JP5667368B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
102 自動整合機
103 方形導波管
104 円矩形変換器
105 円形導波管
106 空洞共振部
107 マイクロ波導入窓
108 シャワープレート
109 処理ガスの供給系
110 プラズマ処理室
111 被処理基板
112 基板電極
113 自動整合機
114 バイアス電源
115 静磁界発生装置
116 バルブ
117 コンダクタンス可変バルブ
118 真空排気ポンプ
119 アイソレータ
120 圧力計
201 円形導波管
202 空洞部
203 マイクロ波電界ベクトル
204 表面波的な電界
205 空洞部内部に放射される電界
301 リッジ
401 テーパ
Claims (2)
- 内部をマイクロ波の電界が伝播する円形導波管と、この円形導波管の下方に接続されて配置され前記円形導波管より径の大きな円柱状の空洞部と、この空洞部の下方に配置され当該空洞部に伝播された電界が内部に供給されてプラズマが形成されるプラズマ処理室とを有し、このプラズマ処理室内に配置された被処理基板を前記プラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、
前記円形導波管が接続される前記空洞部の上部に円環状に配置されたリッジであって、円柱状の前記空洞部の天井に形成される前記電界の弱い位置に軸周りに配置された複数のリッジを備えたプラズマ処理装置。 - 内部をマイクロ波の電界が伝播する円形導波管と、この円形導波管の下方に接続されて配置され前記円形導波管より径の大きな円柱状の空洞部と、この空洞部の下方に配置され当該空洞部に伝播された電界が内部に供給されてプラズマが形成されるプラズマ処理室とを有し、このプラズマ処理室内に配置された被処理基板を前記プラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、
前記円形導波管の下端部と前記空洞部の上部との間でこれらを接続して配置され下方に向けて径が広がったその断面がテーパ状であって前記空洞部と接続される下端部の径が当該空洞部の径より小さくされたテーパ導波管と、このテーパ導波管が接続される前記空洞部内部の上部であって前記電界の弱い位置で前記テーパ導波管の軸回りに円環状に配置されたリッジを備えたプラズマ処理装置。
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