JP5625086B2 - 半導体集積回路 - Google Patents

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Description

本発明は、半導体装置に集積される可変遅延回路、遅延制御回路を評価するテスト回路(BIST回路:Built In Self-Test回路)に関する。
LSIテスタにクロック信号を供給するタイミングジェネレータLSIは、可変遅延回路を搭載し、任意のテストタイミングに応じた位相のクロック信号を出力する。出力するクロック信号の精度及び可変遅延範囲を十分に確保するため、タイミングジェネレータ回路は複数の可変遅延回路を備えた複雑なものになっている。また、遅延制御回路についても、遅延量の精度向上や低電力化のため、デジタル−アナログ変換回路(以下、DACと表記する)を用いて微小な電流制御を行う場合もある。さらに、集積度の向上により一つのLSIに搭載できる可変遅延回路数も増大している。その結果、1つのタイミングジェネレータLSIに搭載される可変遅延回路は数百のオーダーに達する。
このようなタイミングジェネレータLSIにおいて回路の動作保証を行うため、可変遅延回路によってリングオシレータを構成して、その発振周波数を測定する。特許文献1には、出力クロック信号の位相の校正を目的とするものであるが、信号伝送路の終端に出力される信号を始端側に帰還させ、閉ループ発振回路を構成してタイミング調整に利用している例がある。
また、DACのテスト方法を開示するものとしては特許文献2がある。特許文献2ではDACの電流経路を制御するトランジスタの動作確認は機能テストで行うことを開示するが、出力する電流・電圧は外部テスタに出力してテストすることになっている。
特開2000−180514号 特開2007−108055号
遅延回路のテスト時間の大部分は、周波数カウンタによる測定時間である。テストに要する時間は精度、発振周波数によるが、測定時間は1点あたり数msec〜sec程度である。テスト時間は、さらに測定精度、測定しなければならない可変遅延回路の数、遅延量調整パラメータの組合せの数に比例して増大する。これらは、背景として記述したように、増加の一途をたどっている。一方、テスト用ピンを増加させ、テスタとLSIとの入出力を高速化することでテスト時間を短縮することができるが、テストに割り当てられるピン数には限界があり、テストに要する時間の増大を現実的には抑えることができない。
可変遅延回路と、可変遅延回路のテスト回路とを有し、テスト回路は、テスト動作時には可変遅延回路によりリングオシレータを構成して発振させ、リングオシレータが所定の単調増加条件と線形性条件とを満たすか否かにより可変遅延回路の正常/異常を判定する。
さらに、可変遅延回路と、デジタル信号を電流量に変換するデジタルアナログ変換回路を含み、電流量に応じた電圧により可変遅延回路の遅延量を制御する遅延量制御回路と、遅延量制御回路のテスト回路とを有し、遅延量制御回路は、デジタル信号の値に応じて選択される複数の単位電流源を有し、テスト回路は、複数の単位電流源の各々について、単位電流源に流れる電流値が所定の範囲内であることをファンクショナルにデジタル判定することにより、遅延量制御回路の正常/異常を判定する。
可変遅延回路、DACのアナログ特性のテストに要する時間を短縮する。
可変遅延回路及びその遅延テスト回路のブロック図である。 図1を用いたテストのフローチャートである。 可変遅延回路の線形性評価判定の概略を説明するための図である。 複数の可変遅延回路に適用される遅延テスト回路のブロック図である。 遅延制御回路とそのテスト回路のブロック図である。 単位電流源に流れる電流の発生確率を示す図である。 ウィンドウコンパレータにおける電流・電圧と判定出力との関係を説明するための図である。 同一の制御DACをレプリカDACとして利用する構成例である。 テスト結果を統合して出力する構成例である。 電流スイッチを搭載する構成例である。 可変遅延回路と遅延量制御回路の回路構成例である。
実施例1として、可変遅延回路のテスト回路及びテスト方法について説明する。
図1に測定対象となる可変遅延回路100及びその遅延テスト回路のブロック図を示す。可変遅延回路100は、入力された信号を遅延量制御回路150からの制御信号に応じた遅延量だけ遅延させる。これ以外のブロックが遅延テスト回路であって、ステートマシン200、テスト切り替え回路300、周波数測定回路400、周波数カウンタレジスタ500、期待値生成回路600、期待値レジスタ700、比較回路800、テスト結果レジスタ900で構成される。
通常動作時、テスト切り替え回路300はクロック信号SIGを選択する。遅延量制御回路150は遅延量制御信号をうけ、遅延量制御パラメータを調整する。可変遅延回路100は遅延量制御回路150からの遅延量制御パラメータの変化に従って入力されるクロック信号SIGを遅延させ、遅延されたクロック信号SIGOUTを出力する。
テスト全体の流れについては図2を用いて後述し、ここでは各ブロックの機能と動作を説明する。
ステートマシン200にテスト設定信号が入力される。ステートマシン200は設定保存レジスタ210と設定制御マシン220からなる。テスト設定データは設定保存レジスタ210に外部よりスキャンインされる。設定制御マシン220は設定保存レジスタ210から設定データを受け、遅延テスト回路の制御を行なう。
テスト切り替え回路300は、設定制御マシン210の制御を受け、テスト開始時には可変遅延回路100を経由するループ経路Lを選択し、これによりリングオシレータを構成する。
周波数測定回路400はリングオシレータカウンタ410と基準クロックカウンタ420とを有する。リングオシレータカウンタ410はテスト切り替え回路300がリングオシレータを構成すると、そのリングオシレータの発振回数をカウントする。一方、基準クロックカウンタ420は、基準クロックに対し、その発振回数をカウントする。基準クロックカウンタ420のカウント値が設定制御マシン220によって与えられた設定値に到達した時にカウントを止め、カウント値を保持する。同時にリングオシレータのカウントを終了させる。
本実施例では、基準クロックカウンタ420が所定の設定値に達した時点のリングオシレータカウンタ410のカウント値を用いて可変遅延回路100のテストを実施する。以下、テスト開始後、基準クロックカウンタ420がN回目の所定の設定値に達した時点(時刻Pと表記する)でのリングオシレータカウンタ410のカウンタ値をCと表記する。カウンタレジスタ500は、基準クロックカウンタ420が(N−1)回目の所定の設定値に達した時点(時刻PN−1と表記する)でのリングオシレータカウンタ410のカウンタ値、すなわちCN−1を保持する。
期待値生成回路600は、リングオシレータカウンタ410のカウント値(C)およびカウンタレジスタ500のカウント値(CN−1)を利用し、テスト時の期待値を生成する。
期待値レジスタ700は、単調性期待値レジスタ710と、線形性期待値第一レジスタ730と、線形性期待値第二レジスタ720とから構成される。単調性期待値レジスタ710は、カウンタレジスタ500に保持されたカウント値を読み出して保存する。線形性期待値第一レジスタ730は期待値生成回路600で生成された期待値(EN+1、LuN+1、LlN+1)を保存する。線形性期待値第二レジスタ720は一時刻前の期待値(E、LuN、LlN)を線形性期待値第一レジスタ730から読み出して保存する。
比較回路800はリングオシレータカウンタ410に保持しているカウント値と単調性期待値レジスタ710および線形性期待値第二レジスタ720に保持された期待値とを比較する。
テスト結果レジスタ900は比較回路800での比較結果を保存する。
図2は、図1の回路で実施される遅延時間テストフローの例である。可変遅延回路100の遅延量の単調増加性および、線形性を確認する。可変遅延回路のテストを単調増加性及び線形性の評価に絞ることで、期待値生成回路と判定回路をLSI内に内蔵可能にできるものである。
ステップS1:外部テスタよりテスト設定データを設定保存用レジスタ210に書き込む。設定制御マシン220は設定保存用レジスタ210から設定データを読み出し、ステップS2以下の制御を実行する。
ステップS2:テスト切り替え回路300はループ経路Lを選択し、可変遅延回路100を含むリングオシレータを構成し、発振させる。
ステップS3:リングオシレータカウンタ410および基準クロックカウンタ420のカウントの計測を開始する。基準クロックカウンタ420のカウント値が設定制御マシン220より与えられた設定値に達したとき、基準クロックカウンタ420はカウント停止信号を設定制御マシン220に出力する。これを受け、設定制御マシン220はリングオシレータカウンタ410にカウント停止信号を出力し、リングオシレータカウントを停止する。そのカウント値Cを保持し計測を終了する。
ステップS4:リングオシレータカウンタ410に保持されたカウント値Cとカウンタレジスタ500に保持されたカウント値CN−1を期待値生成回路600に読み出し、期待値生成回路600では線形性期待値EN+1を生成するとともに、線形性判定範囲を確定する。
図3に線形性評価判定の概略説明図を示す。図3の横軸は時刻、縦軸はリングオシレータカウンタ410のカウント値である。CとCN−1の差分をΔとすると、時刻PN+1でのカウンタ値の期待値EN+1はC+Δで示される。時刻PN+1で可変遅延回路100の出力が線形性を満たしていると認められる線形性判定範囲は、設定制御マシン220より与えられた線形性許容範囲Rを用いて以下のように与えられる。時刻PN+1での線形性判定範囲の上限値をLuN+1、下限値をLlN+1とすると、
uN+1=EN+1+R
lN+1=EN+1−R
となり、この値を線形性期待値第一レジスタ730に保存する。
ステップS5:カウンタレジスタ500に保持されているカウント値CN−1を単調性期待値レジスタ710に読込み、単調性評価に使用する期待値とする。
ステップS6:単調性期待値レジスタ710に保持されるカウント値CN−1とリングオシレータカウンタ410に保持されるカウント値Cとを比較回路800で比較する。CN−1<Cであれば、単調増加していると判定する。比較終了後、テスト結果はテスト結果レジスタ900に保存される。単調増加と判定されれば次の線形性評価のステップに進み、NGであればその結果を出力して終了する(S11)。
ステップS7:線形性期待値第二レジスタ720に保持される線形性判定範囲の上限値LuNおよび下限値LlNとリングオシレータカウンタ410に保持されるカウント値Cとを比較回路800に読み出し、LlN<C<LuNであれば、規定線形範囲内であると判定する。線形性比較がOKであればパラメータが最終であるか確認を行い、NGであればその結果を出力して終了する(S11)。
ステップS8:制御パラメータが最終であれば結果を出力して終了し(S11)、最終でなければリングオシレータカウンタ410のカウント値Cをカウンタレジスタ500に保存し、線形性期待値第一レジスタ730に保存してある期待値(EN+1、LuN+1、LlN+1)を線形性期待値第二レジスタ720に保存する(S9)。保存後、時刻パラメータをNから(N+1)として(S10)、計測を継続する。
図4は可変遅延回路100が複数存在する場合の構成例である。図1と共通の機能を有するブロックは同じ符号で表記している。また、図では2つの可変遅延回路が存在し、第1の可変遅延回路100aに関連するブロック・信号には符号aを、第2の可変遅延回路100bに関連するブロック・信号には符号bを付して示し、詳細な説明は省略する。このように、複数の可変遅延回路100に対して、可変遅延回路に対応するにテスト切替回路310、周波数測定回路400等を用意することで複数の可変遅延回路のテストを同時に行なうことができる。これによりテスト時間の短縮が可能となる。
特に、図4の構成では、第1の可変遅延回路100aと第2の可変遅延回路100bとの間にインバータ1000を入れて連結することで、2つの可変遅延回路を使ってリングオシレータを構成することが可能となっている。テスト切り替え回路310のセレクタは3つの入力を切り替える。通常動作時は入力in1に入力されるクロック信号SIGを入力する。複数の可変遅延回路を個別にテストする場合は、セレクタは入力in2を選択する。この場合は、それぞれの可変遅延回路は図1の例と同様にテストされる。セレクタが入力in3を選択すると、可変遅延回路100a、インバータ1000、テスト切り替え回路310b、可変遅延回路100b、テスト切り替え回路310aというループ経路が形成されることで2つの可変遅延回路100a,bを用いたリングオシレータが形成される。
可変遅延回路の遅延量が小さい場合、リングオシレータの発振周波数が高くなることでテストが困難になる。図4のように、複数の可変遅延回路でリングオシレータを形成することで、個別の可変遅延回路の遅延量が小さい場合であってもリングオシレータの発振周波数を抑え、テストの精度を高める。さらに、第1の可変遅延回路の遅延量と第2の可変遅延回路の遅延量とを相補に変化させると、連結したリングオシレータの発振周波数が一定となるので、周波数依存性の影響を排除でき、テスト精度をさらに高めることができる。
実施例2では、遅延量制御回路150のテスト回路及びテスト方法について説明する。図5の構成では、DACによって遅延量を制御する。制御DAC2100は複数の単位電流源M1〜M3を持つ。制御DACは制御信号DC1〜DC3によりトランジスタM4〜M6の導通/非導通を切り替える。これにより、制御DAC制御信号DCに応じて流れる電流Iをミラー回路MR1により電流−電圧変換し、電流Iに応じた電圧を可変遅延回路100に印加することによりその遅延量を制御する。なお、制御DAC2100の単位電流源の数はいうまでもなく、3に限られるものではなく、また、電流Iを倍数化するよう、各単位電流源のゲート幅Wを調整することもできる。本実施例では、制御DAC2100が全ビット動作していることを制御DACの出力電流を利用してテストする。全ビットが正常に動作しているとは、各トランジスタM4〜M6の導通/非導通が正しく行われること、各単位電流源M1〜M3に流れる電流が設計値の範囲に収まっていることの両方を満たすことをいう。
このように、遅延制御回路内の可変遅延パラメータ全点のテストを行うのではなく、単位電流源ごとのテストを行うことで、テスト数を可変遅延パラメータ全点数から遅延量制御回路内の単位電流源数までテスト数を削減することができ、テスト時間を短縮できる。また、可変遅延回路の遅延量変化に対しても、単位電流源の電流量の大小関係を直接的にテストできるので測定精度の向上が可能である。
遅延量制御回路150のテスト回路には、レプリカDAC2200とウィンドウコンパレータ2300から構成される。
レプリカDAC2200も複数の単位電流源M11〜M13を持つ。レプリカDAC制御信号RDC1〜RDC3によりトランジスタM14〜M16の導通/非導通を切り替える。制御量DAC2100とレプリカDAC2200の各単位電流源には共通の基準電圧がそのゲートに印加されている。なお、レプリカDAC2200は制御DAC2100のテストに必要とされる電流Iを流すことができればよく、制御DAC2100とレプリカDAC2200とは同じ構成である必要はない。むしろ、レプリカDAC2200は同一LSI内に搭載されるため、オーバーヘッドを減らすためにもできるだけ小さい規模のDACとすることが望ましい。
また、ウィンドウコンパレータ2300は、ウィンドウ幅調整回路2310と判定回路(この例ではOR回路)2320とを含む。
ウィンドウ幅調整回路2310はウィンドウ幅設定信号WS1、WS2によって制御される。制御DAC2100の出力電流Iをカレントミラー回路により同等の電流を引き出し、この電流に対しサイズ調整されたトランジスタM21、M22により出力電流Iを調整する。
一例を示す。トランジスタM21のゲート幅がwのときにトランジスタM21のソース・ドレイン経路に電流Iがミラーされるとする。この場合において、トランジスタM21のゲート幅=0.8w、トランジスタM22のゲート幅=0.4wとする。このとき、トランジスタM21、M22の双方を導通させれば出力電流I=1.2Iが得られ、トランジスタM21を導通させ、トランジスタM22を非導通とすれば出力電流I=0.8Iが得られる。
判定回路2320は制御DAC2100の出力電流をウィンドウ調整回路2310で調整した電流とレプリカDAC2200の出力電流との大小関係を判定するものである。
なお、ウィンドウ幅設定信号WS、制御DAC制御信号DC、レプリカDAC制御信号RDC、テストイネーブルTEは外部(テスタ)から入力される。
ウィンドウコンパレータ2300の判定原理について図6と図7を用いて説明する。制御DAC2100の単位電流源M1を例に説明する。トランジスタM4を導通、トランジスタM5,M6を非導通としたときに単位電流源M1に電流I(実測値)が流れるとする。
