JP5611721B2 - 指示体検出装置、位置検出センサおよび位置検出センサの製造方法 - Google Patents

指示体検出装置、位置検出センサおよび位置検出センサの製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、表示画面の表面に搭載されて指示体の位置検出を行うようにした指示体検出装置、位置検出センサおよび位置検出センサの製造方法に関する。
従来から、液晶表示装置の表示画面表面に配置されて、利用者の指などで触れたときにその位置を検出することで、表示された指示画像に対応する情報の入力を行うようにした静電容量型入力装置が知られている(例えば、特許文献1参照。)。この静電容量型入力装置では、透光性基板の表面に互いに交差する透光性電極パターンが形成されており、その表面に利用者の指が触れたときに生じる静電容量の変化に基づいて指の位置が検出される。
特開2009−259203号公報(第5−15頁、図1−11)
上述した特許文献1に開示された静電容量型入力装置では、表示画面の表示領域の端部においてもそれ以外の領域と同様に位置検出を行おうとすると、表示領域よりも広い領域に透光性電極パターンを形成する必要がある。例えば、指が接触した領域の中心位置が表示領域(透過領域)の端部に位置する場合に、この中心位置を正確に検出しようとすると、指が接触した領域全体を検出する必要があるが、このためには透過領域に隣接する非透過領域まで透光性電極パターンを延長することになる。
ところで、このようにして非透過領域まで透光性電極パターンを延長した場合には、金属に比べて抵抗値が大きい透光性電極パターンの長さが長くなるため、信号の伝送特性が劣化するという問題があった。特に、透光性電極パターンとして一般に用いられるITO(Indium Tin Oxide、酸化インジウムスズ)膜は、アルミニウムやモリブデンなどの金属と比べて抵抗値が高いため、伝送特性の劣化が顕著になる。
本発明は、このような点に鑑みて創作されたものであり、その目的は、透過領域の端部を含む領域において位置検出を行う場合に、検出用の導体における信号の伝送特性を向上させることができる指示体検出装置、位置検出センサおよび位置検出センサの製造方法を提供することにある。
上述した課題を解決するために、本発明の指示体検出装置は、情報を表示するための表示領域を備えた表示装置の表示領域に対向配置され、表示領域に対応する透過領域とその周囲に配置された非透過領域とを含む検出領域において指示体が指示する位置を検出するための位置検出センサを有し、位置検出センサから得られる信号に基づいて指示体が指示する位置を検出する指示体検出装置であって、位置検出センサは、表示領域に対応する領域が透光性を有する基材と、基材の一面側に第1の方向に配設された複数の電極および第1の方向に対して交差する第2の方向に配設された複数の電極とを備え、位置検出センサの第1の方向に配設された複数の電極のそれぞれは、第2の方向に配設された複数の電極と交差する位置に形成された間隙によって分離された複数の導体片と、第2の方向に配置された複数の電極と交差する位置で第2の方向に配設された複数の電極との絶縁性を確保しつつ前記間隙を挟んで隣接配置された2つの導体片を連結するための複数の電極よりも抵抗値の低い第1の導電材とからなり、位置検出センサの非透過領域に、第1の導電材と同じ材料からなる第2の導電材が基材の一面側に配設された複数の電極重畳して配設される。
位置検出センサの非透過検出領域において、第1の導電材と同じ材料からなる第2の導電材が基材の一面側に配設された複数の電極に重畳して配設されるため、この区間に対応する抵抗が低くなり、この区間を含む電極全体の抵抗も低くなるため、信号の伝送特性を向上させることができる。
また、上述した位置検出センサに配設された第2の導電材は、基材の一面側に配設された複数の電極のうち、少なくとも送信信号が伝送される電極に配設されることが望ましい。送信信号が供給される電極だけでなく、受信信号が伝送される電極についても、同様にその一端部に導電材を配設することにより、さらに信号の伝送特性を向上させることができる。
また、上述した位置検出センサに配設された第2の導電材は、第1の導電材のうち、透過領域以外の検出領域で電極が交差する位置において第2の方向に配置された複数の電極との絶縁性を確保しつつ間隙を挟んで隣接配置された2つ導体片を連結する第1の導電材と一体形成されることが望ましい。これにより、導体片間を接続する第1の導電材を延長して、電極に重畳して配設される第2の導電材を形成することができるため、製造工程の簡略化が可能となる。
また、上述した位置検出センサは、非透過領域に、電極を連結するための第1の導電材と同じ材料からなる第2の導電材が、基板の一面側に配設された複数の電極のうち、少なくとも送信信号が伝送される電極に重畳して配設されることが望ましい。
本発明の位置検出センサは、情報を表示するための表示領域を備えた表示装置の前記表示領域に対向配置され、表示領域に対応する透過領域とその周囲に配置された非透過領域とを含む検出領域において指示体が指示する位置を検出するための位置検出センサであって、少なくとも透過領域が透光性を有する基材と、基材の一面側に第1の方向に配設された複数の電極および第1の方向に対して交差する第2の方向に配設された複数の電極とを備え、第1の方向に配設された複数の電極のそれぞれは、第2の方向に配設された複数の電極と交差する位置に形成された間隙によって分離された複数の導体片と、第2の方向に配置された複数の電極と交差する位置で第2の方向に配設された複数の電極との絶縁性を確保しつつ間隙を挟んで隣接配置された2つの導体片を連結するための複数の電極よりも抵抗値の低い第1の導電材とからなり、基材の非透過領域に電極を連結するための第1の導電材と同じ材料からなる第2の導電材が基材の一面側に配設された電極重畳して配設される。
電極を連結する第1の導電材と同じ第2の導電材を電極に重畳して配設することにより、この第2の導電材が配設された区間に対応する抵抗が低くなり、この区間を含む電極全体の抵抗も低くなるため、信号の伝送特性を向上させることができる。
また、本発明の位置検出センサの製造方法は、情報を表示するための表示領域を備えた表示装置に対向配置されて表示領域に対応する透過領域とその周囲に配置された非透過領域とを含む検出領域において指示体が指示する位置を検出する指示体検出装置に用いられる位置検出センサの製造方法であって、少なくとも透過領域が透光性を有する基材の一面側に、第1の方向に配設された透光性を有する複数の電極と第1の方向に対し交差する第2の方向に配設された透光性を有する複数の電極とを形成するとともに、第1の方向に配設された複数の電極と第2の方向に配設された複数の電極とが交差する位置において、一の方向に配設された一の電極を、他の方向に配設された一の電極と電気的に分離された複数の導体片に形成する工程と、第1の方向に配設された複数の電極と第2の方向に配設された複数の電極とが交差する位置に絶縁体を配設する工程と、第1の方向に配設された複数の電極と第2の方向に配設された複数の電極とが交差する位置に、分離されて形成された複数の導体片同士を連結するための第1の導電材を絶縁体に重ねて配設するとともに、基材の非透過領域において一の方向に配設された電極に第1の導電材と同じ材料からなる第2の導電材を重畳して配設する工程とを有する。
このようにして製造された位置検出センサでは、電極を連結する第1の導電材と同じ第2の導電材を電極に重畳して配設することにより、この第2の導電材が配設された区間に対応する抵抗が低くなり、この区間を含む電極全体の抵抗も低くなるため、信号の伝送特性を向上させることができる。また、導体片間を接続する第1の導電材を延長して、電極の一端部に配設する第2の導電材を形成することができるため、製造工程の簡略化が可能となる。
一実施形態の指示体検出装置の概略的な外観形状を示す図である。 位置検出センサの全体構成を示す図である。 センサ部の断面図である。 多周波信号供給回路の詳細構成を示す図である。 送信導体選択回路の詳細構成を示す図である。 受信導体選択回路および増幅回路の詳細構成を示す図である。 信号検出回路によって検出される信号レベルの説明図である。 センサ部の外周近傍における送信導体と受信導体の詳細を示す部分的な平面図である。 透過領域に含まれる1本の送信導体とこれに交差する受信導体の詳細を示す部分的な拡大図である。 透過領域における送信導体の長手方向に沿った断面図である。 非透過領域に含まれる1本の送信導体とこれに交差する受信導体の詳細を示す部分的な拡大図である。 非透過領域における送信導体の長手方向に沿った断面図である。 位置検出センサの製造工程を示す図である。
以下、本発明を適用した一実施形態の指示体検出装置について、図面を参照しながら説明する。
図1は、一実施形態の指示体検出装置の概略的な外観形状を示す図である。本実施形態の指示体検出装置は、情報を表示するための表示領域を備えたLCD(Liquid Crystal Display)等の表示装置200と、その表示面に対向配置されて、利用者の指等によって構成される指示体300の指示位置を検出する位置検出センサ100とを含んで構成されている。なお、「指示体」には、先端部に導電体を備え、人体を通して対地接続される経路にて指検出と同じ原理で静電界を吸い上げることにより検出するペンや、ペン自体から信号を送信するペンも含まれる。
