JP5659343B2 - パルスデトネーション溶射装置及び溶射方法 - Google Patents
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Description
11 燃焼筒
13 燃料ガス供給手段
14 酸素ガス供給手段
15 不活性ガス供給手段
16 点火手段
18 粉体供給手段
20 延長バレル
31 振動センサ
40 テストチャンバ
131、141、151 電磁弁
Claims (13)
- 一端が閉塞され他端が開口された燃焼筒と、その燃焼筒の閉塞端部に燃料ガス、酸素ガス及び不活性ガスを供給するガス供給手段と、供給された燃料ガスと酸素ガスの混合気に所定の運転周波数で点火を行う点火手段と、その点火手段の下流に溶射用の粉体を供給する粉体供給手段とを有し、
燃料ガスと酸素ガスは対向噴射され、不活性ガスは前記燃焼筒の閉塞端部に向けて噴射されるようになっているパルスデトネーション溶射装置。 - 一端が閉塞され他端が開口された燃焼筒と、その燃焼筒の閉塞端部に燃料ガス、酸素ガス及び不活性ガスを供給するガス供給手段と、供給された燃料ガスと酸素ガスの混合気に点火を行う点火手段と、その点火手段の下流に溶射用の粉体を供給する粉体供給手段とを有し、
バルブ開放モードで使用されるパルスデトネーション溶射装置。 - 運転周波数の調整が、燃料ガス、酸素ガス及び不活性ガスの流量と供給圧力の調整及び点火時期の調整により行われることを特徴とする請求項1又は2に記載のパルスデトネーション溶射装置。
- 燃焼筒は、その端末に延長バレルを有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のパルスデトネーション溶射装置。
- 延長バレルは、脱着可能になっていることを特徴とする請求項4に記載のパルスデトネーション溶射装置。
- 溶射に供される粉体は、点火手段の下流の複数位置から供給することができるようになっていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載のパルスデトネーション溶射装置。
- 溶射温度の調整が、運転周波数の調整によりなされるようになっていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載のパルスデトネーション溶射装置。
- 燃焼温度は、3200〜3700℃の範囲で調整することができるようになっていることを特徴とする請求項7に記載のパルスデトネーション溶射装置。
- 燃料ガスは、エチレンガスであることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載のパルスデトネーション溶射装置。
- 不活性ガスは、単原子ガスであることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載のパルスデトネーション溶射装置。
- 一端が閉塞され他端が開口された燃焼筒内に燃料ガスと酸素ガスを供給し、その混合気を所定間隔で点火して爆発燃焼させ、その燃焼ガスに溶射用の粉体を搬送させて所定の運転周波数で溶射を行うパルスデトネーション溶射方法であって、
同一圧で連続的に供給される燃料ガスと酸素ガスの混合気にそれらの供給圧より高い圧力で燃焼筒閉塞端に向けて不活性ガスを連続的に供給し、生じるパルスデトネーションにより所定の運転周波数で溶射を行うパルスデトネーション溶射方法。 - 一端が閉塞され他端が開口された燃焼筒内に燃料ガスと酸素ガスを供給し、その混合気を所定間隔で点火して爆発燃焼させ、その燃焼ガスに溶射用の粉体を搬送させて溶射を行うパルスデトネーション溶射方法であって、
燃焼筒内、または燃焼筒とこれに付加された延長バレル内に、高温の燃焼ガス層が低温の燃焼筒閉塞端に向けて供給される不活性ガスの層に分断された状態を形成し、次々に到来するパルス状の燃焼ガス層により、溶射用の粉体にサイクリックな加熱及び加速を行いつつ溶射を行うパルスデトネーション溶射方法。 - 燃焼筒内、または燃焼筒とこれに付加された延長バレル内の燃焼ガス層と不活性ガス層の占める比率を変化させて溶射温度を調整することを特徴とする請求項12に記載のパルスデトネーション溶射方法。
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