JP5673521B2 - 電子部品及び当該電子部品の製造方法 - Google Patents
電子部品及び当該電子部品の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5673521B2 JP5673521B2 JP2011278739A JP2011278739A JP5673521B2 JP 5673521 B2 JP5673521 B2 JP 5673521B2 JP 2011278739 A JP2011278739 A JP 2011278739A JP 2011278739 A JP2011278739 A JP 2011278739A JP 5673521 B2 JP5673521 B2 JP 5673521B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electronic component
- lead
- manufacturing
- coating layer
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Landscapes
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Description
鉛フリーめっき層及び鉛フリーはんだの少なくとも一方を母材の表面に有する端子を備える電子部品であつて、
前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリーはんだの少なくとも露出面がコーティング層によって覆われており、
前記コーティング層が、第1材料と、当該第1材料中に分散された、第2材料からなる中空粒子と、を含んでなる、
電子部品によって達成される。
鉛フリーめっき層及び鉛フリーはんだの少なくとも一方を母材の表面に有する端子を備える電子部品の製造方法であつて、
前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリーはんだの少なくとも露出面をコーティング層によって被覆すること、
を含み、
前記コーティング層が、第1材料と、当該第1材料中に分散された、第2材料からなる中空粒子と、を含んでなる、
電子部品の製造方法によっても達成される。
鉛フリーめっき層及び鉛フリーはんだの少なくとも一方を母材の表面に有する端子を備える電子部品であつて、
前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリーはんだの少なくとも露出面がコーティング層によって覆われており、
前記コーティング層が、第1材料と、当該第1材料中に分散された、第2材料からなる中空粒子と、を含んでなる、
電子部品である。
本発明の前記第1の実施態様に係る電子部品であって、
前記第2材料の硬さが、前記第1材料の硬さよりも大きい、
電子部品である。
本発明の前記第1又は前記第2の実施態様の何れか1つに係る電子部品であって、
前記第1材料が防湿性材料である、
電子部品である。
本発明の前記第1乃至前記第3の実施態様の何れか1つに係る電子部品であって、
前記第1材料が、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、及びシリコーン系樹脂の少なくとも1種を含んでなる、
電子部品である。
本発明の前記第1乃至前記第4の実施態様の何れか1つに係る電子部品であって、
前記第2材料が、エポキシ系樹脂及びアクリル系樹脂の少なくとも1種を含んでなる、
電子部品である。
鉛フリーめっき層及び鉛フリーはんだの少なくとも一方を母材の表面に有する端子を備える電子部品の製造方法であって、
前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリーはんだの少なくとも露出面をコーティング層によって被覆すること、
を含み、
前記コーティング層が、第1材料と、当該第1材料中に分散された、第2材料からなる中空粒子と、を含んでなる、
電子部品の製造方法である。
本発明の前記第6の実施態様に係る電子部品の製造方法であって、
前記第2材料の硬さが、前記第1材料の硬さよりも大きい、
電子部品の製造方法である。
本発明の前記第6又は前記第7の実施態様の何れか1つに係る電子部品の製造方法であって、
前記第1材料が防湿性材料である、
電子部品の製造方法である。
本発明の前記第6乃至前記第8の実施態様の何れか1つに係る電子部品の製造方法であって、
前記第1材料が、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、及びシリコーン系樹脂の少なくとも1種を含んでなる、
電子部品の製造方法である。
本発明の前記第6乃至前記第9の実施態様の何れか1つに係る電子部品の製造方法であって、
前記第2材料が、エポキシ系樹脂及びアクリル系樹脂の少なくとも1種を含んでなる、
電子部品の製造方法である。
本発明の前記第6乃至前記第10の実施態様の何れか1つに係る電子部品の製造方法であって、
スプレーコーティング法により、前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリーはんだの少なくとも露出面を前記コーティング層によって被覆する、
電子部品の製造方法である。
本発明の前記第6乃至前記第10の実施態様の何れか1つに係る電子部品の製造方法であって、
ディップコーティング法により、前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリーはんだの少なくとも露出面を前記コーティング層によって被覆する、
電子部品の製造方法である。
本発明の前記第6乃至前記第12の実施態様の何れか1つに係る電子部品の製造方法であって、
前記第2材料を含む液体中に気体を導入して気泡を生じさせることによって前記第2材料からなる中空粒子を形成する、
電子部品の製造方法である。
本発明の前記第6乃至前記第12の実施態様の何れか1つに係る電子部品の製造方法であって、
前記第2材料に発泡剤を添加することによって前記第2材料からなる中空粒子を形成する、
電子部品の製造方法である。
