JP5647693B2 - 電子サイクロトロン共鳴イオン源を利用したx線発生装置及び方法 - Google Patents
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Description
Claims (8)
- 電子サイクロトロン共鳴を用いるX線発生装置であって、
プラズマチャンバと、
前記プラズマチャンバに磁場を印加し、プラズマチャンバの外側に配置された補正磁石を有し、構造を変更することなく、前記補正磁石を用いて、前記プラズマチャンバ内の最小磁場の大きさを調節できるように構成された磁石部と、
前記プラズマチャンバにマイクロ波を注入するマイクロ波発生部と、
前記プラズマチャンバ内に注入される反応気体と、
生成されたX線を集束する可変型ガイド、及び
集束されたX線を前記プラズマチャンバから出力する可変型引き出し部と、を含み、
前記磁石部および前記マイクロ波発生部は、前記磁場および前記マイクロ波によって前記プラズマチャンバ内で前記電子サイクロトロン共鳴を発生するように構成され、
X線は、前記電子サイクロトロン共鳴によって加速された電子から生成され、該X線の強度が前記プラズマチャンバ内の最小磁場の大きさによって決まっており、
前記可変型ガイドに印加される電圧を変化させることにより、前記X線発生装置から出力されるX線の強度が調節されることを特徴とするX線発生装置。 - 前記プラズマチャンバ内に位置し、加速された電子が衝突することに反応してX線を生成するターゲット物質をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のX線発生装置。
- 電子サイクロトロン共鳴を用いるX線発生装置であって、
プラズマチャンバと、
前記プラズマチャンバに磁場を印加し、プラズマチャンバの外側に配置された補正磁石を有し、構造を変更することなく、前記補正磁石を用いて、前記プラズマチャンバ内の最小磁場の大きさを調節できるように構成された磁石部と、
前記プラズマチャンバにマイクロ波を注入するマイクロ波発生部と、
前記プラズマチャンバ内に注入される反応気体と、
生成されたX線を集束する可変型ガイド、及び
集束されたX線を前記プラズマチャンバから出力する可変型引き出し部と、を含み、
前記磁石部および前記マイクロ波発生部は、前記磁場および前記マイクロ波によって前記プラズマチャンバ内で前記電子サイクロトロン共鳴を発生するように構成されており、
X線は、前記電子サイクロトロン共鳴によって加速された電子から生成され、該X線の強度が前記プラズマチャンバ内の最小磁場の大きさによって決まっており、
前記磁石部は、
前記プラズマチャンバの両端部の外部に位置するミラー磁石と、
前記各ミラー磁石の間であって前記プラズマチャンバの外部に位置する極磁石と、をさらに備え、
前記補正磁石は、前記ミラー磁石の間に位置することを特徴とするX線発生装置。 - 前記プラズマチャンバの外部に位置し、前記プラズマチャンバの外壁を介して放出されるX線を遮蔽させる遮蔽部をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のX線発生装置。
- 前記可変型ガイドの形状を変化させることにより、前記X線発生装置から出力されるX線の集束度が調節されることを特徴とする請求項1に記載のX線発生装置。
- 前記可変型引き出し部の形状を変化させることにより、前記X線発生装置からX線が出力される面積が調節されることを特徴とする請求項1に記載のX線発生装置。
- 電子サイクロトロン共鳴を用いるX線発生方法であって、
プラズマチャンバ内に反応気体を注入するステップと、
前記プラズマチャンバ内に電子サイクロトロン共鳴を発生するように、前記反応気体に磁場及びマイクロ波を印加するステップと、
前記プラズマチャンバの外部に位置する補正磁石を用いて、生成されるX線の強度に応じて前記反応気体に印加される最小磁場の大きさを調節するステップと、
磁場及びマイクロ波による電子サイクロトロン共鳴を通じて加速された電子からX線が生成されるステップであって、該X線の強度が前記最小磁場の大きさによって決まるステップと、
生成されたX線を可変型ガイドを利用して集束するステップ、及び
集束されたX線を、可変型引き出し部を通過して出力するステップと、を含み、
前記可変型ガイドに印加される電圧を変化させることにより、出力されるX線の強度が調節されることを特徴とするX線発生方法。 - 前記X線が生成されるステップは、加速された電子をターゲット物質に衝突させてX線を生成するステップを含むことを特徴とする請求項7に記載のX線発生方法。
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