JP5628945B2 - 水耕栽培装置及び水耕栽培方法 - Google Patents

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Description

本発明は、植物体を育成する水耕栽培装置及び水耕栽培方法に関する。
根菜類の水耕栽培方法としては、下記の特許文献1に記載されたものが知られている。この特許文献1には、主根の先端部分を培養液に浸しつつ、主根の先端以外の部分を培養液に浸さずに培養することが記載されている。
特開2005−91号公報
しかしながら、特許文献1の水耕栽培方法では、主根への潅水が過多又は過小となる恐れがある。
そこで、本発明は、上述した実情に鑑みて提案されたものであり、適切量の液体を植物体に供給できる水耕栽培装置及び水耕栽培方法を提供することを目的とする。
本発明の第1の態様に係る水耕栽培装置は、主根と側根とを有する植物体を育成する水耕栽培装置であって、前記植物体を支持する支持部と、前記主根に霧状に液体を噴霧することにより前記主根への潅水を行う主根潅水部と、前記側根を液体に浸すことにより前記側根への潅水を行う側根潅水部と、前記主根潅水部による噴霧間隔又は噴霧時間の少なくとも一方を調整する制御部とを有し、前記制御部は、前記主根に対する液体の噴霧量を当該主根にとって必要な量に制限することを特徴とする。
本発明の第2の態様に係る水耕栽培装置は、第1の態様の水耕栽培装置であって、前記側根潅水部は、前記主根潅水部によって前記主根に潅水を行う量よりも多くするよう前記側根への潅水を行うことを特徴とする。
本発明の第3の態様に係る水耕栽培装置は、上記第1又は第2の態様の水耕栽培装置であって、前記側根潅水部は、前記側根への潅水を行う液体面を前記主根の下端よりも下方に位置させる水槽を有し、当該水槽に前記主根から伸びる側根を浸すことを特徴とする。
本発明の第4の態様に係る水耕栽培装置は、上記第1乃至第3の何れかの態様の水耕栽培装置であって、前記主根潅水部からの前記液体を前記主根のうち所望の部位のみに供給することを特徴とする。
本発明の第5の態様に係る水耕栽培装置は、上記第1乃至第4の何れかの態様の水耕栽培装置であって、前記側根潅水部は、前記側根を浸している液体を循環させる循環部を備えることを特徴とする。
本発明の第6の態様に係る水耕栽培装置は、上記第1乃至第5の何れかの態様の水耕栽培装置であって、前記主根潅水部は、直径が10μm乃至100μmのミストを前記主根に噴霧することを特徴とする。
本発明の第7の態様に係る水耕栽培方法は、主根と側根とを有する植物体を育成する水耕栽培方法であって、前記主根への潅水を霧状の液体を噴霧することにより行うと共に、前記側根への潅水を当該側根を液体に浸すことにより行い、前記主根に対する液体の噴霧量を当該主根にとって必要な量に制限することを特徴とする。
本発明によれば、側根を浸しながら、主根に対する液体の噴霧量を当該主根にとって必要な量に制限できる。これにより、本発明によれば、適切量の液体を植物体に供給できる。
本発明の実施形態として示す水耕栽培装置の構成を示す断面図である。 本発明の実施形態として示す水耕栽培装置の他の構成を示す断面図である。 本発明の実施形態として示す水耕栽培装置において、図2のA−A線断面図である。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
本発明を適用した水耕栽培装置1は、例えば図1乃至図3に示すように構成されている。この水耕栽培装置1は、植物体100の育成のために土を使わず、植物体100の根101、102(地下部)に液体を供給して、植物体100を栽培する水耕栽培を行うものである。本実施形態として示す水耕栽培装置1は、例えば根物作物を育成するものについて説明するが、主根101と側根102を有するものであれば植物体100の種類は任意である。また、本実施形態では植物体100に液体を供給するものについて説明するが、当該液体としては、水や水に栄養分を加えた培養液を含む。
図1に示す水耕栽培装置1は、主根101と側根102とを有する植物体100を育成する。水耕栽培装置1は、支持部11(11a,11b)と、主根潅水部(12、13)と、側根潅水部(30、31、32、33)と、制御部3とを有する。
支持部11は、植物体100を支持する。この支持部11は、蓋部11aと貫通部11bとを有する。この支持部11は、植物体100の主根101を側部から支持する。図1の水耕栽培装置1において、支持部11は、例えば蓋部11aの中心位置に貫通部11bを持つ円柱状のスポンジが使用可能である。これにより支持部11は、スポンジと植物体100の摩擦力で植物体100を支持する。なお、植物体100を支持できるものであれば、地上部をひも状のもので吊るなど、支持部11の手段は問わない。なお、この蓋部11aには、複数の貫通部11bが設けられていてもよい。
支持部11によって支持されている植物体100は、主根101の上端が蓋部11aから露出している。主根101の上端からは、上方に向けて植物体100の茎及び葉103が延びている。水耕栽培装置1の上方には光源2が設けられている。この光源2は、例えば複数のLEDからなる。茎及び葉103は、光源2から発せられた光Lを受けて光合成を行うことが可能となる。
主根潅水部は、水槽30内の空間20に向けて主根101に霧状に液体(ミスト)13aを噴霧することにより主根101への潅水を行う。主根潅水部は、取付部12、及び、噴霧部13を有する。
取付部12は、水槽30の内壁に設けられる。本実施形態において、取付部12は、図3に示すように、水槽30の内壁に対向するように設けられている。なお、図3の例では、水槽30の四方端から中央に向けて液体13aを噴霧する構成を示している。取付部12は、噴霧部13が主根101に液体13aを供給できれば水槽30における任意の高さ位置に設けられていればよい。取付部12には、一又は複数の噴霧部13が取り付けられる。なお、取付部12は、側根102への潅水を行う液体面が主根101の下端よりも下方に位置するように、水耕栽培装置1の高さ方向にその高さを調整する機能を備えていても勿論よい。
噴霧部13は、霧状の液体13aを噴霧する。噴霧部13は、図示しない液体供給配管と接続されている。噴霧部13は液体供給配管から供給された液体13aを霧状(ミスト状)にして、ノズル部から噴射する。
噴霧部13は、直径が10μm乃至100μmのミスト(13a)を主根101に噴霧することが望ましい。この理由は、主根101の表面に均一に液体13aを供給し、且つ噴霧部13の数を低減させるためである。ミスト(13a)の直径が100μm以下であれば、噴霧部13による噴霧方式は任意でよい。この噴霧方式としては、高圧気体を使用した霧吹きタイプや、超音波ミストなどが挙げられる。なお、ミストによる潅水効率を上げるため、噴霧部13によりミストを噴霧する空間20は密閉状態に近いほうが望ましい。
また、噴霧部13は、図3に示すように、主根101に対して複数の方向から霧状の液体13aを噴射できることが望ましい。これにより、噴霧部13は、液体13aを主根101のうち所望の部位のみに供給できる。
さらに、噴霧部13は、制御部3によって液体13aの噴霧間隔及び噴霧時間の少なくとも一方が調整される。これにより、噴霧部13は、主根101に対する液体13aの噴霧量を当該主根101にとって必要な量に制限する。すなわち、主根101への潅水は、細根の成長抑制、及び、根腐れ防止の観点から植物体100の成長に影響のない必要最低限に抑える。この必要最低限の液体13aは、予め設定されている育成条件に含まれている。この育成条件は、噴霧部13からミストを噴霧する噴霧間隔及び各噴霧間隔における噴霧時間が含まれている。なお、噴霧部13は、液体13aの噴霧量を制限するのみならず、主根101に供給する養分を制限してもよい。
制御部3は、予めメモリに各噴霧部13の噴霧間隔及び噴霧時間を表すデータを記憶している。そして制御部3は、図示しないタイマによって計時されている時刻に基づいて噴霧間隔となったことを判定する。これに応じ、制御部3は、予め設定されている噴霧時間に亘って各噴霧部13から噴霧を行わせる。これにより、制御部3は、所望の噴霧部13から、所定の噴霧間隔で噴霧時間に亘り、液体13aを主根101に与えることができる。
側根潅水部は、側根102を液体110に浸すことにより側根102への潅水を行う。側根潅水部は、水槽30、液体導入流路31、液体排出流路32、及び、循環ポンプ33を有する。
水槽30には、液体導入流路31から導入された液体31aを蓄える。水槽30は、主根101から伸びる側根102を浸す容量以上の液体110を蓄える。また、水槽30は、側根102への潅水を行う液体面が主根101の下端よりも下方に位置するよう液体110の容量が調整されている。これにより液体面が主根101へ触れてしまうことによる細根の発生及び主根101の腐敗などを抑制する。
液体導入流路31には、側根102を浸している液体110を循環させる循環部としての循環ポンプ33が接続されている。この循環ポンプ33は、制御部3の制御に応じて回転数が調整される。循環ポンプ33の回転数を調整することにより、液体導入流路31から水槽30に導入される液体31aの量及び液体排出流路32から排出される液体32aの量を調整できる。これにより、水槽30における液体110の循環量が調整される。この循環量は、主根潅水部によって主根101に潅水を行う量よりも多くするよう調整される。これにより、水耕栽培装置1は、主根101へ供給する液体量よりも多い液体量によって側根102への潅水を行う。なお、水槽30の液体110を循環させる構成としては、循環ポンプ33のみならず、水槽30を傾ける手段などであってもよい。
また、側根潅水部は、図2に示すように、主根101の下端の直下に水槽30の液体面が位置するよう構成してもよい。図2のように構成した場合、側根潅水部は、緩やかな傾斜を持つ平面上に、液体110を薄く(少量ずつ)流下させる水耕栽培を行ってもよい。この水耕栽培は薄膜水耕 (NFT: nutrient film technique)と称される。図2のように構成することによって、水耕栽培装置1の小型化を実現できる。
図2のような水耕栽培装置1は、図2中のA−A線断面図が図3に示すようになる。水槽30に蓄えた液体110を薄くすることにより、水平方向に側根102が拡がる。これにより、図1のように側根102を上から下に垂らすよりも植物体100が健全に成長することができる。ただし、主根101の垂直方向の育成は抑制される。
制御部3は、水耕栽培装置1における噴霧部13、循環ポンプ33と接続されている。更に制御部3は、光源2と接続されている。制御部3は、例えば、水耕栽培装置1に付属した制御機器であってもよい。また、制御部3は、ユーザのパーソナルコンピュータや携帯端末等であってもよい。更に、制御部3は、単一の水耕栽培装置1及び光源2のみならず、多数の水耕栽培装置1及び光源2と接続されていてもよい。
制御部3は、主根潅水部(12、13)による噴霧間隔又は噴霧時間の少なくとも一方を調整する。制御部3は、主根101に対する液体13aの噴霧量を当該主根101にとって必要な量に制限する。これを実現するために、噴霧部13による噴霧間隔又は噴霧時間は、予め設定されている。更に、制御部3は、複数の噴霧部13のうち主根101の所望の部位のみに液体13aが供給されるよう駆動する噴霧部13を切り換えることが望ましい。
また、制御部3は、主根潅水部(12、13)が主根101に潅水を行う液体量よりも、側根潅水部(30、31、32、33)が側根102に潅水を行う液体量を多くするよう制御する。このとき、循環ポンプ33による回転数を制御して、液体が水導入流路31、水槽30、液体排出流路32を通過する流量を調整する。
さらに制御部3は、光源2の光照射間隔及び光照射時間を制御してもよい。
以上のように、この水耕栽培装置1によれば、主根101への潅水を霧状の液体13aを噴霧することにより行うと共に、側根102への潅水を、当該側根102を液体110に浸すことにより行う水耕栽培方法を実現できる。このとき、水耕栽培装置1は、主根101に対する液体13aの噴霧量を当該主根101にとって必要な量に制限できる。これにより水耕栽培装置1は、適切量の液体(13a、110)を植物体100に供給できる。
したがって、この水耕栽培装置1によれば、いわゆる根物作物といった植物体100の主根101を液体に浸漬した状態で栽培することがない。これにより、主根101に細根が多数発生することなく、主根101、不定根、根茎、塊茎などの収穫部位が充分に肥大しない、という事態を抑制できる。
ここで、主根101と側根102からなる根物作物では、水分や養分の吸収を側根102及び側根102で成長している細根から行う。したがって、最適な植物体100の成長のためには、側根102への潅水は水分量、養分量ともに十分な量が望まれる。これに対し、水耕栽培装置1は、十分な水分、養分を側根102に供給するために側根102を液体110に浸す構成となっている。一方で、主根101に対して側根102と同様に潅水を行うと、主根101にとっては水分過多による腐敗が懸念される。これに対し、水耕栽培装置1は、主根101に対して供給する液体量を制限している。また、水耕栽培装置1は、主根101よりも多い液体量を側根102に供給している。これにより、水耕栽培装置1は、主根101へは必要最低限の潅水を行いつつ、側根には十分な潅水を行うことができる。
また、この水耕栽培装置1によれば、主根101を液体110に浸さないので、水槽30の液体面を上下させるような構成が必要ない。これにより、水耕栽培装置1は、コンパクトかつ安価な構成であっても、主根101からの細根の発生を抑え、収穫部位の肥大を促進させることができる。
なお、上述の実施の形態は本発明の一例である。このため、本発明は、上述の実施形態に限定されることはなく、この実施の形態以外であっても、本発明に係る技術的思想を逸脱しない範囲であれば、設計等に応じて種々の変更が可能であることは勿論である。
1 水耕栽培装置
3 制御部
11 支持部
13 噴霧部
30 水槽
31 液体導入流路
32 液体排出流路
33 循環ポンプ
100 植物体
101 主根
102 側根

Claims (7)

  1. 主根と側根とを有する植物体を育成する水耕栽培装置であって、
    前記植物体を支持する支持部と、
    前記主根に霧状に液体を噴霧することにより前記主根への潅水を行う主根潅水部と、
    前記側根を液体に浸すことにより前記側根への潅水を行う側根潅水部と、
    前記主根潅水部による噴霧間隔又は噴霧時間の少なくとも一方を調整する制御部とを有し、
    前記制御部は、前記主根に対する液体の噴霧量を当該主根にとって必要な量に制限することを特徴とする水耕栽培装置。
  2. 前記側根潅水部は、前記主根潅水部によって前記主根に潅水を行う量よりも多くするよう前記側根への潅水を行うことを特徴とする請求項1に記載の水耕栽培装置。
  3. 前記側根潅水部は、前記側根への潅水を行う液体面を前記主根の下端よりも下方に位置させる水槽を有し、当該水槽に前記主根から伸びる側根を浸すことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の水耕栽培装置。
  4. 前記主根潅水部からの前記液体を前記主根のうち所望の部位のみに供給することを特徴とする請求項1乃至請求項3の何れか一項に記載の水耕栽培装置。
  5. 前記側根潅水部は、前記側根を浸している液体を循環させる循環部を備えることを特徴とする請求項1乃至請求項4の何れか一項に記載の水耕栽培装置。
  6. 前記主根潅水部は、直径が10μm乃至100μmのミストを前記主根に噴霧することを特徴とする請求項1乃至請求項5の何れか一項に記載の水耕栽培装置。
  7. 主根と側根とを有する植物体を育成する水耕栽培方法であって、
    前記主根への潅水を霧状の液体を噴霧することにより行うと共に、前記側根への潅水を、当該側根を液体に浸すことにより行い、
    前記主根に対する液体の噴霧量を当該主根にとって必要な量に制限すること
    を特徴とする水耕栽培方法。
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