本発明の前記第11の実施態様に記載の電子部品の製造方法であって、
スプレーコーティング法により前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリーはんだの少なくとも露出面を前記コーティング層によって被覆する際に、前記第1材料及び前記第2材料を混合し、前記第1材料及び前記第2材料を含む液体中に気体を導入して気泡を生じさせることによって前記第2材料からなる中空粒子を形成する、
電子部品の製造方法である。
図1は、前述のように、本発明の1つの実施態様に係る電子部品が備える端子の表面におけるウィスカの発生状況を説明する模式図である。図1において、中央付近に示す白抜きの矢印よりも向かって左側の図は、ウィスカが発生する前の状況、向かって右側の図は、所定の時間が経過してウィスカが発生した後の状況を表す。図1に示す実施態様においては、電子部品の端子の母材の表面上に設けられた鉛フリーのめっき層又は鉛フリーはんだ43の上に、本発明の1つの実施態様に係るコーティング層10が配設されている。図1に示すように、コーティング層10は、第1材料11と、第1材料11中に分散された第2材料12からなる中空粒子と、を含んでなる。図1における向かって右側の図が示すように、鉛フリーのめっき層又は鉛フリーはんだ43から発生したウィスカ21が、コーティング層10の内部に進入し、第2材料12からなる中空粒子内の空洞に到達している。
図3は、前述のように、本発明の1つの実施態様に係る電子部品の製造方法におけるコーティング層の塗布方法を説明する模式図である。より具体的には、図3は、スプレーコーティング法により、電子部品が備える端子の母材の表面に配設された鉛フリーのめっき層及び鉛フリーはんだの少なくとも露出面を本発明の1つの実施態様に係るコーティング層によって被覆する手順を模式的に説明する。図3に示すように、本実施例に係る電子部品の製造方法においては、端子42を備える回路素子41が配設された基板44を含んでなる電子部品40を、スプレー(噴霧器)35から噴出される霧状のコーティング材料36によって被覆する。
図5は、前述のように、本発明のもう1つの実施態様に係る電子部品の製造方法におけるコーティング層の塗布方法を説明する模式図である。より具体的には、図5は、ディップコーティング法により、電子部品が備える端子の母材の表面に配設された鉛フリーのめっき層及び鉛フリーはんだの少なくとも露出面を本発明の1つの実施態様に係るコーティング層によって被覆する手順を模式的に説明する。図5に示すように、本実施例に係る電子部品の製造方法においては、端子42を備える回路素子41が配設された基板44を含んでなる電子部品40を、塗布液浴槽52内に収容された第1材料及び第2材料を含む液体51に浸漬し、電子部品40を第1材料及び第2材料を含む液体51から引き上げることにより、電子部品40の表面に付着した第1材料及び第2材料を含む液体51の皮膜を形成させ、(例えば、第1材料及び第2材料を含む液体51に含まれる溶剤の蒸発等により)当該皮膜を硬化させることにより、本発明に係るコーティング層を電子部品40の表面に形成させる。前述のように、当該塗布方法においては、例えば、第1材料及び第2材料を含む液体51の粘度、表面張力、及び電子部品40の表面に付着した第1材料及び第2材料を含む液体51の重力による流下を考慮して、電子部品40を第1材料及び第2材料を含む液体51から引き上げる速度を調節することにより、電子部品40の表面に形成される皮膜の厚みを制御することができる。
(1)評価用サンプル用のコーティング材料
本発明に係る第1材料としては、前述のように、例えば、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、及びシリコーン系樹脂等を使用することができる。本実施例においては、第1材料として、アクリル系樹脂を採用した。一方、本発明に係る第2材料としては、前述のように、例えば、エポキシ系樹脂及びアクリル系樹脂等を使用することができる。また、これらの第2材料は、前述のように、一液硬化型樹脂又は二液硬化型樹脂の何れであってもよい。本実施例においては、第1材料として、アクリル系樹脂を採用し、第2材料として二液硬化型のエポキシ系樹脂を採用して、各種評価用サンプルを調製した。また、二液硬化型のエポキシ系樹脂に代えて無機フィラーを第2材料として採用した各種評価用サンプルも調製した。更に、一般的な防湿コーティング層として使用されるアクリル系樹脂を第1材料として採用し、第2材料を全く配合しない、対照標準サンプルをも調製した。各種評価用サンプルの詳細については、表1を参照しつつ、以下に詳細に説明する。
表1に示すように、比較例1並びに実施例1及び2に係る評価用サンプルにおいては、第1材料としてアクリル系樹脂を採用し、第2材料として二液硬化型のエポキシ系樹脂を採用した。尚、これらの評価用サンプルにおいて、コーティング材料全体(即ち、第1材料と第2材料との和)に対する第2材料からなる中空粒子の配合率[質量%]はそれぞれ10質量%、30質量%、及び70質量%とした。一方、比較例2乃至4に係る評価用サンプルにおいては、上記中空粒子に代えて、無機フィラーを第2材料として採用し、上記第1材料に配合したコーティング材料を用いた。尚、これらの評価用サンプルにおいて、コーティング材料全体(即ち、第1材料と無機フィラーとの和)に対する無機フィラーの配合率[質量%]はそれぞれ25質量%、50質量%、及び70質量%とした。更に、上記対照標準サンプルとしての比較例5に係る評価用サンプルにおいては、上述のように、一般的な防湿コーティング層として使用されるアクリル系樹脂のみを使用した。
上記のようにして調製した各種評価用サンプルを、85℃の温度及び85%の相対湿度において200時間に亘って放置した後に25℃の温度及び50%の相対湿度において24時間に亘って放置するという環境変化に対して、5サイクルに亘って暴露した。
上記加速劣化試験後の各種評価用サンプルにつき、それぞれの評価用サンプルにおけるコーティング層の表面を走査型電子顕微鏡(SEM:Scanning Electron Microscopy)によって観察し、コーティング層の表面へのウィスカの突き抜けの有無を調べた。また、目視により、それぞれの評価用サンプルにおけるコーティング層の表面における割れ(亀裂)の有無を調べた。更に、例えば、電子部品を構成する回路素子の端子等の金属部分の腐食等、周辺部材への影響の有無についても調べた。各種評価用サンプルにおける材料構成と共に、これらの解析結果を以下の表1に列挙する。