図1において、位置検出センサ100は、重ねて配置された表示装置200の表示領域を透過して見ることができる透過領域110を有する。また、この透過領域110よりも所定幅だけ広い面積を有する検出領域112が設定されている。検出領域112は、指示体300で指し示すことによりその指示位置を検出することができる領域である。
図2は、位置検出センサ100の全体構成を示す図である。図2に示すように、位置検出センサ100は、センサ部10、送信部20、受信部30、制御回路40を備えている。センサ部10は、所定方向(第1の方向)に等間隔で配置された複数の透明導体である送信導体11からなる送信導体群12(第1の導体パターン)と、複数の送信導体11の配列方向と直交する向き(第2の方向)に等間隔で配置された複数の透明導体である受信導体13からなる受信導体群14(第2の導体パターン)とからなる導体パターンを備える。
図3は、センサ部10の断面図であり、1本の送信導体11に沿った部分的な横断面が示されている。センサ10においては、透明基板である第1ガラス基板15の表面に送信導体11と受信導体13の両方が形成されており、さらにその表面にスペーサ16を介して透明基板である第2ガラス基板17が配置されている。また、図3に示すように、送信導体11は、長手方向(延在する向き)に、受信導体13が配置される位置に形成された間隙によって複数の導体片11Aに分割されている。また、受信導体13を跨ぐように金属ジャンパ線18が形成されており、隣接する2つの導体片11Aがこの金属ジャンパ線18を介して電気的に接続されている。金属ジャンパ線18が、送信導体11や受信導体13よりも抵抗値が低い第1の導電材に対応する。
送信導体11および受信導体13は、平板形状を有しており、例えばITO膜からなる透明電極膜を用いて形成される。本実施形態では、送信導体11は、所定間隔で例えば64本が垂直方向(Y方向)に並んでいる。また、受信導体13は、所定間隔で128本が水平方向(X方向)に並んでいる。図2において、Y0〜Y63は64本の送信導体11のそれぞれに対応しており、Y0〜Y63の順番で送信導体11が並んでいる。また、X0〜X127は128本の受信導体13のそれぞれに対応しており、X0〜X127の順番で受信導体13が並んでいる。
スペーサ16は、絶縁体であって、例えばOCA(Optical Clear Adhesive、高透明性接着剤転写テープ)、PVB(PolyVinyl Butyral)、EVA(Ethylene Vinyl Acetate)やシリコンラバー等を用いて形成される。第1および第2ガラス基板15、17は、代わりに合成樹脂等からなるシート状(フィルム状)基材を用いるようにしてもよい。
図2に示す送信部20は、クロック発生回路21、多周波信号供給回路22、送信導体選択回路23を含んで構成されている。クロック発生回路21は、所定周波数の基準信号を生成する。多周波信号供給回路22は、クロック発生回路21から出力される基準信号を用いて、例えば16種類の周波数f0、f1、・・・、f15の信号を生成し、これらの信号を並行して出力する。なお、図2では、送信導体選択回路23が各送信導体11の右端に接続されているが、実際には各送信導体11の右端と左端の両方が送信導体選択回路23に接続されており、1本の送信導体11に対して両端部から信号が入力されている。
図4は、多周波信号供給回路22の詳細構成を示す図である。多周波信号供給回路22は、16種類の周波数f0、f1、・・・、f15の信号を別々に発生する16個の信号生成部22−0、22−1、・・・、22−15を備えている。各信号生成部22−0〜22−15は、クロック発生回路21から出力される基準信号に基づいて周波数f0〜f15の信号を生成する。例えば、各信号生成部22−0〜22−15は、クロック発生回路21から出力される基準信号を分周あるいは逓倍して所定周波数の信号を生成する。あるいは、各信号生成部22−0〜22−15は、互いに周期が異なる正弦波の波形データを保持する波形データROMを有しており、クロック発生回路21から出力される基準信号に同期してこの波形データを読み出すことにより、周波数f0〜f15の正弦波信号を生成する。
送信導体選択回路23は、多周波信号供給回路22から並行して出力される16個の信号の供給先となる送信導体11を選択するとともに、選択先となる送信導体11を順番に切り替える。
図5は、送信導体選択回路23の詳細構成を示す図である。送信導体選択回路23は、16種類の周波数f0、f1、・・・、f15の信号が別々に入力される16個の切替スイッチ23−0、23−1、・・・、23−15を備えている。本実施形態では、64本の送信導体11は、16のブロックB0〜B15に分割されてグループ分け(区分け)が行われている。
