JP6781891B2 - 窒化アルミニウムの皮膜製造方法及びその方法により製造される窒化アルミニウム皮膜 - Google Patents
窒化アルミニウムの皮膜製造方法及びその方法により製造される窒化アルミニウム皮膜 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6781891B2 JP6781891B2 JP2015200253A JP2015200253A JP6781891B2 JP 6781891 B2 JP6781891 B2 JP 6781891B2 JP 2015200253 A JP2015200253 A JP 2015200253A JP 2015200253 A JP2015200253 A JP 2015200253A JP 6781891 B2 JP6781891 B2 JP 6781891B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aluminum nitride
- powder
- nitride film
- gas
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
Description
2 ガス供給手段
21〜24 供給口
3 点火手段
4 粉体供給手段
5 溶射室
8 基材
Claims (5)
- 一端が閉塞され他端が開口された燃焼筒と、その燃焼筒の閉塞端部に燃料ガス、酸素ガス及び不活性ガスを供給するガス供給手段と、供給された燃料ガスと酸素ガスの混合気に点火を行う点火手段と、その点火手段の下流に溶射用の粉体を供給する粉体供給手段とを有してバルブ開放モードで使用される爆発溶射装置を用いて、基材に窒化アルミニウム皮膜を形成する皮膜製造方法であって、
前記供給される粉体は、平均粒子径が1μm〜5μmの窒化アルミニウム単粒粉からなる平均粒径が20μm〜60μmの造粒粉である皮膜製造方法。 - 粉体供給手段により粉体が燃焼筒に供給される供給口から、その燃焼筒の開口端までのノズル長さは150mm〜500mmであることを特徴とする請求項1に記載の皮膜製造方法。
- 基材にニッケル-アルミニウム合金、ニッケル-クロム合金、アルミニウム合金又は酸化アルミニウムからなる下地処理をした後、窒化アルミニウム皮膜を形成する請求項1又は2に記載の皮膜製造方法。
- 窒化アルミニウム単粒粉からなる平均粒径1μm〜5μmの点在する島状粒子の隙間に、窒化アルミニウムからなる平均粒径0.1μm〜0.5μmの微細な粒子が集積した組織を有する窒化アルミニウム皮膜であって、窒化アルミニウム残存率が80%〜98%である窒化アルミニウム皮膜。
- 表面抵抗率が108Ω/sq〜1015Ω/sqである請求項4に記載の窒化アルミニウム皮膜
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015200253A JP6781891B2 (ja) | 2015-10-08 | 2015-10-08 | 窒化アルミニウムの皮膜製造方法及びその方法により製造される窒化アルミニウム皮膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015200253A JP6781891B2 (ja) | 2015-10-08 | 2015-10-08 | 窒化アルミニウムの皮膜製造方法及びその方法により製造される窒化アルミニウム皮膜 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017071835A JP2017071835A (ja) | 2017-04-13 |
JP6781891B2 true JP6781891B2 (ja) | 2020-11-11 |
Family
ID=58538111
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015200253A Active JP6781891B2 (ja) | 2015-10-08 | 2015-10-08 | 窒化アルミニウムの皮膜製造方法及びその方法により製造される窒化アルミニウム皮膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6781891B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20220090251A1 (en) | 2018-08-27 | 2022-03-24 | Tocalo Co., Ltd. | Method for forming thermal sprayed coating |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63149364A (ja) * | 1986-12-12 | 1988-06-22 | Babcock Hitachi Kk | 高エネルギ−ガス溶射方法 |
JPH02131159A (ja) * | 1988-11-10 | 1990-05-18 | Babcock Hitachi Kk | 爆発溶射装置 |
JP4894158B2 (ja) * | 2005-04-20 | 2012-03-14 | 東ソー株式会社 | 真空装置用部品 |
JP4643478B2 (ja) * | 2006-03-20 | 2011-03-02 | トーカロ株式会社 | 半導体加工装置用セラミック被覆部材の製造方法 |
JP2009235558A (ja) * | 2007-12-28 | 2009-10-15 | Tosoh Corp | 窒化アルミニウム溶射部材及びその製造方法 |
WO2010027073A1 (ja) * | 2008-09-05 | 2010-03-11 | 株式会社東芝 | 半導体製造装置用部品及び半導体製造装置 |
JP5659343B2 (ja) * | 2010-06-30 | 2015-01-28 | 国立大学法人広島大学 | パルスデトネーション溶射装置及び溶射方法 |
JP2012188677A (ja) * | 2011-03-08 | 2012-10-04 | Fujimi Inc | 溶射用粉末 |
JP6302703B2 (ja) * | 2013-03-11 | 2018-03-28 | 群馬県 | 皮膜付き基材およびその製造方法 |
-
2015
- 2015-10-08 JP JP2015200253A patent/JP6781891B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017071835A (ja) | 2017-04-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20150368535A1 (en) | Graphene composites and methods of fabrication | |
CN106164325A (zh) | 耐等离子体部件、耐等离子体部件的制造方法以及耐等离子体部件的制造中使用的膜沉积装置 | |
JP6768513B2 (ja) | 遮熱被覆および被覆方法 | |
JP5342176B2 (ja) | 微粉末セラミックス衝撃焼結被覆法 | |
KR101249951B1 (ko) | 공정 장비의 코팅 방법 및 이를 이용한 코팅 구조 | |
CN104630686A (zh) | 一种含有长寿命抗氧化粘结层的热障涂层的制备方法 | |
JP5073851B2 (ja) | 微粉末セラミックス衝撃焼結被覆法 | |
Pu et al. | Ablation of vacuum plasma sprayed TaC-based composite coatings | |
KR102466649B1 (ko) | 용사피막의 형성방법 | |
TWI733897B (zh) | 熔射用材料 | |
KR20080065480A (ko) | 저온분사공정을 이용한 텅스텐/구리 복합재료의 코팅방법 | |
JP6781891B2 (ja) | 窒化アルミニウムの皮膜製造方法及びその方法により製造される窒化アルミニウム皮膜 | |
US20120308836A1 (en) | Composite article having silicate barrier layer and method therefor | |
JP5576540B2 (ja) | 微粉末セラミックス衝撃焼結被覆法 | |
TWI295327B (ja) | ||
TW201536960A (zh) | 陶瓷熔射塗膜包覆構件及半導體製造裝置用構件 | |
CN110158018B (zh) | 一种Al/AlN复合涂层及其制备方法 | |
TWI779071B (zh) | 熱噴塗材料、其熱噴塗皮膜及其製造方法 | |
KR101922805B1 (ko) | 박리방지를 위한 용사코팅층 제조방법 및 이를 이용한 용사코팅층 | |
KR102476810B1 (ko) | 금속 및 세라믹 복합재 형성 방법 | |
US20090258214A1 (en) | Vapor-deposited coating and thermally stressable component having such a coating, and also a process and apparatus for producing such a coating | |
KR102608155B1 (ko) | 극초고온세라믹 코팅층의 형성 방법 및 그로부터 제조되는 극초고온세라믹 코팅층 및 부품 | |
US20220049340A1 (en) | Thermal spraying method and apparatus for producing environmental barrier coatings | |
Ulianitsky et al. | Binary Fuel Detonation Spraying of WC-Co | |
TWI791410B (zh) | 抗電漿塗布膜、其製造方法及由其製造的抗電漿構件 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151106 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20151106 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181005 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20181005 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190625 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190711 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190906 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200130 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200326 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200820 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200915 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6781891 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |