JP5626113B2 - ガス分岐装置およびガス分岐方法 - Google Patents
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Description
前記ガス混合部で得た混合ガスを前記分岐部に流すとともに、前記マスフローコントローラによって対応する分岐配管を流れる混合ガスの流量を予め設定した流量に調整し、かつ、前記背圧制御弁を調整して該背圧制御弁の上流側の圧力を予め設定した圧力に調整する処理と、
前記流量計によって前記一つの分岐配管を流れる混合ガスの流量を計測し、該流量と前記マスフローコントローラを設けた分岐配管を流れる混合ガスの流量とに基づき、全ての分岐配管を流れる混合ガスの総流量を求め、該総流量を分岐配管の総数で除算して各分岐配管毎の平均流量を求める処理と、
前記分岐配管を流れる混合ガスの流量が、全て前記平均流量となるように前記マスフローコントローラを調整する処理と、を行うことを特徴とする。
まず、図1〜図3を参照して、本発明の実施形態のガス分岐装置が用いられるアレイアンテナ方式(誘導結合型)CVDプラズマ装置について説明する。なお、図面中、「FF」は前方向、「FR」は後方向、「L」は左方向、「R」は右方向、「U」は上方向、「D」は下方向をそれぞれ指している。
また、真空チャンバー3は、チャンバー本体7を備えており、このチャンバー本体7は、図2に示すように正面側(前側)にフロント開口部7a、背面側(後側)にリア開口部7bを有し、図1、図3に示すように両側面側(左側面側及び右側面側)にサイド開口部7cをそれぞれ有している。
真空チャンバー3の天井壁15の内壁面における左右方向の中央部には、センターガイドブッシュ23が設けられており、真空チャンバー3の天井壁15の内壁面における左部及び右部には、サイドガイドブッシュ25がそれぞれ設けられている。
アレイアンテナユニット35は、真空チャンバー3の正面側からチャンバー本体7のフロント開口部7aを通って、一対の可動支持部材31に着脱可能にセットされるようになっている。また、図2に示すようにアレイアンテナユニット35の前後両側(前側及び後側)は、鉛直状態の基板Wをセットするための基板エリアAとなっている。ここで、本実施形態では、アレイアンテナユニット35は真空チャンバー3の前後方向に4つ配設されている。したがって、これらアレイアンテナユニット35に対応するべく、アンテナ支持機構27も4組設けられている。
第1電極棒49には、その上端部に第1アンテナ側コネクタ47が設けられており、この第1アンテナ側コネクタ47は、前記第1天井側コネクタ17のうちの対応するコネクタ17に着脱可能に接続されている。
図1に示すように真空チャンバー3の外側の適宜位置には、真空チャンバー3の内部、すなわち基板エリアAに材料ガスを供給する、ガス分岐装置43が配設されている。
ガス混合部70は、真空チャンバー3内に供給する成膜用の材料ガスを構成する、シラン等の反応ガスや水素、窒素(不活性ガス)等のキャリアガスなどの複数種のガスを混合して、混合ガスを得るためのものである。すなわち、このガス混合部70は、ガス供給ボンベ等の各ガス源(図示せず)に接続する供給配管72と、該供給配管72に設けられたマスフローコントローラ(以下、MFCと記す。)73と、該供給配管72の下流側に設けられて該供給配管72を合流させる接続配管74と、を備えて構成されている。
接続配管74は、供給配管72A、72B、72Cから流れてきた各ガスを合流させ、これによってガスA、ガスB、ガスCを混合して混合ガスにしている。この接続配管74には、後述する背圧制御弁77の背圧、すなわち一次側の圧力を検知する圧力計75が設けられている。