ブロックB0にはY0〜Y3で示される互いに隣接配置された4本の送信導体11が含まれる。切替スイッチ23−0は、信号生成部22−0から出力される周波数f0の信号の供給先となる送信導体11を、Y3、Y2、Y1、Y0の順番で所定の時間間隔で繰り返し切り替える。なお、図5では、切替スイッチ23−0〜23−15内において図示された矢印によって送信導体11の切替方向が示されている。
ブロックB1にはY4〜Y7で示される互いに隣接配置された4本の送信導体11が含まれる。切替スイッチ23−1は、信号生成部22−1から出力される周波数f1の信号の供給先となる送信導体11を、Y4、Y5、Y6、Y7の順番で所定の時間間隔で繰り返し切り替える。
他のブロックB2〜B15および切替スイッチ23−2〜23−15についても同様であり、切替スイッチ23−2〜23−15のそれぞれは、対応する信号生成部22−2〜22−15から出力される信号の供給先となる送信導体11を所定の順番および時間間隔で繰り返し切り替える。
図2に示す受信部30は、受信導体選択回路31、増幅回路32、アナログ−デジタル変換回路(A/D)33、信号検出回路34、位置算出回路35を含んで構成されている。
図6は、受信導体選択回路31および増幅回路32の詳細構成を示す図である。受信導体選択回路31は、対応する8本の受信導体13を順番に切り替える16個の切替スイッチ31−0、31−1、・・・、31−15を備えている。本実施形態では、128本の受信導体13は、16のブロックD0〜D15に分割されてグループ分け(区分け)されている。また、隣接する2つのブロックの一方が第1の導体群に、他方が第2の導体群にそれぞれ対応する。
ブロックD0には、X0〜X7で示される互いに隣接配置された8本の受信導体13が含まれる。切替スイッチ31−0は、これら8本の受信導体13の中から1本を選択するとともに、X0、X1、X2、X3、X4、X5、X6、X7の順番で所定の時間間隔で繰り返しこの選択状態を切り替える。なお、図6では、切替スイッチ31−0〜31−15内において図示された矢印によって受信導体13の切替方向が示されている。
ブロックD1には、X8〜X15で示される互いに隣接配置された8本の受信導体13が含まれる。切替スイッチ31−1は、これら8本の受信導体13の中から1本を選択するとともに、X15、X14、X13、X12、X11、X10、X9、X8の順番で所定の時間間隔で繰り返しこの選択状態を切り替える。
他のブロックD2〜D15および切替スイッチ31−2〜31−15についても同様であり、切替スイッチ31−2〜31−15のそれぞれは、対応するブロックD2〜D15に含まれる互いに隣接配置された8本の受信導体13の中から1本を選択するとともに、所定の順番および時間間隔で繰り返しこの選択状態を切り替える。
増幅回路32は、16個の電流−電圧変換回路(I/V)32−0、32−1、・・・、32−15と切替スイッチ32Aとを備えている。電流−電圧変換回路32−0〜32−15のそれぞれは、切替スイッチ31−0〜31−15のそれぞれと一対一に対応している。電流−電圧変換回路32−0〜32−15のそれぞれは、対応する切替スイッチ31−0等によって選択された受信導体13から出力される電流Iを所定の利得で増幅するとともに電圧Vに変換する。切替スイッチ32Aは、16個の電流−電圧変換回路32−0〜32−15から出力される信号(電圧)を順番に選択してアナログ−デジタル変換回路33に入力する。
アナログ−デジタル変換器33は、切替スイッチ32Aによって順番に選択される16個の電流−電圧変換回路32−0〜32−15のそれぞれの出力電圧を所定ビット数のデータに変換する。
図2に示す信号検出回路34は、アナログ−デジタル変換器33から出力されるデータに基づいて、多周波信号供給回路22から出力される16種類の周波数f0、f1、・・・、f15の各成分の信号レベルを検出する。
図7は、信号検出回路34によって検出される信号レベルの説明図である。図7(A)には送信導体11と受信導体13のクロスポイント(交差する位置)に指示体としての人体の指が接近していない状態が示されている。また、図7(B)にはクロスポイントに指が接近した状態が示されている。図7(A)に示すように、クロスポイントに指が接近していない状態では、このクロスポイントにおいて送信導体11と受信導体13とがスペーサ16を介して容量結合しており、送信導体11から出た電界は受信導体13に向かって収束する。したがって、送信導体11に所定周波数(f0〜f15のいずれか)の信号が供給されると、送信導体11と容量結合した受信導体13から容量結合の程度に応じた電流を取り出すことができる。一方、図7(B)に示すように、クロスポイントに指が接近した状態では、受信導体13から電流を取り出すことができる点は指が接近していない状態の場合と同じであるが、送信導体11と受信導体13の間の容量結合の程度が異なる。すなわち、送信導体11から出た電界の一部は指に向かって収束するため、受信導体13との間の容量結合の程度が弱くなり、受信導体13から取り出される電流が減少する。
本実施形態では、1本の受信導体13と交差する16本の送信導体11のそれぞれに、16種類の周波数f0、f1、・・・、f15の信号が並行して供給されているため、この受信導体13に対応するデータにはこれら16種類の周波数成分が含まれる。信号検出回路34では、これら16種類の周波数成分を別々に抽出し(例えば、同期検波を行って抽出する)、それぞれの周波数成分に対応する信号レベルを検出する。
信号検出回路34によって検出された信号レベルは、クロスポイントの位置に対応させて格納される。例えば、送信導体11を特定するY0〜Y63と受信導体13を特定するX0〜X127の組合せをクロスポイントの位置を示すアドレスとし、このアドレスとこのクロスポイントに対応する信号レベルとの組合せが格納される。なお、一の受信導体13から出力される信号に含まれる16種類の周波数成分を考えた場合に、その時点で送信導体群12の各ブロックB0〜B15のそれぞれにおいていずれの送信導体11に信号を供給しているかがわかっているため、各周波数毎に信号の供給先となる送信導体11を特定することができる。
位置算出回路35は、送信導体選択回路23内の各切替スイッチ23−0〜23−15による切替動作と、受信導体選択回路31内の各切替スイッチ31−0〜31−15による切替動作とが一巡したタイミング、すなわち、センサ部10の送信導体群12の全ての送信導体11と受信導体群14の全ての受信導体13とが交差する全てのクロスポイントに対応する信号レベルの検出動作が終了したタイミングで、信号レベルが低下しているクロスポイントを指が接近している位置として算出する。
本実施形態の位置検出センサ100はこのような構成を有しており、次に、センサ部10に設けられた送信導体11と受信導体13の詳細について説明する。
図8は、センサ部10の外周近傍における送信導体11と受信導体13の詳細を示す部分的な平面図であり、指示体300が接触する面と反対側から見た構成が示されている。図1を用いて説明したように、透過領域110よりも所定幅だけ広い検出領域112が設定されている。この検出領域112には、透過領域110と、その周囲に配置された所定幅の非透過領域114とが含まれている。表示画面が横長であって地面に対して垂直に近い傾斜となるように表示装置200を設置した場合を考えると、長手方向が水平となるように互いに平行に配置された複数の送信導体11と、長手方向が垂直となるように互いに平行に配置された複数の受信導体13とが、透過領域110と非透過領域114の両方にまたがるように形成されている。
図9は、透過領域110に含まれる1本の送信導体11とこれに交差する受信導体13の詳細を示す部分的な拡大図である。図9に示すように、水平方向に延在する送信導体11は、受信導体11と交差する位置に形成された間隙によって分割された複数の導体片11Aと、上記の間隙を挟んで隣接する2つの導体片11Aの間を電気的に接続する金属ジャンパ線18とを含んで構成されている。また、垂直方向に延在する受信導体13は、送信導体11の間隙に対応する部分の幅が他の部分に比べて細くなっているが、全体が連続した1本の導体として形成されている。
図10は、透過領域110における送信導体11の長手方向に沿った断面図であり、金属ジャンパ線18とその周囲の構造が示されている。図10に示すように、金属ジャンパ線18は、間隙を挟んで隣接する2つの導体片11Aの端部同士を接続するとともに、この間隙に配置された受信導体13と離間した状態(電気的な絶縁を確保した状態)を有している。
図11は、非透過領域114に含まれる1本の送信導体11とこれに交差する受信導体13の詳細を示す部分的な拡大図である。図11に示すように、非透過領域114において、水平方向に延在する送信導体11は、受信導体11と交差する位置に形成された間隙によって分割された複数の導体片11Aと、上記の間隙を挟んで隣接する2つの導体片11Aの間を電気的に接続する金属ジャンパ線18と、この金属ジャンパ線18と一体になって導体片11Aの表面に長手方向に沿って形成された金属配線パターン11Cとを含んで構成されている。すなわち、図9に示した透過領域110における構成と比較すると、金属配線パターン11Cが追加された点が異なっており、送信導体11(導体片11A)および受信導体13自体の形状や配置等については同じとなっている。この金属配線パターン11Cは、非透過領域114と透過領域110の境界に形成された金属ジャンパ線18を、そのまま送信導体11に沿って非透過領域114内まで延長することで形成されている。上述した金属配線パターン11Cが、送信導体11や受信導体13よりも抵抗値が低い第2の導電材に対応する。
図12は、非透過領域114における送信導体11の長手方向に沿った断面図であり、金属ジャンパ線18および金属配線パターン11Cとその周囲の構造が示されている。図12に示すように、金属ジャンパ線18は、間隙を挟んで隣接する2つの導体片11Aの端部同士を接続するとともに、この間隙に配置された受信導体13と離間した状態を有している。また、非透過領域114に含まれる送信導体11の表面には、端部が金属ジャンパ線18と電気的に接続された金属配線パターン11Cが絶縁層を介することなく形成されている。
このように、本実施形態の位置検出センサ100では、非透過領域114に対応する送信導体11については並列に金属配線パターン11Cが配置されるため、この区間に対応する抵抗が低くなり、この区間を含む送信導体11全体の抵抗も低くなるため、信号の伝送特性を向上させることができる。
また、透過領域110と非透過領域114の両方が指示体300の位置検出範囲(検出領域112)に設定されているため、透過領域110の端部近傍における指示体300による指示位置検出を確実に行うことができる。
また、送信導体11と並行して設けられる金属配線パターン11Cは、金属配線パターン11Cが配置された送信導体11の長手方向に沿って延在している。これにより、送信導体11の長手方向に沿った抵抗を低減することが可能になり、抵抗値が高い透明の送信導体11を単独で用いることによる伝送特性を改善することができる。
また、送信導体11と受信導体13のそれぞれを第1ガラス基板15の表面に形成し、互いに重なった領域を設けないようにしている。これにより、単一層として送信導体11と受信導体13の両方を形成することができる。具体的には、第1ガラス基板15上に一層のITO膜を形成することで送信導体11と受信導体13の両方を形成することができるため、均一で良好な特性を有する2種類の導体(送信導体11と受信導体13)を同時に形成することができ、伝送特性のさらなる向上とともに製造工程の簡略化が可能となる。
また、導体片11A間を接続する金属ジャンパ線18を延長して、送信導体11上に重ねて配置される金属配線パターン11Cを形成することができるため、金属配線パターン11Cを追加するために新たな工程を追加する必要がなく、製造工程の簡略化が可能となる。
次に、位置検出センサ100の製造工程の具体例について説明する。図13は、位置検出センサ100の製造工程を示す図である。
(1)表示画面に重ねて配置される透明基板としての第1のガラス基板115上にITO膜211を形成する(第1の工程、図13(A))。
(2)フォトリソグラフィおよびエッチングを行って、第1のガラス基板115上のITO膜111から受信導体13と送信導体11を形成する(第2の工程、図13(B))。このとき、受信導体13は連続したライン状に形成され、送信導体11は受信導体13との交点部分が切れた点線のライン状に形成される。
(3)コーターを用いて、送信導体11および受信導体13が形成された第1のガラス基板115上に絶縁層211Dを形成する(図13(C))。
(4)フォトリソグラフィおよびエッチングを行って、絶縁層211Dの不要部分を取り除くことにより、送信導体11と受信導体13の交点部分に絶縁層11Dを形成する(第3の工程、図13(D))。
(5)送信導体11、受信導体13および絶縁層11Dが形成された第1のガラス基板115の上から金属をスパッタリングすることにより金属層218を形成する(図13(E))。
(6)フォトリソグラフィおよびエッチングを行って、送信導体11と受信導体13との交点部分に設けられた絶縁層11Dの上に形成された金属層218以外を除去する(第4の工程、図13(F))。この絶縁層11Dの上に形成された金属層218が、受信導体13を跨ぐ金属ジャンパ線18となる。また、金属層218を選択的に除去する工程において、目隠し部分(非透過領域114)に重なる交点部分であって、最も有効エリア(透過領域110)側に存在する金属ジャンパ線18を形成する際に、目隠し部分に存在するITO膜(送信導体11)と重なる金属層218については除去せずに残すようにする。この目隠し部分に存在するITO膜に重なる金属層218が金属配線パターン11Cとなる。その後、オーバーコート材を塗布して位置検出センサ100が完成する。
このようにして製造された位置検出センサ100では、非透過領域114に対応する送信導体11については並列に金属配線パターン11Cが配置されるため、この区間に対応する抵抗(送信導体11と金属配線パターン11Cの両方による抵抗)が低くなり、この区間を含む送信導体11全体(透過領域110と非透過領域114の両方に対応する送信導体11全体)の抵抗も低くなるため、信号の伝送特性を向上させることができる。また、送信導体11(導体片11A)間を接続するために必要な金属ジャンパ線18を延長して、送信導体11上に重ねて配置される金属配線パターン11Cを形成することにより、製造工程の簡略化が可能となる。
