 2004-11-26 | 2006-06-15 | Canon Inc | Lb膜 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102292474A (zh) | 2011-12-21 |
US20110284387A1 (en) | 2011-11-24 |
EP2392696B1 (en) | 2014-11-12 |
CN102292474B (zh) | 2014-02-19 |
JPWO2010087228A1 (ja) | 2012-08-02 |
WO2010087228A1 (ja) | 2010-08-05 |
EP2392696A4 (en) | 2012-07-25 |
EP2392696A1 (en) | 2011-12-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5500173B2 (ja) | 圧電体、超音波トランスデューサー、医療用超音波診断装置および非破壊超音波検査装置 | |
JP5721738B2 (ja) | 圧電性および/または焦電性固体複合材料、その材料の取得方法ならびに使用 | |
JP5676279B2 (ja) | 粒子の固着方法及び粒子固着体の製造方法 | |
JP5676148B2 (ja) | 結晶配向セラミックス複合体及び圧電/電歪素子 | |
CN108511597B (zh) | 一种分子基压电材料及其制备方法和应用 | |
CN101538711B (zh) | 电泳沉积和溶胶-凝胶相结合制备铁电-铁磁复合厚膜的方法 | |
Yamamoto et al. | Effects of manganese oxides/gold composite electrode on piezoelectric properties of lead magnesium niobate titanate single crystal | |
JP4918673B2 (ja) | 圧電変換シート | |
JP5330002B2 (ja) | 粒子の固着方法及び粒子固着体の製造方法 | |
JP5523167B2 (ja) | セラミックス及び圧電/電歪素子 | |
Liu et al. | Green fabrication of freestanding piezoceramic films for energy harvesting and virus detection | |
Li et al. | Micro-patterning of PZT thick film by lift-off using ZnO as a sacrificial layer | |
JP5615590B2 (ja) | 結晶配向セラミックスの製造方法 | |
JP5523166B2 (ja) | セラミックス及び圧電/電歪素子 | |
Sachdeva et al. | Effect of sol composition on dielectric and ferroelectric properties of PZT composite films | |
KR101348902B1 (ko) | 스프레이 코팅을 이용한 β-상 PVDF 필름을 포함하는 발전소자의 제조방법 | |
Tsurumi et al. | Preparation of PZT thick films by an interfacial polymerization method | |
Hida et al. | High-productive fabrication method of flexible piezoelectric substrate | |
Chung et al. | Fabrication of Flexible Thin Film with Pattern Structure and Macroporous Array Consisting of Nanoparticles by Electrophoretic Deposition | |
KR101288895B1 (ko) | 전기영동증착에 의한 폴리다이아세틸렌층의 형성방법 및 그 방법에 의해 형성된 폴리다이아세틸렌층 | |
JPH08306985A (ja) | 配向性強誘電体膜の製法及び圧電素子の製法 | |
JPH05259525A (ja) | 圧電素子 | |
Zhou et al. | Fabrication of MEMS tonpilz transducers | |
Fan et al. | Preparation and Characterization of Relaxor-Based Ferroelectric Thick Films with Single Perovskite Structure | |
KR20010008972A (ko) | 접착공정을 이용한 압전/전왜 액츄에이터의 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121119 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140325 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140521 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141216 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141225 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5676279 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |