JP5663175B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
(1)静磁界との併用による場合、電子サイクロトロン共鳴現象を、円偏波を用いない場合に比べて効率的に起こすことができ、高密度化できる。
(2)プラズマ分布の軸対称性が向上することにより、均一なプラズマ処理を得ることができる。
102 自動整合機
103 方形導波管
104 円矩形変換器
105 円形導波管
106 空洞共振部
107 マイクロ波導入窓
108 シャワープレート
109 処理ガスの供給系
110 プラズマ処理室
111 被処理基板
112 基板電極
113 自動整合機
114 バイアス電源
115 静磁界発生装置
116 バルブ
117 コンダクタンス可変バルブ
118 真空排気ポンプ
119 アイソレータ
120 圧力計
202 誘電体板
201 入射側円形導波管
204 マイクロ波電界ベクトル
205 誘電体板202の表面に対する法線方向の電界成分
206 誘電体板表面の接線方向成分
401 方形導波管部
402 整合用導波管
403、404 スタブ
405 円形導波管
Claims (2)
- 電界が内部を伝播する導波管と、この導波管の下方に連結されて配置され前記導波管からの電界が内部に供給されてプラズマが生成される処理室とを備え、前記処理室内に配置された被処理基板を前記プラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、
前記導波管が、前記処理室の上方で水平方向に延在して前記電界が内部を一方の端部に向かって伝播する断面が矩形の方形導波管と、内部を前記電界が前記処理室に向かって伝播する円形導波管であってその上部が前記方形導波管の前記一方の端部と連結されて配置された円形導波管と前記方形導波管及び円形導波管との間でこれらと連結されて配置され前記電界の進行方向を前記水平方向から上下方向に変換する変換器とを有し、この変換器の下方の前記円形導波管上に配置され内部に前記電界の円偏波を形成するための複数のスタブであって、前記上下方向に異なる位置において当該円形導波管の中心に向けられた互いの中心軸が直交するように配置され、前記中心軸に沿った前記円形導波管内への挿入長が調整可能に構成された複数のスタブを備えたプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置において、
前記複数のスタブはそれぞれ円柱状で先端部は半球状であることを特徴とするプラズマ処理装置。
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