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内において種々の変形実施が可能である。例えば、上述した実施形態では、非透過領域114に含まれる送信導体11のみの表面に金属配線パターンCを追加したが、非透過領域114に含まれる受信導体13の表面に同様の金属配線パターンを追加するようにしてもよい。但し、受信導体13にはその一部に金属ジャンパ線が用いられていないため、単独で金属配線パターンを追加する必要があるが、この金属配線パターンの形成は送信導体11に対応する金属配線パターン11Cの形成と同時に行えばよい。また、送信導体11に対応する金属配線パターン11Cを設けずに、非透過領域114に含まれる受信導体13のみの表面に金属配線パターンCを設けるようにしてもよい。
また、上述した実施形態では、非透過領域114に含まれる送信導体11の長手方向に沿って金属ジャンパ線18と金属配線パターン11Cとが連続するようにしたが、金属配線パターン11Cに部分的に間隙を設けて互いに分断されるようにしてもよい。非透過領域114に含まれる全ての送信導体11に対応して金属配線パターン11Cを設けるのではなく、一部の送信導体11に対応するように金属配線パターン11Cを設けるようにしてもよい。
また、図12に示したように導体片11Aの表面に金属配線パターン11Cの全体を密着した状態で配設する場合の他、少なくとも一部を離間した状態で配設するようにしてもよい。
また、上述した実施形態では、送信導体11と重ねて形成される金属配線パターン11Cの幅を送信導体11の幅よりも細くしたが、金属配線パターン11Cの幅は、最大で送信導体11の幅と同じになるまで太くしてもよい。
また、上述した各実施形態では、送信導体11と受信導体13とが直交する場合を説明したが、90度以外の角度で交差する場合にも本発明を適用することができる。
また、上述した各実施形態では、送信導体群12および受信導体群14のそれぞれをともに15個のブロックにグループ分けしたが、ブロックの数は変更可能であり、送信導体群12のブロック数と受信導体群14のブロック数を異ならせるようにしてもよい。また、受信導体群14に含まれる各受信導体13毎に電流を検出する構成を設けて、受信導体13側の切替動作を省略するようにしてもよい。
また、上述した各実施形態では、送信導体11側に供給する信号として多周波信号を想定したが、供給信号は多周波信号以外の信号であってもよい。例えば、複数の拡散符号信号、具体的にはスペクトラム拡散コードを各ブロックに分けた送信導体11に供給する位置検出センサにおいても、同様の効果を得ることができる。また、特定の拡散符号の位相をずらして各ブロックに分けた送信導体11に供給する位置検出センサにおいても同様の効果を得ることができる。
また、上述した各実施形態では、送信導体11側に信号を供給するとともに受信導体13側から出力される電流を検出する静電容量方式の位置検出センサ100に本発明を適用したが、例えば、特開2009−162538号公報に開示されているように、互いに交差する2種類の導体(電極)のそれぞれの静電容量値を検出して指示体の位置を検出する静電容量方式の位置検出センサについても本発明を適用することができる。また、導体を順番に切り替える位置検出センサであれば、静電容量方式以外の方式を採用したものであっても本発明を適用することができる。
本発明によれば、非透過領域114に対応する透明導体としての送信導体11については並列に金属配線パターン11Cが配置されるため、この区間に対応する抵抗が低くなり、この区間を含む送信導体11導体パターン全体の抵抗も低くなるため、伝送特性を向上させることができる。
10 センサ部
20 送信部
30 受信部
40 制御回路
11 送信導体
11A 導体片
11C 金属配線パターン
12 送信導体群
13 受信導体
14 受信導体群
15 第1ガラス基板
16 スペーサ
17 第2ガラス基板
18 金属ジャンパ線
21 クロック発生回路
22 多周波信号供給回路
23 送信導体選択回路
31 受信導体選択回路
32 増幅回路
33 アナログ−デジタル変換回路(A/D)
34 信号検出回路
35 位置算出回路
100 位置検出センサ
110 透過領域
112 検出領域
114 非透過領域
200 表示装置
300 指示体

Claims (6)

  1. 情報を表示するための表示領域を備えた表示装置の前記表示領域に対向配置され、前記表示領域に対応する透過領域とその周囲に配置された非透過領域とを含む検出領域において指示体が指示する位置を検出するための位置検出センサを有し、前記位置検出センサから得られる信号に基づいて前記指示体が指示する位置を検出する指示体検出装置であって、
    前記位置検出センサは、前記表示領域に対応する領域が透光性を有する基材と、前記基材の一面側に第1の方向に配設された複数の電極および前記第1の方向に対して交差する第2の方向に配設された複数の電極と、
    を備え、
    前記位置検出センサの前記第1の方向に配設された複数の電極のそれぞれは、前記第2の方向に配設された複数の電極と交差する位置に形成された間隙によって分離された複数の導体片と、前記第2の方向に配置された複数の電極と交差する位置で前記第2の方向に配設された複数の電極との絶縁性を確保しつつ前記間隙を挟んで隣接配置された2つの前記導体片を連結するための前記複数の電極よりも抵抗値の低い第1の導電材とからなり、
    前記位置検出センサの前記非透過領域に、前記第1の導電材と同じ材料からなる第2の導電材が前記基材の一面側に配設された複数の電極重畳して配設される、
    ことを特徴とする指示体検出装置。
  2. 請求項1において、
    前記位置検出センサに配設された前記第2の導電材は、前記基材の一面側に配設された複数の電極のうち、少なくとも送信信号が伝送される電極に配設される、
    ことを特徴とする指示体検出装置。
  3. 請求項1において、
    前記位置検出センサに配設された前記第2の導電材は、前記第1の導電材のうち、前記非透過領域で前記電極が交差する位置において前記第2の方向に配置された複数の電極との絶縁性を確保しつつ前記間隙を挟んで隣接配置された2つの導体片を連結する前記第1の導電材と一体形成される、
    ことを特徴とする指示体検出装置。
  4. 請求項3において、
    前記位置検出センサは、前記非透過領域に、前記電極を連結するための前記第1の導電材と同じ材料からなる前記第2の導電材が、前記基板の一面側に配設された複数の電極のうち、少なくとも送信信号が伝送される電極に重畳して配設される、
    ことを特徴とする指示体検出装置。
  5. 情報を表示するための表示領域を備えた表示装置の前記表示領域に対向配置され、前記表示領域に対応する透過領域とその周囲に配置された非透過領域とを含む検出領域において指示体が指示する位置を検出するための位置検出センサであって、
    少なくとも前記透過領域が透光性を有する基材と、
    前記基材の一面側に第1の方向に配設された複数の電極および前記第1の方向に対して交差する第2の方向に配設された複数の電極と、
    を備え、前記第1の方向に配設された複数の電極のそれぞれは、前記第2の方向に配設された複数の電極と交差する位置に形成された間隙によって分離された複数の導体片と、前記第2の方向に配置された複数の電極と交差する位置で前記第2の方向に配設された複数の電極との絶縁性を確保しつつ前記間隙を挟んで隣接配置された2つの導体片を連結するための前記複数の電極よりも抵抗値の低い第1の導電材とからなり、前記基材の前記非透過領域に、前記電極を連結するための前記第1の導電材と同じ材料からなる第2の導電材が前記基材の一面側に配設された電極重畳して配設される、
    ことを特徴とする位置検出センサ。
  6. 情報を表示するための表示領域を備えた表示装置に対向配置されて前記表示領域に対応する透過領域とその周囲に配置された非透過領域とを含む検出領域において指示体が指示する位置を検出する指示体検出装置に用いられる位置検出センサの製造方法であって、
    少なくとも前記透過領域が透光性を有する基材の一面側に、第1の方向に配設された透光性を有する複数の電極と前記第1の方向に対し交差する第2の方向に配設された透光性を有する複数の電極とを形成するとともに、前記第1の方向に配設された複数の電極と前記第2の方向に配設された複数の電極とが交差する位置において、一の方向に配設された一の電極を、他の方向に配設された一の電極と電気的に分離された複数の導体片に形成する工程と、
    前記第1の方向に配設された複数の電極と前記第2の方向に配設された複数の電極とが交差する位置に絶縁体を配設する工程と、
    前記第1の方向に配設された複数の電極と前記第2の方向に配設された複数の電極とが交差する位置に、分離されて形成された前記複数の導体片同士を連結するための第1の導電材を前記絶縁体に重ねて配設するとともに、前記基材の前記非透過領域において前記一の方向に配設された電極に前記第1の導電材と同じ材料からなる第2の導電材を重畳して配設する工程と、
    を有することを特徴とする位置検出センサの製造方法。
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