4つの分岐配管76のうち、一つの分岐配管76aには背圧制御弁77が設けられており、さらに、この背圧制御弁77より下流側に流量計78が設けられている。また、この分岐配管76a以外の分岐配管76b〜76dには、それぞれMFC79が設けられている。MFC79は、ガス混合部70側のMFC73と同様の構成からなっており、したがって分岐配管76b(76c、76d)を通って該MFC79を通過する混合ガスの流量を、外部からの設定信号によって設定された流量(設定流量)となるように制御する。
まず、ガスA源、ガスB源、ガスC源からガス混合部70の各供給配管72A、72B、72CにそれぞれガスA〜ガスCを供給するとともに、各MFC73を調節して、ガスA〜ガスCを予め設定した流量で接続配管74側に流す。これにより、接続配管74に合流した各ガスA〜Cは、設定流量に対応する混合比で混合された混合ガスとなる。このようにして混合ガスを形成すると、この混合ガスは接続配管74から各分岐配管76a〜76dに流入する。なお、接続配管74から各分岐配管76a〜76dに流入する混合ガスの総流量V1は、MFC73によるガスA〜ガスCの設定量の合計(総流量V0)にほぼ等しくなる。したがって、この設定量の合計(総流量V0)に対応する接続配管74での圧力(圧力計75で示される圧力)を予め実験等によって求めておく。
そこで、まず、MFC79を再調整し、分岐配管76b〜76dを流れる混合ガスの流量を前記平均流量に設定し直す。
したがって、ランニングコストを低く抑えることができ、さらに、従来のように排出配管やバッファタンクを設置する必要が無くなってこれらの設置のためのイニシャルコストが不要になる。
例えば、前記実施形態では材料ガスを構成するガスを3種類のガスとし、供給配管を3本設けるように、また、分岐配管を4本にして4つの領域に混合ガスを供給するようにしたが、これら供給配管や分岐配管の数については、対象となるガス種の数や領域の数に応じて適宜変更可能である。
さらに、前記実施形態では本発明のガス分岐装置およびガス分岐方法を、CVDプラズマ装置1における成膜用の材料ガスの供給装置および供給方法に適用したが、本発明はこれに限定されることなく、複数種のガスを混合して得られた混合ガスを複数箇所に均等に、又は、予め決められた割合で供給する必要のある装置であれば、いずれにも適用可能である。
Claims (3)
- 複数種のガスを混合して混合ガスとするガス混合部と、
前記混合ガスを複数箇所に供給するための複数の分岐配管を有する分岐部と、
前記複数の分岐配管のうちの一つの分岐配管に設けられた背圧制御弁と、
前記一つの分岐配管以外の分岐配管に設けられたマスフローコントローラと、
前記背圧制御弁の上流側に設けられて該背圧制御弁の背圧を検知する圧力計と、
前記背圧制御弁の下流側に設けられた流量計と、
を備えることを特徴とするガス分岐装置。 - 前記複数種のガスは、CVD装置による成膜用の材料ガスを構成するガスであり、
前記分岐配管は、前記CVD装置の真空チャンバー内に接続されて用いられることを特徴とする請求項1記載のガス分岐装置。 - 請求項1又は2に記載のガス分岐装置を用いて混合ガスを前記分岐配管に分岐し、該分岐配管から混合ガスを供給するに際し、
前記ガス混合部で得た混合ガスを前記分岐部に流すとともに、前記マスフローコントローラによって対応する分岐配管を流れる混合ガスの流量を予め設定した流量に調整し、かつ、前記背圧制御弁を調整して該背圧制御弁の上流側の圧力を予め設定した圧力に調整する処理と、
前記流量計によって前記一つの分岐配管を流れる混合ガスの流量を計測し、該流量と前記マスフローコントローラを設けた分岐配管を流れる混合ガスの流量とに基づき、全ての分岐配管を流れる混合ガスの総流量を求め、該総流量を分岐配管の総数で除算して各分岐配管毎の平均流量を求める処理と、
前記分岐配管を流れる混合ガスの流量が、全て前記平均流量となるように前記マスフローコントローラを調整する処理と、を行うことを特徴とするガス分岐方法。
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