JP5599213B2 - モールドの製造方法 - Google Patents

モールドの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5599213B2
JP5599213B2 JP2010079287A JP2010079287A JP5599213B2 JP 5599213 B2 JP5599213 B2 JP 5599213B2 JP 2010079287 A JP2010079287 A JP 2010079287A JP 2010079287 A JP2010079287 A JP 2010079287A JP 5599213 B2 JP5599213 B2 JP 5599213B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mold
layer
substrate
hard mask
fine pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2010079287A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2011207163A (ja
JP2011207163A5 (enExample
Inventor
光浩 暮石
秀司 岸本
孝 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoya Corp
Original Assignee
Hoya Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoya Corp filed Critical Hoya Corp
Priority to JP2010079287A priority Critical patent/JP5599213B2/ja
Publication of JP2011207163A publication Critical patent/JP2011207163A/ja
Publication of JP2011207163A5 publication Critical patent/JP2011207163A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5599213B2 publication Critical patent/JP5599213B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
JP2010079287A 2010-03-30 2010-03-30 モールドの製造方法 Active JP5599213B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010079287A JP5599213B2 (ja) 2010-03-30 2010-03-30 モールドの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010079287A JP5599213B2 (ja) 2010-03-30 2010-03-30 モールドの製造方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014164192A Division JP5853071B2 (ja) 2014-08-12 2014-08-12 モールド製造用マスクブランクスおよびモールド製造用レジスト付きマスクブランクス

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2011207163A JP2011207163A (ja) 2011-10-20
JP2011207163A5 JP2011207163A5 (enExample) 2013-04-18
JP5599213B2 true JP5599213B2 (ja) 2014-10-01

Family

ID=44938770

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010079287A Active JP5599213B2 (ja) 2010-03-30 2010-03-30 モールドの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5599213B2 (enExample)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013111631A1 (ja) * 2012-01-23 2013-08-01 旭硝子株式会社 ナノインプリントモールド用ブランク、ナノインプリントモールドおよびそれらの製造方法
JP5739376B2 (ja) 2012-05-16 2015-06-24 信越化学工業株式会社 モールド作製用ブランクおよびモールドの製造方法
JP2014065231A (ja) * 2012-09-26 2014-04-17 Toppan Printing Co Ltd インプリントモールド及びインプリントモールドの製造方法並びにパターン成形体
CN106504975B (zh) * 2015-09-06 2019-12-27 中芯国际集成电路制造(天津)有限公司 提高关键尺寸精确性的方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3806702B2 (ja) * 2002-04-11 2006-08-09 Hoya株式会社 反射型マスクブランクス及び反射型マスク及びそれらの製造方法並びに半導体の製造方法
US6849558B2 (en) * 2002-05-22 2005-02-01 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Replication and transfer of microstructures and nanostructures
US6755984B2 (en) * 2002-10-24 2004-06-29 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Micro-casted silicon carbide nano-imprinting stamp
JP5009649B2 (ja) * 2007-02-28 2012-08-22 Hoya株式会社 マスクブランク、露光用マスクの製造方法、反射型マスクの製造方法、及びインプリント用テンプレートの製造方法
JP2009080421A (ja) * 2007-09-27 2009-04-16 Hoya Corp マスクブランク、及びインプリント用モールドの製造方法
CN101809499B (zh) * 2007-09-27 2012-10-10 Hoya株式会社 掩模坯体以及压印用模具的制造方法
JP5345333B2 (ja) * 2008-03-31 2013-11-20 Hoya株式会社 フォトマスクブランク、フォトマスク及びその製造方法
JP2010008604A (ja) * 2008-06-25 2010-01-14 Hoya Corp マスクブランク及び転写用マスク
JP2011156738A (ja) * 2010-01-29 2011-08-18 Hoya Corp サブマスターモールドの製造方法
US20140113020A1 (en) * 2011-04-06 2014-04-24 Hoya Corporation Mold manufacturing mask blanks and method of manufacturing mold

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011207163A (ja) 2011-10-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5161017B2 (ja) マスクブランク、マスクブランクの製造方法、及びインプリント用モールドの製造方法
WO2012137324A1 (ja) モールド製造用マスクブランクスおよびモールドの製造方法
WO2013047195A1 (ja) モールドブランク、マスターモールド、コピーモールドおよびモールドブランクの製造方法
JP2009206339A (ja) インプリントモールド用マスクブランク及びインプリントモールドの製造方法
JP5599213B2 (ja) モールドの製造方法
JP5119579B2 (ja) インプリント用モールド及びその製造方法
JP5114962B2 (ja) インプリントモールド、これを用いたインプリント評価装置、レジストパターン形成方法及びインプリントモールドの製造方法
JP2007266384A (ja) インプリント用モールド及びその製造方法
JP2011211083A (ja) マスクブランクス、パターン形成方法及びモールドの製造方法
JP6377480B2 (ja) 基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びインプリントモールドの製造方法
JP2008126450A (ja) モールド、その製造方法および磁気記録媒体
JP5853071B2 (ja) モールド製造用マスクブランクスおよびモールド製造用レジスト付きマスクブランクス
JP2012236371A (ja) インプリントにおける離型方法
JP5200726B2 (ja) インプリント方法、プレインプリントモールド、プレインプリントモールド製造方法、インプリント装置
JP5627990B2 (ja) インプリント用モールドの製造方法
JP5453616B2 (ja) インプリント用モールドの製造方法
JP5899931B2 (ja) ナノインプリント用テンプレート及びその製造方法
JP5743920B2 (ja) 微細パターンを有するガラス構造体の製造方法
JP2011096686A (ja) インプリント用モールドの製造方法、残存ハードマスク層除去前モールドおよびその製造方法、ならびにマスクブランクス
JP2011199136A (ja) インプリント用モールド及びその作製方法並びにパターン転写体
WO2011040476A1 (ja) インプリント用モールドの製造方法
JP4858030B2 (ja) インプリント用モールド、インプリント用モールド製造方法およびパターン形成方法
JP5626613B2 (ja) インプリントモールド用マスクブランク
JP2011156738A (ja) サブマスターモールドの製造方法
JP2011073304A (ja) インプリント用モールドの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130305

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130305

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140121

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140430

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140626

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140715

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140812

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5599213

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250