このとき、図6に示すように、単位電流源M1に流れる電流Iは、設計値IDIを中心としてばらつきが生じるため、
b・IDI<I(実測値)<a・IDI(a>1、0<b<1)・・・(1)
式(1)の範囲であれば、正常動作とみなすものとする。図5の構成では、電流I(実測値)が所定の正常範囲に入ることを次のように判定する。
[上限の判定]
図6に示すように、
・I<a・IDI(a>k>1)・・・(2)
式(2)であれば上限を満たすものとする。説明を単純にするため、レプリカDACの出力電流I=IDIと仮定する。例えば、制御DACの単位電流源M1とレプリカDACの単位電流源M11とを同じサイズのトランジスタとして作製すればこの仮定を満たす。
したがって、式(2)は、
・I<a・I(a>k>1)・・・(3)
と置き換えられる。さらにこの式は、
(k/a)・I=K・I<I(K<1)・・・(4)
と変形される。そのため、ウィンドウ幅調整回路2310のパラメータが出力電流I=K・Iとなっていれば、
<I・・・(5)
式(5)の関係を満たしているときに、上限を満たすものと判定できる。
[下限の判定]
図6に示すように、
b・IDI<k・I’(1>k>b>0)・・・(6)
式(6)であれば上限を満たすものとする。同様に、レプリカDACの出力電流I=IDIと仮定すると、式(6)は、
b・I<k・I’(1>k>b>0)・・・(7)
と置き換えられる。さらにこの式は、
<(k/b)・I’=K・I’(K>1)・・・(8)
と変形される。そのため、ウィンドウ幅調整回路2310のパラメータが出力電流I’=K・I’となっていれば、
<I’・・・(9)
式(9)の関係を満たしているときに、下限を満たすものと判定できる。
図7にウィンドウコンパレータ2300内の電流・電圧関係を示す。上限の判定においては、制御DAC2100の出力電流Iをウィンドウ幅調整回路2310にて電流が小さくなるように調整した電流IとレプリカDAC2200の出力電流Iは電流Iで平衡状態となる。このときのノードVでの電圧をVとする。また、下限の判定においては、制御DAC2100の出力電流I’をウィンドウ幅調整回路2310にて電流が大きくなるように調整した電流I’とレプリカDAC2200の出力電流Iは電流I’で平衡状態となる。このときのノードVでの電圧をVとする。
判定回路2300では、レプリカDACの出力電流Iと、上限対応の電流I及び下限対応の電流I’とが図7に示す関係にあることを判定する。判定回路2300のOR回路は、テストイネーブルTEがLowとなっていればインバータとして機能し、ノードVに表れる電圧とOR回路の論理しきい値VTHとを比較する。電流I、I、I’とが図7に示されるような関係にある場合には、
上限判定では、V=V<VTHとなるため判定結果はLow
下限判定では、V=V>VTHとなるため判定結果はHigh
となる。上限、下限判定においてそれぞれ上記の判定結果が表れた場合に、制御DAC2100の単位電流源M1は正常動作すると判定する。これで、単位電流源M1の判定は完了し、次の単位電流源M2の判定に移る。このように、制御DACのテストをデジタル判定とするため一般的なLSIテストのロジックテストとインターフェースの共通化が可能にできるという効果も有する。
図8は同一LSI内に存在する遅延量制御回路の制御DACを異なる遅延量制御回路のレプリカDACとして用いる構成例である。図8の例では、可変遅延回路100a用のレプリカDACとして可変遅延回路100b用の制御DAC2100bを、可変遅延回路100b用のレプリカDACとして可変遅延回路100b用の制御DAC2100cを、可変遅延回路100c用のレプリカDACとして可変遅延回路100a用の制御DAC2100aを用いている。ここで、各制御DAC2100は同一構成を有しているものとする。ウィンドウコンパレータ6100は、ウィンドウ幅調整回路6110、判定回路6130の他、スイッチ回路6130を含む。ウィンドウ幅調整回路6110は、極性は異なるが、図5のウィンドウ幅調整回路と同様に機能する。スイッチ回路6130は、テスト動作時(テストイネーブルTEがlow)には導通してウィンドウ幅調整回路6110が動作し、通常動作時(テストイネーブルTEがhigh)には非導通となってウィンドウ幅調整回路6110が動作しなくなる。