表1に示すように、第2材料として採用した二液硬化型のエポキシ系樹脂からなる中空粒子をそれぞれ30質量%及び70質量%含有するコーティング層を有する実施例1及び2に係る評価用サンプルにおいては、コーティング層の表面へのウィスカの突き抜け、コーティング層の表面における割れ、及び周辺部材への影響は何れも認めらなかった。即ち、実施例1及び2に係る評価用サンプルにおいては、防湿性を犠牲にすること無く、ウィスカの成長が効果的に抑制された。
Claims (15)
- 鉛フリーめっき層及び鉛フリーはんだの少なくとも一方を母材の表面に有する端子を備える電子部品であって、
前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリーはんだの少なくとも露出面がコーティング層によって覆われており、
前記コーティング層が、第1材料と、当該第1材料中に分散された、第2材料からなる中空粒子と、を含んでなり、
前記第1材料及び前記第2材料が樹脂である、
電子部品。 - 請求項1に記載の電子部品であって、
前記第2材料の硬さが、前記第1材料の硬さよりも大きい、
電子部品。 - 請求項1又は2の何れか1項に記載の電子部品であって、
前記第1材料が防湿性材料である、
電子部品。 - 請求項1乃至3の何れか1項に記載の電子部品であって、
前記第1材料が、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、及びシリコーン系樹脂の少なくとも1種を含んでなる、
電子部品。 - 請求項1乃至4の何れか1項に記載の電子部品であって、
前記第2材料が、エポキシ系樹脂及びアクリル系樹脂の少なくとも1種を含んでなる、
電子部品。 - 鉛フリーめっき層及び鉛フリーはんだの少なくとも一方を母材の表面に有する端子を備える電子部品の製造方法であって、
前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリーはんだの少なくとも露出面をコーティング層によって被覆すること、
を含み、
前記コーティング層が、第1材料と、当該第1材料中に分散された、第2材料からなる中空粒子と、を含んでなり、
前記第1材料及び前記第2材料が樹脂である、
電子部品の製造方法。
製造方法。 - 請求項6に記載の電子部品の製造方法であって、
前記第2材料の硬さが、前記第1材料の硬さよりも大きい、
電子部品の製造方法。 - 請求項6又は7の何れか1項に記載の電子部品の製造方法であって、
前記第1材料が防湿性材料である、
電子部品の製造方法。 - 請求項6乃至8の何れか1項に記載の電子部品の製造方法であって、
前記第1材料が、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、及びシリコーン系樹脂の少なくとも1種を含んでなる、
電子部品の製造方法。 - 請求項6乃至9の何れか1項に記載の電子部品の製造方法であって、
前記第2材料が、エポキシ系樹脂及びアクリル系樹脂の少なくとも1種を含んでなる、
電子部品の製造方法。 - 請求項6乃至10の何れか1項に記載の電子部品の製造方法であって、
スプレーコーティング法により、前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリーはんだの少なくとも露出面を前記コーティング層によって被覆する、
電子部品の製造方法。 - 請求項6乃至10の何れか1項に記載の電子部品の製造方法であって、
ディップコーティング法により、前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリーはんだの少なくとも露出面を前記コーティング層によって被覆する、
電子部品の製造方法。 - 請求項6乃至12の何れか1項に記載の電子部品の製造方法であって、
前記第2材料を含む液体中に気体を導入して気泡を生じさせることによって前記第2材料からなる中空粒子を形成する、
電子部品の製造方法。 - 請求項6乃至12の何れか1項に記載の電子部品の製造方法であって、
前記第2材料に発泡剤を添加することによって前記第2材料からなる中空粒子を形成する、
電子部品の製造方法。 - 請求項11に記載の電子部品の製造方法であって、
スプレーコーティング法により前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリーはんだの少なくとも露出面を前記コーティング層によって被覆する際に、前記第1材料及び前記第2材料を混合し、前記第1材料及び前記第2材料を含む液体中に気体を導入して気泡を生じさせることによって前記第2材料からなる中空粒子を形成する、
電子部品の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011278739A JP5673521B2 (ja) | 2011-12-20 | 2011-12-20 | 電子部品及び当該電子部品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011278739A JP5673521B2 (ja) | 2011-12-20 | 2011-12-20 | 電子部品及び当該電子部品の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013131559A JP2013131559A (ja) | 2013-07-04 |
JP5673521B2 true JP5673521B2 (ja) | 2015-02-18 |
Family
ID=48908911