制御DAC2100aの単位電流源をテストするには、制御DAC2100aに流れる電流をウィンドウ幅調整回路6110aで上限/下限判定用に調整した電流量と制御DAC2100c(レプリカDAC)に流れる電流量とで決まるノードVC1の電位を判定回路6120aで判定する。制御DAC2100bの単位電流源をテストするには、制御DAC2100bに流れる電流をウィンドウ幅調整回路6110bで上限/下限判定用に調整した電流量と制御DAC2100a(レプリカDAC)に流れる電流量とで決まるノードVC2の電位を判定回路6120bで判定する。制御DAC2100cの単位電流源をテストするには、制御DAC2100cに流れる電流をウィンドウ幅調整回路6110cで上限/下限判定用に調整した電流量と制御DAC2100b(レプリカDAC)に流れる電流量とで決まるノードVC3の電位を判定回路6120cで判定する。単位電流源M61、M71、M81をテストする場合を例に説明する。制御信号DC3_a,b,cをhighとすることによりトランジスタM62、M72、M82を導通させる。他の制御信号DC1、DC2はlowとしておくと、各制御DAC2100a〜cにはそれぞれ単位電流源M61、M71、M81に応じた電流が流れる。このように、各制御DAC2100の各単位電流源をテストする。
このように同一構成の制御DACをレプリカDACに見立てて利用することにより、テスト回路の面積オーバーヘッドの増加を抑止することができる。なお、図8の例では、制御DACが3つの例であるがこの数に限定されるものではない。
図9は複数の可変遅延回路の判定結果をまとめて出力し、一括してテスト結果の良否を判定する構成例である。図9では、一つの可変遅延回路100に対応する遅延量制御回路150、そのテスト回路をあわせて一つのテストユニットと称する。
この例では複数のテストユニット4000のウィンドウコンパレータ2300からの判定結果が入力されるAND回路4400、OR回路4500、セレクタ4600とAND回路4400出力、OR回路4500出力、セレクタ4600O出力を選択するセレクタ4700で構成される。
図7に関連して説明したように、単位電流源の上限判定ではウィンドウコンパレータ2300の出力はLow、単位電流源の下限判定ではウィンドウコンパレータ2300の出力はHighが正常動作である場合の期待値である。単位電流源の上限判定ではセレクタ4700はOR回路4500を選択する。テストユニットからの判定結果に一つでもHigh出力が存在すれば、出力結果がHighとなるため、期待値から外れているテストユニットが存在することが判定できる。一方、単位電流源の下限判定ではセレクタ4700はAND回路4400を選択する。テストユニットからの判定結果に一つでもLow出力が存在すれば、出力結果がLowとなるため、期待値から外れているテストユニットが存在することが判定できる。
セレクタ4600は、セレクタ4700からの統合判定結果が期待値通りに出ていなかったときのデバックモードとして、各テストユニットからの判定結果を個別に出力するときに用いる。
なお、テストユニットの数はいうまでもなく4に限定されるものではなく、また各テストユニットの構成も図5の構成でも、図8の構成でもよい。
図10はテスト精度を高めるための構成例で、電流スイッチを利用する。MOSトランジスタは微細化するにつれ製造ばらつきが大きくなるため、その特性にばらつきが出る。このばらつきはMOSトランジスタのゲート長(Lg)を大きくすることで影響を小さくできる。通常動作時に可変遅延回路100に制御電圧を供給する電流源5100を構成するトランジスタM31は可変遅延回路100のトランジスタにあわせた微細化MOSトランジスタで構成される。これは、電流比較時の感度を良くするために飽和領域での電流変化が小さいことが望まれるためである。そのため、可変遅延回路100を構成するMOSトランジスタと同一のゲート長で構成される。なお、図5においては、電源NMOS(レプリカDAC2200のトランジスタM11,M12,M13)と電源PMOS(ウィンドウ幅調整回路2310のトランジスタM23,M24,M25)がこれに相当する。一方、MOSトランジスタは微細化するにつれ飽和領域での電流変化が大きくなるが、ウィンドウコンパレータ2300のMOSトランジスタとしては飽和領域での電流変化が小さい方が望ましいため、感度が悪くなってしまうおそれがある。そこで、テスト時には、通常動作に使用される制御DAC2100の出力を受ける電流源5100のMOSトランジスタM31よりもサイズの大きい、すなわちゲート長(Lg)の大きい電流源M32をテスト時に用いることで特性の良い電源を利用し判定回路の判定精度を向上する。
図10の構成は、レプリカDAC2200の出力電流をウィンドウコンパレータ5200のウィンドウ幅調整回路5210で上限判定と下限判定とで切り替えるようになっている点で図5の構成と異なるが、図6、図7の説明と同じ原理で単位電流源の正常動作を判定することができる。
本構成例ではテストイネーブルTEを受ける電流スイッチ回路が設けられている。通常動作時、すなわち、テストイネーブルTEがHighの場合には、トランジスタM43、M44が導通し、遅延量制御信号DCに応じた遅延制御信号が出力される。その一方、トランジスタM41、M42は非導通とされる。
テスト時にはテストイネーブルTEがLowとされ、トランジスタM43、M44が非導通となり、トランジスタM41、M42が導通される。これによりレプリカDAC2200のミラー出力電流IRMをウィンドウ幅調整回路5210で切り替えて得られる出力電流Iと制御DAC2100のミラー出力電流IDMとの大小関係で決まるノードVの電圧を判定回路5220で判定し、判定結果を出力する。
以上、発明者によりなされた発明を実施例に基づいて説明したが、本発明はそれに限定されるものではなく、要旨を脱しない範囲において変更可能であることは言うまでもない。図11に、可変遅延回路100と遅延量制御回路150の回路構成例を示す。遅延量制御回路150は、遅延素子6000と基準電位との間に設けられるNMOSトランジスタM51、遅延素子6000と電源電位との間に設けられるPMOSトランジスタM52のオン抵抗を制御することによって可変遅延回路100の遅延量を制御する。
また、可変遅延回路を有する場合、DACを有する場合のそれぞれのみならず、可変遅延回路とDACの双方を有する回路に対して適用可能である。また、可変遅延回路の出力がそのまま出力されるとは限らず、第1の可変遅延回路により粗調整したクロック信号を第2の可変遅延回路により微調整して出力するといった様々な形態がありうる。さらに、実施例で説明したテスト回路が適用可能なDACは遅延量制御回路用途のDACに限定されないことももちろんである。
100:可変遅延回路、150:遅延量制御回路、200:ステートマシン、400:周波数測定回路、500:カウンタレジスタ、600:期待値生成回路、700:期待値レジスタ、800:比較回路、900:テスト結果レジスタ。

Claims (9)

  1. 第1可変遅延回路と、
    デジタル信号を電流量に変換する第1デジタルアナログ変換回路を含み、上記電流量に応じた電圧により上記第1可変遅延回路の遅延量を制御する第1遅延量制御回路と、
    上記第1遅延量制御回路の第1テスト回路とを有し、
    上記第1デジタルアナログ変換回路は、デジタル信号の値に応じて選択される複数の単位電流源を有し、
    上記第1テスト回路は、上記複数の単位電流源の各々について、上記単位電流源に流れる電流値が所定の範囲内であることを判定することにより、上記第1遅延量制御回路の正常/異常を判定するものであり、
    第2可変遅延回路と、
    デジタル信号を電流量に変換する第2デジタルアナログ変換回路を含み、上記電流量に応じた電圧により上記第2可変遅延回路の遅延量を制御する第2遅延量制御回路と、
    上記第2遅延量制御回路の第2テスト回路とを有し、
    上記第2デジタルアナログ変換回路は、デジタル信号の値に応じて選択される複数の単位電流源を有し、
    上記第2テスト回路は、上記複数の単位電流源の各々について、上記単位電流源に流れる電流値が所定の範囲内であることを判定することにより、上記第2遅延量制御回路の正常/異常を判定するものであり、
    上記第1テスト回路は、上記第2デジタルアナログ変換回路の電流量を所定量増加または減少させる電流調整回路を有し、
    上記第1デジタルアナログ変換回路に流れる電流量と上記第2デジタルアナログ変換回路に流れる電流量を上記電流調整回路により所定量増加させた第1電流量及び上記第2デジタルアナログ変換回路に流れる電流量を上記電流調整回路により所定量減少させた第2電流量とを比較することにより、上記単位電流源に流れる電流値が所定の範囲内であることを判定する半導体集積回路。
  2. 請求項1において、
    上記第1遅延量制御回路の判定結果と上記第2遅延量制御回路の判定結果とを統合して出力する半導体集積回路。
  3. 請求項1において、
    上記第1テスト回路は、上記第1デジタルアナログ変換回路の電流量を所定量増加または減少させる電流調整回路を有し、
    上記第2デジタルアナログ変換回路に流れる電流量と上記第1デジタルアナログ変換回路に流れる電流量を上記電流調整回路により所定量増加させた第1電流量及び上記第1デジタルアナログ変換回路に流れる電流量を上記電流調整回路により所定量減少させた第2電流量とを比較することにより、上記単位電流源に流れる電流値が所定の範囲内であることを判定する半導体集積回路。
  4. 請求項1において、
    上記第1テスト回路は、デジタル信号を電流量に変換する第3デジタルアナログ変換回路と、上記第3デジタルアナログ変換回路の電流量を所定量増加または減少させる電流調整回路とを有し、
    上記第1デジタルアナログ変換回路に流れる電流量と上記第3デジタルアナログ変換回路に流れる電流量を上記電流調整回路により所定量増加させた第1電流量及び上記第2デジタルアナログ変換回路に流れる電流量を上記電流調整回路により所定量減少させた第2電流量とを比較することにより、上記単位電流源に流れる電流値が所定の範囲内であることを判定する半導体集積回路。
  5. 請求項1において、
    上記第1テスト回路は、デジタル信号を電流量に変換する第3デジタルアナログ変換回路と、上記第1デジタルアナログ変換回路の電流量を所定量増加または減少させる電流調整回路とを有し、
    上記第3デジタルアナログ変換回路に流れる電流量と上記第1デジタルアナログ変換回路に流れる電流量を上記電流調整回路により所定量増加させた第1電流量及び上記第1デジタルアナログ変換回路に流れる電流量を上記電流調整回路により所定量減少させた第2電流量とを比較することにより、上記単位電流源に流れる電流値が所定の範囲内であることを判定する半導体集積回路。
  6. 入力されるデジタル信号に応じて第1電流が流れる第1デジタルアナログ変換回路と、
    上記第1デジタルアナログ変換回路に流れる電流値に応じた電圧を発生させる第1電流源と、
    上記電圧により制御される被制御回路と、
    入力されるデジタル信号に応じて第2電流が流れる第2デジタルアナログ変換回路と、
    入力される電流を所定量増加または減少させて第3電流が流れる電流調整回路と、
    上記第1電流が上記電流調整回路に入力される場合には上記第2電流と上記第3電流とを比較し、上記第2電流が上記電流調整回路に入力される場合には上記第1電流と上記第3電流とを比較する比較回路とを有する半導体集積回路。
  7. 請求項6において、
    上記第2デジタルアナログ変換回路に流れる電流値に応じた電圧を発生させる第2電流源と、
    上記第1デジタルアナログ変換回路に流れる電流値に応じた電流を上記第1電流源に流す第1電流経路及び上記第2デジタルアナログ変換回路に流れる電流値に応じた電流を上記第2電流源に流す第2電流経路に設けられる電流スイッチ回路とを有し、
    上記電流調整回路は、上記第2電流源で発生される電圧が入力される半導体集積回路。
  8. 請求項7において、
    通常動作時は、上記電流スイッチ回路により上記第1電流経路が導通し、上記第2電流経路は非導通とされ、テスト動作時は上記電流スイッチ回路により上記第1電流経路が非導通とされ、上記第2電流経路が導通される半導体集積回路。
  9. 請求項8において、
    上記第2電流源を構成するトランジスタのゲート長は、上記第1電流源を構成するトランジスタのゲート長よりも大きい半導体集積回路。
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