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011278739A Active JP5673521B2 (ja) | 2011-12-20 | 2011-12-20 | 電子部品及び当該電子部品の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5673521B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113169142A (zh) * | 2018-12-07 | 2021-07-23 | 积水化学工业株式会社 | 涂布剂以及使用了该涂布剂的电子部件模块的制造方法 |
WO2020184545A1 (ja) * | 2019-03-11 | 2020-09-17 | 積水化学工業株式会社 | コーティング剤、および該コーティング剤を用いたモジュールの製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3910853B2 (ja) * | 2002-01-18 | 2007-04-25 | 東洋鋼鈑株式会社 | 電子部品用表面処理鋼板およびその製造方法 |
JP2005252064A (ja) * | 2004-03-05 | 2005-09-15 | Fujikura Ltd | フレキシブル配線基板或いはフレキシブルフラットケーブルとコネクタとの接続部 |
WO2011045971A1 (ja) * | 2009-10-13 | 2011-04-21 | 湖北工業株式会社 | 電解コンデンサ用タブ端子 |
-
2011
- 2011-12-20 JP JP2011278739A patent/JP5673521B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013131559A (ja) | 2013-07-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5679216B2 (ja) | 電気部品の製造方法 | |
US20100084765A1 (en) | Semiconductor package having bump ball | |
WO1998056217A1 (fr) | Element de brasage tendre pour cartes a circuit imprime | |
WO2004068506A1 (ja) | 導電ペースト | |
JPH08273431A (ja) | 樹枝状結晶粉末材料 | |
EP3590651A1 (en) | Solder material, solder paste, foam solder and solder joint | |
EP3125256B1 (en) | Small electronic component, electronic circuit board, and method of manufacturing small electronic component | |
TW201643894A (zh) | 導電性糊及使用其之多層基板 | |
KR101814084B1 (ko) | 세라믹 칩부품의 연성외부전극 형성용 도전성 페이스트 조성물 | |
EP2903022A2 (en) | Use of a Sn-Ni-(Cu)-(P) solder alloy for flip chip bonding and a corresponding solder ball | |
JP2019096694A (ja) | リードフレーム、半導体装置、リードフレームの製造方法 | |
JP5673521B2 (ja) | 電子部品及び当該電子部品の製造方法 | |
TWI722136B (zh) | 導電性塗料及使用其之屏蔽封裝體之製造方法 | |
KR20130133126A (ko) | 도전성 접합 재료, 및 전자 부품 및 전자 기기 | |
JP5655770B2 (ja) | 電子部品及び当該電子部品の製造方法 | |
JP5034206B2 (ja) | 導電性接着剤 | |
JP2014157951A (ja) | 保護被膜形成方法および実装構造体 | |
EP3235588B1 (en) | Solder alloy for plating and electronic component | |
JP2007123674A (ja) | 配線基板、及び電子装置 | |
JPH04259205A (ja) | チップ形セラミックコンデンサ | |
US10875127B2 (en) | Method for bonding electronic component and method for manufacturing bonded body | |
TWI415978B (zh) | 抑制錫鬚晶生長的方法 | |
WO2019057450A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer endoberfläche und leiterplatte | |
JP2005109373A (ja) | 半導体装置 | |
US20020163084A1 (en) | Electronic component and process for manufacturing the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140117 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140829 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140916 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141028 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141202 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141215 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5673521 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |